JPS6316528A - ブラツクマトリクス型蛍光面の製造方法 - Google Patents
ブラツクマトリクス型蛍光面の製造方法Info
- Publication number
- JPS6316528A JPS6316528A JP16252286A JP16252286A JPS6316528A JP S6316528 A JPS6316528 A JP S6316528A JP 16252286 A JP16252286 A JP 16252286A JP 16252286 A JP16252286 A JP 16252286A JP S6316528 A JPS6316528 A JP S6316528A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- face panel
- insolubirize
- light
- substance
- Prior art date
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- Pending
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野Ｊ
本発明は、カラー陰極線管に用いられるブラックマトリ
クス型蛍光面の製造方法に関する。さらに詳しくは、蛍
光面の発光画素の周辺を黒色の光吸収性材料で覆ったブ
ラックマトリクス型蛍光面の製造方法に関する。
クス型蛍光面の製造方法に関する。さらに詳しくは、蛍
光面の発光画素の周辺を黒色の光吸収性材料で覆ったブ
ラックマトリクス型蛍光面の製造方法に関する。
［従来の技術］
ブラックマトリクス型蛍光面は、従来は第３図に示され
る工程によって製造されている。すなわち、フェースパ
ネル（１）の内面を洗浄し、ポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）と重クロム酸塩とを主成分とするネガティブタイ
プのフォトレジスト（２）をフェースパネル（１）の内
面に塗布したのち、乾燥する。
る工程によって製造されている。すなわち、フェースパ
ネル（１）の内面を洗浄し、ポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）と重クロム酸塩とを主成分とするネガティブタイ
プのフォトレジスト（２）をフェースパネル（１）の内
面に塗布したのち、乾燥する。
つぎに、フェースパネル（１）に設けられているパネル
ビン（３）にシャドウマスク（４）を装着し、所定の光
源から紫外光（５）を照射して、フォトレジスト（２）
の所定の位置を露光する。つぎに、シャドウマスク（４
）を外して脱イオン水をスプレーして現像し、未露光部
分（７）を融解除去する。つぎに、グラファイトサスペ
ンションなどの黒色の光吸収性材料（８）をフェースパ
ネル（１）の内面に塗布して乾燥する。つぎに、感光硬
化したフォトレジスト（６）を分解する過酸化水素水な
どの酸化剤をフェースパネル（１）の内面に注入して反
応させる。つぎに、分解されたフォトレジストとその上
の黒色の光吸収性材料（８）を除去するため、高圧の脱
イオン水をスプレーする。こうしてブラックマトリクス
暢が完成する。
ビン（３）にシャドウマスク（４）を装着し、所定の光
源から紫外光（５）を照射して、フォトレジスト（２）
の所定の位置を露光する。つぎに、シャドウマスク（４
）を外して脱イオン水をスプレーして現像し、未露光部
分（７）を融解除去する。つぎに、グラファイトサスペ
ンションなどの黒色の光吸収性材料（８）をフェースパ
ネル（１）の内面に塗布して乾燥する。つぎに、感光硬
化したフォトレジスト（６）を分解する過酸化水素水な
どの酸化剤をフェースパネル（１）の内面に注入して反
応させる。つぎに、分解されたフォトレジストとその上
の黒色の光吸収性材料（８）を除去するため、高圧の脱
イオン水をスプレーする。こうしてブラックマトリクス
暢が完成する。
このあとは写真印刷法により、緑色発光画素０１）、青
色発光画素ａｚおよび赤色発光画素にを順に形成してブ
ラックマトリクス型蛍光面■が完成する。
色発光画素ａｚおよび赤色発光画素にを順に形成してブ
ラックマトリクス型蛍光面■が完成する。
［発明が解決しようとする問題点］
