JPH0799263A - セラミック基板の製造方法 - Google Patents
セラミック基板の製造方法Info
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- JPH0799263A JPH0799263A JP5262984A JP26298493A JPH0799263A JP H0799263 A JPH0799263 A JP H0799263A JP 5262984 A JP5262984 A JP 5262984A JP 26298493 A JP26298493 A JP 26298493A JP H0799263 A JPH0799263 A JP H0799263A
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- ceramic green
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0097—Processing two or more printed circuits simultaneously, e.g. made from a common substrate, or temporarily stacked circuit boards
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- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面に多数個取り用の切込溝を有するセラミ
ック基板を、寸法精度よく作製することのできる製造方
法を提供することを目的とする。 【構成】 上記のようなセラミック基板を製造するに当
たり、製造すべきセラミック基板の素材となる第1のセ
ラミックグリーンシート1の少なくとも一方の表面に切
込溝11を形成し、その第1のセラミックグリーンシー
ト1より高い焼結温度を有する第2のセラミックグリー
ンシート2を上記第1のセラミックグリーンシート1の
両面に積層して加圧成形し、その積層体を上記第2のセ
ラミックグリーンシート2の焼結温度より低くかつ上記
第1のセラミックグリーンシート1の焼結温度より高い
温度で焼成することによって上記第1のセラミックグリ
ーンシート1のみを焼結させ、次いで未焼結の第2のセ
ラミックグリーンシート2を除去して、少なくとも一方
の表面に切込溝11を有するセラミック基板10を得る
ことを特徴とする。
ック基板を、寸法精度よく作製することのできる製造方
法を提供することを目的とする。 【構成】 上記のようなセラミック基板を製造するに当
たり、製造すべきセラミック基板の素材となる第1のセ
ラミックグリーンシート1の少なくとも一方の表面に切
込溝11を形成し、その第1のセラミックグリーンシー
ト1より高い焼結温度を有する第2のセラミックグリー
ンシート2を上記第1のセラミックグリーンシート1の
両面に積層して加圧成形し、その積層体を上記第2のセ
ラミックグリーンシート2の焼結温度より低くかつ上記
第1のセラミックグリーンシート1の焼結温度より高い
温度で焼成することによって上記第1のセラミックグリ
ーンシート1のみを焼結させ、次いで未焼結の第2のセ
ラミックグリーンシート2を除去して、少なくとも一方
の表面に切込溝11を有するセラミック基板10を得る
ことを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばハイブリッドI
Cやマルチチップモジュール等に用いるセラミック基板
の製造方法に関する。更に詳しくは、表面に多数個取り
用の切込溝を有するセラミック基板の製造方法に関する
ものである。
Cやマルチチップモジュール等に用いるセラミック基板
の製造方法に関する。更に詳しくは、表面に多数個取り
用の切込溝を有するセラミック基板の製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、上記のようなセラミック基板を製
造する場合、その製造効率を高めるために、比較的大き
な面積のセラミック基板の表面にスナップラインと呼ば
れる切込溝を形成し、その切込溝に沿って分割すること
によって所定の大きさのセラミック基板を多数個得る、
いわゆる多数個取りの手法が採用されている。
造する場合、その製造効率を高めるために、比較的大き
な面積のセラミック基板の表面にスナップラインと呼ば
れる切込溝を形成し、その切込溝に沿って分割すること
によって所定の大きさのセラミック基板を多数個得る、
いわゆる多数個取りの手法が採用されている。
【0003】上記のような多数個取り用の切込溝を有す
るセラミック基板を製造するに当たっては、従来一般に
製造すべきセラミック基板の素材となるセラミックグリ
ーンシートの表面に、予めカッター刃や金型等で格子状
その他所望形状の切込溝を形成し、それを焼成すること
によって表面に切込溝を有するセラミック基板を作製す
る。その基板を上記切込溝に沿って分割することによっ
て所定大きさのセラミック基板が多数個得られるもので
ある。
るセラミック基板を製造するに当たっては、従来一般に
