JPH079060B2 - 光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法Info
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- JPH079060B2 JPH079060B2 JP63040851A JP4085188A JPH079060B2 JP H079060 B2 JPH079060 B2 JP H079060B2 JP 63040851 A JP63040851 A JP 63040851A JP 4085188 A JP4085188 A JP 4085188A JP H079060 B2 JPH079060 B2 JP H079060B2
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- JP
- Japan
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- target
- magneto
- optical recording
- recording medium
- composite
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体をスパッタリングにて製造す
る際に用いられる希土類金属と遷移金属とからなる光磁
気記録媒体用ターゲットの製造に関するものである。
る際に用いられる希土類金属と遷移金属とからなる光磁
気記録媒体用ターゲットの製造に関するものである。
近年、光磁気記録の技術進歩はめざましく、光磁気ディ
スクの開発は、光磁気記録媒体の性能向上等を主体に活
発に行なわれている。この光磁気記録媒体の材料として
は希土類金属と遷移金属の組み合せ（TbFe,GdTbFe,TbFe
Co,GdDyFeCo等）の薄膜媒体が用いられ、ガラス、又は
樹脂系基板上へスパッタ法などにて形成されている。こ
のスパッタ法で形成される光磁気記録薄膜媒体には成分
の均一性、高純度、低酸素含有率などが要求されてい
る。そのためスパッタリングターゲットとしては、量産
に富んだ、高密度で高純度、低酸素含有率の材料特性が
要求される。
スクの開発は、光磁気記録媒体の性能向上等を主体に活
発に行なわれている。この光磁気記録媒体の材料として
は希土類金属と遷移金属の組み合せ（TbFe,GdTbFe,TbFe
Co,GdDyFeCo等）の薄膜媒体が用いられ、ガラス、又は
樹脂系基板上へスパッタ法などにて形成されている。こ
のスパッタ法で形成される光磁気記録薄膜媒体には成分
の均一性、高純度、低酸素含有率などが要求されてい
る。そのためスパッタリングターゲットとしては、量産
に富んだ、高密度で高純度、低酸素含有率の材料特性が
要求される。
この様なターゲットの製造方法としては、 （１）所定組成の希土類金属と遷移金属を真空溶解炉等
で溶解、鋳造した後粉砕し、ホットプレス法又は、熱間
静水圧プレス法により加圧焼結して合金ターゲットを製
造する方法。
で溶解、鋳造した後粉砕し、ホットプレス法又は、熱間
静水圧プレス法により加圧焼結して合金ターゲットを製
造する方法。
（２）溶解法で得られた遷移金属ターゲット上に希土類
金属の小片を乗せて（又はその逆）、複合ターゲットを
製造する方法などが行なわれている。
金属の小片を乗せて（又はその逆）、複合ターゲットを
製造する方法などが行なわれている。
しかしながら上記した（１）で示される方法は、組成は
均一で量産性に富んだターゲットであるが、スパッタリ
ングにより形成した薄膜の組成が、ディスク中心から周
辺に行くに従い、希土類金属組成が増大し、膜組成の均
一性において劣る。尚、上記した（２）の方法では、希
土類金属小片の配置により、薄膜の組成は均一に得られ
るものの、小片を用いるためスパッタリング中の均一組
成が得られる寿命が短く、従って、量産性において劣っ
ていた。また、小片を固定していないため、小片が移動
し易くスパッタリングごとの組成が変動するという問題
点を有していた。
均一で量産性に富んだターゲットであるが、スパッタリ
ングにより形成した薄膜の組成が、ディスク中心から周
辺に行くに従い、希土類金属組成が増大し、膜組成の均
一性において劣る。尚、上記した（２）の方法では、希
土類金属小片の配置により、薄膜の組成は均一に得られ
るものの、小片を用いるためスパッタリング中の均一組
成が得られる寿命が短く、従って、量産性において劣っ
ていた。また、小片を固定していないため、小片が移動
し易くスパッタリングごとの組成が変動するという問題
点を有していた。
本発明の課題は、斯る問題点に鑑み、スパッタ薄膜の組
成分布が均一で且つ寿命が長い量産性に富んだ大型の光
磁気記録媒体用ターゲットの製造方法を提供することで
ある。
成分布が均一で且つ寿命が長い量産性に富んだ大型の光