こうした従来のブラックマトリクス型蛍光面の製造方法
では、第４図に示されるようにフェースパネル（１）の
周辺の湾曲部（１ａ）において黒色の光吸収性材料（８
）の膜がうずくなったり（８ａ）、または光吸収性材料
（８）の一部が欠落（８ｂ）する欠点があり、これらの
部分から陰極線管内で発光した光が洩れたり、湾曲部（
１ａ）が露出しているいわゆるブツシュスルータイプの
テレビセットでは重大な画面欠点になるなどの問題点が
ある。
では、第４図に示されるようにフェースパネル（１）の
周辺の湾曲部（１ａ）において黒色の光吸収性材料（８
）の膜がうずくなったり（８ａ）、または光吸収性材料
（８）の一部が欠落（８ｂ）する欠点があり、これらの
部分から陰極線管内で発光した光が洩れたり、湾曲部（
１ａ）が露出しているいわゆるブツシュスルータイプの
テレビセットでは重大な画面欠点になるなどの問題点が
ある。
本発明者は上記問題点を詳細に調査した結果、光吸収性
材料（８）の塗膜そのものには欠陥はなく、フォトレジ
ストと酸化剤との反応により第４図に示される（８ａ）
、（８ｂ）といった欠点が発生することが明らかになっ
た。つまり、フォトレジストの現像工程における脱イオ
ン水のスプレーによって未露光部分（刀が溶解除去され
るだけでなく、感光硬化したフォトレジスト（６）も一
部溶出してフェースパネル（１）の湾曲部（１ａ）に存
在するようになり、酸化剤による処理工程において、湾
曲部（１ａ）に存在するフォトレジストが酸化剤と反応
して前記のような問題をおこしているのである。
材料（８）の塗膜そのものには欠陥はなく、フォトレジ
ストと酸化剤との反応により第４図に示される（８ａ）
、（８ｂ）といった欠点が発生することが明らかになっ
た。つまり、フォトレジストの現像工程における脱イオ
ン水のスプレーによって未露光部分（刀が溶解除去され
るだけでなく、感光硬化したフォトレジスト（６）も一
部溶出してフェースパネル（１）の湾曲部（１ａ）に存
在するようになり、酸化剤による処理工程において、湾
曲部（１ａ）に存在するフォトレジストが酸化剤と反応
して前記のような問題をおこしているのである。
本発明は前記問題点を解消し、フェースパネルの湾曲部
（１ａ）の光吸収性材料（８）の均一な塗膜を提供し、
それによって画面欠点のない高品質なブラックマトリク
ス型蛍光面を提供することができる新規なブラックマト
リクス型蛍光面の製造方法をうろことを目的とする。
（１ａ）の光吸収性材料（８）の均一な塗膜を提供し、
それによって画面欠点のない高品質なブラックマトリク
ス型蛍光面を提供することができる新規なブラックマト
リクス型蛍光面の製造方法をうろことを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
本発明は感光硬化したフォトレジスト（６）の溶出を防
止するため、フォトレジストの表面を化学的に不溶化す
るもので、この手段として現像後のフォトレジストをポ
リビニルアルコールを不溶化させる物質と反応させてフ
ォトレジスト（６）不溶化させるものである。
止するため、フォトレジストの表面を化学的に不溶化す
るもので、この手段として現像後のフォトレジストをポ
リビニルアルコールを不溶化させる物質と反応させてフ
ォトレジスト（６）不溶化させるものである。
すなわち本発明はフェースパネルの内面にポリビニルア
ルコールおよび重クロム酸塩からなるフォトレジストを
塗布、乾燥させ、フォトレジストの所定の位置を露光し
、現像したのちフォトレジストをポリビニルアルコール
を不溶化させる物質と反応させ、さらにフェースパネル
の内面に光吸収性材料を塗布、乾燥させ、フォトレジス
トおよびフォトレジスト上の光吸収性材料を除去するこ
とを特徴とするブラックマトリクス型蛍光面の製造方法
に関する。
ルコールおよび重クロム酸塩からなるフォトレジストを
塗布、乾燥させ、フォトレジストの所定の位置を露光し
、現像したのちフォトレジストをポリビニルアルコール
を不溶化させる物質と反応させ、さらにフェースパネル
の内面に光吸収性材料を塗布、乾燥させ、フォトレジス
トおよびフォトレジスト上の光吸収性材料を除去するこ
とを特徴とするブラックマトリクス型蛍光面の製造方法
に関する。
［作 用］
本発明におけるポリビニルアルコールを不溶化させる物