製造すべきセラミック基板の素材となるセラミックグリ
ーンシートの表面に、予めカッター刃や金型等で格子状
その他所望形状の切込溝を形成し、それを焼成すること
によって表面に切込溝を有するセラミック基板を作製す
る。その基板を上記切込溝に沿って分割することによっ
て所定大きさのセラミック基板が多数個得られるもので
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な切込溝を形成したセラミックグリーンシートを、その
まま焼成すると、その焼成時に往々にしてセラミックグ
リーンシートが不均一に収縮し、隣り合う切込溝の間隔
がずれて寸法精度にバラツキを生じ、所定寸法のセラミ
ック基板が得られず、歩留りが低下する等の不具合があ
った。
な切込溝を形成したセラミックグリーンシートを、その
まま焼成すると、その焼成時に往々にしてセラミックグ
リーンシートが不均一に収縮し、隣り合う切込溝の間隔
がずれて寸法精度にバラツキを生じ、所定寸法のセラミ
ック基板が得られず、歩留りが低下する等の不具合があ
った。
【0005】本発明は上記の問題点に鑑みて提案された
もので、焼成時の不均一な収縮を抑制して寸法精度のよ
いセラミック基板を得ることのできる製造方法を提供す
ることを目的とする。
もので、焼成時の不均一な収縮を抑制して寸法精度のよ
いセラミック基板を得ることのできる製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明によるセラミック基板の製造方法は、以下の
ようにしたものである。即ち、表面に多数個取り用の切
込溝を有するセラミック基板を製造するに当たり、製造
すべきセラミック基板の素材となる第1のセラミックグ
リーンシートの少なくとも一方の表面に切込溝を形成
し、その第1のセラミックグリーンシートより高い焼結
温度を有する第2のセラミックグリーンシートを上記第
1のセラミックグリーンシートの両面に積層して加圧密
着させ、その積層体を上記第2のセラミックグリーンシ
ートの焼結温度より低くかつ上記第1のセラミックグリ
ーンシートの焼結温度より高い温度で焼成することによ
って上記第1のセラミックグリーンシートのみを焼結さ
せ、次いで未焼結の第2のセラミックグリーンシートを
除去して、少なくとも一方の表面に切込溝を有するセラ
ミック基板を得ることを特徴とする。
めに本発明によるセラミック基板の製造方法は、以下の
ようにしたものである。即ち、表面に多数個取り用の切
込溝を有するセラミック基板を製造するに当たり、製造
すべきセラミック基板の素材となる第1のセラミックグ
リーンシートの少なくとも一方の表面に切込溝を形成
し、その第1のセラミックグリーンシートより高い焼結
温度を有する第2のセラミックグリーンシートを上記第
1のセラミックグリーンシートの両面に積層して加圧密
着させ、その積層体を上記第2のセラミックグリーンシ
ートの焼結温度より低くかつ上記第1のセラミックグリ
ーンシートの焼結温度より高い温度で焼成することによ
って上記第1のセラミックグリーンシートのみを焼結さ
せ、次いで未焼結の第2のセラミックグリーンシートを
除去して、少なくとも一方の表面に切込溝を有するセラ
ミック基板を得ることを特徴とする。
【0007】
【作用】上記のように製造すべきセラミック基板の素材
となる第1のセラミックグリーンシートの少なくとも一
方の表面に切込溝を形成し、その第1のセラミックグリ
ーンシートの両側に、それよりも焼結温度の高い第2の
セラミックグリーンシートを積層した状態、すなわち2
枚の第2のセラミックグリーンシート間に第1のセラミ
ックグリーンシートを挟んだ状態で加圧密着させて焼成
することにより、その焼成時に第1のセラミックグリー
ンシートが第2のセラミックグリーンシートに拘束され
て前記従来のように不均一に収縮するのが防止され、隣
り合う切込溝の間隔にバラツキが生じることなく寸法精
度のよいセラミック基板を得ることが可能となる。
となる第1のセラミックグリーンシートの少なくとも一
方の表面に切込溝を形成し、その第1のセラミックグリ
ーンシートの両側に、それよりも焼結温度の高い第2の
セラミックグリーンシートを積層した状態、すなわち2
枚の第2のセラミックグリーンシート間に第1のセラミ
ックグリーンシートを挟んだ状態で加圧密着させて焼成
することにより、その焼成時に第1のセラミックグリー
ンシートが第2のセラミックグリーンシートに拘束され
て前記従来のように不均一に収縮するのが防止され、隣
り合う切込溝の間隔にバラツキが生じることなく寸法精
度のよいセラミック基板を得ることが可能となる。
【0008】
【実施例】以下、本発明によるセラミック基板の製造方
法を、図1に示す工程説明図に基づいて順に具体的に説
明する。先ず、図1の(a)に示すようにセラミック基
板の素材となる第1のセラミックグリーンシート1を用
意する。その第1のセラミックグリーンシート(以下、
第1のグリーンシートという)1は、例えばセラミック
粉末にバインダーや可塑剤および溶剤を加えて、ボール
ミルやアトラクター等で混合してスラリーとし、そのス