磁気記録媒体用ターゲットの製造方法を提供することで
ある。
本発明によれば、合金又は金属粉末及び棒材よりなる複
合体を所定形状容器内に充填し、上記複合体を実質的に
真空状態にて加熱し、上記複合体を上記容器内に封入す
る準備加工工程と、上記準備加工工程に続いて上記複合
体を上記密封容器とともに熱間圧縮成形する熱間圧縮成
形工程とを有し、上記合金又は金属粉末は少くとも希土
類金属を含み上記棒材は、鉄を主成分とする遷移金属よ
り形成されていることを特徴とする光磁気記録媒体用タ
ーゲットの製造方法が得られる。
合体を所定形状容器内に充填し、上記複合体を実質的に
真空状態にて加熱し、上記複合体を上記容器内に封入す
る準備加工工程と、上記準備加工工程に続いて上記複合
体を上記密封容器とともに熱間圧縮成形する熱間圧縮成
形工程とを有し、上記合金又は金属粉末は少くとも希土
類金属を含み上記棒材は、鉄を主成分とする遷移金属よ
り形成されていることを特徴とする光磁気記録媒体用タ
ーゲットの製造方法が得られる。
ここで、本発明において、所定形状の密封容器内に収容
される棒材は、密封容器希土類−遷移金属合金粉末及び
棒材をあわせた材料の総重量の18.5〜38.0wt％の範囲内
であることが好ましい。
される棒材は、密封容器希土類−遷移金属合金粉末及び
棒材をあわせた材料の総重量の18.5〜38.0wt％の範囲内
であることが好ましい。
また、熱処理時の一定温度は900℃以上の温度が好まし
く、熱間圧縮成形温度は、900℃以上の温度、圧力は900
気圧以上が好ましい。
く、熱間圧縮成形温度は、900℃以上の温度、圧力は900
気圧以上が好ましい。
本発明の実施例について説明する。
第１図は、本発明の実施例に係る光磁気記録媒体用ター
ゲットの製造方法を示している。この図にように、粉砕
した希土類−遷移金属合金粉末２を密封容器ステンレス
製のコンテナ１に充てんし、この粉砕中に、棒材３に挿
入して複合体を形成した、次に脱気管４を真空ポンプに
接続し、真空度５×10-6Torrまで脱気し、次いで、温度
1000℃まで加熱昇温させ、1000℃で２時間保持し加熱真
空引きを施し、しかる後脱気管の一部を加熱圧接、切断
し密封コンテナを作製する。HIP炉内に設置されたコン
テナを、温度1000℃、圧力100気圧、保持時間２時間の
条件にてHIP処理を施し、直径８インチ、厚さ3mmの円板
形ターゲットを作製した。
ゲットの製造方法を示している。この図にように、粉砕
した希土類−遷移金属合金粉末２を密封容器ステンレス
製のコンテナ１に充てんし、この粉砕中に、棒材３に挿
入して複合体を形成した、次に脱気管４を真空ポンプに
接続し、真空度５×10-6Torrまで脱気し、次いで、温度
1000℃まで加熱昇温させ、1000℃で２時間保持し加熱真
空引きを施し、しかる後脱気管の一部を加熱圧接、切断
し密封コンテナを作製する。HIP炉内に設置されたコン
テナを、温度1000℃、圧力100気圧、保持時間２時間の
条件にてHIP処理を施し、直径８インチ、厚さ3mmの円板
形ターゲットを作製した。
第１表はターゲットの目標組成、棒材のFe,Co量及び、
スパッタ成膜の薄膜中の希土類成分の分布を示す表であ
る。
スパッタ成膜の薄膜中の希土類成分の分布を示す表であ
る。
第１表の各欄に実施例に係るターゲット試料３〜６の目
標組成、ターゲット中に占める棒材の重量百分率及び、
これらのターゲットを用いてスパッタ成膜した時の薄膜
中の希土類成分の分布を示してある。中心を基準にして
希土類含有率の変動した値を示す。比較のため，実施例
と同様な方法で作製した試料1,2,7,8と従来の棒材を用
いない合金ターゲットの薄膜中の希土類成分の分布も示
した。従来例に係る合金ターゲット及び比較例に係る試
料1,2のターゲット全体に対して棒状遷移金属量が少量
のターゲット，及び試料7,8の棒状遷移金属量が多量の
ターゲットにおいては薄膜中の希土類成分の分布が大で
ある。それに対し，実施例に係る試料3,4,5,6即ちター
ゲット全体に対して棒状遷移金属量が18.5〜38.0wt％に
おいて製造した薄膜中の希土類成分の分布が少ない良好
なターゲットが得られた。また、寿命においても、従来
法の複合ターゲットに比べて長く良好であった。
標組成、ターゲット中に占める棒材の重量百分率及び、
これらのターゲットを用いてスパッタ成膜した時の薄膜
中の希土類成分の分布を示してある。中心を基準にして
希土類含有率の変動した値を示す。比較のため，実施例
と同様な方法で作製した試料1,2,7,8と従来の棒材を用
いない合金ターゲットの薄膜中の希土類成分の分布も示
した。従来例に係る合金ターゲット及び比較例に係る試
料1,2のターゲット全体に対して棒状遷移金属量が少量
のターゲット，及び試料7,8の棒状遷移金属量が多量の
ターゲットにおいては薄膜中の希土類成分の分布が大で
