JPH04149153A - シクロペンタンアルデヒド類およびその製造法 - Google Patents
シクロペンタンアルデヒド類およびその製造法Info
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- JPH04149153A JPH04149153A JP2274456A JP27445690A JPH04149153A JP H04149153 A JPH04149153 A JP H04149153A JP 2274456 A JP2274456 A JP 2274456A JP 27445690 A JP27445690 A JP 27445690A JP H04149153 A JPH04149153 A JP H04149153A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〈産業上の利用分野〉
本発明は、医薬、II薬およびこれらの中間体とりわけ
プロスタグランジン中間体として有用なシクロペンクン
アルデヒド類およびその製造法に関する。 〈従来の技術〉 プロスタグランジンF!αの原料として有用な下記一般
式〔1〕 C0CH5 (式中、Aは水素原子または水酸基の保護基を示す、) で示されるシクロペンタノン類は、Corey ラクト
ンを原料として合成されている。 〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、Corey ラクトンを原料とする方法
は、多くのステップを要するため工業的にはがならずし
も満足すべき方法とはいいがたい、さらにこのラクトン
そのものが多くのステップをへて合成されなければなら
ず高価であることがら、より簡便な合成方法が望まれて
いた。 〈!I題を解決するための手段〉 本発明者は、かかるシクロペンタンアルデヒド類の酸は
工業的に有利な製法につき鋭意検討した結果、新規な中
間体を経由する新しい製法を見い出し本発明を完成した
。 すなわち本発明は、一般式〔2〕 (式中、Aは、水素原子または水酸基の保護基を示す、
) で示されるシクロベンテノン誘導体に、一般式%式%) (式中、R′は低級アルキル基を、R5は、置換基とし
て低級アルキル基、低級アルコキシ基または塩素原子を
をしていてもよいフェニル基を示し、R’ R’
R” は、それぞれ独立にメチル基またはエチル基を
示す、) で示される有機リチウム誘導体を反応させ、次いで、一
般式(4〕 (式中、Xはハロゲン原子を示し、R9は低級アルキル
基を示す、) で示されるω−ハロヘプテン酸類を反応させ一般式〔5
〕 (式中、A、R’ R5、R’ R’ R
” およびR9は、前記と同し意味を表す。) で示されるシクロペンタノン誘導体を得、次いで脱シリ
ル化剤を用いて脱シリル化し、又、必要に応じ保護基を
脱保護したのち一般式 (式中、 A。 R′ およびRq は、 前記と同 し意味を表す。 で示されるシクロペンクン誘導体を得る。 次にここで得られたシクロペンタ ン誘導体 〔 〕 を還元剤を用いでケ トン部分を還元し一般式 (式中、 A、 およびRq は、 前記と同 し意味を表す。 で示されるシクロペンタンアルコール類を得たのち、さ
らに一般式[8] %式%(8) (式中、Rloは低級アルキル基を示す。)で示される
カルボン酸類もしくはその誘導体を用いてエステル化し
、一般式
プロスタグランジン中間体として有用なシクロペンクン
アルデヒド類およびその製造法に関する。 〈従来の技術〉 プロスタグランジンF!αの原料として有用な下記一般
式〔1〕 C0CH5 (式中、Aは水素原子または水酸基の保護基を示す、) で示されるシクロペンタノン類は、Corey ラクト
ンを原料として合成されている。 〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、Corey ラクトンを原料とする方法
は、多くのステップを要するため工業的にはがならずし
も満足すべき方法とはいいがたい、さらにこのラクトン
そのものが多くのステップをへて合成されなければなら
ず高価であることがら、より簡便な合成方法が望まれて
いた。 〈!I題を解決するための手段〉 本発明者は、かかるシクロペンタンアルデヒド類の酸は
工業的に有利な製法につき鋭意検討した結果、新規な中
間体を経由する新しい製法を見い出し本発明を完成した
。 すなわち本発明は、一般式〔2〕 (式中、Aは、水素原子または水酸基の保護基を示す、
) で示されるシクロベンテノン誘導体に、一般式%式%) (式中、R′は低級アルキル基を、R5は、置換基とし
て低級アルキル基、低級アルコキシ基または塩素原子を
をしていてもよいフェニル基を示し、R’ R’
R” は、それぞれ独立にメチル基またはエチル基を
示す、) で示される有機リチウム誘導体を反応させ、次いで、一
般式(4〕 (式中、Xはハロゲン原子を示し、R9は低級アルキル
基を示す、) で示されるω−ハロヘプテン酸類を反応させ一般式〔5
〕 (式中、A、R’ R5、R’ R’ R
” およびR9は、前記と同し意味を表す。) で示されるシクロペンタノン誘導体を得、次いで脱シリ
ル化剤を用いて脱シリル化し、又、必要に応じ保護基を
脱保護したのち一般式 (式中、 A。 R′ およびRq は、 前記と同 し意味を表す。 で示されるシクロペンクン誘導体を得る。 次にここで得られたシクロペンタ ン誘導体 〔 〕 を還元剤を用いでケ トン部分を還元し一般式 (式中、 A、 およびRq は、 前記と同 し意味を表す。 で示されるシクロペンタンアルコール類を得たのち、さ
らに一般式[8] %式%(8) (式中、Rloは低級アルキル基を示す。)で示される
カルボン酸類もしくはその誘導体を用いてエステル化し
、一般式
〔9〕
(式中、A、R’ R’ RqおよびRloは、前
記と同じ意味を表す。) で示されるシクロペンクン誘導体を得たのち、次に酸化
剤の存在下に酸化的に加水分解することにより一般式(
IO3 ○COR0 (式中、A、R”およびRloは、前記と同し意味を表
す、) で示されるシクロペンタンアルデヒド類を得る製造法に
関する。 また本発明は、−11式(6)で示されるシクロペンク
ン誘導体を酸化剤の存在下に酸化的に加水分解すること
により一般式〔11〕 (式中、A、およびR9は、前記と同し意味を表す、) で示されるシクロペンクンアルデヒド類を得る製造法に
関する。 さらに本発明は−・般式〔7〕で示されるフクロペンタ
ンアルコール類を、酸化剤の存在下に酸化的に加水分解
することにより一般式[12](式中、A、およびR9
は、前記と同じ意味を表す、) で示されるシクロベンクンアルデヒド類を得る製造法に
関する。 本発明は、かかるプロスタグランジン中間体として有用
な一般式〔10]、〔11〕及び(12〕で示される化
合物の新規な製造法であり、かつ文献未記載の新規な化
合物を提供するものである。 本発明の概要を以下に回示する。 ○C0R1゜
記と同じ意味を表す。) で示されるシクロペンクン誘導体を得たのち、次に酸化
剤の存在下に酸化的に加水分解することにより一般式(
IO3 ○COR0 (式中、A、R”およびRloは、前記と同し意味を表
す、) で示されるシクロペンタンアルデヒド類を得る製造法に
関する。 また本発明は、−11式(6)で示されるシクロペンク
ン誘導体を酸化剤の存在下に酸化的に加水分解すること
により一般式〔11〕 (式中、A、およびR9は、前記と同し意味を表す、) で示されるシクロペンクンアルデヒド類を得る製造法に
関する。 さらに本発明は−・般式〔7〕で示されるフクロペンタ
ンアルコール類を、酸化剤の存在下に酸化的に加水分解
することにより一般式[12](式中、A、およびR9
は、前記と同じ意味を表す、) で示されるシクロベンクンアルデヒド類を得る製造法に
関する。 本発明は、かかるプロスタグランジン中間体として有用
な一般式〔10]、〔11〕及び(12〕で示される化
合物の新規な製造法であり、かつ文献未記載の新規な化
合物を提供するものである。 本発明の概要を以下に回示する。 ○C0R1゜
〔9〕
0COR”
(10〕
以下、本発明の詳細な説明する。
一般式〔5]で示されるシクロペンタノン誘導体は、通
常一般式[2]で示されるシクロベンテノン誘導体に一
般式〔3]で示される有機リチウム誘導体を1,4−付
加反応させ、引きつづき反応系内に一般式〔4〕で示さ
れるω−ハロヘプテン酸類を加えることによって合成さ
れる。 まずシクロベンテノン誘導体〔2〕に有機リチウム[3
]を反応させる工程について説明する。 この反応は、通常溶媒中で行われる。かかる溶媒として
は、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン、ジオキサン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、
ヘキサン、ヘプタン等の通常1.4−付加反応に使用さ
れる反応に不活性な溶媒の単独もしくは混合物が用いら
れる。 原料である一般式(2〕で示される光学活性なシクロベ
ンテノン誘導体は、4R−ヒドロキシ−2−シクロベン
テノンの水酸基を保護することにより容易に合成するこ
とができる。 かかる保護74 (Aとして)は、たとえば、2−テト
