JPH0789467B2 - 螢光面の形成方法 - Google Patents
螢光面の形成方法Info
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- JPH0789467B2 JPH0789467B2 JP60244577A JP24457785A JPH0789467B2 JP H0789467 B2 JPH0789467 B2 JP H0789467B2 JP 60244577 A JP60244577 A JP 60244577A JP 24457785 A JP24457785 A JP 24457785A JP H0789467 B2 JPH0789467 B2 JP H0789467B2
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラー陰極線管の螢光面の形成方法に関す
る。
る。
本発明は、色螢光体層を所謂外面露光法により形成する
螢光面の形成方法において、形成した色蛍光体層をタン
ニン酸で処理することにより撥水性をもたせ、高品位の
螢光面が形成できるようにしたものである。
螢光面の形成方法において、形成した色蛍光体層をタン
ニン酸で処理することにより撥水性をもたせ、高品位の
螢光面が形成できるようにしたものである。
本出願人は、特願昭58−225863（特開昭60−119055）に
おいて、超高精細度陰極線管の螢光面の螢光体層の形成
方法として、所謂外面露光法を提案した。この方法は、
例えばアパーチヤグリルを色選択電極として用いたカラ
ー陰極線管の場合、パネル内面に光吸収層であるカーボ
ンストライプを形成する工程と、PVA感光液より成るレ
ジスト層を１色、例えば緑色の螢光体ストライプが形成
される部分以外の他部分にアパーチヤグリルをマスクと
して内面露光法により形成する工程と、レジスト層を除
去するための反転剤では除去されない感光性樹脂に緑色
の螢光体を混入した螢光体スラリーを塗布する工程と、
パネル外面よりカーボンストライプをマスクとして全面
露光した後、現像処理して緑色蛍光体ストライプを形成
する工程と、反転剤（H2O2又はHIO4）で緑色螢光体スト
ライプを形成しない部分の緑色螢光体をレジスト層と共
に反転現像して除去する工程により第１色目の緑色蛍光
体ストライプを形成し、他の青色螢光体ストライプと赤
色螢光体ストライプを同様に形成するようにしたことを
特徴とする螢光面の形成方法である。
おいて、超高精細度陰極線管の螢光面の螢光体層の形成
方法として、所謂外面露光法を提案した。この方法は、
例えばアパーチヤグリルを色選択電極として用いたカラ
ー陰極線管の場合、パネル内面に光吸収層であるカーボ
ンストライプを形成する工程と、PVA感光液より成るレ
ジスト層を１色、例えば緑色の螢光体ストライプが形成
される部分以外の他部分にアパーチヤグリルをマスクと
して内面露光法により形成する工程と、レジスト層を除
去するための反転剤では除去されない感光性樹脂に緑色
の螢光体を混入した螢光体スラリーを塗布する工程と、
パネル外面よりカーボンストライプをマスクとして全面
露光した後、現像処理して緑色蛍光体ストライプを形成
する工程と、反転剤（H2O2又はHIO4）で緑色螢光体スト
ライプを形成しない部分の緑色螢光体をレジスト層と共
に反転現像して除去する工程により第１色目の緑色蛍光
体ストライプを形成し、他の青色螢光体ストライプと赤
色螢光体ストライプを同様に形成するようにしたことを
特徴とする螢光面の形成方法である。
反転剤では溶解除去されない感光性樹脂は、例えばポリ
ビニルアルコール（PVA）中にスチルパゾリウム基（SB
Q）を有する感光剤を混入することにより得られる。
ビニルアルコール（PVA）中にスチルパゾリウム基（SB
Q）を有する感光剤を混入することにより得られる。
上述した外面露光法を用いた螢光面の形成方法におい
て、赤色螢光体ストライプ、緑色螢光体ストライプ及び
青色螢光体ストライプの形成のために反転現像を繰り返
し行うと、先に形成した螢光体ストライプが反転剤によ
つて解重合して剥れるという問題が生じる。反転剤の反
転力を下げ過ぎると螢光体塗膜の落ち残りが生じるた
め、反転力をあまり下げることはできない。そこで、こ
のような問題点を解決するために、従来ホウ酸等より成
る硬膜剤を用いて全面を洗う方法、100〜200℃の熱処理
