JPH0796577B2 - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
光硬化性樹脂組成物Info
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- JPH0796577B2 JPH0796577B2 JP61167427A JP16742786A JPH0796577B2 JP H0796577 B2 JPH0796577 B2 JP H0796577B2 JP 61167427 A JP61167427 A JP 61167427A JP 16742786 A JP16742786 A JP 16742786A JP H0796577 B2 JPH0796577 B2 JP H0796577B2
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明の光硬化性樹脂組成物は、立体模様を有する印刷
や塗装物を得る際に紙、フイルムに防水性を付与する樹
脂あるいはホログラム製造時に用いる樹脂、転写フイル
ム形成用樹脂として有用である。
や塗装物を得る際に紙、フイルムに防水性を付与する樹
脂あるいはホログラム製造時に用いる樹脂、転写フイル
ム形成用樹脂として有用である。
(A)エポキシアクリレートやアクリルウレタン等のエ
チレン性不飽和基を有する光重合性化合物を、(B)エ
チレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート等の重合性不飽和単量体で希釈
し、これに(C)光増感剤を配合した光硬化性樹脂をバ
インダーとし、これに顔料、レベリング剤等を配合した
光硬化性インクを用いて樹脂フイルムや樹脂射出成型品
上に印刷を施こすことが行われている。
チレン性不飽和基を有する光重合性化合物を、(B)エ
チレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート等の重合性不飽和単量体で希釈
し、これに(C)光増感剤を配合した光硬化性樹脂をバ
インダーとし、これに顔料、レベリング剤等を配合した
光硬化性インクを用いて樹脂フイルムや樹脂射出成型品
上に印刷を施こすことが行われている。
これら光硬化性樹脂組成物の(A)成分は、一般に常温
(20〜30℃)で液状を呈し、これを紙、樹脂、金属等の
基材上に塗布した後、光硬化を行わない限りは紙、フイ
ルム等を巻き取つたり、重ね合せたりすることができな
い欠点がある。また、光硬化した樹脂層を有する紙、フ
イルムに、エンボス加工等の模様付け、印刷、塗装、樹
脂ラミネート等の後加工を施すことはできない欠点があ
る。
(20〜30℃)で液状を呈し、これを紙、樹脂、金属等の
基材上に塗布した後、光硬化を行わない限りは紙、フイ
ルム等を巻き取つたり、重ね合せたりすることができな
い欠点がある。また、光硬化した樹脂層を有する紙、フ
イルムに、エンボス加工等の模様付け、印刷、塗装、樹
脂ラミネート等の後加工を施すことはできない欠点があ
る。
後加工ができる光硬化性樹脂として、(A)成分が常温
で固体である(イ)高分子量のエポキシ樹脂とアクリル
酸を反応させて得られたエポキシアクリレートまたは
(ロ)特殊なアクリルメラミン化合物が知られており、
これを含有する光硬化性樹脂は塩ビレザーフオーム製造
に用いる工程剥離紙にパターン模様を付す樹脂として利
用されている(特開昭58−156099号、同59−117537
号)。
で固体である(イ)高分子量のエポキシ樹脂とアクリル
酸を反応させて得られたエポキシアクリレートまたは
(ロ)特殊なアクリルメラミン化合物が知られており、
これを含有する光硬化性樹脂は塩ビレザーフオーム製造
に用いる工程剥離紙にパターン模様を付す樹脂として利
用されている(特開昭58−156099号、同59−117537
号)。
しかし、(イ)のエポキシアクリレートは光硬化性樹脂
の耐擦傷性、表面硬度、印刷インクに対する耐薬品性が
これら転写紙、ホログラムの製造用樹脂としては不足で
ある。後者(ロ)のアクリルメラミン化合物は、工程剥
離紙の製造に用いることを念頭に開発されたために、硬
化皮膜の硬度、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、中でもメ
タノールやエタノールなどの耐アルコール性が劣つてい
るという欠点がある。
の耐擦傷性、表面硬度、印刷インクに対する耐薬品性が
これら転写紙、ホログラムの製造用樹脂としては不足で
ある。後者(ロ)のアクリルメラミン化合物は、工程剥
離紙の製造に用いることを念頭に開発されたために、硬
化皮膜の硬度、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、中でもメ
タノールやエタノールなどの耐アルコール性が劣つてい
るという欠点がある。
本発明は、後者(ロ)の樹脂の硬度、耐擦傷性、耐水
性、耐アルコール性の欠点を改良するためになされたも
ので、本発明の光硬化性樹脂組成物を基材に塗布した
後、乾燥して有機溶剤を飛散させてタツク性のない固体
の光硬化性樹脂層を基材上に設けることにより、巻き取
り、重ね合せ、エンボス加工、印刷、塗装、ラミネート
などの後加工を可能とさせ、ついで、光照射(電子線、
紫外線)により固体の光硬化樹脂層を完全に硬化させて
強靱で、硬度、耐熱性、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、
基材に対する密着性に優れた樹脂層を有する加工品(ホ
ログラム、転写紙、エンボス加工装飾品)を製造するこ
とができた。
性、耐アルコール性の欠点を改良するためになされたも
ので、本発明の光硬化性樹脂組成物を基材に塗布した
後、乾燥して有機溶剤を飛散させてタツク性のない固体
の光硬化性樹脂層を基材上に設けることにより、巻き取
り、重ね合せ、エンボス加工、印刷、塗装、ラミネート
などの後加工を可能とさせ、ついで、光照射(電子線、
紫外線)により固体の光硬化樹脂層を完全に硬化させて
強靱で、硬度、耐熱性、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、
基材に対する密着性に優れた樹脂層を有する加工品(ホ
ログラム、転写紙、エンボス加工装飾品)を製造するこ
とができた。
本発明は、 (A)成分: (a)成分: 一般式 式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜4の炭化水素