ラヒドロピラニル基、エトキシエチル基のごときエーテ
ル類あるいはシリル基であるそれぞれ独立に低級アルキ
ル基を示し、または置換基としてハロゲン原子もしくは
低級アルキル基を有していてもよいフェニル基を示し、
R1はt−ブチル基、イソペンチル基もしくはt−ペン
チル基を示し、または置換基としてハロゲン原子もしく
は低級アルキル基を有していてもよいフェニル基を示す
。 あるいは又、○COR”(R”は低級アルキル基を示す
。)等が例示される。 Aがエーテル類である2−テトラヒドロピラニル基、エ
トキノエチル基は、それぞれ4R−ヒドロキン−2−シ
クロベンテノンを酸性触媒の存在下、2−ジヒドロピラ
ンあるいはエチルビニルエーテルと反応させることによ
り合成される。まにシリルエーテル類はシリルクロリド
を用い塩基触媒にて合成される。さらにアシルオキシ基
は対応するカルボン酸の酸ハライド、もしくは酸無水物
から容易に合成される。 カカるシクロベンテノン誘導体としては、例えば以下の
化合物が例示される。 4R−ジメチル−t−ブチル−シリルオキシ−2−シク
ロベンテノン、4R−ジメチル−フェニルシリルオキシ
−2−シクロベンテノン、4R−(2−ピラニルオキシ
)−2−シクロベンテノン4R−(エトキシエチル)−
2−シクロベンテノン 4R−アセトキシ−2−シクロ
ベンテノン。 一般式〔3〕で示される有機リチウム誘導体は一般式〔
13] HC(OR’)(SR5)(Si R’ R’ R’)
(13)(式中、R’ R5、Rb
R’および8日は、前記と同じ意味を表す。) で示されるシリル誘導体に通常の活性水素のリチウム化
剤、例えばn−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアミド等を反応させることによって合成される。これ
らは通常、反応に先だって合成され、単離されることな
くそのまま次の1.4−付加反応に使用される。 ここで使用される有機リチウム誘導体(3〕のモル比は
通常、もう一方の原料であるシクロベンテノン誘導体[
2] 1モルに対して1モル以上5モル以下であり、好
ましくは2モル〜3モルの範囲である。 反応温度は、−100〜10′Cの範囲、好ましくは−
80〜−10°Cの範囲である。 反応時間は特に制限されなL)が、通常Cよ0.2〜8
時間の範囲である。 有機リチウム誘導体の具体例としてiま一般式(3]に
おいて、R4として番ま例え(fメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、n−メチル基等の低級ア
ルキル基が例示され、 R5としては、フェニル基、メ
チフレフェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニ
ル基等力< 81示すし、R′′、R’ R” と
してはそれぞれ独立にメチル基またはエチル基である。 次に上記で得られた反応ti、に一般式[4]で示され
るω−ノ\ロヘプテン酸類を反応させ、一般弐〔5〕で
示されるシクロペンタノン誘導体を得る工程について説
明スル。 反応は、先の1.4−付加反応で終了した反応液、ω−
ハロヘプテン酸類を添加することにより行われる。 かかるω−ハロヘプテン酸類としては、例えば、ω−ヨ
ード−5−シス−ヘプテン酸もしくはωブロモー5−シ
スーヘプテン酸のメチルエステル、エチルエステル、(
1−3iso−プロピルエステルn −iso −、t
ert−ブチルエステJし類が例示される。 かかるω−ハロヘプテン酸類の使用モル比は、原料であ
るシクロベンテノン誘導体〔2〕1モJしに対して通常
1〜5モルの範囲である。 反応温度は、通常−100〜40°C1好ましくは−8
0〜30 ’Cの範囲である。 反応時間は、特に制限されない。 J、Org、Chem、Vol 54.5003 (1
989)には下記の類似反応が記載されている。 う、9r =−\9r しかしながらRXとして本発明のω−ハロヘプテン酸類
を用いると目的物が全く得られないことが判った。 本発明者は鋭意検討した結果、この反応において添加剤
としてテトラメチルエチレ゛ンジアミンのごとき金属配
位子を加えることによって目的を達成することができる
ことを見い出した。 かかる添加剤の添加量は一般式〔2〕で示されるシクロ
ベンテノン誘導体1モルに対して0.3〜4モル、好ま
しくは1モル〜3モルの範囲である。 この添加剤の添加時期は、前記の1.4付加反応のさい
にあらかしめ添加することもできる。 かかる反応により目的の一般式〔5]で示されるシクロ
ペンタノン誘導体が得られ、通常は反応液を水中にあけ
、抽出したのち有機層を濃縮することによって単離する
ことができる。さらに、必要によりカラムクロマトグラ
フィーによって精製することもできる。勿論、次工程へ
は反応混合物のままでも使用できる。 次にシクロペンタノン誘導体〔5]に脱シリル化剤を反
応させ、脱シリル化し、一般式(6)で示されるシクロ
ペンクン誘導体を得る反応について説明する。 この反応で使用される溶媒としては、水、酢酸、ジメチ
ルホルムアミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、ジメチルスルホキシドのごとき溶媒の
単独もしくは混合物が例示される。 脱ノリル化剤としては、例えば、フッ化テトラブチルア
ンモニウム、フッ化セソウム等のフッ素化合物が好んで
用いられる。 かかる脱シリル化剤の使用量は、シクロペンタノン誘導
体[5]1モルに対して、1モル〜3モルの範囲である
。 反応温度は、通常、−10〜50”C2好ましくは0〜
40°Cの範囲である。 反応時間は、特に制限なく、原料化合物[5]の消失を
終点とすることができる。 この反応でAがシリルオキシ基の場合であっても3位の
メチル基に置換されたシリル基が優先的に脱離する。し
かしながら、反応時間の無用な延長や無用の高温はさけ
る方が好ましく、3位のメチル基に置換したノリル基が
脱離した時点で反応を止め、後処理をすることが望まし
い。 反応終了後、反応液を水中にあけ、トルエン、酢酸エチ
ル、ジエチルエーテル、ジクロルメタンのごとき溶媒に
よって抽出し、有機層は分液後、濃縮することによって
シクロペンクン誘導体〔6〕を単離することができ、必
要によりカラムクロマトグラフィーにより精製すること
ができる。 または、次工程へは反応混合物のまま使用することもで
きる。 次にシクロペンクン誘導体(6〕からシクロペンクンア
ルコール類(7〕へは、通常、ケトンを還元してアルコ
ールとすることができる還元剤を用いて還元することに
より行われる。 かかる還元剤としでは、得られる水酸基をα−配位とす
る必要からできるだけかさ高いものが好ましい。 かかる還元剤としては、ジイソブチルアルミニウムハイ
ドライド(DIBAL) −2、6−ジーt−フチルー
4−メチルフェノール(BIT)、 L −3ele
ctricle (リチウムトリー5ec−ブチルボロ
ハイドライド〕などが例示される。 かかる還元剤の使用量は、通常、原料であるシクロペン
タン誘導体〔6]1モルに対して1モル以上、20モル
以下である。 溶媒は先の反応で用いた溶媒の他、クロロホルム、ジク
ロルメタン、トルエン、ヘキサン、ジエチルエーテル等
を用いることができ、勿論単独あるいは混合溶媒として
使用される。 反応温度は通常−30〜60°C1好ましくは、−20
〜40°Cの範囲である。 反応時間は特に制限なく、原料の消失したときを終点と
することができる。 反応終了後、先の反応で示したと同様な後処理操作によ
りシクロペンタンアルコール類(7]を単離することが
でき、必要によりカラムクロマトグラフィーにより精製
することができる。勿論、次工程へは反応混合物のまま
使用することができる。 シクロペンタンアルコールm1(7)がらシクロベンク
ン誘導体[9]へは一般式〔8〕で示されるカルボン酸
類もしくはその誘導体を用いてエステル化することによ
り行われる。 かかるカルボン酸類〔8〕としては、酢酸、プロピオン
酸、ブタン酸、ペンタン酸が例示され、その誘導体とし
て酸クロリド、酸プロミド、酸無水物が例示され、具体
的にはアセチルクロリドアセチルプロミド、無水酢酸、
プロピオン酸クロリド、無水プロピオン酸が挙げられる
。 その使用量は、シクロペンクンアルコール類[7]1モ
ルに対して1モル以上、3モル以下である。 上記酸クロリドもしくはフロミド、酸無水物を利用する
さいにはトリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、炭酸
カリ等の有機もしくは無機塩基が使用され、その使用量
は、シクロペンクンアルコールt!(7)1モルに対し
て1モル以上、4モル以下であり、必要により、増加す
ることができ、又、有機塩基については溶媒としても使
用することができる。 反応は通常無水条件で実施され、溶媒としてはクロロホ
ルム、ジクロルメタン、クロルヘンゼン、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、ヘキ
サン、トルエン等のitのハロゲン化炭化水素、エーテ
ル、ケトン、エステル、芳香族および脂肪族炭化水素の
単独もしくは混合溶媒が例示される。 反応温度は−20〜60 ’C5好ましくは一20〜5