ラリーをドクターブレード法等の通常の方法によりシー
ト状に形成すればよい。
法を、図1に示す工程説明図に基づいて順に具体的に説
明する。先ず、図1の(a)に示すようにセラミック基
板の素材となる第1のセラミックグリーンシート1を用
意する。その第1のセラミックグリーンシート(以下、
第1のグリーンシートという)1は、例えばセラミック
粉末にバインダーや可塑剤および溶剤を加えて、ボール
ミルやアトラクター等で混合してスラリーとし、そのス
ラリーをドクターブレード法等の通常の方法によりシー
ト状に形成すればよい。
【0009】なお上記のようにシート状に形成したもの
を複数枚積層し、それを加圧密着させたものを第1のグ
リーンシートとして用いてもよい。その場合、上記の加
圧密着させる手段は通常の方法でよく、例えば50〜3
00kgf/cm2 、温度60〜90℃でホットプレス
すればよい。また第1のグリーンシート1の厚さは特に
制限はないが、30〜200μm程度が好適である。
を複数枚積層し、それを加圧密着させたものを第1のグ
リーンシートとして用いてもよい。その場合、上記の加
圧密着させる手段は通常の方法でよく、例えば50〜3
00kgf/cm2 、温度60〜90℃でホットプレス
すればよい。また第1のグリーンシート1の厚さは特に
制限はないが、30〜200μm程度が好適である。
【0010】前記のセラミック粉末としては、従来のセ
ラミック基板に用いられる通常の原料を使用できる。例
えばアルミノ硼珪酸ガラス、軟化点600〜800℃の
非晶質ガラス、結晶化温度600〜1000℃の結晶化
ガラス等が使用できる。又これらにアルミナ、ジルコ
ン、ムライト、コージェライト、アノーサイト、シリカ
等のセラミックフィラーを添加したものでもよい。
ラミック基板に用いられる通常の原料を使用できる。例
えばアルミノ硼珪酸ガラス、軟化点600〜800℃の
非晶質ガラス、結晶化温度600〜1000℃の結晶化
ガラス等が使用できる。又これらにアルミナ、ジルコ
ン、ムライト、コージェライト、アノーサイト、シリカ
等のセラミックフィラーを添加したものでもよい。
【0011】また前記のバインダーとしては、例えばポ
リビニルブチラール、メタアクリルポリマー、アクリル
ポリマー等を用い、可塑剤としては例えばフタル酸の誘
導体等を用いればよい。さらに溶剤としては例えばアル
コール類、ケトン類、塩素系有機溶剤等通常のものを使
用すればよい。
リビニルブチラール、メタアクリルポリマー、アクリル
ポリマー等を用い、可塑剤としては例えばフタル酸の誘
導体等を用いればよい。さらに溶剤としては例えばアル
コール類、ケトン類、塩素系有機溶剤等通常のものを使
用すればよい。
【0012】上記のようにして作成した第1のグリーン
シート1を所定の大きさに切断し、必要に応じてスクリ
ーン印刷等で導体ペーストを塗布する。多層基板とする
ときは、スルーホールにペーストを充填し、さらに配線
を印刷する。そして、図1の(b)に示すように上記第
1のグリーンシート1の少なくとも一方の表面、すなわ
ち片面もしくは両面に切込溝11を形成するもので、そ
の形成手段は従来の通常の方法でよく、例えばカッター
刃をグリーンシートの表面に押し当てたり、回転刃で切
り込む方法等で形成すればよい。
シート1を所定の大きさに切断し、必要に応じてスクリ
ーン印刷等で導体ペーストを塗布する。多層基板とする
ときは、スルーホールにペーストを充填し、さらに配線
を印刷する。そして、図1の(b)に示すように上記第
1のグリーンシート1の少なくとも一方の表面、すなわ
ち片面もしくは両面に切込溝11を形成するもので、そ
の形成手段は従来の通常の方法でよく、例えばカッター
刃をグリーンシートの表面に押し当てたり、回転刃で切
り込む方法等で形成すればよい。
【0013】上記切込溝11の断面形状は、図の場合は
V字状に形成したが、U字状もしくはスリット状、その
他任意であり、少なくとも焼結後にハンドリングする際
に不用意に割れが生じない形状を選べばよい。また、上
記切込溝11の深さは、例えば第1のグリーンシート1
の厚さ(前記のように積層するものにあっては全体厚
さ)の1/20〜8/20程度とすればよい。
V字状に形成したが、U字状もしくはスリット状、その
他任意であり、少なくとも焼結後にハンドリングする際
に不用意に割れが生じない形状を選べばよい。また、上
記切込溝11の深さは、例えば第1のグリーンシート1
の厚さ(前記のように積層するものにあっては全体厚
さ)の1/20〜8/20程度とすればよい。
【0014】次に、図1の(c)に示すように上記第1
のグリーンシート1の両面に、第2のセラミックグリー
ンシート(以下、第2のグリーンシートという)2を積
層する。その第2のグリーンシート2は、上記第1のグ
リーンシート1と同様の要領で作製すればよく、その厚
さは第1のグリーンシート1の場合と同様に特に制限は
ないが、30〜200μm程度が好適である。
のグリーンシート1の両面に、第2のセラミックグリー
ンシート(以下、第2のグリーンシートという)2を積
層する。その第2のグリーンシート2は、上記第1のグ
リーンシート1と同様の要領で作製すればよく、その厚