基を示し、Rはメチル基、フエニル基、−N(CH2O
R′)2(R′はそれぞれ上記R′と同一または異なるH
または炭素数1〜4の炭化水素基)、または下式で表わ
される有機基を示す。
基を示し、Rはメチル基、フエニル基、−N(CH2O
R′)2(R′はそれぞれ上記R′と同一または異なるH
または炭素数1〜4の炭化水素基)、または下式で表わ
される有機基を示す。
(Yは−CH2OR′または水素、R′はそれぞれ上記の
R′と同一または異なるHまたは炭素数1〜4の炭化水
素基) で示されるメラミン系化合物 1モル (b)成分: 分子量が500以下の多価アルコール1.5〜4当量((水酸
基1個を1当量とする) (c)成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換アクリルアミド
より選ばれたアミド系化合物 1〜4.5モル 上記(a)、(b)および(c)成分を上記割合で反応
させて得られる20℃で固体のメラミンアクリル化合物50
〜90重量% (B)成分: アクリロイルオキシ基を分子中に1個以上有するアクリ
ル酸アルキルエステルまたはメタクリロイルオキシ基を
分子中に1個以上有するメタクリル酸アルキルエステル
10〜50重量% (C)成分: 上記(A)および(B)成分を溶解する非反応有機溶剤
(A)および(B)成分の合計量100重量部に対して10
〜900重量部 (D)成分: 光増感剤 上記(A)および(B)成分の合計量に対して0.05〜5
重量% 上記(A)、(B)、(C)および(D)成分を含有す
る光硬化性樹脂組成物を提供するものである。
R′と同一または異なるHまたは炭素数1〜4の炭化水
素基) で示されるメラミン系化合物 1モル (b)成分: 分子量が500以下の多価アルコール1.5〜4当量((水酸
基1個を1当量とする) (c)成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換アクリルアミド
より選ばれたアミド系化合物 1〜4.5モル 上記(a)、(b)および(c)成分を上記割合で反応
させて得られる20℃で固体のメラミンアクリル化合物50
〜90重量% (B)成分: アクリロイルオキシ基を分子中に1個以上有するアクリ
ル酸アルキルエステルまたはメタクリロイルオキシ基を
分子中に1個以上有するメタクリル酸アルキルエステル
10〜50重量% (C)成分: 上記(A)および(B)成分を溶解する非反応有機溶剤
(A)および(B)成分の合計量100重量部に対して10
〜900重量部 (D)成分: 光増感剤 上記(A)および(B)成分の合計量に対して0.05〜5
重量% 上記(A)、(B)、(C)および(D)成分を含有す
る光硬化性樹脂組成物を提供するものである。
(A)成分のアクリルメラミン化合物: (A)成分のアクリルメラミン化合物は、特開昭59−11
7537号公報に掲載されている(a)メラミン化合物と、
(b)多価アルコールとアクリル系アミドとを上記割合
で原料として用い、これに触媒を混合し、50〜150℃、
好ましくは80〜130℃で2〜20時間反応させることによ
り得られる。
7537号公報に掲載されている(a)メラミン化合物と、
(b)多価アルコールとアクリル系アミドとを上記割合
で原料として用い、これに触媒を混合し、50〜150℃、
好ましくは80〜130℃で2〜20時間反応させることによ
り得られる。
上記(a)成分のメチロール化メラミン化合物およびア
ルキルエーテル化メラミン化合物の具体例のいくつかを
示せば、次の通りである。ヘキサメチロールメラミン、
ペンタメチロールメラミン、テトラメチロールメラミ
ン、トリメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、
ヘキサメトキシメチルメラミン、ペンタメトキシメチル
メラミン、テトラメトキシメチルメラミン、トリメトキ
シメチルメラミン、トリブトキシメチルメラミン、ヘキ
サエトキシメチルメラミン、ペンタエトキシメチルメラ
ミン、テトラエトキシメチルメラミン、トリメトキシメ
チル−ジエトキシメラミン、トリエトキシメチル−ジブ
トキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミ
ン、トリプロポキシメチルメラミン、ジブトキシメチル
メラミン、トリメトキシメチルメラミン、ジプロポキシ
ミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、モノメトキシメ
チルメラミン、テトラブトキシメチルメラミン、テトラ
メトキシメチルメラミン、メチルグアナミン、ジメトキ
シメチルグアナミン、ジブトキシメチルグアナミン、モ
ノメトキシメチルグアナミン、トリプロポキシメチルグ
アナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、ベンゾグ
アナミン、テトラブトキシメチルグアナミン、ジブトキ
シメチル−ベンゾグアナミンおよびこれらの混合物。
ルキルエーテル化メラミン化合物の具体例のいくつかを
示せば、次の通りである。ヘキサメチロールメラミン、
ペンタメチロールメラミン、テトラメチロールメラミ
ン、トリメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、
ヘキサメトキシメチルメラミン、ペンタメトキシメチル
メラミン、テトラメトキシメチルメラミン、トリメトキ
シメチルメラミン、トリブトキシメチルメラミン、ヘキ
サエトキシメチルメラミン、ペンタエトキシメチルメラ
ミン、テトラエトキシメチルメラミン、トリメトキシメ
チル−ジエトキシメラミン、トリエトキシメチル−ジブ
トキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミ
ン、トリプロポキシメチルメラミン、ジブトキシメチル
メラミン、トリメトキシメチルメラミン、ジプロポキシ
ミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、モノメトキシメ
チルメラミン、テトラブトキシメチルメラミン、テトラ
メトキシメチルメラミン、メチルグアナミン、ジメトキ
シメチルグアナミン、ジブトキシメチルグアナミン、モ
ノメトキシメチルグアナミン、トリプロポキシメチルグ
アナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、ベンゾグ
アナミン、テトラブトキシメチルグアナミン、ジブトキ