0゛Cの範囲である。 反応時間は特に制限されない。 反応終了後、前記と同様の操作で、後処理、精製をする
ことにより、目的のシクロペンタンFA’jp体[9〕
を単離することができる。勿論、次の反応へは反応混合
物のままでも差しつかえない。 シクロペンタン誘導体
常一般式[2]で示されるシクロベンテノン誘導体に一
般式〔3]で示される有機リチウム誘導体を1,4−付
加反応させ、引きつづき反応系内に一般式〔4〕で示さ
れるω−ハロヘプテン酸類を加えることによって合成さ
れる。 まずシクロベンテノン誘導体〔2〕に有機リチウム[3
]を反応させる工程について説明する。 この反応は、通常溶媒中で行われる。かかる溶媒として
は、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン、ジオキサン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、
ヘキサン、ヘプタン等の通常1.4−付加反応に使用さ
れる反応に不活性な溶媒の単独もしくは混合物が用いら
れる。 原料である一般式(2〕で示される光学活性なシクロベ
ンテノン誘導体は、4R−ヒドロキシ−2−シクロベン
テノンの水酸基を保護することにより容易に合成するこ
とができる。 かかる保護74 (Aとして)は、たとえば、2−テト
ラヒドロピラニル基、エトキシエチル基のごときエーテ
ル類あるいはシリル基であるそれぞれ独立に低級アルキ
ル基を示し、または置換基としてハロゲン原子もしくは
低級アルキル基を有していてもよいフェニル基を示し、
R1はt−ブチル基、イソペンチル基もしくはt−ペン
チル基を示し、または置換基としてハロゲン原子もしく
は低級アルキル基を有していてもよいフェニル基を示す
。 あるいは又、○COR”(R”は低級アルキル基を示す
。)等が例示される。 Aがエーテル類である2−テトラヒドロピラニル基、エ
トキノエチル基は、それぞれ4R−ヒドロキン−2−シ
クロベンテノンを酸性触媒の存在下、2−ジヒドロピラ
ンあるいはエチルビニルエーテルと反応させることによ
り合成される。まにシリルエーテル類はシリルクロリド
を用い塩基触媒にて合成される。さらにアシルオキシ基
は対応するカルボン酸の酸ハライド、もしくは酸無水物
から容易に合成される。 カカるシクロベンテノン誘導体としては、例えば以下の
化合物が例示される。 4R−ジメチル−t−ブチル−シリルオキシ−2−シク
ロベンテノン、4R−ジメチル−フェニルシリルオキシ
−2−シクロベンテノン、4R−(2−ピラニルオキシ
)−2−シクロベンテノン4R−(エトキシエチル)−
2−シクロベンテノン 4R−アセトキシ−2−シクロ
ベンテノン。 一般式〔3〕で示される有機リチウム誘導体は一般式〔
13] HC(OR’)(SR5)(Si R’ R’ R’)
(13)(式中、R’ R5、Rb
R’および8日は、前記と同じ意味を表す。) で示されるシリル誘導体に通常の活性水素のリチウム化
剤、例えばn−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアミド等を反応させることによって合成される。これ
らは通常、反応に先だって合成され、単離されることな
くそのまま次の1.4−付加反応に使用される。 ここで使用される有機リチウム誘導体(3〕のモル比は
通常、もう一方の原料であるシクロベンテノン誘導体[
2] 1モルに対して1モル以上5モル以下であり、好
ましくは2モル〜3モルの範囲である。 反応温度は、−100〜10′Cの範囲、好ましくは−
80〜−10°Cの範囲である。 反応時間は特に制限されなL)が、通常Cよ0.2〜8
時間の範囲である。 有機リチウム誘導体の具体例としてiま一般式(3]に
おいて、R4として番ま例え(fメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、n−メチル基等の低級ア
ルキル基が例示され、 R5としては、フェニル基、メ
チフレフェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニ
ル基等力< 81示すし、R′′、R’ R” と
してはそれぞれ独立にメチル基またはエチル基である。 次に上記で得られた反応ti、に一般式[4]で示され
るω−ノ\ロヘプテン酸類を反応させ、一般弐〔5〕で
示されるシクロペンタノン誘導体を得る工程について説
明スル。 反応は、先の1.4−付加反応で終了した反応液、ω−
ハロヘプテン酸類を添加することにより行われる。 かかるω−ハロヘプテン酸類としては、例えば、ω−ヨ
ード−5−シス−ヘプテン酸もしくはωブロモー5−シ
スーヘプテン酸のメチルエステル、エチルエステル、(
1−3iso−プロピルエステルn −iso −、t
ert−ブチルエステJし類が例示される。 かかるω−ハロヘプテン酸類の使用モル比は、原料であ
るシクロベンテノン誘導体〔2〕1モJしに対して通常
1〜5モルの範囲である。 反応温度は、通常−100〜40°C1好ましくは−8
0〜30 ’Cの範囲である。 反応時間は、特に制限されない。 J、Org、Chem、Vol 54.5003 (1
989)には下記の類似反応が記載されている。 う、9r =−\9r しかしながらRXとして本発明のω−ハロヘプテン酸類
を用いると目的物が全く得られないことが判った。 本発明者は鋭意検討した結果、この反応において添加剤
としてテトラメチルエチレ゛ンジアミンのごとき金属配
位子を加えることによって目的を達成することができる
ことを見い出した。 かかる添加剤の添加量は一般式〔2〕で示されるシクロ
ベンテノン誘導体1モルに対して0.3〜4モル、好ま
しくは1モル〜3モルの範囲である。 この添加剤の添加時期は、前記の1.4付加反応のさい
にあらかしめ添加することもできる。 かかる反応により目的の一般式〔5]で示されるシクロ
ペンタノン誘導体が得られ、通常は反応液を水中にあけ
、抽出したのち有機層を濃縮することによって単離する
ことができる。さらに、必要によりカラムクロマトグラ
フィーによって精製することもできる。勿論、次工程へ
は反応混合物のままでも使用できる。 次にシクロペンタノン誘導体〔5]に脱シリル化剤を反
応させ、脱シリル化し、一般式(6)で示されるシクロ
ペンクン誘導体を得る反応について説明する。 この反応で使用される溶媒としては、水、酢酸、ジメチ
ルホルムアミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、ジメチルスルホキシドのごとき溶媒の
単独もしくは混合物が例示される。 脱ノリル化剤としては、例えば、フッ化テトラブチルア
ンモニウム、フッ化セソウム等のフッ素化合物が好んで
用いられる。 かかる脱シリル化剤の使用量は、シクロペンタノン誘導
体[5]1モルに対して、1モル〜3モルの範囲である
。 反応温度は、通常、−10〜50”C2好ましくは0〜
40°Cの範囲である。 反応時間は、特に制限なく、原料化合物[5]の消失を
終点とすることができる。 この反応でAがシリルオキシ基の場合であっても3位の
メチル基に置換されたシリル基が優先的に脱離する。し
かしながら、反応時間の無用な延長や無用の高温はさけ
る方が好ましく、3位のメチル基に置換したノリル基が
脱離した時点で反応を止め、後処理をすることが望まし
い。 反応終了後、反応液を水中にあけ、トルエン、酢酸エチ
ル、ジエチルエーテル、ジクロルメタンのごとき溶媒に
よって抽出し、有機層は分液後、濃縮することによって
シクロペンクン誘導体〔6〕を単離することができ、必
要によりカラムクロマトグラフィーにより精製すること
ができる。 または、次工程へは反応混合物のまま使用することもで
きる。 次にシクロペンクン誘導体(6〕からシクロペンクンア
ルコール類(7〕へは、通常、ケトンを還元してアルコ
ールとすることができる還元剤を用いて還元することに
より行われる。 かかる還元剤としでは、得られる水酸基をα−配位とす
る必要からできるだけかさ高いものが好ましい。 かかる還元剤としては、ジイソブチルアルミニウムハイ
ドライド(DIBAL) −2、6−ジーt−フチルー
4−メチルフェノール(BIT)、 L −3ele
ctricle (リチウムトリー5ec−ブチルボロ
ハイドライド〕などが例示される。 かかる還元剤の使用量は、通常、原料であるシクロペン
タン誘導体〔6]1モルに対して1モル以上、20モル
以下である。 溶媒は先の反応で用いた溶媒の他、クロロホルム、ジク
ロルメタン、トルエン、ヘキサン、ジエチルエーテル等
を用いることができ、勿論単独あるいは混合溶媒として
使用される。 反応温度は通常−30〜60°C1好ましくは、−20
〜40°Cの範囲である。 反応時間は特に制限なく、原料の消失したときを終点と
することができる。 反応終了後、先の反応で示したと同様な後処理操作によ
りシクロペンタンアルコール類(7]を単離することが
でき、必要によりカラムクロマトグラフィーにより精製
することができる。勿論、次工程へは反応混合物のまま
使用することができる。 シクロペンタンアルコールm1(7)がらシクロベンク
ン誘導体[9]へは一般式〔8〕で示されるカルボン酸
類もしくはその誘導体を用いてエステル化することによ
り行われる。 かかるカルボン酸類〔8〕としては、酢酸、プロピオン