さは第1のグリーンシート1の場合と同様に特に制限は
ないが、30〜200μm程度が好適である。
【0015】なお第2のグリーンシート2に用いるセラ
ミック粉末は、通常のセラミック粉末を使用できるが、
上記第1のグリーンシート1より焼結温度の高いもので
なければならない。例えば第1のグリーンシート1とし
て焼結温度が1100℃以下のものを用いる場合には、
第2のグリーンシート2としては、例えばアルミナ、酸
化ジルコニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムラ
イト、酸化マグネシウム、炭化ケイ素等を使用すること
ができる。なお、これらの粉末の粒度が粗すぎると、セ
ラミック基板の表面粗さが粗くなるため、平均粒径0.
5〜4μm程度が好適である。
ミック粉末は、通常のセラミック粉末を使用できるが、
上記第1のグリーンシート1より焼結温度の高いもので
なければならない。例えば第1のグリーンシート1とし
て焼結温度が1100℃以下のものを用いる場合には、
第2のグリーンシート2としては、例えばアルミナ、酸
化ジルコニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムラ
イト、酸化マグネシウム、炭化ケイ素等を使用すること
ができる。なお、これらの粉末の粒度が粗すぎると、セ
ラミック基板の表面粗さが粗くなるため、平均粒径0.
5〜4μm程度が好適である。
【0016】次に、上記のように第1のグリーンシート
1の両面に第2のグリーンシート2を積層したものを両
側から加圧密着させる。その加圧密着させる手段は通常
の方法でよく、それによって図1の(d)に示すように
第1のグリーンシート1に形成した切込溝11内に第2
のグリーンシート2の一部が進入する。
1の両面に第2のグリーンシート2を積層したものを両
側から加圧密着させる。その加圧密着させる手段は通常
の方法でよく、それによって図1の(d)に示すように
第1のグリーンシート1に形成した切込溝11内に第2
のグリーンシート2の一部が進入する。
【0017】次いで、上記の積層体を、例えば同図
(e)に示すようにトレーT等に載せて焼成するもの
で、その焼成方法は通常の方法でよい。ただし、焼成温
度は第1のグリーンシート1のみが焼結し、第2のグリ
ーンシートが焼結しない温度、すなわち第2のグリーン
シート2の焼結温度より低くかつ第1のグリーンシート
1の焼結温度より高い温度で焼成しなければならない。
また上記の積層体を載せるトレーTは、例えば通常のア
ルミナ板を使用すればよいが、通気性のよい気孔率の高
いアルミナ板を使用すれば、隣り合う切込溝の寸法精度
が更に良くなり好適である。
(e)に示すようにトレーT等に載せて焼成するもの
で、その焼成方法は通常の方法でよい。ただし、焼成温
度は第1のグリーンシート1のみが焼結し、第2のグリ
ーンシートが焼結しない温度、すなわち第2のグリーン
シート2の焼結温度より低くかつ第1のグリーンシート
1の焼結温度より高い温度で焼成しなければならない。
また上記の積層体を載せるトレーTは、例えば通常のア
ルミナ板を使用すればよいが、通気性のよい気孔率の高
いアルミナ板を使用すれば、隣り合う切込溝の寸法精度
が更に良くなり好適である。
【0018】上記のようにして焼成した後に、未焼結の
第2のグリーンシート2をブラシ等で除去すれば、同図
(f)に示すように表面に切込溝11を有する焼結した
セラミック基板10が作製される。その作製された基板
表面の切込溝11はバラツキが少なく、その切込溝11
に沿って分割すれば、寸法精度のよい所定大きさのセラ
ミック基板が得られるものである。
第2のグリーンシート2をブラシ等で除去すれば、同図
(f)に示すように表面に切込溝11を有する焼結した
セラミック基板10が作製される。その作製された基板
表面の切込溝11はバラツキが少なく、その切込溝11
に沿って分割すれば、寸法精度のよい所定大きさのセラ
ミック基板が得られるものである。
【0019】なお、上記実施例は第1のグリーンシート
1の片面に切込溝11を形成した後に、その両面に第2
のグリーンシート2を積層したが、図2の(a)に示す
ように切込溝11を形成しない側の面に、予め第2のグ
リーンシート2を積層してから、他方の面に切込溝11
を形成し、その表面に同図(b)のように別の第2のグ
リーンシート2を積層して加圧密着させるようにしても
よい。
1の片面に切込溝11を形成した後に、その両面に第2
のグリーンシート2を積層したが、図2の(a)に示す
ように切込溝11を形成しない側の面に、予め第2のグ
リーンシート2を積層してから、他方の面に切込溝11
を形成し、その表面に同図(b)のように別の第2のグ
リーンシート2を積層して加圧密着させるようにしても
よい。
【0020】また第1のグリーンシートを複数枚積層し
て1枚のセラミック基板を作製する場合には、それらを
積層してから切込溝を形成し、その両面に第2のグリー
ンシートを積層してもよいが、例えば図3に示すように
複数枚の第1のグリーンシート1を積層する前に切込溝
11を形成してから、それら複数枚の第1のグリーンシ