シメチル−ベンゾグアナミンおよびこれらの混合物。
本発明で対象とするのに特に適したものは、式(I)で
R′が水素またはメチル基、Rが−N(CH2OCH3)2また
はフエニル基のものである。
R′が水素またはメチル基、Rが−N(CH2OCH3)2また
はフエニル基のものである。
次に、(b)成分の分子量が500以下の多価アルコール
としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4
−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキ
サンジオール等の脂肪族のアルキレンジグリコール;ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の水酸
基を3個以上有する脂肪族系多価アルコール;ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール等のポリオキシ
アルキレングリコール;ビスフエノールAのエチレンオ
キサイドまたはプロピレンオキサイド2〜4モル付加
物;シクロヘキサンジメタノール、ノルボルネンジメタ
ノール、トリシクロデカンジメタノール等の脂環構造を
有する二価アルコール等が挙げられる。多価アルコール
の分子量が500を越えるときは得られる樹脂の融点が低
く、溶剤を除去した後の光硬化性樹脂の乾燥性が十分で
ない。
としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4
−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキ
サンジオール等の脂肪族のアルキレンジグリコール;ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の水酸
基を3個以上有する脂肪族系多価アルコール;ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール等のポリオキシ
アルキレングリコール;ビスフエノールAのエチレンオ
キサイドまたはプロピレンオキサイド2〜4モル付加
物;シクロヘキサンジメタノール、ノルボルネンジメタ
ノール、トリシクロデカンジメタノール等の脂環構造を
有する二価アルコール等が挙げられる。多価アルコール
の分子量が500を越えるときは得られる樹脂の融点が低
く、溶剤を除去した後の光硬化性樹脂の乾燥性が十分で
ない。
更に、(c)成分のアクリルアミドおよびα−低級アル
キル置換アクリルアミドとしては、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、α−プロピルアクリルアミド、α−ブ
チルアクリルアミド、およびこれらの混合物が一般に適
当である。α−低級アルキル基としては、一般に炭素数
1〜4のものが適当である。
キル置換アクリルアミドとしては、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、α−プロピルアクリルアミド、α−ブ
チルアクリルアミド、およびこれらの混合物が一般に適
当である。α−低級アルキル基としては、一般に炭素数
1〜4のものが適当である。
これらの混合物も使用可能である。
次に各成分の仕込比について記載する。
(a)成分のメチロール化メラミン化合物またはアルキ
ルエーテル化メラミン化合物またはアルキルエーテル化
メラミン化合物1モルに対する(b)成分の多価アルコ
ールの仕込割合は1.5〜4当量(−OH1モル相当を1当量
とする)、好ましくは2〜3当量であり、(c)成分の
アクリルアミド系化合物の仕込割合は1〜4.5モル、好
ましくは2〜4モルである。
ルエーテル化メラミン化合物またはアルキルエーテル化
メラミン化合物1モルに対する(b)成分の多価アルコ
ールの仕込割合は1.5〜4当量(−OH1モル相当を1当量
とする)、好ましくは2〜3当量であり、(c)成分の
アクリルアミド系化合物の仕込割合は1〜4.5モル、好
ましくは2〜4モルである。
(a)成分のメラミン系化合物1モルに対する(b)成
分の多価アルコールの仕込量が1.5当量未満であると得
られる樹脂は、反応溶媒、例えばシクロヘキサノン、ジ
オキサンに対する溶解性に欠け、樹脂が反応中に析出す
る。逆に4当量を越えると得られる樹脂の高分子化が進
み過ぎ、反応液の粘度が高くなりすぎ攪拌が困難とな
る。
分の多価アルコールの仕込量が1.5当量未満であると得
られる樹脂は、反応溶媒、例えばシクロヘキサノン、ジ
オキサンに対する溶解性に欠け、樹脂が反応中に析出す
る。逆に4当量を越えると得られる樹脂の高分子化が進
み過ぎ、反応液の粘度が高くなりすぎ攪拌が困難とな
る。
また、(a)成分のメラミン系化合物1モルに対する
(c)成分の仕入量が1モル未満では得られる樹脂の融
点を80℃以上とすることはできない。樹脂が常温で液状
または粘稠なものであるとき、もしくは樹脂の融点が50
℃以下と低いときは、基材上にコーテイングした後、乾
燥により有機溶剤を飛散させて、光硬化樹脂層を得、次
いでこの層にエンボス等の後加工する際、エンボシング
ロールやプレス板に樹脂が付着し、パターニングが鮮明
に行われない。
(c)成分の仕入量が1モル未満では得られる樹脂の融
点を80℃以上とすることはできない。樹脂が常温で液状
または粘稠なものであるとき、もしくは樹脂の融点が50
℃以下と低いときは、基材上にコーテイングした後、乾
燥により有機溶剤を飛散させて、光硬化樹脂層を得、次
いでこの層にエンボス等の後加工する際、エンボシング
ロールやプレス板に樹脂が付着し、パターニングが鮮明
に行われない。
(a)、(b)および(c)成分の反応は適当な溶媒の
存在下に行なう。この場合の溶媒としては、反応に関し
て不活性なものであることが必要である。かかる溶媒と
してはたとえばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラ
リン等の炭化水素、シクロヘキサノン、ジオキサン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等があげら
れる。又、これらの混合物を用いてもよい。
存在下に行なう。この場合の溶媒としては、反応に関し
て不活性なものであることが必要である。かかる溶媒と
してはたとえばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラ
リン等の炭化水素、シクロヘキサノン、ジオキサン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等があげら
れる。又、これらの混合物を用いてもよい。
そして、触媒としては、カルボン酸とアルカノールとか
らエステルを形成させるのに有効な酸が一般に適当であ
るが、特に好ましいものはパラトルエンスルホン酸で代
表される有機酸からなるものである。触媒使用量は、た
とえばパラトルエンスルホン酸の場合は各成分の合計量
に対して100ppm〜1重量%程度、好ましくは1000〜5000
ppm程度、であるのがふつうである。
らエステルを形成させるのに有効な酸が一般に適当であ
るが、特に好ましいものはパラトルエンスルホン酸で代
表される有機酸からなるものである。触媒使用量は、た
とえばパラトルエンスルホン酸の場合は各成分の合計量
に対して100ppm〜1重量%程度、好ましくは1000〜5000
ppm程度、であるのがふつうである。
(A)成分を得る反応系にはアクリルアミド系化合物が
反応体として、また生成物中にエチレン性不飽和結合
が、存在するから、その重合を防止することが一般に必
要である。
反応体として、また生成物中にエチレン性不飽和結合
が、存在するから、その重合を防止することが一般に必
要である。
このようなエチレン性不飽和結合の重合防止に関しては
種々の化合物が知られており、本発明でも合目的的な任
意のものを使用することができる。具体的には、たとえ
ばフエノール系化合物、アミン系化合物がある。フエノ
ール系化合物を用いた時の空気は、これを反応系に吹込
むと重合防止作用を延長させる外に生成アルカノール
(R′OH)の留去を促進することができるから、反応系
への空気の吹込みは好ましいことである。
種々の化合物が知られており、本発明でも合目的的な任
意のものを使用することができる。具体的には、たとえ
ばフエノール系化合物、アミン系化合物がある。フエノ
ール系化合物を用いた時の空気は、これを反応系に吹込
むと重合防止作用を延長させる外に生成アルカノール
(R′OH)の留去を促進することができるから、反応系
への空気の吹込みは好ましいことである。
この反応は、種々の操作態様に従つて、実施することが
できる。具体的には、たとえば、攪拌装置、冷却器、お
よび空気吹込装置の付属した反応器に(a)、(b)お
よび(c)成分と触媒とを仕込み、少量の空気を反応系
(液相部)に吹込みながら徐々に昇温させる。反応系温
度が80℃前後から水またはアルカノール(R′OH)の留
出が始まり、100〜120℃程度まで昇温させてアルカノー
ルの留出が止まるまで加熱を続けて、反応を終了させ
る。
できる。具体的には、たとえば、攪拌装置、冷却器、お
よび空気吹込装置の付属した反応器に(a)、(b)お
よび(c)成分と触媒とを仕込み、少量の空気を反応系
(液相部)に吹込みながら徐々に昇温させる。反応系温
度が80℃前後から水またはアルカノール(R′OH)の留
出が始まり、100〜120℃程度まで昇温させてアルカノー
ルの留出が止まるまで加熱を続けて、反応を終了させ
る。
この製造により得られる成分(A)の樹脂は次の一般式
(III)〜(VI)等で示されるエチレン性不飽和結合を
有する樹脂の混合物である。
(III)〜(VI)等で示されるエチレン性不飽和結合を
有する樹脂の混合物である。
〔式中Zは−CH2NHCOCR1=CH2、−CH2OR2、R1、R2はH
または炭素数1〜4のアルキル基、Rは炭素数1〜8の
アルキレン基、Xは10〜650の整数、Yはポリオール残
基を示す〕。
または炭素数1〜4のアルキル基、Rは炭素数1〜8の
アルキレン基、Xは10〜650の整数、Yはポリオール残
基を示す〕。
この(A)成分の樹脂を本発明の組成物として供せる場
合は、反応に用いた溶媒を除去せずにそのまま使用して
もよいし、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の貧
溶媒で(A)成分の樹脂を沈殿させ、乾燥後、粉末固体
に単離して使用してもよい。
合は、反応に用いた溶媒を除去せずにそのまま使用して
もよいし、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の貧
溶媒で(A)成分の樹脂を沈殿させ、乾燥後、粉末固体
に単離して使用してもよい。
(B)アクリロイルオキシ基を分子中に1個以上有する
アクリル酸アルキルエステルまたはメタクリロイルオキ
シ基を分子中に1個以上有するメタクリル酸アルキルエ
ステル: 重合性炭素−炭素2重結合である(メタ)アクリロイル
オキシ基を分子中に1個以上、好ましくは2〜6個有す
るアクリル酸アルキルエステルまたはメタクリル酸アル
キルエステル〔以下、両者を代表して(メタ)アクリル
酸エステルとして示す。〕の具体例としては、ベンジル
(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリ
レート、テトラフルフリル(メタ)アクリレート、トリ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリス−ヒドロキシエ
チルイソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート、ト
リシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、
シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート等
の単官能及び多官能(メタ)アクリレート類、フエニル
グリシジルエーテルの(メタ)アクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジグリシジルエーテルのジ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルの(トリ)メタアクリレート、フエノールノボラツ
クポリグリシジルエーテルのポリ(メタ)アクリレー
ト、ビスフエノールAジグリシジルエーテルのジ(メ
タ)アクリレート等のグリシジルエーテル類の(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール等の多価アルコール類と、アジピン酸、マレ
イン酸、フタル酸等の多塩基酸との反応生成物であるポ
リエステルポリオール類の(メタ)アクリレート及びポ
リウレタン(メタ)アクリレート類などが挙げられる。