酸、ブタン酸、ペンタン酸が例示され、その誘導体とし
て酸クロリド、酸プロミド、酸無水物が例示され、具体
的にはアセチルクロリドアセチルプロミド、無水酢酸、
プロピオン酸クロリド、無水プロピオン酸が挙げられる
。 その使用量は、シクロペンクンアルコール類[7]1モ
ルに対して1モル以上、3モル以下である。 上記酸クロリドもしくはフロミド、酸無水物を利用する
さいにはトリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、炭酸
カリ等の有機もしくは無機塩基が使用され、その使用量
は、シクロペンクンアルコールt!(7)1モルに対し
て1モル以上、4モル以下であり、必要により、増加す
ることができ、又、有機塩基については溶媒としても使
用することができる。 反応は通常無水条件で実施され、溶媒としてはクロロホ
ルム、ジクロルメタン、クロルヘンゼン、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、ヘキ
サン、トルエン等のitのハロゲン化炭化水素、エーテ
ル、ケトン、エステル、芳香族および脂肪族炭化水素の
単独もしくは混合溶媒が例示される。 反応温度は−20〜60 ’C5好ましくは一20〜5
0゛Cの範囲である。 反応時間は特に制限されない。 反応終了後、前記と同様の操作で、後処理、精製をする
ことにより、目的のシクロペンタンFA’jp体[9〕
を単離することができる。勿論、次の反応へは反応混合
物のままでも差しつかえない。 シクロペンタン誘導体
〔9〕から一般式〔10]で示さ
れるシクロペンクンアルデヒド類を得る反応は、酸化剤
を用いシクロペンクン誘導体(9〕を酸化的に加水分解
することによって行われる。 この反応で用いられる溶媒としては、アセトン、テトラ
ヒドロフラン、水、ジオキサン、ジメトキシエタン等の
溶媒の単独もしくは混合物が挙げられる。 酸化的に加水分解するさいに用いられる酸化剤としては
、例えば、酸化第2水銀、塩化第2水銀等の2価の水銀
塩が好んで用いられる。 その使用量は、シクロペンクン誘導体
れるシクロペンクンアルデヒド類を得る反応は、酸化剤
を用いシクロペンクン誘導体(9〕を酸化的に加水分解
することによって行われる。 この反応で用いられる溶媒としては、アセトン、テトラ
ヒドロフラン、水、ジオキサン、ジメトキシエタン等の
溶媒の単独もしくは混合物が挙げられる。 酸化的に加水分解するさいに用いられる酸化剤としては
、例えば、酸化第2水銀、塩化第2水銀等の2価の水銀
塩が好んで用いられる。 その使用量は、シクロペンクン誘導体
〔9〕1モルに対
し、1モル以上、4モル以下の範囲である。 反応温度は、通常−20〜60°C2好ましくは10〜
50°Cの範囲である。 反応時間は特に制限されない。 反応終了後、反応液を水中にあけ、前記シクロペンタン
誘導体
し、1モル以上、4モル以下の範囲である。 反応温度は、通常−20〜60°C2好ましくは10〜
50°Cの範囲である。 反応時間は特に制限されない。 反応終了後、反応液を水中にあけ、前記シクロペンタン
誘導体
〔9〕を合成するさい挙げた溶媒を加え、不溶物
を濾別して除き、濾液を分液、有機層を1縮すれば目的
のシクロペンクンアルデヒド類〔10〕を単離すること
ができ、必要によりカラムクロマトグラフィーにより精
製することができる。 又、別途、上記条件を一般式(6〕で示されるシクロペ
ンタン誘導体に適用すれば全く同様に一般式〔11〕で
示されるンクロベンタンアルデヒド類とすることができ
る。 又、一般式〔7〕で示されるシクロベンクンアルコール
類に適用すれば全く同様に一般式〔12〕で示されるシ
クロペンタンアルデヒド類が得られる。 なお、本発明では一般式に於けるAで示される保護基を
反応の途中で必要により脱保護したり、保護基を導入す
ることができる。 以下、脱保護について述べる。 Aがシリル基の場合には、原料化合物を水、酢酸、ジメ
チルホルムアミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン、ジメチルスルホキシドのごとき溶媒
の単独もしくは混合物に熔解し、1モル〜5モル倍のフ
、化テトラブチルアンモニウムあるいはフン化セシウム
等のフッ素化合物を用いて、−10〜50°Cの条件に
て脱保護できる。 又、Aがエーテル類の場合には、原料化合物を水の共存
下、上記のごとき同し溶媒に溶解し、0゜1モル〜30
モル倍のトリフルオロ酢酸、クロル酢酸、酢酸、トルエ
ンスルホン酸のごとき酸類と反応させることにより容易
に脱保護することができる。Aがエステルの場合には、
メタノール、エタノールのごときアルコール中、上記で
あげた酸類を加え、エステル交換することによって水酸
基とすることができる。 次に保護基の導入について述べる。 Aがシリル基の場合、フクロベンタンアルコール類〔7
〕を合成するさいに用いた溶媒中、化合物に対し1モル
〜4モル倍のシリルク口リドごときアミン類を原料化合
物に対し1〜4モル倍使用し、シリル化することによっ
て合成される。 反応温度は通常−20〜40°Cであり、反応時間は、
0.5〜5時間程度である。 後処理は常法により行われる。 また、Aがエーテル類である2−テトラヒドロピラニル
基またはエトキシエチル基の場合には、通常、必要によ
り先にあげた溶媒を用い、原料化合物に対し、1〜20
モル倍の2−ジヒドロビランまたはエチルビニルエーテ
ルを0.01モル倍〜1モル倍のトリフルオロ酢酸、ト
ルエンスルホン酸、g酸、ジクロル酢酸のごとき酸触媒
の共存下に付加反応させて合成される。 勿論、先のエーテル化剤を溶媒がわりに用いることも可
能である。 Aがアソル基の場合には、シクロペンタン誘導体(9]
の合成の条件がそのまま適用される。 以上、本発明では合成経路の各ステップで必要に応し脱
保護、保護基の導入等の変換ができる。 〈発明の効果〉 本発明によれば、従来数多くのステップを必要としたプ
ロスタグランジン中間体が好収率がっ短いステップで得
られ、工業的価値は極めて高い。 又、本発明は従来全く知られていなかった新規な化合物
を中間体とするものであり、極めて価値あるものである
。 〈実施例〉 以下、製造例により本発明を説明する。 製造例1 メトキシ(フェニルチオ)(トリメチルシリル)メタン
(12) 678■(3mmol)およびテトラヒドロ
フラン10mを加え、N2気流下−78“Cに冷却する
。 次にn−ブチルリチウムの2.5M−ヘキサン溶液0.
88m (2,2mmol)を加え、同温度30分、さ
らに−40″Cにて30分攪拌する。 次に再び内温を一78°Cに冷却し、ヘキサメチルホス
ホリルアミド1.79 g (10mmol>を加え、
30分攪拌する。次に内温を一55゛Cに上げ、4(1
’1)−L−ブチルジメチルシリルオキシ−2−シクロ
ペンテノン[2)202■(2−鯛o1) を加え、−
55〜−50°Cにて30分攪拌する。 次に内温を一60’ロムこ調整したのち、テトラメチル
エチレンジアミン232■(2w+mol) を加えた
ときに、ω−ヨード−5−シス−ヘプテン酸メチルエス
テル(6) 1..34 g (5mmol)を加え3
0分攪拌する。 次に反応液を飽和塩化アンモニウム水に加え、酢酸エチ
ルにて抽出する。有機層を2回水洗し、減圧濃縮する。 残渣を−・キサン−酢酸エチルエステル(20:1)に
てカラムクロマト精製し、2R3R,4R−2−(6−
メトキシカルボニル)−2−ンスヘキセニル−3−[メ
トキシ(フェニルチオ)(トリメチルノリル)メチル]
−4−t−ブチルージメチルシリルオキソノクロベンタ
ノン〔5−11439■(収率76%)を得る。 HNlシR,(CDCl2)) 0.01(S、3H) 、0.07(S、]I)、0
.17(5,9H)0.85(S、9H) 、1.6
0−1.699(m、3H)、1.95−2.72(m
、91() 、3.49(S、3H)、3.65(S
、3H)、4.89−4.90(n、LH)、5.34
−5.44輪、21() 、7.24−7.50(m、
58)T L C: (Merck:Kiese1g
e] 60Fzs4)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エ
チル=5/1)次に、上で得た(5 1 ) 439m
g (0,76mm。 l)およびDMF8d、水1dおよび酢酸46■を加え
、室温にてフン化テトラブチルアンモニウム2981g
(1,14mmol )を加え1時間攪拌する。 反応絆了後、飽和塩化アンモニウム水に反応液を加え酢
酸エチルにて抽出する。を機層は水にて3回洗浄する。 有機層は減圧して濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル
(10:1)にてカラム精製し、2R,3R,4R−2
−(6−メドキシカルボニルー2−ノスーヘキセニル)
−3−[メトキシ(フェニルチオ)メチルE−4−t−
ブチルジメチルンリルオキシンクロベンタノン〔6−1
)281■(収率73%)を得る。 Cα)、”°−3,84° (C=1..43 、 C
HC]z)HN M R(CDCI3)) 0.01(S、2.0H) 、0.15(S、1.O
R)、0.83(S、6.0H)、0.84(S、1.
014)、1.59−1.66(鶴、2H) 、1.