ート1および第2のグリーンシート2を積層するように
してもよい。
て1枚のセラミック基板を作製する場合には、それらを
積層してから切込溝を形成し、その両面に第2のグリー
ンシートを積層してもよいが、例えば図3に示すように
複数枚の第1のグリーンシート1を積層する前に切込溝
11を形成してから、それら複数枚の第1のグリーンシ
ート1および第2のグリーンシート2を積層するように
してもよい。
【0021】さらに図4に示すように1つの基板を作製
するための第1のグリーンシート1を複数枚設け、その
隣り合う第1のグリーンシート1・1間に第2のグリー
ンシート2を介在させて積層すると共に、その積層体の
両側に第2のグリーンシート2を積層し、それらを加圧
密着させて焼成することによって、複数枚のセラミック
基板を同時に作製することもできる。
するための第1のグリーンシート1を複数枚設け、その
隣り合う第1のグリーンシート1・1間に第2のグリー
ンシート2を介在させて積層すると共に、その積層体の
両側に第2のグリーンシート2を積層し、それらを加圧
密着させて焼成することによって、複数枚のセラミック
基板を同時に作製することもできる。
【0022】また上記各実施例は、いずれも製造すべき
セラミック基板の片側にのみ切込溝を形成したが、両側
に設けてもよい。
セラミック基板の片側にのみ切込溝を形成したが、両側
に設けてもよい。
【0023】〔実験例1〕PbOを30.7重量%、S
iO2 を51.7重量%、Al2 O3 を8.4重量%、
B2 O3 を7.3重量%、CaOを1.9重量%混合し
た平均粒径2・2μmのガラス粉末と、平均粒径1.7
μmのアルミナ粉末を等重量比率で混合した。その混合
粉末100重量部に、ポリビニルブチラール9重量部、
フタル酸ジイソブチル7重量部、イソプロピルアルコー
ル40重量部、およびトリクロロエタン20重量部を加
え、ボールミルで24時間混合してスラリーとした。
iO2 を51.7重量%、Al2 O3 を8.4重量%、
B2 O3 を7.3重量%、CaOを1.9重量%混合し
た平均粒径2・2μmのガラス粉末と、平均粒径1.7
μmのアルミナ粉末を等重量比率で混合した。その混合
粉末100重量部に、ポリビニルブチラール9重量部、
フタル酸ジイソブチル7重量部、イソプロピルアルコー
ル40重量部、およびトリクロロエタン20重量部を加
え、ボールミルで24時間混合してスラリーとした。
【0024】このスラリーをドクターブレード法により
延ばして厚さ131μmのセラミックグリーンシートを
作製し、これを5枚積層して圧力150kgf/c
m2 、温度85℃で加圧密着させ、寸法80mm角の第
1のグリーンシート1を得た。なお上記第1のグリーン
シート1の焼結温度は720℃であった。
延ばして厚さ131μmのセラミックグリーンシートを
作製し、これを5枚積層して圧力150kgf/c
m2 、温度85℃で加圧密着させ、寸法80mm角の第
1のグリーンシート1を得た。なお上記第1のグリーン
シート1の焼結温度は720℃であった。
【0025】一方、上記アルミナ粉末の代わりに平均粒
径1.3μmの酸化ジルコニウム粉末を使用した以外は
上記第1のグリーンシート1と同材質とし、積層するこ
となく上記と同様の要領で厚さ145μmの第2のグリ
ーンシート2を作製した。なお上記第2のグリーンシー
ト2の焼結温度は1600℃であった。
径1.3μmの酸化ジルコニウム粉末を使用した以外は
上記第1のグリーンシート1と同材質とし、積層するこ
となく上記と同様の要領で厚さ145μmの第2のグリ
ーンシート2を作製した。なお上記第2のグリーンシー
ト2の焼結温度は1600℃であった。
【0026】上記第1のグリーンシート1の片面に、カ
ッターを押し当てて深さ200μmの断面V字状の切込
溝11を、シート全面に格子状に形成した。なお、隣り
合う切込溝11・11間の間隔は20mmとし、その寸
法精度は±10μm以内であった。
ッターを押し当てて深さ200μmの断面V字状の切込
溝11を、シート全面に格子状に形成した。なお、隣り
合う切込溝11・11間の間隔は20mmとし、その寸
法精度は±10μm以内であった。
【0027】次に、上記第1のグリーンシート1の両面
に、第2のグリーンシート2を1枚ずつ重ね圧力150
kgf/cm2 、温度85℃で加圧密着させて積層体を
得た。その積層体を平面方向における単位長さ当たりの
反り量が0.05%以下の平坦度を有する気孔率70%
のアルミナ板よりなるトレーT上に置き、温度520℃
で3時間加熱したのち温度900℃で1時間加熱するこ
とによって、第1のグリーンシート1のみを焼結させ
た。次いで、上記積層体の表面をナイロン製のブラシで
擦ることにより、未焼成の第2のグリーンシート2を除
去して表面に切込溝11を有するセラミック基板を作製
した。
に、第2のグリーンシート2を1枚ずつ重ね圧力150
kgf/cm2 、温度85℃で加圧密着させて積層体を
得た。その積層体を平面方向における単位長さ当たりの
反り量が0.05%以下の平坦度を有する気孔率70%
のアルミナ板よりなるトレーT上に置き、温度520℃