アクリル酸アルキルエステルまたはメタクリロイルオキ
シ基を分子中に1個以上有するメタクリル酸アルキルエ
ステル: 重合性炭素−炭素2重結合である(メタ)アクリロイル
オキシ基を分子中に1個以上、好ましくは2〜6個有す
るアクリル酸アルキルエステルまたはメタクリル酸アル
キルエステル〔以下、両者を代表して(メタ)アクリル
酸エステルとして示す。〕の具体例としては、ベンジル
(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリ
レート、テトラフルフリル(メタ)アクリレート、トリ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリス−ヒドロキシエ
チルイソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート、ト
リシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、
シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート等
の単官能及び多官能(メタ)アクリレート類、フエニル
グリシジルエーテルの(メタ)アクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジグリシジルエーテルのジ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルの(トリ)メタアクリレート、フエノールノボラツ
クポリグリシジルエーテルのポリ(メタ)アクリレー
ト、ビスフエノールAジグリシジルエーテルのジ(メ
タ)アクリレート等のグリシジルエーテル類の(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール等の多価アルコール類と、アジピン酸、マレ
イン酸、フタル酸等の多塩基酸との反応生成物であるポ
リエステルポリオール類の(メタ)アクリレート及びポ
リウレタン(メタ)アクリレート類などが挙げられる。
(C)有機溶剤: (C)成分の有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、メチルイソブチルケト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これら有機溶
剤は乾燥時の褌散が容易となる沸点が100〜160℃のもの
で、かつ、親水性も有するシクロヘキサノン、ジオキサ
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好
ましい。
キシレン等の芳香族炭化水素、メチルイソブチルケト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これら有機溶
剤は乾燥時の褌散が容易となる沸点が100〜160℃のもの
で、かつ、親水性も有するシクロヘキサノン、ジオキサ
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好
ましい。
(D)光増感剤: (D)成分の光増感剤としては、既に紫外線硬化型塗料
の光増感剤として用いられている各種の光増感剤、例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α
−メチルベンゾイル、α−フエニルベンゾイン等のベン
ゾイン系化合物;アントラキノン、メチルアントラキノ
ン等のアントラキノン系化合物;ベンジル;ジアセチ
ル;アセトフエノン、ベンゾフエノン等のフエニルケト
ン化合物;ジフエニルジスルフイド、テトラメチルチウ
ムスルフイド等のスルフイド化合物;α−クロムメチル
ナフタリン;アントラセンおよびヘキサクロロブタジエ
ン、ペンタクロロブタジエンなどのハロゲン化炭化水素
などが挙げられる。
の光増感剤として用いられている各種の光増感剤、例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α
−メチルベンゾイル、α−フエニルベンゾイン等のベン
ゾイン系化合物;アントラキノン、メチルアントラキノ
ン等のアントラキノン系化合物;ベンジル;ジアセチ
ル;アセトフエノン、ベンゾフエノン等のフエニルケト
ン化合物;ジフエニルジスルフイド、テトラメチルチウ
ムスルフイド等のスルフイド化合物;α−クロムメチル
ナフタリン;アントラセンおよびヘキサクロロブタジエ
ン、ペンタクロロブタジエンなどのハロゲン化炭化水素
などが挙げられる。
任意成分: 本組成物に加えて、ハイドロキノン、t−ブチルハイド
ロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエー
テルなどのフエノール類;ベンゾキノン、ジフエニルベ
ンゾキノンなどのキノン類;フエノチアジン類;銅類な
どの重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更
に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、
消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。また、スチレン
・ブタジエンラバー等の高分子体を配合することも可能
である。
ロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエー
テルなどのフエノール類;ベンゾキノン、ジフエニルベ
ンゾキノンなどのキノン類;フエノチアジン類;銅類な
どの重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更
に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、
消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。また、スチレン
・ブタジエンラバー等の高分子体を配合することも可能
である。
(組成比) (A)成分と(B)成分の配合割合は、(A)成分の樹
脂が50〜90重量%、(B)成分が10〜50重量%であり
(B)成分が10重量%未満であると硬化皮膜物性の耐擦
傷性、耐水性、耐アルコール性が不十分である。一方、
(B)成分が50重量%を越えると、基材に塗布した後乾
燥して有機溶剤を飛散させてもタツク性のない皮膜が得
られない。
脂が50〜90重量%、(B)成分が10〜50重量%であり