96−2.63 (sa、 108)、3.38(S、
2.0)1)、3.39(S、1.OH)、3.63(
S、3H)、 4.27.4.31(lI48) 、
4.82−4.85(s、IH)5.33−5.43
(m、2H) 、7.21−7.46(m、5H)T
L C: (Merck:Kieselgel
60F2s4)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エチル=
3/1)次に、2,6−ジt−ブチル−4−メチル−フ
ェノール1.444g (6,554s+ol)および
トルエン20−を仕込み、N2気流下、0°Cにてジイ
ソブチルアルミニウムハイドライド(DIBAL)
1.0Mエテル熔液液5d (5mmol)を加え、1
時間攪拌する。 次に再び内温を一40°Cに冷却し、上で得た( 6−
1 〕255 +ng(0,5mmol)を加え、−2
0°Cにて30分’a拝する。 反応終了後、飽和塩化アンモニウム水に加え、酢酸エチ
ルにて抽出し、有機層に水にて】回洗浄する。 有Il1層を減圧濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル
(5:1)にてカラム精製し、IS、2R3R,4R−
1−ヒドロキシ−2−(6−メドキシカルボニルー2−
シスヘキセニル)−3−[メトキシ(フェニルチオ)メ
チル]−4−t−ブチルージメチルシリルオキシンクロ
ペンタン(7〜2)2151Ig(収率84%)を得る
。 ’ HN M R(CDCIs)) 0.07(S、1.53旧、0.08(S、1.478
) 、0.12(S、1.53)1)、O,]、4
(S、 1.47H)、0.87(S、4.598)
、0.89(S、4.41)1)、1.64−2.43
(順、12M)、2.90−2.92(brs、0.5
1H)、3.05−3.09 (brs、0.49H)
、3.37(S、4.418)、3.40(S、4.
598) 、3.65(S、3H)、3,633.67
(y、IN)、4.10−4.18(+n、1)t)
、4.30(brsO,49H)、4.45(d、0.
51)1.J=4.03Hz)、4.57(do、49
H,J=5.0OHz) 、4.66(d、0.51H
,J=5.0OHz )5.32−5.39(II、1
)1) 、5.45−5゜53(m、IH) 、7,2
27.50(m、5H) T L C: (Merck:l(ieselgel
60Fzsa)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エチル−3
71)次に、上で得た(7 1 〕I1521M (0
,3mi。 1〕をピリジン2M1に溶解し、室温下、無水酢酸2d
を加え、2時間攪拌する。 反応液を氷水中にあけ酢酸エチルにて抽出する。 酢酸エチル層はさらに水にて4回洗浄する。 有機層を減圧濃縮し、残渣にヘキサン−酢酸エチル(5
+ 1)にてクロマト精製し、13,2R3R4R−1
−アセトキシ−2−(6−メドキシカルボニルー2−シ
ス−ヘキセニル−3−〇メトキシ(フェニルチオ)メチ
ル]−4−t−ブチルージメチルシリルオキシシクロベ
ンタン〔9−1)160■(収率97%)を得る。 ’ HN M R(CDCIり) 0.03(5,3)1) 、0.04(S、3)り、0
.88(S、9H)、1.64−2.47(m、12)
1) 、2.06(S、3旧、3.42(S、31(
)、3.68(S、3)1)、4.12.4.22(m
、LH) 、4.85(d II(J=3.30Hz)
、5.08−5.12(m、IH)1.5.375.
70(+a、21()、7.26−7.50(m、5)
1)T L C: (Merck:Kiesel
gel 60Fxsn)Rfo、4(ヘキサン/酢酸
エチル=3/1)次に、ここで得た( 9−1 ) 6
6 K (0,12mm。 1)、アセトン5#1、水1iを仕込み、室温にて塩化
第2水銀49■(0,18mmol ) 、酸化水銀3
9■(0,1,8mmol )を加え、1時間攪拌する
。 反応液を水中にあけ酢酸エチルにて抽出し、有機層を1
%重ソウ水、水3回にて洗浄する。有機層は減圧濃縮後
、得られた残渣をヘキサン−酢酸エチル(5:l)にて
カラム精製し、Is、2R。 3R,4R−1−アセトキシ−2−(6−メドキシカル
ボニルー2−ンスーヘキセニル)−3−ホルミル−4−
t−ブチル−ジメチルシリルオキシンクロベンタン37
■(収率73%)を得る。 製造例2 Is、2R,3R,4R−1−アセトキシ−2(6−メ
ドキシカルボニルー2−シス−へ+セニル)−3−[メ
トキシ(フェニルチオ)メチル]−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキソシクロベンクン309■(056ml
Iol)、テトラヒドロフラン10d、水0.]m1を
仕込み、室温下にフン化テトラブチルアンモニウム2.
19 g (8,41111101)を加え、3時間攪
拌する。 反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に加
え酢酸エチルにて抽出する。有I!iIiは水にて3回
洗浄し、減圧にて濃縮する。残渣をヘキサン−酢酸エチ
ル(1:1)にてクロマト精製し、Is、2R,3R,
4R−1−アセトキシ−2−(6−メドキシカルボニル
ー2−シス−ヘキセニル−3−[メトキン(フェニルチ
オ)メチルクー4−ヒドロキノンクロベンクン210■
(収率80%)を得る。 HN M R(CDCI3)) 1.61−2.44(11,13)1) 、2.05
(3,3旧、3.45(S、1.25I()、3.49
(S、1..75H) 、3.66(S、3H)、4
.25(brsIH) 、4.68(d、o、51H,
J=5.50Hz)、4.78(do、49H,J=5
.13Hz)、5.17−5.28(a+、2H) 、
5.435.45(m、LH) 、7.29−7.34
(m、3H) 、7.48−7.51C劇2H) T L C: (Merck:kieselgel 6
0Fzsa)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エチル= 1
/ 1. )製造例3 次に上記で得たIs、2R83R,4R−1アセトキシ
−2−(6−メトキシカルボニル−2シス−ヘキセニル
−3−[メトキシ(フェニルチオ)メチル]−4−ヒド
ロキシシクロペンタン176■(0,38mmol)
、ジクロルメタン8d、ジヒドロビラン64■(0,7
6mmol )を仕込み、0°Cに冷却する。 次にP−トルエンスルホン酸48■(0,19mm+。 1)を加え、1時間、さらに室温にて3時間攪拌する。 反応液を氷水中にあけ、有機層を分液、さらに水にて3
回洗浄する。有機層を減圧にて濃縮、さらに残渣をヘキ
サン−酢酸エチル(5: 1)にてクロマト精製し、I
s、2R,3R,4R−1アセトキン−2−(ω−メト
キンカルボニル−2シス−ヘキセニル) −3−Cメト
キノ(フェニルチオ)メチル]−4−(2−テトラヒド
ロピラニルオキシ)−シクロペンタン(9−2] 1
78mg(収率86%)を得る。 HN M R(CDCI:1)) 1.43−2.52(m、18N) 、1.96(S
、2.0H)、1.97(Sj、ol()、3.34(
S、2.0H)、3.50(S、1.0)l)、3.5
9(S]t) 、 3.74−3.81(m、2tl
) 、4.03−4.12(+a、IH)4.52.
5.03(m、3H)、5.23−5.30(m、2H
) 、7.157.45(m、5)1) T L C: (Merck:Kieselgel
60F2S4)Rfo、7(ヘキサン/酢酸エチル=
2/1)次に、ここで得た( 9−2 〕66111g
(0,12mm。 l)、アセトン4d、水1dを仕込み、塩化第二水&’
FA 49111g (0,18mmol )および酸
化水銀39■(0,18mmol )を室温にて加え、
1時間攪拌する。 反応液を水にあけ、ジクロルメタンにて抽出する。有機
層を1%重ソウ水、水3回にて順次洗浄する。 有機層を減圧濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル(5
・1)にてクロマト精製し、Is 2R3R,4R’
−1−アセトキシ−2−(6−メドキシカルボニルー2
−ラス−ヘキセニル−3−ポルミル−4−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−シクロベンクン45■(収率
68%)を得る。 製造例4 Is、2R,3R,4R−1−ヒドロキシ−2(6−メ
ドキシカルボニルー2−シス−ヘキセニル)−3−[メ
トキシ(フェニルチオ)メチル]−4−t−ブチルージ
メチルシリルオキシシクロベンタン(7−1)143■
(0,28m5ol )、テトラヒドロフラン7d、水
0.1dを仕込み、室温下にフン化テトラブチルアンモ
ニウム1.1 g (4゜21ol )を加え3時間攪
拌する。 反応終了後、反応液を飽和アンモニウム水溶液に加え、
酢酸エチルにて抽出する。有機層は水洗後、減圧fi縮
する。 残渣をトルエン−酢酸エチル(5+2)にてクロマト精
製し、Is、2R,3R,4R−1−ヒドロキン−2−
(6−メドキシカルボニルー2−ノスーヘキセニル)
−3−[メトキシ(フェニルチオ)メチル]−4−ヒド
ロキソ−シクロペンタン82■(収率74%)を得る。 次に、ここで得た化合物47■(0,12m5ol )
、アセトン4d、水1−を仕込み、塩化第二水銀49■
(0,18+1mol > 、酸化水銀39 lIg(
0,18+nffiol)を加え、室温にて1時間攪拌
する。 反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルにて抽出、有機
層を1%重ソウ水、水3回にて順次洗浄後、減圧下に濃
縮する。 残渣をカラムにてクロマト精製し、Is、2R53R,
4R−1−ヒドロキン−2−(6−メドキシカルボニル
ー2−ヘキセニル)−3−ホルミル−4−ヒドロキシシ
クロペンタン21m1g(収165%)を得る。 製造例5 2R3R,4R−2−(6−メドキシカルボニルー2−
シス−ヘキセニル1−3−[メトキン(フェニルチオ)
メチル]−4−t−ブチルーノメチルシリルオキンシク
ロベンタン(6−1〕128■(0,25mmol )
、アセトン10d、水2d、テトラヒドロフランl#
ii!を仕込み、塩化第二水銀100■(0,36m1
lol )および酸化水銀78■(036Iol )を
加え、室温にて15時間攪拌する。 反応液を水にあけ、酢酸エチルにて抽出する。 有機層は1%重ソウ水、水3回にて洗浄ののち減圧濃縮
する。 残渣をヘキサン−酢酸エチル(10:1)にてクロマト
精製し、2R,3R,4R−2−(6−メドキンカルポ
ニルー2−シス−ヘキセニル)−3−ホルミル−4−t
−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノン[11
−1]68g(収率70%〕を得る。 HN M R(CDCIs)) 0.07(S 6N) 、0.88(S、9H)、1.