で3時間加熱したのち温度900℃で1時間加熱するこ
とによって、第1のグリーンシート1のみを焼結させ
た。次いで、上記積層体の表面をナイロン製のブラシで
擦ることにより、未焼成の第2のグリーンシート2を除
去して表面に切込溝11を有するセラミック基板を作製
した。
【0028】その結果、上記セラミック基板の隣り合う
切込溝11・11間の間隔のバラツキは、±0.05%
以内であり、極めて寸法精度のよいセラミック基板が得
られた。
切込溝11・11間の間隔のバラツキは、±0.05%
以内であり、極めて寸法精度のよいセラミック基板が得
られた。
【0029】〔実験例2〕上記実験例1においてカッタ
ーにより切込溝を形成する代わりに、回転するダイアモ
ンドソーにより第1のグリーンシートの片面に深さ50
μmの断面U字状の切込溝をシート全面に格子状に形成
した。隣り合う切込溝の間隔は上記と同様に20mmと
し、その寸法精度は±10μm以内であった。それ以外
は上記実験例1と同じ条件で表面に切込溝11を有する
セラミック基板を作製した。その結果、上記実験例1ど
同様の結果が得られた。
ーにより切込溝を形成する代わりに、回転するダイアモ
ンドソーにより第1のグリーンシートの片面に深さ50
μmの断面U字状の切込溝をシート全面に格子状に形成
した。隣り合う切込溝の間隔は上記と同様に20mmと
し、その寸法精度は±10μm以内であった。それ以外
は上記実験例1と同じ条件で表面に切込溝11を有する
セラミック基板を作製した。その結果、上記実験例1ど
同様の結果が得られた。
【0030】〔比較例1〕上記各実験例における第2の
グリーンシート2を使用しなかった以外は、上記と同じ
条件で上記実験例1および実験例2と同様の2種類のセ
ラミック基板を作製した。その各セラミック基板の隣り
合う切込溝11・11間の間隔のバラツキは、いずれも
±0.5%程度あり、上記実験例の場合に比べて寸法精
度がかなり低下することがわかった。
グリーンシート2を使用しなかった以外は、上記と同じ
条件で上記実験例1および実験例2と同様の2種類のセ
ラミック基板を作製した。その各セラミック基板の隣り
合う切込溝11・11間の間隔のバラツキは、いずれも
±0.5%程度あり、上記実験例の場合に比べて寸法精
度がかなり低下することがわかった。
【0031】〔比較例2〕前記各実験例において第1の
グリーンシートに第2のグリーンシートを積層する前に
第1のグリーンシートに切込溝11を形成する代わり
に、積層した後に、その一方の表面に第2のグリーンシ
ートを貫通させて第1のグリーンシートに切込溝11を
形成した以外は、上記と同じ条件で上記実験例1および
実験例2と同様の2種類のセラミック基板を作製した。
その結果、各セラミック基板の隣り合う切込溝間の間隔
のバラツキは、いずれも±1%程度あり、上記比較例1
の場合によりも更に寸法精度が低下することがわかっ
た。
グリーンシートに第2のグリーンシートを積層する前に
第1のグリーンシートに切込溝11を形成する代わり
に、積層した後に、その一方の表面に第2のグリーンシ
ートを貫通させて第1のグリーンシートに切込溝11を
形成した以外は、上記と同じ条件で上記実験例1および
実験例2と同様の2種類のセラミック基板を作製した。
その結果、各セラミック基板の隣り合う切込溝間の間隔
のバラツキは、いずれも±1%程度あり、上記比較例1
の場合によりも更に寸法精度が低下することがわかっ
た。
【0032】以上の結果から明らかなように本発明に基
づく上記実験例によれば、隣り合う切込溝11・11間
の間隔のバラツキの少ない極めて寸法精度のよいセラミ
ック基板を作製できるもので、その理由としては、先ず
第1のグリーンシート1の両面に第2のグリーンシート
2を積層して焼成するようにしたことによって、第1の
グリーンシート1が、その両面に積層した第2のグリー
ンシート2に拘束されて、焼成時に厚さ方向には収縮す
るが、面方向の収縮は抑制されて収縮率自体および収縮
率のバラツキが少なくなるためと思われる。
づく上記実験例によれば、隣り合う切込溝11・11間
の間隔のバラツキの少ない極めて寸法精度のよいセラミ
ック基板を作製できるもので、その理由としては、先ず
第1のグリーンシート1の両面に第2のグリーンシート
2を積層して焼成するようにしたことによって、第1の
グリーンシート1が、その両面に積層した第2のグリー
ンシート2に拘束されて、焼成時に厚さ方向には収縮す
るが、面方向の収縮は抑制されて収縮率自体および収縮
率のバラツキが少なくなるためと思われる。
【0033】また本発明のように第1のグリーンシート
1の表面に切込溝11を形成し、その表面に第2のグリ
ーンシート2を積層して加圧密着させることにより、上
記切込溝11内に第2のグリーンシート2の一部が入り
込むため、その切込溝11が開放されている場合よりも
前記面方向の収縮に対する抑制力が更に増大されて収縮
量およびバラツキが低減されるためと考えられる。
1の表面に切込溝11を形成し、その表面に第2のグリ
ーンシート2を積層して加圧密着させることにより、上
記切込溝11内に第2のグリーンシート2の一部が入り