(B)成分が10重量%未満であると硬化皮膜物性の耐擦
傷性、耐水性、耐アルコール性が不十分である。一方、
(B)成分が50重量%を越えると、基材に塗布した後乾
燥して有機溶剤を飛散させてもタツク性のない皮膜が得
られない。
(C)成分の有機溶剤は、(A)成分と(B)成分の樹
脂の合計量の100重量部に対して、10〜900重量部、好ま
しくは40〜700重量部である。
脂の合計量の100重量部に対して、10〜900重量部、好ま
しくは40〜700重量部である。
(D)成分の光増感剤は、(A)および(B)成分の樹
脂の合計量に対して0.01〜5重量%、好ましくは0.05〜
1重量%の割合で使用される。
脂の合計量に対して0.01〜5重量%、好ましくは0.05〜
1重量%の割合で使用される。
促進剤は(A)および(B)成分の樹脂の合計量に対し
て0.05〜5重量%である。
て0.05〜5重量%である。
本発明の組成物は、基材への含浸あるいは塗布を容易と
するため25℃の粘度が30〜5,000センチポイズとなる様
に調製される。
するため25℃の粘度が30〜5,000センチポイズとなる様
に調製される。
(加工品の製造) 本発明の光硬化性組成物は、金属板、紙、ポリエチレン
テレフタレート等の基材に塗布、または含浸され、次い
で(B)成分の有機溶剤が飛散する温度、例えば100〜1
65℃に設定した加熱炉内に0.1〜1分導いて乾燥させて
光硬化性樹脂層を基材上に形成させ、この光硬化性樹脂
層にスタンバーによりパターニングを行ない、ついで紫
外線、電子線等を照射して樹脂を光硬化させ、この光硬
化した樹脂上にアルミニウムを蒸着させることによりホ
ログラムが形成される。
テレフタレート等の基材に塗布、または含浸され、次い
で(B)成分の有機溶剤が飛散する温度、例えば100〜1
65℃に設定した加熱炉内に0.1〜1分導いて乾燥させて
光硬化性樹脂層を基材上に形成させ、この光硬化性樹脂
層にスタンバーによりパターニングを行ない、ついで紫
外線、電子線等を照射して樹脂を光硬化させ、この光硬
化した樹脂上にアルミニウムを蒸着させることによりホ
ログラムが形成される。
また、予じめオフセツト印刷した塗工紙の表面に光硬化
性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂をエンボ
ス加工した後に光硬化させてレリーフを形成させて立体
的な地図やポスターを製造することができる。
性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂をエンボ
ス加工した後に光硬化させてレリーフを形成させて立体
的な地図やポスターを製造することができる。
更に、ポリエチレンテレフタレート類の剥離フイルム上
に光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂
上に絵柄を印刷し、ついで印刷面上にホツトスタンプ剤
を塗布した後、合板、ABSシート、亜鉛板等の基材をホ
ツトスタンプ剤面に貼合し、熱転写ロールにより基材上
に転写させ、剥離フイルムを除去し、露呈した光硬化性
樹脂層を光硬化させることにより絵柄を基材に転写した
フイルム、金属板等が製造できる。
に光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂
上に絵柄を印刷し、ついで印刷面上にホツトスタンプ剤
を塗布した後、合板、ABSシート、亜鉛板等の基材をホ
ツトスタンプ剤面に貼合し、熱転写ロールにより基材上
に転写させ、剥離フイルムを除去し、露呈した光硬化性
樹脂層を光硬化させることにより絵柄を基材に転写した
フイルム、金属板等が製造できる。
エンボス加工は例えば金属ロールとペーパーロールより
なる1対のエンボスロールを使用して通常の方法で、例
えば50〜150℃、10〜50kg/cm2の圧力で行う。エンボス
加工は片面エンボスで十分であるが、両面エンボスでも
よい。紙に塗工された光硬化性樹脂は常温で固体である
ため、エンボスロールの温度を該光硬化性樹脂の軟化点
以下に設定することにより樹脂のエンボスロールへの付
着は防止される。光硬化性樹脂を硬化させるに用いる光
としては、高エネルギー電離性放射線および紫外線があ
げられる。
なる1対のエンボスロールを使用して通常の方法で、例
えば50〜150℃、10〜50kg/cm2の圧力で行う。エンボス
加工は片面エンボスで十分であるが、両面エンボスでも
よい。紙に塗工された光硬化性樹脂は常温で固体である
ため、エンボスロールの温度を該光硬化性樹脂の軟化点
以下に設定することにより樹脂のエンボスロールへの付
着は防止される。光硬化性樹脂を硬化させるに用いる光
としては、高エネルギー電離性放射線および紫外線があ
げられる。
高エネルギー電離性放射線源としては例えば、コツクク
ロフト型加速器、バンデグラーフ型加速器、リニヤーア
クセレレーター、ペータトロン、サイクロトロンなどの
加速器によつて加速された電子線が工業的に最も便利か
つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原
子炉などから放出されるγ線、X線、α線、β線、中性
子線、陽子線などの放射線も使用出来る。
ロフト型加速器、バンデグラーフ型加速器、リニヤーア
クセレレーター、ペータトロン、サイクロトロンなどの
加速器によつて加速された電子線が工業的に最も便利か
つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原
子炉などから放出されるγ線、X線、α線、β線、中性
子線、陽子線などの放射線も使用出来る。
紫外線源としては例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク
灯、太陽灯などがある。
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク
灯、太陽灯などがある。
以下、製造例、応用例により本発明を詳細に説明する。
なお、例中の部、%は特に例記しない限り重量基準であ
る。
なお、例中の部、%は特に例記しない限り重量基準であ
る。
本発明における成分(A)の樹脂の製造例: 製造例1 四つ口フラスコ内に攪拌機、温度計、冷却器、空気吹込
み用ガラス管を取り付け、このフラスコ内にヘキサメト
キシメチルメラミン(三井東圧化学製サイメル303 390
部(1モル)、アクリルアミド248.5部(3.5モル)、エ