質にる処理により、一旦感光硬化したフォトレジストが
脱イオン水による現像工程で膨潤しても、その表面が化
学的に不溶化処理されるため再溶出が防止でき、その結
果、フェースパネルの湾曲部にはフォトレジストは存在
しなくなり、酸化剤の影響を受けなくなる。
質にる処理により、一旦感光硬化したフォトレジストが
脱イオン水による現像工程で膨潤しても、その表面が化
学的に不溶化処理されるため再溶出が防止でき、その結
果、フェースパネルの湾曲部にはフォトレジストは存在
しなくなり、酸化剤の影響を受けなくなる。
［実施例］
つぎに本発明の実施例を第１図および第２図に基づいて
説明する。第１図は本実施例の工程を示すフローチャー
トであり、第２図は本実施例の製造工程を模式的に示し
た断面図である。
説明する。第１図は本実施例の工程を示すフローチャー
トであり、第２図は本実施例の製造工程を模式的に示し
た断面図である。
まず洗浄されたフェースパネル（１）の内面に、ポリビ
ニルアルコール（以下、ＰＶＡという）および重クロム
酸塩からなるフォトレジスト（２）が塗布される。フェ
ースパネル（１）としては従来よりカラー陰極線管に用
いられているものが使用できる。重クロム酸塩としては
、たとえば重クロム酸アンモニウム、重クロム酸ナトリ
ウムなどがあげられ、ＰＶＡと重クロム酸塩からなるフ
ォトレジストとしては、ＰＶＡ １〜５％（重量％、以
下同様）、重クロム酸塩０．１〜０．５％および残部が
脱イオン水からなるものが使用できる。塗布方法として
はスピンコーティング法などを用いることができる。
ニルアルコール（以下、ＰＶＡという）および重クロム
酸塩からなるフォトレジスト（２）が塗布される。フェ
ースパネル（１）としては従来よりカラー陰極線管に用
いられているものが使用できる。重クロム酸塩としては
、たとえば重クロム酸アンモニウム、重クロム酸ナトリ
ウムなどがあげられ、ＰＶＡと重クロム酸塩からなるフ
ォトレジストとしては、ＰＶＡ １〜５％（重量％、以
下同様）、重クロム酸塩０．１〜０．５％および残部が
脱イオン水からなるものが使用できる。塗布方法として
はスピンコーティング法などを用いることができる。
塗布されたフォトレジスト（２を乾燥したのち、フェー
スパネル（１）のパネルビン（３）にシャドウマスク（
４）を設置して所定の光源位置からフォトレジスト（ａ
の所定位置を高圧水銀ランプなどを用いて露光する。露
光条件は、フォトレジストの組成、露光装置の種類など
により異なるので適宜調整される。
スパネル（１）のパネルビン（３）にシャドウマスク（
４）を設置して所定の光源位置からフォトレジスト（ａ
の所定位置を高圧水銀ランプなどを用いて露光する。露
光条件は、フォトレジストの組成、露光装置の種類など
により異なるので適宜調整される。
つぎにシャドウマスク（４）を取り外して脱イオン水を
スプレーして現像し、感光硬化したフォトレジスト（６
）を表出させる。つぎにＰＶＡを不溶化させる物質をフ
ェースパネル（１）の内面に注入してフォトレジスト（
６）をＰＶＡを不溶化させる物質と反応させ、フォトレ
ジスト（６）の表面を不溶化させる。
スプレーして現像し、感光硬化したフォトレジスト（６
）を表出させる。つぎにＰＶＡを不溶化させる物質をフ
ェースパネル（１）の内面に注入してフォトレジスト（
６）をＰＶＡを不溶化させる物質と反応させ、フォトレ
ジスト（６）の表面を不溶化させる。
ＰＶＡを不溶化させる物質としては、ホウ酸水溶液、タ
ンニン水溶液、モリブデン酸アンモニウム水溶液などが
あげられる。たとえばホウ酸水溶液を用いるばあいは、
濃度が０．０５〜０．５％のものが好ましい。またホウ
酸水溶液の温度は１５〜３０℃であるのが好ましく、反
応時間は５〜２０秒間であるのが好ましい。
ンニン水溶液、モリブデン酸アンモニウム水溶液などが
あげられる。たとえばホウ酸水溶液を用いるばあいは、
濃度が０．０５〜０．５％のものが好ましい。またホウ
酸水溶液の温度は１５〜３０℃であるのが好ましく、反
応時間は５〜２０秒間であるのが好ましい。
つぎに光吸収性材料（８）をフェースパネル（１）の内
面に塗布して乾燥させたのち、フォトレジスト（６）と
フォトレジスト（６）上の光吸収性材料（８）をフォト
レジスト（６）と酸化剤とを反応させて除去することに
よりブラックマトリクスω）がえられる。