込むため、その切込溝11が開放されている場合よりも
前記面方向の収縮に対する抑制力が更に増大されて収縮
量およびバラツキが低減されるためと考えられる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるセラ
ミック基板の製造方法によれば、隣り合う切込溝11・
11間の間隔のバラツキの少ない極めて寸法精度のよい
セラミック基板を作製できるもので、歩留が向上し生産
効率を大幅に増大させることができる等の効果がある。
ミック基板の製造方法によれば、隣り合う切込溝11・
11間の間隔のバラツキの少ない極めて寸法精度のよい
セラミック基板を作製できるもので、歩留が向上し生産
効率を大幅に増大させることができる等の効果がある。
【図1】本発明によるセラミック基板の製造方法の工程
説明図。
説明図。
【図2】製造プロセスの変更例を示す工程説明図。
【図3】第1のセラミックグリーンシートを複数枚積層
する場合の工程例の説明図。
する場合の工程例の説明図。
【図4】複数枚のセラミック基板を同時に製造する場合
の程説明図。
の程説明図。
1 第1のセラミックグリーンシート 2 第2のセラミックグリーンシート 10 セラミック基板 11 切込溝 T トレー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C04B 33/32 H05K 1/02 G 3/00 J X
Claims (1)
- 【請求項1】 表面に多数個取り用の切込溝を有するセ
ラミック基板を製造するに当たり、製造すべきセラミッ
ク基板の素材となる第1のセラミックグリーンシートの
少なくとも一方の表面に切込溝を形成し、その第1のセ
ラミックグリーンシートより高い焼結温度を有する第2
のセラミックグリーンシートを上記第1のセラミックグ
リーンシートの両面に積層して加圧密着させ、その積層
体を上記第2のセラミックグリーンシートの焼結温度よ
り低くかつ上記第1のセラミックグリーンシートの焼結
温度より高い温度で焼成することによって上記第1のセ
ラミックグリーンシートのみを焼結させ、次いで未焼結
の第2のセラミックグリーンシートを除去して、少なく
とも一方の表面に切込溝を有するセラミック基板を得る
ことを特徴とするセラミック基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5262984A JP2856045B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | セラミック基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5262984A JP2856045B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | セラミック基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0799263A true JPH0799263A (ja) | 1995-04-11 |
| JP2856045B2 JP2856045B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=17383287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5262984A Expired - Fee Related JP2856045B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | セラミック基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2856045B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002185136A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-06-28 | Murata Mfg Co Ltd | 多層セラミック基板の製造方法 |
| JP2002290040A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Kyocera Corp | セラミック基板の製造方法 |
| JP2003031731A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-31 | Toshiba Corp | セラミックス基板、その製造方法およびセラミックス回路基板 |
| JP2003192454A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-07-09 | Noritake Co Ltd | シート部材の製造方法 |
| WO2003072325A1 (fr) * | 2002-02-26 | 2003-09-04 | Murata Manufacturing Co.,Ltd. | Procede pour fabriquer un substrat multicouche ceramique et corps multicouche composite cru |