67−1.72(m 2)1)2、02−2.07 (
01,2H)、2.24−24.69(m、7tl)、
2932.98(+n、IH) 、3.66(S、3H
)、4.52−4.57(m、 1tl)5.31−5
.32(m IH)、5.44−5.48(m 18)
、9.85(d、2H,J=1.84Hz) T L C: (Merck:Kieselgel 6
QFzsa)RfO,6(ヘキサン/酢酸エチル−3/
l)製造例6 Is 2R3R4R−−−ヒドロキシ−2(6−メド
キシカルボニルー2−シス−ヘキセニル)−3−[メト
キシ(フェニルチオ)メチル′J−4−t−ブチルージ
メチルソリルオキノンクロベンタン50■(0,1mm
ol ) 、アセトン4dおよび水1dに熔解し、塩化
第二水銀41■(0゜15mm+ol )および酸化水
銀32■(0,5+nmol )を加え、室温にて30
分間攪拌する。 不溶物を濾別して除き、濾液をジクロロメタンにて洗浄
する。 有機層を重ソウ水、水にて順次洗浄する。さらに、有機
層を減圧濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル(5:1
)にてカラムクロマト精製し、IS、2R3R4R−ヒ
ドロキシ−2−(6−メドキンカルボニルー2−ンスー
ヘキセニル)3−ホルミル−4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシシクロペンタノン26■(収率65%)を得
る。 HN M R(CDC13)) 0.08(3,6)1) 、0.88(S、9)1)、
1.60 (brs、LH)1.65−1.81(m、
3H)、1.91−2.35(m、8H) 、2.4
52.55(+c、IH) 、2.70−2.76(
m、2H) 、3.66(S、31()4.16−4
.22(m、IH)、4..56−4.59(m、LH
) 、5.405.53(m、2)f)、9.75(
d、1LJ=1..83)1z)L C: (Merck:Kiese1ge1 60F!S、) 0.6 (ヘキサン/酢酸エチル−3/ \ 手 続 補 正 書(自発) 平成3年11月25日
を濾別して除き、濾液を分液、有機層を1縮すれば目的
のシクロペンクンアルデヒド類〔10〕を単離すること
ができ、必要によりカラムクロマトグラフィーにより精
製することができる。 又、別途、上記条件を一般式(6〕で示されるシクロペ
ンタン誘導体に適用すれば全く同様に一般式〔11〕で
示されるンクロベンタンアルデヒド類とすることができ
る。 又、一般式〔7〕で示されるシクロベンクンアルコール
類に適用すれば全く同様に一般式〔12〕で示されるシ
クロペンタンアルデヒド類が得られる。 なお、本発明では一般式に於けるAで示される保護基を
反応の途中で必要により脱保護したり、保護基を導入す
ることができる。 以下、脱保護について述べる。 Aがシリル基の場合には、原料化合物を水、酢酸、ジメ
チルホルムアミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン、ジメチルスルホキシドのごとき溶媒
の単独もしくは混合物に熔解し、1モル〜5モル倍のフ
、化テトラブチルアンモニウムあるいはフン化セシウム
等のフッ素化合物を用いて、−10〜50°Cの条件に
て脱保護できる。 又、Aがエーテル類の場合には、原料化合物を水の共存
下、上記のごとき同し溶媒に溶解し、0゜1モル〜30
モル倍のトリフルオロ酢酸、クロル酢酸、酢酸、トルエ
ンスルホン酸のごとき酸類と反応させることにより容易
に脱保護することができる。Aがエステルの場合には、
メタノール、エタノールのごときアルコール中、上記で
あげた酸類を加え、エステル交換することによって水酸
基とすることができる。 次に保護基の導入について述べる。 Aがシリル基の場合、フクロベンタンアルコール類〔7
〕を合成するさいに用いた溶媒中、化合物に対し1モル
〜4モル倍のシリルク口リドごときアミン類を原料化合
物に対し1〜4モル倍使用し、シリル化することによっ
て合成される。 反応温度は通常−20〜40°Cであり、反応時間は、
0.5〜5時間程度である。 後処理は常法により行われる。 また、Aがエーテル類である2−テトラヒドロピラニル
基またはエトキシエチル基の場合には、通常、必要によ
り先にあげた溶媒を用い、原料化合物に対し、1〜20
モル倍の2−ジヒドロビランまたはエチルビニルエーテ
ルを0.01モル倍〜1モル倍のトリフルオロ酢酸、ト
ルエンスルホン酸、g酸、ジクロル酢酸のごとき酸触媒
の共存下に付加反応させて合成される。 勿論、先のエーテル化剤を溶媒がわりに用いることも可
能である。 Aがアソル基の場合には、シクロペンタン誘導体(9]
の合成の条件がそのまま適用される。 以上、本発明では合成経路の各ステップで必要に応し脱
保護、保護基の導入等の変換ができる。 〈発明の効果〉 本発明によれば、従来数多くのステップを必要としたプ
ロスタグランジン中間体が好収率がっ短いステップで得
られ、工業的価値は極めて高い。 又、本発明は従来全く知られていなかった新規な化合物
を中間体とするものであり、極めて価値あるものである
。 〈実施例〉 以下、製造例により本発明を説明する。 製造例1 メトキシ(フェニルチオ)(トリメチルシリル)メタン
(12) 678■(3mmol)およびテトラヒドロ
フラン10mを加え、N2気流下−78“Cに冷却する
。 次にn−ブチルリチウムの2.5M−ヘキサン溶液0.
88m (2,2mmol)を加え、同温度30分、さ
らに−40″Cにて30分攪拌する。 次に再び内温を一78°Cに冷却し、ヘキサメチルホス
ホリルアミド1.79 g (10mmol>を加え、
30分攪拌する。次に内温を一55゛Cに上げ、4(1
’1)−L−ブチルジメチルシリルオキシ−2−シクロ
ペンテノン[2)202■(2−鯛o1) を加え、−
55〜−50°Cにて30分攪拌する。 次に内温を一60’ロムこ調整したのち、テトラメチル
エチレンジアミン232■(2w+mol) を加えた
ときに、ω−ヨード−5−シス−ヘプテン酸メチルエス
テル(6) 1..34 g (5mmol)を加え3
0分攪拌する。 次に反応液を飽和塩化アンモニウム水に加え、酢酸エチ
ルにて抽出する。有機層を2回水洗し、減圧濃縮する。 残渣を−・キサン−酢酸エチルエステル(20:1)に
てカラムクロマト精製し、2R3R,4R−2−(6−
メトキシカルボニル)−2−ンスヘキセニル−3−[メ
トキシ(フェニルチオ)(トリメチルノリル)メチル]
−4−t−ブチルージメチルシリルオキソノクロベンタ
ノン〔5−11439■(収率76%)を得る。 HNlシR,(CDCl2)) 0.01(S、3H) 、0.07(S、]I)、0
.17(5,9H)0.85(S、9H) 、1.6
0−1.699(m、3H)、1.95−2.72(m
、91() 、3.49(S、3H)、3.65(S
、3H)、4.89−4.90(n、LH)、5.34
−5.44輪、21() 、7.24−7.50(m、
58)T L C: (Merck:Kiese1g
e] 60Fzs4)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エ
チル=5/1)次に、上で得た(5 1 ) 439m
g (0,76mm。 l)およびDMF8d、水1dおよび酢酸46■を加え
、室温にてフン化テトラブチルアンモニウム2981g
(1,14mmol )を加え1時間攪拌する。 反応絆了後、飽和塩化アンモニウム水に反応液を加え酢
酸エチルにて抽出する。を機層は水にて3回洗浄する。 有機層は減圧して濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル
(10:1)にてカラム精製し、2R,3R,4R−2
−(6−メドキシカルボニルー2−ノスーヘキセニル)
−3−[メトキシ(フェニルチオ)メチルE−4−t−
ブチルジメチルンリルオキシンクロベンタノン〔6−1
)281■(収率73%)を得る。 Cα)、”°−3,84° (C=1..43 、 C
HC]z)HN M R(CDCI3)) 0.01(S、2.0H) 、0.15(S、1.O
R)、0.83(S、6.0H)、0.84(S、1.
014)、1.59−1.66(鶴、2H) 、1.