ある。それに対し，実施例に係る試料3,4,5,6即ちター
ゲット全体に対して棒状遷移金属量が18.5〜38.0wt％に
おいて製造した薄膜中の希土類成分の分布が少ない良好
なターゲットが得られた。また、寿命においても、従来
法の複合ターゲットに比べて長く良好であった。
尚、本発明に係る金属製の密封容器は、内部に真空に近
い状態10-5Torr以下を作り出せる容器本体に脱気管が貫
設された形状であるならば、密封容器本体の形状には限
定されない。
い状態10-5Torr以下を作り出せる容器本体に脱気管が貫
設された形状であるならば、密封容器本体の形状には限
定されない。
以上述べた通り、本発明によれば、スパッタ薄膜の組成
分布が小さく、さらに寿命が長く、量産性に富んだスパ
ッタリングに使用される光磁気記録媒体用ターゲットの
製造方法が提供できる。
分布が小さく、さらに寿命が長く、量産性に富んだスパ
ッタリングに使用される光磁気記録媒体用ターゲットの
製造方法が提供できる。
また、本発明によれば、直径８インチ、10インチ×20イ
ンチ等の大型ターゲットを得ることができ、実用的か
つ、工業的に有利な熱間圧縮成形方法による光磁気記録
媒体用ターゲットの製造方法が提供できる。
ンチ等の大型ターゲットを得ることができ、実用的か
つ、工業的に有利な熱間圧縮成形方法による光磁気記録
媒体用ターゲットの製造方法が提供できる。
第１図は、本発明に係る光磁気記録媒体用ターゲットの
製造方法の一実施例を説明するための断面図である。 図中１はコンテナ、２は希土類−遷移金属合金、３はFe
棒材、４は脱気管である。
製造方法の一実施例を説明するための断面図である。 図中１はコンテナ、２は希土類−遷移金属合金、３はFe
棒材、４は脱気管である。
Claims (2)
- 【請求項１】合金又は金属粉末及び棒材よりなる複合体
を所定形状の金属容器内に充填し，上記複合体を実質的
に真空状態にて加熱し，上記複合体を上記密封容器内に
封入する準備加工工程と，上記基準加工工程に続いて上
記複合体を上記密封容器とともに熱間圧縮成形する熱間
圧縮成形工程とを有し， 上記合金又は金属粉末は少なくとも希土類金属を含み，
上記棒材は，鉄を主成分とする遷移金属より形成されて
いることを特徴とする光磁気記録媒体用ターゲットの製
造方法。 - 【請求項２】請求項１記載の光磁気記録媒体用ターゲッ
トの製造方法において，上記棒材は，上記密封容器を含
む複合体中に18.5〜38,0wt％で含有されていることを特
徴とする光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63040851A JPH079060B2 (ja) | 1988-02-25 | 1988-02-25 | 光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63040851A JPH079060B2 (ja) | 1988-02-25 | 1988-02-25 | 光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01215972A JPH01215972A (ja) | 1989-08-29 |
| JPH079060B2 true JPH079060B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=12592075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63040851A Expired - Lifetime JPH079060B2 (ja) | 1988-02-25 | 1988-02-25 | 光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH079060B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62130235A (ja) * | 1985-12-02 | 1987-06-12 | Mitsubishi Metal Corp | タ−ゲツト材の製造方法 |
| JPS63290272A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-28 | Hitachi Metals Ltd | 希土類元素−遷移金属元素タ−ゲット材の製造方法 |
-
1988
- 1988-02-25 JP JP63040851A patent/JPH079060B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01215972A (ja) | 1989-08-29 |
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