JPH0810399Y2 - サックバックバルブ - Google Patents
サックバックバルブInfo
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- JPH0810399Y2 JPH0810399Y2 JP8238089U JP8238089U JPH0810399Y2 JP H0810399 Y2 JPH0810399 Y2 JP H0810399Y2 JP 8238089 U JP8238089 U JP 8238089U JP 8238089 U JP8238089 U JP 8238089U JP H0810399 Y2 JPH0810399 Y2 JP H0810399Y2
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- JP
- Japan
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- diaphragm
- pressure receiving
- receiving surface
- control fluid
- suck back
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Links
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、サックバックバルブに関し、特に、たとえ
ば、半導体ウェハへのレジスト液塗布用のノズルとレジ
スト液供給源との間に配設されるサックバックバルブな
どに適用して有効な技術に関する。
ば、半導体ウェハへのレジスト液塗布用のノズルとレジ
スト液供給源との間に配設されるサックバックバルブな
どに適用して有効な技術に関する。
サックバックバルブとして、レジスト液などの制御流
体用流路と、この制御流体用流路に受圧面が露呈してサ
ックバックを行うダイヤフラムと、このダイヤフラムを
変位させるピストンなどを備えているものがある。
体用流路と、この制御流体用流路に受圧面が露呈してサ
ックバックを行うダイヤフラムと、このダイヤフラムを
変位させるピストンなどを備えているものがある。
たとえば、このようなサックバックバルブは、半導体
ウェハへのレジスト液塗布用のノズルと、レジスト液の
供給源との間に介在され、ダイヤフラムの変位によって
制御流体用流路の容積量を変化させることにより、不必
要なレジスト液がノズルから半導体ウェハ上に滴下され
るのを防止する。
ウェハへのレジスト液塗布用のノズルと、レジスト液の
供給源との間に介在され、ダイヤフラムの変位によって
制御流体用流路の容積量を変化させることにより、不必
要なレジスト液がノズルから半導体ウェハ上に滴下され
るのを防止する。
しかしながら、前記した構造のサックバックバルブ
は、サックバックを行うダイヤフラムの受圧面が制御流
体用流路の流れ方向に沿った内周壁面より外側に位置さ
れているため、ダイヤフラムの受圧面と制御流体用流路
の流れ方向に沿った内周壁面との間にデットスペースが
形成され、このデッドスペースにより泡溜まりや液溜ま
りが生じ易い。
は、サックバックを行うダイヤフラムの受圧面が制御流
体用流路の流れ方向に沿った内周壁面より外側に位置さ
れているため、ダイヤフラムの受圧面と制御流体用流路
の流れ方向に沿った内周壁面との間にデットスペースが
形成され、このデッドスペースにより泡溜まりや液溜ま
りが生じ易い。
このため、泡溜まりによりサックバック量が不安定化
したり、あるいは液溜まりによりレジスト液などの制御
流体が変質して汚染される。
したり、あるいは液溜まりによりレジスト液などの制御
流体が変質して汚染される。
本考案の目的は、泡溜まりや液溜まりを確実に防止す
ることができるサックバックバルブを提供することにあ
る。
ることができるサックバックバルブを提供することにあ
る。
本考案のサックバックバルブの構造は、制御流体用流
路と、この制御流体用流路に受圧面が露呈してサックバ
ックを行うダイヤフラムとを備えているサックバックバ
ルブであって、前記ダイヤフラムの受圧面が前記制御流
体用流路の流れ方向に沿った内周壁面と略同一平面上に
位置され、または前記内周壁面より該制御流体用流路内
に突出されて位置されている構造としたものである。
路と、この制御流体用流路に受圧面が露呈してサックバ
ックを行うダイヤフラムとを備えているサックバックバ
ルブであって、前記ダイヤフラムの受圧面が前記制御流
体用流路の流れ方向に沿った内周壁面と略同一平面上に
位置され、または前記内周壁面より該制御流体用流路内
に突出されて位置されている構造としたものである。
この場合に、前記ダイヤフラムの取付面が前記受圧面
の外周側に該受圧面と段差をおいて形成されている構造
とすることができる。
の外周側に該受圧面と段差をおいて形成されている構造
とすることができる。