を施す方法等が行なわれている。しかし、ホウ酸による
硬膜処理を施した場合には、２色目と３色目の螢光体ス
トライプを形成する際の剥れは或る程度軽減されるが、
完全ではなく、形成工程中不良の螢光体ストライプが発
生する。また、熱処理を施す場合には、高温の炉中に長
時間パネルと保持しておく必要があるため、生産性が著
しく低下するという問題点がある。また、螢光体スラリ
ー中に使用する感光性樹脂として反転剤に対して充分抵
抗性の強いものを使用する方法もあるが、この場合には
下地（パネルとの界面）に残されているPVA・ADC（重ク
ロム酸アンモニウム）系感光性樹脂が解重合することに
より蛍光体ストライプが剥れるという問題が生じる。
て、赤色螢光体ストライプ、緑色螢光体ストライプ及び
青色螢光体ストライプの形成のために反転現像を繰り返
し行うと、先に形成した螢光体ストライプが反転剤によ
つて解重合して剥れるという問題が生じる。反転剤の反
転力を下げ過ぎると螢光体塗膜の落ち残りが生じるた
め、反転力をあまり下げることはできない。そこで、こ
のような問題点を解決するために、従来ホウ酸等より成
る硬膜剤を用いて全面を洗う方法、100〜200℃の熱処理
を施す方法等が行なわれている。しかし、ホウ酸による
硬膜処理を施した場合には、２色目と３色目の螢光体ス
トライプを形成する際の剥れは或る程度軽減されるが、
完全ではなく、形成工程中不良の螢光体ストライプが発
生する。また、熱処理を施す場合には、高温の炉中に長
時間パネルと保持しておく必要があるため、生産性が著
しく低下するという問題点がある。また、螢光体スラリ
ー中に使用する感光性樹脂として反転剤に対して充分抵
抗性の強いものを使用する方法もあるが、この場合には
下地（パネルとの界面）に残されているPVA・ADC（重ク
ロム酸アンモニウム）系感光性樹脂が解重合することに
より蛍光体ストライプが剥れるという問題が生じる。
本発明は、上記問題点を解決することができる螢光面の
形成方法を提供するものである。
形成方法を提供するものである。
本発明は、パネル（１）内面に所定パターンの光吸収層
（２）を形成する工程と、レジスト層（５）を１色の螢
光体層が形成される部分以外の他部分に形成する工程
と、レジスト層（５）の反転剤では除去されない感光性
樹脂に１色の螢光体を混入した螢光体スラリー（６）を
塗布する工程と、パネル（１）外面より全面露光した
後、現像処理して１色の螢光体層（９）を形成する工程
と、反転剤を用いて上記他部分上の蛍光体（10）をレジ
スト層（５）と共に反転現像して除去する工程を有して
１色の螢光体層を形成し、同様に他色の螢光体層を上記
工程を繰返して形成する螢光面の形成方法において、反
転現像後の少くとも１色目の螢光体層（９）をタンニン
酸で処理して撥水性をもたせる。即ち、３色螢光体層よ
り成る螢光面の場合、各螢光体層を形成し反転現像した
後にそれぞれタンニン酸処理を施すのが良い。
（２）を形成する工程と、レジスト層（５）を１色の螢
光体層が形成される部分以外の他部分に形成する工程
と、レジスト層（５）の反転剤では除去されない感光性
樹脂に１色の螢光体を混入した螢光体スラリー（６）を
塗布する工程と、パネル（１）外面より全面露光した
後、現像処理して１色の螢光体層（９）を形成する工程
と、反転剤を用いて上記他部分上の蛍光体（10）をレジ
スト層（５）と共に反転現像して除去する工程を有して
１色の螢光体層を形成し、同様に他色の螢光体層を上記
工程を繰返して形成する螢光面の形成方法において、反
転現像後の少くとも１色目の螢光体層（９）をタンニン
酸で処理して撥水性をもたせる。即ち、３色螢光体層よ
り成る螢光面の場合、各螢光体層を形成し反転現像した
後にそれぞれタンニン酸処理を施すのが良い。
タンニン酸C14H10O9は、下記の化学構造式を有する没食
子酸のジデプシドである。
子酸のジデプシドである。
使用するタンニン酸溶液の濃度は、0.01％〜１％とする
のが好ましく、通常は0.5％以下である。0.01％より低
い場合には、充分な撥水効果が得られず、剥れ等による
不良の螢光体層が発生し易くなる。また、１％より高い
場合には、撥水効果自体は充分得られるが、タンニン酸
を余分に使用することになつて無駄であり、逆に螢光面
形成後に塗布される中間膜にむらが発生し易くなるとい
う問題が生じる。