96−2.63 (sa、 108)、3.38(S、
2.0)1)、3.39(S、1.OH)、3.63(
S、3H)、 4.27.4.31(lI48) 、
4.82−4.85(s、IH)5.33−5.43
(m、2H) 、7.21−7.46(m、5H)T
L C: (Merck:Kieselgel
60F2s4)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エチル=
3/1)次に、2,6−ジt−ブチル−4−メチル−フ
ェノール1.444g (6,554s+ol)および
トルエン20−を仕込み、N2気流下、0°Cにてジイ
ソブチルアルミニウムハイドライド(DIBAL)
1.0Mエテル熔液液5d (5mmol)を加え、1
時間攪拌する。 次に再び内温を一40°Cに冷却し、上で得た( 6−
1 〕255 +ng(0,5mmol)を加え、−2
0°Cにて30分’a拝する。 反応終了後、飽和塩化アンモニウム水に加え、酢酸エチ
ルにて抽出し、有機層に水にて】回洗浄する。 有Il1層を減圧濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル
(5:1)にてカラム精製し、IS、2R3R,4R−
1−ヒドロキシ−2−(6−メドキシカルボニルー2−
シスヘキセニル)−3−[メトキシ(フェニルチオ)メ
チル]−4−t−ブチルージメチルシリルオキシンクロ
ペンタン(7〜2)2151Ig(収率84%)を得る
。 ’ HN M R(CDCIs)) 0.07(S、1.53旧、0.08(S、1.478
) 、0.12(S、1.53)1)、O,]、4
(S、 1.47H)、0.87(S、4.598)
、0.89(S、4.41)1)、1.64−2.43
(順、12M)、2.90−2.92(brs、0.5
1H)、3.05−3.09 (brs、0.49H)
、3.37(S、4.418)、3.40(S、4.
598) 、3.65(S、3H)、3,633.67
(y、IN)、4.10−4.18(+n、1)t)
、4.30(brsO,49H)、4.45(d、0.
51)1.J=4.03Hz)、4.57(do、49
H,J=5.0OHz) 、4.66(d、0.51H
,J=5.0OHz )5.32−5.39(II、1
)1) 、5.45−5゜53(m、IH) 、7,2
27.50(m、5H) T L C: (Merck:l(ieselgel
60Fzsa)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エチル−3
71)次に、上で得た(7 1 〕I1521M (0
,3mi。 1〕をピリジン2M1に溶解し、室温下、無水酢酸2d
を加え、2時間攪拌する。 反応液を氷水中にあけ酢酸エチルにて抽出する。 酢酸エチル層はさらに水にて4回洗浄する。 有機層を減圧濃縮し、残渣にヘキサン−酢酸エチル(5
+ 1)にてクロマト精製し、13,2R3R4R−1
−アセトキシ−2−(6−メドキシカルボニルー2−シ
ス−ヘキセニル−3−〇メトキシ(フェニルチオ)メチ
ル]−4−t−ブチルージメチルシリルオキシシクロベ
ンタン〔9−1)160■(収率97%)を得る。 ’ HN M R(CDCIり) 0.03(5,3)1) 、0.04(S、3)り、0
.88(S、9H)、1.64−2.47(m、12)
1) 、2.06(S、3旧、3.42(S、31(
)、3.68(S、3)1)、4.12.4.22(m
、LH) 、4.85(d II(J=3.30Hz)
、5.08−5.12(m、IH)1.5.375.
70(+a、21()、7.26−7.50(m、5)
1)T L C: (Merck:Kiesel
gel 60Fxsn)Rfo、4(ヘキサン/酢酸
エチル=3/1)次に、ここで得た( 9−1 ) 6
6 K (0,12mm。 1)、アセトン5#1、水1iを仕込み、室温にて塩化
第2水銀49■(0,18mmol ) 、酸化水銀3
9■(0,1,8mmol )を加え、1時間攪拌する
。 反応液を水中にあけ酢酸エチルにて抽出し、有機層を1
%重ソウ水、水3回にて洗浄する。有機層は減圧濃縮後
、得られた残渣をヘキサン−酢酸エチル(5:l)にて
カラム精製し、Is、2R。 3R,4R−1−アセトキシ−2−(6−メドキシカル
ボニルー2−ンスーヘキセニル)−3−ホルミル−4−
t−ブチル−ジメチルシリルオキシンクロベンタン37
■(収率73%)を得る。 製造例2 Is、2R,3R,4R−1−アセトキシ−2(6−メ
ドキシカルボニルー2−シス−へ+セニル)−3−[メ
トキシ(フェニルチオ)メチル]−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキソシクロベンクン309■(056ml
Iol)、テトラヒドロフラン10d、水0.]m1を
仕込み、室温下にフン化テトラブチルアンモニウム2.
19 g (8,41111101)を加え、3時間攪
拌する。 反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に加
え酢酸エチルにて抽出する。有I!iIiは水にて3回
洗浄し、減圧にて濃縮する。残渣をヘキサン−酢酸エチ
ル(1:1)にてクロマト精製し、Is、2R,3R,
4R−1−アセトキシ−2−(6−メドキシカルボニル
ー2−シス−ヘキセニル−3−[メトキン(フェニルチ
オ)メチルクー4−ヒドロキノンクロベンクン210■
(収率80%)を得る。 HN M R(CDCI3)) 1.61−2.44(11,13)1) 、2.05
(3,3旧、3.45(S、1.25I()、3.49
(S、1..75H) 、3.66(S、3H)、4
.25(brsIH) 、4.68(d、o、51H,
J=5.50Hz)、4.78(do、49H,J=5
.13Hz)、5.17−5.28(a+、2H) 、
5.435.45(m、LH) 、7.29−7.34
(m、3H) 、7.48−7.51C劇2H) T L C: (Merck:kieselgel 6
0Fzsa)Rfo、4(ヘキサン/酢酸エチル= 1
/ 1. )製造例3 次に上記で得たIs、2R83R,4R−1アセトキシ
−2−(6−メトキシカルボニル−2シス−ヘキセニル
−3−[メトキシ(フェニルチオ)メチル]−4−ヒド
ロキシシクロペンタン176■(0,38mmol)
、ジクロルメタン8d、ジヒドロビラン64■(0,7
6mmol )を仕込み、0°Cに冷却する。 次にP−トルエンスルホン酸48■(0,19mm+。 1)を加え、1時間、さらに室温にて3時間攪拌する。 反応液を氷水中にあけ、有機層を分液、さらに水にて3
回洗浄する。有機層を減圧にて濃縮、さらに残渣をヘキ
サン−酢酸エチル(5: 1)にてクロマト精製し、I
s、2R,3R,4R−1アセトキン−2−(ω−メト
キンカルボニル−2シス−ヘキセニル) −3−Cメト
キノ(フェニルチオ)メチル]−4−(2−テトラヒド
ロピラニルオキシ)−シクロペンタン(9−2] 1
78mg(収率86%)を得る。 HN M R(CDCI:1)) 1.43−2.52(m、18N) 、1.96(S
、2.0H)、1.97(Sj、ol()、3.34(
S、2.0H)、3.50(S、1.0)l)、3.5
9(S]t) 、 3.74−3.81(m、2tl
) 、4.03−4.12(+a、IH)4.52.
5.03(m、3H)、5.23−5.30(m、2H
) 、7.157.45(m、5)1) T L C: (Merck:Kieselgel
60F2S4)Rfo、7(ヘキサン/酢酸エチル=
2/1)次に、ここで得た( 9−2 〕66111g
(0,12mm。 l)、アセトン4d、水1dを仕込み、塩化第二水&’
FA 49111g (0,18mmol )および酸
化水銀39■(0,18mmol )を室温にて加え、
1時間攪拌する。 反応液を水にあけ、ジクロルメタンにて抽出する。有機
層を1%重ソウ水、水3回にて順次洗浄する。 有機層を減圧濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル(5
・1)にてクロマト精製し、Is 2R3R,4R’
−1−アセトキシ−2−(6−メドキシカルボニルー2
−ラス−ヘキセニル−3−ポルミル−4−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−シクロベンクン45■(収率
68%)を得る。 製造例4 Is、2R,3R,4R−1−ヒドロキシ−2(6−メ
ドキシカルボニルー2−シス−ヘキセニル)−3−[メ
トキシ(フェニルチオ)メチル]−4−t−ブチルージ
メチルシリルオキシシクロベンタン(7−1)143■
(0,28m5ol )、テトラヒドロフラン7d、水
0.1dを仕込み、室温下にフン化テトラブチルアンモ
ニウム1.1 g (4゜21ol )を加え3時間攪
拌する。 反応終了後、反応液を飽和アンモニウム水溶液に加え、
酢酸エチルにて抽出する。有機層は水洗後、減圧fi縮
する。 残渣をトルエン−酢酸エチル(5+2)にてクロマト精
製し、Is、2R,3R,4R−1−ヒドロキン−2−
(6−メドキシカルボニルー2−ノスーヘキセニル)
−3−[メトキシ(フェニルチオ)メチル]−4−ヒド
ロキソ−シクロペンタン82■(収率74%)を得る。 次に、ここで得た化合物47■(0,12m5ol )
、アセトン4d、水1−を仕込み、塩化第二水銀49■
(0,18+1mol > 、酸化水銀39 lIg(
0,18+nffiol)を加え、室温にて1時間攪拌
する。 反応液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルにて抽出、有機
層を1%重ソウ水、水3回にて順次洗浄後、減圧下に濃
縮する。 残渣をカラムにてクロマト精製し、Is、2R53R,
4R−1−ヒドロキン−2−(6−メドキシカルボニル
ー2−ヘキセニル)−3−ホルミル−4−ヒドロキシシ
クロペンタン21m1g(収165%)を得る。 製造例5 2R3R,4R−2−(6−メドキシカルボニルー2−
シス−ヘキセニル1−3−[メトキン(フェニルチオ)
メチル]−4−t−ブチルーノメチルシリルオキンシク
ロベンタン(6−1〕128■(0,25mmol )
、アセトン10d、水2d、テトラヒドロフランl#
ii!を仕込み、塩化第二水銀100■(0,36m1
lol )および酸化水銀78■(036Iol )を
加え、室温にて15時間攪拌する。 反応液を水にあけ、酢酸エチルにて抽出する。 有機層は1%重ソウ水、水3回にて洗浄ののち減圧濃縮
する。 残渣をヘキサン−酢酸エチル(10:1)にてクロマト
精製し、2R,3R,4R−2−(6−メドキンカルポ
ニルー2−シス−ヘキセニル)−3−ホルミル−4−t
−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノン[11
−1]68g(収率70%〕を得る。 HN M R(CDCIs)) 0.07(S 6N) 、0.88(S、9H)、1.