前記したサックバックバルブの構造によれば、ダイヤ
フラムの受圧面が制御流体用流路の流れ方向に沿った内
周壁面と略同一平面上に位置され、または前記内周壁面
より該制御流体用流路内に突出されて位置されているこ
とにより、ダイヤフラムの受圧面と制御流体用流路の流
れ方向に沿った内周壁面との間にデッドスペースが形成
されないので、該デッドスペースによる泡溜まりや液溜
まりを確実に防止することができる。
フラムの受圧面が制御流体用流路の流れ方向に沿った内
周壁面と略同一平面上に位置され、または前記内周壁面
より該制御流体用流路内に突出されて位置されているこ
とにより、ダイヤフラムの受圧面と制御流体用流路の流
れ方向に沿った内周壁面との間にデッドスペースが形成
されないので、該デッドスペースによる泡溜まりや液溜
まりを確実に防止することができる。
この場合に、前記ダイヤフラムの取付面が前記受圧面
の外周側に該受圧面と段差をおいて形成されている構造
とすると、取付面をバルブ内の制御流体用流路の外側に
組み込んでダイヤフラムを固定することにより、前記し
た効果をともなったダイヤフラムのバルブ内への固定を
容易、かつ確実に行うことができる。
の外周側に該受圧面と段差をおいて形成されている構造
とすると、取付面をバルブ内の制御流体用流路の外側に
組み込んでダイヤフラムを固定することにより、前記し
た効果をともなったダイヤフラムのバルブ内への固定を
容易、かつ確実に行うことができる。
〔実施例1〕 第1図は本考案の一実施例であるサックバックバルブ
を示す断面図である。
を示す断面図である。
プレート1が結合されているバルブ本体2には、シリ
ンダチューブ3が結合され、このシリンダチューブ3に
は、Oリングなどのシール部材4を介してカバー5が結
合されている。
ンダチューブ3が結合され、このシリンダチューブ3に
は、Oリングなどのシール部材4を介してカバー5が結
合されている。
前記バルブ本体2は、両側面に制御流体用ポート6a,6
bが夫々開設されてこの制御流体用ポート6a,6bからなる
制御流体用流路6が内設されている。
bが夫々開設されてこの制御流体用ポート6a,6bからなる
制御流体用流路6が内設されている。
制御流体用流路6の両端部側は第1図の垂直面方向の
断面が真円状に形成され、また制御流体用流路6の中間
部は同図の水平面方向の断面が真円状に形成されてい
る。
断面が真円状に形成され、また制御流体用流路6の中間
部は同図の水平面方向の断面が真円状に形成されてい
る。
バルブ本体2とシリンダチューブ3との間には、弾性
材などからなるダイヤフラム7がガイドワッシャ8を介
して介在され、このダイヤフラム7の受圧面7aが前記制
御流体用流路6に露呈されている。
材などからなるダイヤフラム7がガイドワッシャ8を介
して介在され、このダイヤフラム7の受圧面7aが前記制
御流体用流路6に露呈されている。
サックバックを行うダイヤフラム7の受圧面7aは、制
御流体用流路6の両端部における流れ方向に沿った内周
壁面と略同一平面上に位置され、ダイヤフラム7の受圧
面7aと制御流体用流路6の流れ方向に沿った内周壁面と
の間にデッドスペースが形成されない構造とされてい
る。
御流体用流路6の両端部における流れ方向に沿った内周
壁面と略同一平面上に位置され、ダイヤフラム7の受圧
面7aと制御流体用流路6の流れ方向に沿った内周壁面と
の間にデッドスペースが形成されない構造とされてい
る。
ダイヤフラム7の受圧面7aの外周側には、ダイヤフラ
ム7の取付面7bが該受圧面7aと段差Hをおいて形成さ
れ、ダイヤフラム7はその取付面7b側がバルブ本体2と
ガイドワッシャ8とによって挟持されて固定されてい
る。
ム7の取付面7bが該受圧面7aと段差Hをおいて形成さ
れ、ダイヤフラム7はその取付面7b側がバルブ本体2と
ガイドワッシャ8とによって挟持されて固定されてい
る。
前記シリンダチューブ3はその両側面に息抜きポート
9,10が夫々開設され、一方の息抜きポート9はガイドワ
ッシャ8の上面に形成された断面V字状の溝8aを通じて
ダイヤフラム7の受圧面7aの上方の空間部に連通してい
る。
9,10が夫々開設され、一方の息抜きポート9はガイドワ
ッシャ8の上面に形成された断面V字状の溝8aを通じて
ダイヤフラム7の受圧面7aの上方の空間部に連通してい
る。
シリンダチューブ3の軸芯上の貫通部には、シール部
材11を有するピストンロッド12が軸方向に沿って摺動自
在に貫通されている。
材11を有するピストンロッド12が軸方向に沿って摺動自
在に貫通されている。
ピストンロッド12はその一端部がダイヤフラム7の中
央の接続部7cに結合され、他端部がシール部材13を有し
ているピストン14に結合されている。
央の接続部7cに結合され、他端部がシール部材13を有し
ているピストン14に結合されている。
ピストン14は、シリンダチューブ3とカバー5とによ
って形成されているシリンダ室15に軸方向に沿って摺動