| US6938332B2 (en) | 2001-06-29 | 2005-09-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for manufacturing multilayer ceramic substrates |
| US7001569B2 (en) | 2000-11-27 | 2006-02-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method of manufacturing ceramic multi-layer substrate, and unbaked composite laminated body |
| KR100741832B1 (ko) * | 2005-10-14 | 2007-07-24 | 삼성전기주식회사 | 연성인쇄회로기판 어레이 제작용 베이스 플레이트 |
| JP2008098647A (ja) * | 2007-10-23 | 2008-04-24 | Hitachi Metals Ltd | 多層セラミック基板 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP5262984A patent/JP2856045B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7569177B2 (en) | 2000-11-27 | 2009-08-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method of producing ceramic multilayer substrates, and green composite laminate |
| EP1272020A4 (en) * | 2000-11-27 | 2007-07-04 | Murata Manufacturing Co | METHOD FOR THE PRODUCTION OF A MULTILAYER CERAMIC SUBSTRATE AND UNBACKENED LAMINATED COMPOSITE BODY |
| US7001569B2 (en) | 2000-11-27 | 2006-02-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method of manufacturing ceramic multi-layer substrate, and unbaked composite laminated body |
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| US6942833B2 (en) | 2002-02-26 | 2005-09-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic multilayer substrate manufacturing method and unfired composite multilayer body |
| GB2392312B (en) * | 2002-02-26 | 2005-08-17 | Murata Manufacturing Co | Method for manufacturing ceramic multilayer substrate and green composite laminate |
| GB2392312A (en) * | 2002-02-26 | 2004-02-25 | Murata Manufacturing Co | Ceramic multilayer substrate manufacturing method and unfired composite multilayer body |
| WO2003072325A1 (fr) * | 2002-02-26 | 2003-09-04 | Murata Manufacturing Co.,Ltd. | Procede pour fabriquer un substrat multicouche ceramique et corps multicouche composite cru |
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| JP2008098647A (ja) * | 2007-10-23 | 2008-04-24 | Hitachi Metals Ltd | 多層セラミック基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2856045B2 (ja) | 1999-02-10 |
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