のが好ましく、通常は0.5％以下である。0.01％より低
い場合には、充分な撥水効果が得られず、剥れ等による
不良の螢光体層が発生し易くなる。また、１％より高い
場合には、撥水効果自体は充分得られるが、タンニン酸
を余分に使用することになつて無駄であり、逆に螢光面
形成後に塗布される中間膜にむらが発生し易くなるとい
う問題が生じる。
この工程において、タンニン酸溶液をパネル（１）から
振り切つた後、40〜120秒の膜硬化時間を置くようにす
る。また、パネル（１）内面に残るタンニン酸に対して
例えば0.5〜５％のアンモニア水を使用して中和する。
振り切つた後、40〜120秒の膜硬化時間を置くようにす
る。また、パネル（１）内面に残るタンニン酸に対して
例えば0.5〜５％のアンモニア水を使用して中和する。
なお、螢光体層（９）は、ストライプタイプ、ドツトタ
イプのいずれであつても良い。
イプのいずれであつても良い。
本発明によれば、反転現像後の螢光体層をタンニン酸で
処理して撥水性をもたせるようにしたため、反転剤溶液
による螢光体層の剥れの問題は生じなくなる。また同時
に、このタンニン酸処理により、螢光体層の硬膜効果も
得られる。従つて、反転能力の強い反転剤を使用するこ
とができ、エツジのシヤープな螢光体層が得られる。
処理して撥水性をもたせるようにしたため、反転剤溶液
による螢光体層の剥れの問題は生じなくなる。また同時
に、このタンニン酸処理により、螢光体層の硬膜効果も
得られる。従つて、反転能力の強い反転剤を使用するこ
とができ、エツジのシヤープな螢光体層が得られる。
第１図を参照して本発明の実施例を説明する。この実施
例に係る螢光面は、色選別電極としてアパーチヤグリル
を使用した場合の螢光面である。
例に係る螢光面は、色選別電極としてアパーチヤグリル
を使用した場合の螢光面である。
先ず、第１図Ａに示すように、パネル（１）の内面にPV
A感光液を塗布し、乾燥させた後、アパーチヤグリルを
光学用マスクとして露光用光源を形成されるべき赤色、
緑色及び青色の螢光体ストライプに対応する位置にずら
せて３回紫外線露光し、水洗等で現像処理することによ
り、各色螢光体ストライプが形成される場所にストライ
プ状のレジスト層を形成する。次にレジスト層上も含む
全面にカーボンスラリーを塗布し、乾燥させた後、レジ
スト層をリフトオフすることにより、光吸収層であるカ
ーボンストライプ（２）を形成する。
A感光液を塗布し、乾燥させた後、アパーチヤグリルを
光学用マスクとして露光用光源を形成されるべき赤色、
緑色及び青色の螢光体ストライプに対応する位置にずら
せて３回紫外線露光し、水洗等で現像処理することによ
り、各色螢光体ストライプが形成される場所にストライ
プ状のレジスト層を形成する。次にレジスト層上も含む
全面にカーボンスラリーを塗布し、乾燥させた後、レジ
スト層をリフトオフすることにより、光吸収層であるカ
ーボンストライプ（２）を形成する。
次に第１図Ｂに示すように、カーボンストライプ（２）
上も含むパネル（２）内面の全面に重クロム酸アンモニ
ウム（ADC）を含むPVA感光液（３）と塗布した後、乾燥
させる。
上も含むパネル（２）内面の全面に重クロム酸アンモニ
ウム（ADC）を含むPVA感光液（３）と塗布した後、乾燥
させる。
次に第１図Ｃに示すように、アパーチヤグリル（４）を
光学ナスクとして使用し、形成されるべき青色と赤色の
螢光体ストライプに対応するように露光用光源をずらし
て２回露光する。
光学ナスクとして使用し、形成されるべき青色と赤色の
螢光体ストライプに対応するように露光用光源をずらし
て２回露光する。
次に第１図Ｄに示すように、水洗等で現像することによ
り、緑色螢光体ストライプが形成される部分以外の他部
分、即ちカーボンストライプ（２）及び青色螢光体スト
ライプと赤色螢光体ストライプが形成されるべき部分を
覆うレジスト層（５）を形成する。このレジスト層
（５）の反転剤としては過酸化水素H2O2溶液を使用す
る。
り、緑色螢光体ストライプが形成される部分以外の他部
分、即ちカーボンストライプ（２）及び青色螢光体スト
ライプと赤色螢光体ストライプが形成されるべき部分を
覆うレジスト層（５）を形成する。このレジスト層
（５）の反転剤としては過酸化水素H2O2溶液を使用す
る。
次に第１図Ｅに示すように、H2O2溶液では、溶解除去さ
れない感光性樹脂、例えばPVAにスチルバゾリウム基（S