自在に収容され、該シリンダ室15を上側室15aと下側室1
5bとに仕切っている。
って形成されているシリンダ室15に軸方向に沿って摺動
自在に収容され、該シリンダ室15を上側室15aと下側室1
5bとに仕切っている。
下側室15bには、息抜きポート10が連通され、またコ
イルばね16が収容されてこのコイルばね16によってピス
トン14がカバー5側に付勢されている。
イルばね16が収容されてこのコイルばね16によってピス
トン14がカバー5側に付勢されている。
前記カバー5は一側面に作動流体用給排ポート17が開
設され、この作動流体用給排ポート17は上側室15aに連
通されている。
設され、この作動流体用給排ポート17は上側室15aに連
通されている。
カバー5の軸芯上の貫通部には、シール部材18および
摘み19を有する調整ねじ20が軸方向に沿って進退自在に
螺合され、この調整ねじ20の先端側の突出量の調整によ
ってピストン14のストロークおよびダイヤフラム7の受
圧面7aの変位量(第1図の上下方向における変位量)が
調整されることにより、サックバック量が調整可能とさ
れている。
摘み19を有する調整ねじ20が軸方向に沿って進退自在に
螺合され、この調整ねじ20の先端側の突出量の調整によ
ってピストン14のストロークおよびダイヤフラム7の受
圧面7aの変位量(第1図の上下方向における変位量)が
調整されることにより、サックバック量が調整可能とさ
れている。
なお、カバー5の外端面側には、調整ねじ20用のロッ
クナット21が設けられている。
クナット21が設けられている。
次に、本実施例の作用について説明する。
たとえば、本実施例のサックバックバルブは、制御流
体用流路6が半導体ウェハにレジスト液などを塗布する
ノズル(図示せず)と、レジスト液供給源(図示せず)
との間に介在されて配設される。
体用流路6が半導体ウェハにレジスト液などを塗布する
ノズル(図示せず)と、レジスト液供給源(図示せず)
との間に介在されて配設される。
このように配設されたサックバックバルブにおいて、
圧縮空気などの作動流体を作動流体用給排ポート17を通
じて上側室15aに供給すると、第1図に示す状態のピス
トン14,ピストンロッド12,ダイヤフラム7の受圧面7aが
同図の二点鎖線で示すようにコイルばね16の付勢力に抗
して同図の下側に変位する。
圧縮空気などの作動流体を作動流体用給排ポート17を通
じて上側室15aに供給すると、第1図に示す状態のピス
トン14,ピストンロッド12,ダイヤフラム7の受圧面7aが
同図の二点鎖線で示すようにコイルばね16の付勢力に抗
して同図の下側に変位する。
レジスト液供給源(図示せず)からのレジスト液は、
このような状態においてサックバックバルブの制御流体
用流路6を通じてノズル(図示せず)に供給されて半導
体ウェハに塗布される。
このような状態においてサックバックバルブの制御流体
用流路6を通じてノズル(図示せず)に供給されて半導
体ウェハに塗布される。
この場合に、たとえば、ノズル(図示せず)の先端か
ら不必要なレジスト液が半導体ウェハ上に滴下するなど
のおそれが生じてきた際には、上側室15aの作動流体を
作動流体用給排ポート17を通じて外部に排出する。
ら不必要なレジスト液が半導体ウェハ上に滴下するなど
のおそれが生じてきた際には、上側室15aの作動流体を
作動流体用給排ポート17を通じて外部に排出する。
この排出により第1図の下側に変位していたピストン
14,ピストンロッド12,ダイヤフラム7の受圧面7aは、コ
イルばね16の付勢力によって同図の上側に変位し、その
受圧面7aの変位によって制御流体用流路6の容積量が変
化されることにより、不必要なレジスト液がノズル(図
示せず)から半導体ウェハ上に滴下されるのが防止され
る。
14,ピストンロッド12,ダイヤフラム7の受圧面7aは、コ
イルばね16の付勢力によって同図の上側に変位し、その
受圧面7aの変位によって制御流体用流路6の容積量が変
化されることにより、不必要なレジスト液がノズル(図
示せず)から半導体ウェハ上に滴下されるのが防止され
る。
本実施例のサックバックバルブは、このようにして作
動される。
動される。
この場合に、本実施例においては、ダイヤフラム7の
受圧面7aが制御流体用流路6の流れ方向に沿った内周壁
面と略同一平面上に位置されている構造とされているこ
とにより、ダイヤフラム7の受圧面7aと制御流体用流路
6の流れ方向に沿った内周壁面との間にデッドスペース
が形成されないので、該デッドスペースによる泡溜まり
や液溜まりを確実に防止することができる。
受圧面7aが制御流体用流路6の流れ方向に沿った内周壁
面と略同一平面上に位置されている構造とされているこ
とにより、ダイヤフラム7の受圧面7aと制御流体用流路
6の流れ方向に沿った内周壁面との間にデッドスペース
が形成されないので、該デッドスペースによる泡溜まり