チレングリコール 45部(1.5当量)、シクロヘキサノ
ン751.9部、パラトルエンスルホン酸2部およびハイド
ロキノン0.5部を仕込み、200ml/分の速度で空気を吹込
みながら徐々に100℃迄昇温させ、同温度に7時間保つ
て反応を終了させた。
み用ガラス管を取り付け、このフラスコ内にヘキサメト
キシメチルメラミン(三井東圧化学製サイメル303 390
部(1モル)、アクリルアミド248.5部(3.5モル)、エ
チレングリコール 45部(1.5当量)、シクロヘキサノ
ン751.9部、パラトルエンスルホン酸2部およびハイド
ロキノン0.5部を仕込み、200ml/分の速度で空気を吹込
みながら徐々に100℃迄昇温させ、同温度に7時間保つ
て反応を終了させた。
反応終了後、70℃まで冷却し、重曹30gを添加してこの
温度で30分間維持した。その後濾紙で濾過して樹脂溶液
を得た。この樹脂溶液の粘度は420cps(25℃)であり、
また、溶媒を蒸発させた樹脂の融点は112℃であつた。
温度で30分間維持した。その後濾紙で濾過して樹脂溶液
を得た。この樹脂溶液の粘度は420cps(25℃)であり、
また、溶媒を蒸発させた樹脂の融点は112℃であつた。
製造例2〜4 ヘキサメトキシメチルメラミン 1モルに対するエチレ
ングリコールおよびアクリルアミドの仕込モル比を表1
に示すように変更した他は実施例1と同様にして樹脂溶
液を得た。
ングリコールおよびアクリルアミドの仕込モル比を表1
に示すように変更した他は実施例1と同様にして樹脂溶
液を得た。
製造例5〜8 製造例1において、(a)成分のメラミン系化合物、
(b)成分の多価アルコールの種類ならびに各成分の配
合割合を表1のように変更する他は同様にして表1に示
す粘度を示す樹脂溶液を得た。
(b)成分の多価アルコールの種類ならびに各成分の配
合割合を表1のように変更する他は同様にして表1に示
す粘度を示す樹脂溶液を得た。
実施例1 前記製造例1で得た樹脂280部(シクロヘキサノン50%
溶液)とペンタエリスリトールトリアクリレート60部を
よく混合し、更にシクロヘキサノン60部を加えて樹脂濃
度50%の樹脂溶液を調製した。この樹脂溶液100部に、
光増感剤として2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセト
フエノン1.5部を配合して光硬化性樹脂組成物を得た。
溶液)とペンタエリスリトールトリアクリレート60部を
よく混合し、更にシクロヘキサノン60部を加えて樹脂濃
度50%の樹脂溶液を調製した。この樹脂溶液100部に、
光増感剤として2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセト
フエノン1.5部を配合して光硬化性樹脂組成物を得た。
実施例2〜8、比較実施例1〜5 応用例1において、(A)成分の樹脂の割合比率および
製造例2〜8で得た樹脂に、又(B)部分の分子中に炭
素−炭素2重結合を有する化合物の割合比率および種類
を変更した他は同様にして光硬化性樹脂組成物を得た。
製造例2〜8で得た樹脂に、又(B)部分の分子中に炭
素−炭素2重結合を有する化合物の割合比率および種類
を変更した他は同様にして光硬化性樹脂組成物を得た。
(1)レリーフ層の形成の応用例 これらの組成物をオフセツト印刷をほどこしたコート紙
の表面にマイヤーバーを用いて5g/m3の塗布量で塗布
し、150℃で乾燥して溶剤を揮散させた後、エンボス加
工し、次いで水銀灯より発生した紫外線を照射して光硬
化させて透明なレリーフ層をコート紙表面に形成させ
た。これにより立体感を有する印刷物が得られた。
の表面にマイヤーバーを用いて5g/m3の塗布量で塗布
し、150℃で乾燥して溶剤を揮散させた後、エンボス加
工し、次いで水銀灯より発生した紫外線を照射して光硬
化させて透明なレリーフ層をコート紙表面に形成させ
た。これにより立体感を有する印刷物が得られた。
これは、レコードジヤケツト、ポスター、美術品等に用
いることが出来る。
いることが出来る。
(II)ホログラム層の形成の応用例 これら組成物を、75μのポリエチレンテレフタレートフ
イルム上にロールコーターで2g/m2の量塗工し、80℃で
乾燥して溶剤を揮散させた後、レーザー光を用いて作つ
たマスターホログラムから引続き作成したプレススタン
バーにより150℃で加熱プレスして微細な凸凹層を形成
させた。次いで、水銀灯より発生した紫外線を照射して
光硬化させた。更に、真空蒸着法によりAl層をこの上に
蒸着してホログラムを形成した。これは、立体像を写し
出す印刷物やデイスプレー等に用いることが出来る。
イルム上にロールコーターで2g/m2の量塗工し、80℃で
乾燥して溶剤を揮散させた後、レーザー光を用いて作つ
たマスターホログラムから引続き作成したプレススタン
バーにより150℃で加熱プレスして微細な凸凹層を形成
させた。次いで、水銀灯より発生した紫外線を照射して
光硬化させた。更に、真空蒸着法によりAl層をこの上に
蒸着してホログラムを形成した。これは、立体像を写し
出す印刷物やデイスプレー等に用いることが出来る。
(III)転写フイルムの応用例 これら組成物を、25μのポリエチレンテレフタレート製
剥離フイルム上にグラビア印刷法で塗工し、105℃で乾
燥した後、上にグラビア法で絵柄印刷し、さらにヒート
シール用のアクリル系接着剤(ホツトスタンプ剤)を塗
工した。合成の上に前記アクリル系接着剤面を下にして
フイルム面側から熱ロールにて熱転写を行なつた。次い
で、剥離フイルムをはがし、水銀灯より発生した紫外線
を照射して、表層の樹脂を硬化させた。このものは壁材
として用いることが出来る。
剥離フイルム上にグラビア印刷法で塗工し、105℃で乾
燥した後、上にグラビア法で絵柄印刷し、さらにヒート
シール用のアクリル系接着剤(ホツトスタンプ剤)を塗
工した。合成の上に前記アクリル系接着剤面を下にして
フイルム面側から熱ロールにて熱転写を行なつた。次い
で、剥離フイルムをはがし、水銀灯より発生した紫外線
を照射して、表層の樹脂を硬化させた。このものは壁材
として用いることが出来る。
これら加工品の物性を表2に示す。
なお、物性の評価法は次のとおりである。
耐薬品性: 本組成物の硬化表面をメチルエチルケトンを浸みこませ
たガーゼで100回往復させてこすつたとき、表面に異常
がなかつたものを良好とし、表面に異常を生じ、基材の
表面が露呈したものを不良とした。
たガーゼで100回往復させてこすつたとき、表面に異常
がなかつたものを良好とし、表面に異常を生じ、基材の