面に塗布して乾燥させたのち、フォトレジスト（６）と
フォトレジスト（６）上の光吸収性材料（８）をフォト
レジスト（６）と酸化剤とを反応させて除去することに
よりブラックマトリクスω）がえられる。
光吸収性材料としては、グラファイトサスペンション、
カーボンブラックなどが使用できる。塗布方法としては
スピンコーティング法などを用いることができる。酸化
剤としては、過酸化水素水、過ヨウ素酸塩などが使用で
き、除去方法としてはたとえば過酸化水素水を用いるば
あいは、２０〜５０℃の５〜２０％過酸化水素水をフェ
ースパネル（１）の内面に注入して２０秒間〜１分間反
応させ、ついで脱イオン水をスプレーする方法が好適で
ある。
カーボンブラックなどが使用できる。塗布方法としては
スピンコーティング法などを用いることができる。酸化
剤としては、過酸化水素水、過ヨウ素酸塩などが使用で
き、除去方法としてはたとえば過酸化水素水を用いるば
あいは、２０〜５０℃の５〜２０％過酸化水素水をフェ
ースパネル（１）の内面に注入して２０秒間〜１分間反
応させ、ついで脱イオン水をスプレーする方法が好適で
ある。
つぎに写真印刷法により、緑色発光画素（Ｉｌ＋、青色
発光画素０りおよび赤色発光画素０を順に形成してブラ
ックマトリクス型蛍光面■が製造される。
発光画素０りおよび赤色発光画素０を順に形成してブラ
ックマトリクス型蛍光面■が製造される。
以下に本発明を実施例を用いてさらに具体的に説明する
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
実施例１
まず洗浄したフェースパネル（１）にポリビニルアルコ
ール１％と重クロム酸アンモニウム０．１％からなるフ
ォトレジスト（２）をフェースパネル（１）の内面に乾
燥場の厚さが２μｍとなるように脱イオン水に溶解して
スピンコーティング法により塗布したのち乾燥した。
ール１％と重クロム酸アンモニウム０．１％からなるフ
ォトレジスト（２）をフェースパネル（１）の内面に乾
燥場の厚さが２μｍとなるように脱イオン水に溶解して
スピンコーティング法により塗布したのち乾燥した。
つぎにフェースパネル（１）のパネルビン（３）にシャ
ドウマスク（４）を設置して所定の光源位置から、フォ
トレジスト（２）の所定位置を高圧水銀灯を用いて露光
した。
ドウマスク（４）を設置して所定の光源位置から、フォ
トレジスト（２）の所定位置を高圧水銀灯を用いて露光
した。
つぎにシャドウマスクを取り外して脱イオン水をスプレ
ーして現像し、露光部を表出させた。つぎに３０℃の０
．５％ホウ酸水溶液をフェースパネル（１）の内面に注
入して感光硬化したフォトレジスト（６）をホウ酸水溶
液と反応させ、フォトレジスト（６）を不溶化させた。
ーして現像し、露光部を表出させた。つぎに３０℃の０
．５％ホウ酸水溶液をフェースパネル（１）の内面に注
入して感光硬化したフォトレジスト（６）をホウ酸水溶
液と反応させ、フォトレジスト（６）を不溶化させた。
つぎに、グラフフィトサスペンション（８）をフェース
パネル（１）の内面に塗布して乾燥させたのち、３０℃
の５％過酸化水素水をフェースパネルの内面に注入して
１分間反応させ、脱イオン水をスプレーしてフォトレジ
スト（６）とフォトレジスト（６）上のグラファイトサ
スペンションの膜（光吸収性材料（８））を除去した。
パネル（１）の内面に塗布して乾燥させたのち、３０℃
の５％過酸化水素水をフェースパネルの内面に注入して
１分間反応させ、脱イオン水をスプレーしてフォトレジ
スト（６）とフォトレジスト（６）上のグラファイトサ
スペンションの膜（光吸収性材料（８））を除去した。
えられたフェースパネル（１）の湾曲部のグラファイト
サスペンションの膜は正常で第４図に示されるような（
８ａ）、（８ｂ）などの欠陥は全く発生しなかった。
サスペンションの膜は正常で第４図に示されるような（
８ａ）、（８ｂ）などの欠陥は全く発生しなかった。
つぎに写真印刷法により緑色発光画素０１）、青色発光
画素０２）および赤色発光画素０を順に形成してブラッ
クマトリクス型蛍光面■を製造した。
画素０２）および赤色発光画素０を順に形成してブラッ
クマトリクス型蛍光面■を製造した。
なお、前記実施例では、フォトレジストを不溶化処理す
るためにホウ酸水溶液を単独で用いたが、溶出したフォ