BQ）を有する感光剤を添加した感光性樹脂の溶液に緑色
螢光体を混入した緑色螢光体スラリー（６）をパネル
（１）内面の全面に塗布する。そして、パネル（１）の
外面から紫外線（７）による全面露光を行う。
れない感光性樹脂、例えばPVAにスチルバゾリウム基（S
BQ）を有する感光剤を添加した感光性樹脂の溶液に緑色
螢光体を混入した緑色螢光体スラリー（６）をパネル
（１）内面の全面に塗布する。そして、パネル（１）の
外面から紫外線（７）による全面露光を行う。
次に第１図Ｆに示すように、水洗で現像処理することに
より、第１図Ｄに示すカーボンストライプ（２）間の白
抜き部分（８）に第１色目の緑色螢光体ストライプ
（９）を形成する。なおレジスト層（５）が透明である
ので同時に外面露光された、青色と赤色の螢光体ストラ
イプが形成される部分のレジスト層（５）上にも緑色螢
光体（10）が残つている。
より、第１図Ｄに示すカーボンストライプ（２）間の白
抜き部分（８）に第１色目の緑色螢光体ストライプ
（９）を形成する。なおレジスト層（５）が透明である
ので同時に外面露光された、青色と赤色の螢光体ストラ
イプが形成される部分のレジスト層（５）上にも緑色螢
光体（10）が残つている。
次に第１図Ｇに示すように、H2O2溶液より成る反転剤を
使用して、レジスト層（５）をその上の緑色螢光体（1
0）と共に溶解除去、即ち反転現像することにより緑色
螢光体ストライプ（９）のみを残す。
使用して、レジスト層（５）をその上の緑色螢光体（1
0）と共に溶解除去、即ち反転現像することにより緑色
螢光体ストライプ（９）のみを残す。
次に、この緑色螢光体ストライプ（９）形成後の濡れた
状態のパネル（１）内面に0.03％のタンニン酸溶液を注
入し、約15秒間なじませる。次に、タンニン酸溶液を振
り切ることにより除去し、約１分間放置した後、１％の
アンモニア水溶液を注入してタンニン酸を中和する。次
にイオン交換法による純水で洗浄し、乾燥させる。
状態のパネル（１）内面に0.03％のタンニン酸溶液を注
入し、約15秒間なじませる。次に、タンニン酸溶液を振
り切ることにより除去し、約１分間放置した後、１％の
アンモニア水溶液を注入してタンニン酸を中和する。次
にイオン交換法による純水で洗浄し、乾燥させる。
この後、第１図ＢからＧに示す工程と同様の工程を行う
ことにより、青色螢光体ストライプ（11）と赤色螢光体
ストライプ（12）を形成して第１図Ｈに示す目的のカラ
ー螢光面（13）を得る。
ことにより、青色螢光体ストライプ（11）と赤色螢光体
ストライプ（12）を形成して第１図Ｈに示す目的のカラ
ー螢光面（13）を得る。
このタンニン酸溶液による処理で、螢光体ストライプ
（９）は撥水性を帯び、また硬膜化されるため、反転現
像時における反転剤（H2O2）溶液によつて解重合するこ
とがなくなる。従つて、３色目までの螢光体ストライプ
を形成しても、１色目と２色目の螢光体ストライプの剥
れ、螢光体塗膜の落ち残り等の問題が生じることなく、
エツジのシヤープな螢光体ストライプが得られる。な
お、アンモニア水によるタンニン酸の中和は、２色目及
び３色目の螢光体塗膜のむらを防止するのに有効であ
る。
（９）は撥水性を帯び、また硬膜化されるため、反転現
像時における反転剤（H2O2）溶液によつて解重合するこ
とがなくなる。従つて、３色目までの螢光体ストライプ
を形成しても、１色目と２色目の螢光体ストライプの剥
れ、螢光体塗膜の落ち残り等の問題が生じることなく、
エツジのシヤープな螢光体ストライプが得られる。な
お、アンモニア水によるタンニン酸の中和は、２色目及
び３色目の螢光体塗膜のむらを防止するのに有効であ
る。
このカラー螢光面（13）を使用して製造したカラー陰極
線管によれば、高品位、高輝度の画像を得ることができ
た。
線管によれば、高品位、高輝度の画像を得ることができ
た。
上記実施例は、３色の各螢光体ストライプに対してタン
イン酸処理を施したが、第１色目の螢光体ストライプの
みにタンニン酸処理を施すこともできる。しかし、螢光
体ストライプ毎に処理を施すことにより、エツジのより
シヤープな螢光面が形成できる。
イン酸処理を施したが、第１色目の螢光体ストライプの
みにタンニン酸処理を施すこともできる。しかし、螢光
体ストライプ毎に処理を施すことにより、エツジのより
シヤープな螢光面が形成できる。
本発明によれば、螢光体層をタンイン酸で処理して撥水