表面が露呈したものを不良とした。
耐アルコール性及び耐水性: 本組成物の硬化表面をメタノール、エタノールおよび水
に常温で24時間接触させたとき、表面に異常がなかつた
ものを良好とし、表面にハガレやフクレなどの異常を生
じ、基材の表面が露呈したものを不良とした。
に常温で24時間接触させたとき、表面に異常がなかつた
ものを良好とし、表面にハガレやフクレなどの異常を生
じ、基材の表面が露呈したものを不良とした。
耐熱性: 本組成物の硬化表面を熱ロールで200℃に加熱し、3分
保持した後の変色、変形等を見た。異常のなかつたもの
を良好とし、黄変もしくは変形やハクリの生じたものを
不良とした。
保持した後の変色、変形等を見た。異常のなかつたもの
を良好とし、黄変もしくは変形やハクリの生じたものを
不良とした。
耐擦傷性: ♯0000のスチールウールで本組成物の硬化表面を10回こ
すつたとき、表面に何の変化もなかつたものを良好と
し、表面が傷つき、白化したものを不良とした。
すつたとき、表面に何の変化もなかつたものを良好と
し、表面が傷つき、白化したものを不良とした。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/027 511 (56)参考文献 特開 昭61−98761(JP,A) 特開 昭54−155249(JP,A) 特開 昭58−156099(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】(A)成分: (a)成分: 一般式 式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜4の炭化水素
基を示し、Rはメチル基、フェニル基、−N(CH2O
R′)2(R′はそれぞれ上記のR′と同一または異なる
Hまたは炭素数1〜4の炭化水素基)、または下式で表
される有機基を示す (Yは−CH2OR′または水素、R′はそれぞれ上記の
R′と同一または異なるHまたは炭素数1〜4の炭化水
素基) で示されるメラミン系化合物 1モル (b)成分: 分子量が500以下の多価アルコール 1.5〜4当量 (水酸基1個を1当量とする) (c)成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換アクリルアミド
より選ばれたアミド系化合物 1〜4.5モル 上記(a)、(b)および(c)成分を上記割合で反応
させて得られる20℃で固体のメラミンアクリル化合物30
〜90重量% (B)成分: アクリロイルオキシ基を分子中に1個以上有するアクリ
ル酸アルキルエステルまたはメタクリロイルオキシ基を
分子中に1個以上有するメタクリル酸アルキルエステル
10〜50重量% (C)成分: 上記(A)および(B)成分を溶解する非反応性有機溶
剤(A)および(B)成分の合計量100重量部に対して1
0〜900重量部 (D)成分: 光増感剤 上記(A)および(B)成分の合計量に対して0.05〜5
重量% 上記(A)、(B)、(C)および(D)成分を上記割
合で含有する光硬化性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61167427A JPH0796577B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 光硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61167427A JPH0796577B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 光硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6323909A JPS6323909A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0796577B2 true JPH0796577B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=15849501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61167427A Expired - Fee Related JPH0796577B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796577B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100506141B1 (ko) * | 1996-12-31 | 2005-11-03 | 주식회사 케이씨씨 | 내열성및부착성이우수한광경화형도막조성물 |
| WO2014192314A1 (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-04 | 凸版印刷株式会社 | 転写用積層媒体および印刷物 |
| US10471758B2 (en) | 2015-02-03 | 2019-11-12 | Toppan Printing Co., Ltd. | Optical information medium |
| WO2017199982A1 (ja) | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 凸版印刷株式会社 | 光学情報媒体及びその製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6198761A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-17 | Mitsubishi Yuka Fine Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物およびこれを用いたホログラムの複製方法 |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP61167427A patent/JPH0796577B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6323909A (ja) | 1988-02-01 |
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