トレジストをすすぎ落とす効果を付与するために、リン
ス効果のある界面活性剤とともに用いても全く同様に（
８ａ）、（８ｂ）などの欠陥を防ぐ効果かえられる。
るためにホウ酸水溶液を単独で用いたが、溶出したフォ
トレジストをすすぎ落とす効果を付与するために、リン
ス効果のある界面活性剤とともに用いても全く同様に（
８ａ）、（８ｂ）などの欠陥を防ぐ効果かえられる。
［発明の効果］
以上のように、本発明の製造方法によれば、フェースパ
ネルの湾曲部の光吸収性材料の膜に欠陥が生じないため
、この部分が露出したテレビセットにおいても画面に欠
点のない高品質のブラックマトリクス型蛍光面を提供す
ることができるといる効果を奏する。
ネルの湾曲部の光吸収性材料の膜に欠陥が生じないため
、この部分が露出したテレビセットにおいても画面に欠
点のない高品質のブラックマトリクス型蛍光面を提供す
ることができるといる効果を奏する。
第１図は本発明の実施例の工程を示すフローチャートで
あり、第２図は本発明の製造工程を模式的に示した断面
図である。第３図は従来のブラックマトリクス型蛍光面
の製造工程を模式的に示した断面図であり、第４図は従
来のブラックマトリクス型蛍光面の欠陥を示す断面図で
ある。 （図面の主要符号） （１）：フエースパネル （ｚ：フォトレジスト （４）：シャドウマスク （８）：光吸収性材料 代 理 人 大 岩 増
雄片２図 才３図 Ａｎ
あり、第２図は本発明の製造工程を模式的に示した断面
図である。第３図は従来のブラックマトリクス型蛍光面
の製造工程を模式的に示した断面図であり、第４図は従
来のブラックマトリクス型蛍光面の欠陥を示す断面図で
ある。 （図面の主要符号） （１）：フエースパネル （ｚ：フォトレジスト （４）：シャドウマスク （８）：光吸収性材料 代 理 人 大 岩 増
雄片２図 才３図 Ａｎ
Claims (2)
- （１）フェースパネルの内面にポリビニルアルコールお
よび重クロム酸塩からなるフォトレジストを塗付、乾燥
させ、フォトレジストの所定の位置を露光し、現像した
のちフォトレジストをポリビニルアルコールを不溶化さ
せる物質と反応させ、さらにフェースパネルの内面に光
吸収性材料を塗布、乾燥させ、フォトレジストおよびフ
ォトレジスト上の光吸収性材料を除去することを特徴と
するブラックマトリクス型蛍光面の製造方法。 - （２）ポリビニルアルコールを不溶化させる物質が、ホ
ウ酸水溶液、タンニン水溶液またはモリブデン酸アンモ
ニウム水溶液である特許請求の範囲第（１）項記載の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16252286A JPS6316528A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | ブラツクマトリクス型蛍光面の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16252286A JPS6316528A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | ブラツクマトリクス型蛍光面の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6316528A true JPS6316528A (ja) | 1988-01-23 |
Family
ID=15756221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16252286A Pending JPS6316528A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | ブラツクマトリクス型蛍光面の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6316528A (ja) |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP16252286A patent/JPS6316528A/ja active Pending
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