67−1.72(m 2)1)2、02−2.07 (
01,2H)、2.24−24.69(m、7tl)、
2932.98(+n、IH) 、3.66(S、3H
)、4.52−4.57(m、 1tl)5.31−5
.32(m IH)、5.44−5.48(m 18)
、9.85(d、2H,J=1.84Hz) T L C: (Merck:Kieselgel 6
QFzsa)RfO,6(ヘキサン/酢酸エチル−3/
l)製造例6 Is 2R3R4R−−−ヒドロキシ−2(6−メド
キシカルボニルー2−シス−ヘキセニル)−3−[メト
キシ(フェニルチオ)メチル′J−4−t−ブチルージ
メチルソリルオキノンクロベンタン50■(0,1mm
ol ) 、アセトン4dおよび水1dに熔解し、塩化
第二水銀41■(0゜15mm+ol )および酸化水
銀32■(0,5+nmol )を加え、室温にて30
分間攪拌する。 不溶物を濾別して除き、濾液をジクロロメタンにて洗浄
する。 有機層を重ソウ水、水にて順次洗浄する。さらに、有機
層を減圧濃縮し、残渣をヘキサン−酢酸エチル(5:1
)にてカラムクロマト精製し、IS、2R3R4R−ヒ
ドロキシ−2−(6−メドキンカルボニルー2−ンスー
ヘキセニル)3−ホルミル−4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシシクロペンタノン26■(収率65%)を得
る。 HN M R(CDC13)) 0.08(3,6)1) 、0.88(S、9)1)、
1.60 (brs、LH)1.65−1.81(m、
3H)、1.91−2.35(m、8H) 、2.4
52.55(+c、IH) 、2.70−2.76(
m、2H) 、3.66(S、31()4.16−4
.22(m、IH)、4..56−4.59(m、LH
) 、5.405.53(m、2)f)、9.75(
d、1LJ=1..83)1z)L C: (Merck:Kiese1ge1 60F!S、) 0.6 (ヘキサン/酢酸エチル−3/ \ 手 続 補 正 書(自発) 平成3年11月25日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子または水酸基の保護基を示し、R
^4は低級アルキル基を示し、、R^5は置換基として
低級アルキル基、低級アルコキシ基または塩素原子を有
していてもよいフェニル基を示し、R^6、R^7およ
びR^8は、それぞれ独立にメチル基またはエチル基を
示し、R^9は低級アルキル基を示す。) で示されるシクロペンタノン誘導体。 (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表す。) で示されるシクロペンタン誘導体。 (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表す。) で示されるシクロペンタノンアルコール類。 (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表し、R^1^0は、低級アルキル基を示す。 ) で示されるシクロペンタン誘導体。 (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^9およびR^1^0は、前記と同じ意
味を表す。) で示されるシクロペンタンアルデヒド類。 (6)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^9は、前記と同じ意味を表す。)で示され
るシクロペンタンアルデヒド類。(7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AおよびR^9は、前記と同じ意味を表す。 ) で示されるシクロペンタンアルデヒド類。 (8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表し、XおよびYは、Xが水素原子のとき、Y
は水酸基もしくはR^1^0COOを示す。ここでR^
1^0は、前記と同じ意味を表す。あるいは、XとYと
でケト基を形成してもよい。) で示されるシクロペンタン誘導体に酸化剤を作用させる
ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、X、YおよびR^9は、前記と同じ意味を
表す。) で示されるシクロペンタンアルデヒド類の製造法。 (9)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表す。) で示されるシクロペンタンアルコール類と一般式R^1
^0COOH (式中、R^1^0は低級アルキル基を示す。)で示さ
れるカルボン酸類もしくはその誘導体とを反応させ一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5、R^9およびR^1^0
は、前記と同じ意味を表す。) で示されるシクロペンタン誘導体とし、該誘導体に酸化
剤を作用させることを特徴とする一般式▲数式、化学式
、表等があります▼ (式中、A、R^9およびR^1^0は、前記と同じ意
味を表す。) で示されるシクロペンタンアルデヒド類の製造法。 (10)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表す。) で示されるシクロペンタン誘導体に還元剤を作用させ請
求項9記載のシクロペンタンアルコール類を得る請求項
9記載のシクロペンタンアルデヒド類の製造法。 (11)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5、R^6、R^7、R^8
およびR^9は、前記と同じ意味を表す。) で示されるシクロペンタノン誘導体を脱シリル化剤を用
いて脱シリル化し、シクロペンタン誘導体を得る請求項
10記載のシクロペンタンアルデヒド類の製造法。 (12)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5、R^6、R^7、R^8
およびR^9は、前記と同じ意味を表す。) で示されるシクロペンタノン誘導体を脱シリル化剤を用
いて脱シリル化し、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R^4、R^5およびR^9は、前記と同
じ意味を表す。) で示されるシクロペンタン誘導体を得、該誘導体に酸化
剤を作用させることを特徴とする一般式▲数式、化学式
、表等があります▼ (式中、A、およびR^9は、前記と同じ意味を表す。 ) で示されるシクロペンタンアルデヒド類の製造法。 (13)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは、前記と同じ意味を表す。) で示されるシクロペンテノン誘導体に一般式LiC(O
R^4)(SR^5)SiR^6R^7R^8(式中、
R^4、R^5、R^6、R^7およびR^8は、前記
と同じ意味を表す。) で示される有機リチウム誘導体を反応させ、次いで一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはハロゲン原子を示し、R^9は前記と同じ
意味を表す。) で示されるω−ハロヘプテン酸類を作用させシクロペン
タノン誘導体とすることからなる請求項11または12
に記載のシクロペンタンアルデヒド類の製造法。 (14)Aが水素原子、2−テトラヒドロピラニル基、
エトキシエチル基▲数式、化学式、表等があります▼で
あり、ここで R_1およびR_2は、それぞれ独立に低級アルキル基
を示し、または置換基としてハロゲン原子または低級ア
ルキル基を有していてもよいフェニル基を示し、R_3
はt−ブチル基、イソペンチル基若しくはt−ペンチル
基を示し、または置換基としてハロゲン原子もしくは低
級アルキル基を有していてもよいフェニル基を示す。あ
るいは、OCOR^1^0(R^1^0は低級アルキル
基を示す。)である請求項1〜13のいずれか1つの項
に記載されている化合物または製造法。
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|---|---|---|---|
| JP2274456A JP2943306B2 (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | シクロペンタンアルデヒド類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2274456A JP2943306B2 (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | シクロペンタンアルデヒド類およびその製造法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04149153A true JPH04149153A (ja) | 1992-05-22 |
| JP2943306B2 JP2943306B2 (ja) | 1999-08-30 |
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ID=17541944
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| JP2274456A Expired - Fee Related JP2943306B2 (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | シクロペンタンアルデヒド類およびその製造法 |
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| JP (1) | JP2943306B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7605178B2 (en) | 2006-07-10 | 2009-10-20 | Allergan, Inc. | Therapeutic compounds |
| CN102101835A (zh) * | 2009-12-16 | 2011-06-22 | 武汉启瑞药业有限公司 | 前列腺素衍生物及其中间体的制备方法 |
-
1990
- 1990-10-12 JP JP2274456A patent/JP2943306B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7429669B2 (en) | 2006-06-20 | 2008-09-30 | Allergan, Inc. | Therapeutic compounds |
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| US7605178B2 (en) | 2006-07-10 | 2009-10-20 | Allergan, Inc. | Therapeutic compounds |
| US8003680B2 (en) * | 2006-07-10 | 2011-08-23 | Allergan, Inc. | Therapeutic compounds |
| CN102101835A (zh) * | 2009-12-16 | 2011-06-22 | 武汉启瑞药业有限公司 | 前列腺素衍生物及其中间体的制备方法 |
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