性をもたせ、また同時に硬膜効果も得られるようにした
ことにより、従来のホウ酸、熱処理等による硬膜処理が
不要となる。反転現像工程における先に形成した螢光体
層の剥れの問題は生じなくなるので反転能力の強い反転
剤を使用して、エツジのシヤープな螢光体層が形成でき
る。また同時に、螢光体層中のピンホールが低減する。
性をもたせ、また同時に硬膜効果も得られるようにした
ことにより、従来のホウ酸、熱処理等による硬膜処理が
不要となる。反転現像工程における先に形成した螢光体
層の剥れの問題は生じなくなるので反転能力の強い反転
剤を使用して、エツジのシヤープな螢光体層が形成でき
る。また同時に、螢光体層中のピンホールが低減する。
第１図Ａ〜Ｈは実施例の工程図である。 （１）はパネル、（２）はカーボンストライプ、（３）
はPVA感光液、（５）はレジスト層、（６）は緑色螢光
体スラリー、（９）は緑色螢光体ストライプ、（11）は
青色蛍光体ストライプ、（12）は赤色蛍光体ストライ
プ、（13）は螢光面である。
はPVA感光液、（５）はレジスト層、（６）は緑色螢光
体スラリー、（９）は緑色螢光体ストライプ、（11）は
青色蛍光体ストライプ、（12）は赤色蛍光体ストライ
プ、（13）は螢光面である。
Claims (1)
- 【請求項１】パネル内面に所定パターンの光吸収層を形
成する工程と、 レジスト層を１色の螢光体層が形成される部分以外の他
部分に形成する工程と、 上記レジスト層の反転剤では除去されない感光性樹脂に
上記１色の螢光体を混入した螢光体スラリーを塗布する
工程と、 パネル外面より全面露光した後、現像処理する工程と、 上記反転剤を用いて上記他部分上の蛍光体を上記レジス
ト層と共に反転現像して除去する工程を有して１色の螢
光体層を形成し、同様に他色の螢光体層を上記工程を繰
返して形成する螢光面の形成方法において、 少くとも１色目の上記螢光体層をタンニン酸で処理して
撥水性をもたせるようにしたことを特徴とする螢光面の
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60244577A JPH0789467B2 (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 螢光面の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60244577A JPH0789467B2 (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 螢光面の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62105338A JPS62105338A (ja) | 1987-05-15 |
| JPH0789467B2 true JPH0789467B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=17120789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244577A Expired - Fee Related JPH0789467B2 (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 螢光面の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0789467B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5464972A (en) * | 1977-11-01 | 1979-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacuter of luminous screen |
-
1985
- 1985-10-31 JP JP60244577A patent/JPH0789467B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62105338A (ja) | 1987-05-15 |
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