や液溜まりを確実に防止することができる。
また、本実施例のダイヤフラム7は、取付面7bが受圧
面7aの外周側に該受圧面7aと段差Hをおいて形成され、
その取付面7b側がバルブ本体2とガイドワッシャ8とに
よって挟持されて固定されている構造とされているの
で、前記した効果をともなったダイヤフラム7のバルブ
内への固定を容易、かつ確実に行うことができる。
面7aの外周側に該受圧面7aと段差Hをおいて形成され、
その取付面7b側がバルブ本体2とガイドワッシャ8とに
よって挟持されて固定されている構造とされているの
で、前記した効果をともなったダイヤフラム7のバルブ
内への固定を容易、かつ確実に行うことができる。
〔実施例2〕 第2図は本考案の他の実施例であるサックバックバル
ブを一部省略して示す断面図である。
ブを一部省略して示す断面図である。
この実施例2のサックバックバルブにおいては、ダイ
ヤフラム7の受圧面7aが制御流体用流路6の両端部にお
ける流れ方向に沿った内周壁面より該制御流体用流路6
内に突出されて位置されている。
ヤフラム7の受圧面7aが制御流体用流路6の両端部にお
ける流れ方向に沿った内周壁面より該制御流体用流路6
内に突出されて位置されている。
このような実施例2の構造においても、前記した実施
例1の構造と同様に、ダイヤフラム7の受圧面7aと制御
流体用流路6の流れ方向に沿った内周壁面との間には、
デッドスペースが形成されないので、該デッドスペース
による泡溜まりや液溜まりを確実に防止することができ
る。
例1の構造と同様に、ダイヤフラム7の受圧面7aと制御
流体用流路6の流れ方向に沿った内周壁面との間には、
デッドスペースが形成されないので、該デッドスペース
による泡溜まりや液溜まりを確実に防止することができ
る。
以上、本考案者によってなされた考案を実施例に基づ
き具体的に説明したが、本考案は前記実施例1,2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
き具体的に説明したが、本考案は前記実施例1,2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
たとえば、前記実施例1,2のサックバックバルブは、
半導体ウェハにレジスト液などを塗布するノズルと、レ
ジスト液供給源との間に配設されて使用されているが、
本考案のサックバックバルブはそのようなレジスト液の
流体回路中における使用に限定されるものではなく、薬
液などの所定の流体回路中における使用が可能である。
半導体ウェハにレジスト液などを塗布するノズルと、レ
ジスト液供給源との間に配設されて使用されているが、
本考案のサックバックバルブはそのようなレジスト液の
流体回路中における使用に限定されるものではなく、薬
液などの所定の流体回路中における使用が可能である。
また、前記実施例1,2のサックバックバルブは、ピス
トン14の片側だけに流体圧を供給して該ピストン14を作
動させる単動形シリンダ構造とされているが、本考案の
サックバックバルブにおいては、ピストン14の両側に流
体圧を交互に供給して該ピストン14を作動させる複動形
シリンダ構造とすることも可能である。
トン14の片側だけに流体圧を供給して該ピストン14を作
動させる単動形シリンダ構造とされているが、本考案の
サックバックバルブにおいては、ピストン14の両側に流
体圧を交互に供給して該ピストン14を作動させる複動形
シリンダ構造とすることも可能である。
なお、前記実施例1,2のサックバックバルブにおいて
は、息抜きポート10の作動流体用給排ポート(下側室側
における作動流体用給排ポート)への変更使用が可能な
構造とされていて、この息抜きポート10の作動流体用給
排ポートへの変更使用,V形パッキンなどからなるシール
部材11,13のOリングなどからなるシール部材への交
換,コイルばね16の取外しなどにより、複動形シリンダ
構造への変更が可能な構造とされている。
は、息抜きポート10の作動流体用給排ポート(下側室側
における作動流体用給排ポート)への変更使用が可能な
構造とされていて、この息抜きポート10の作動流体用給
排ポートへの変更使用,V形パッキンなどからなるシール
部材11,13のOリングなどからなるシール部材への交
換,コイルばね16の取外しなどにより、複動形シリンダ
構造への変更が可能な構造とされている。
本考案のサックバックバルブの構造によれば、以下の
効果を得ることができる。
効果を得ることができる。
(1).ダイヤフラムの受圧面が制御流体用流路の流れ
方向に沿った内周壁面と略同一平面上に位置され、また
は前記内周壁面より該制御流体用流路内に突出されて位
置されていることにより、ダイヤフラムの受圧面と制御
流体用流路の流れ方向に沿った内周壁面との間にデッド
スペースが形成されないので、該デッドスペースによる
泡溜まりや液溜まりを確実に防止することができる。
方向に沿った内周壁面と略同一平面上に位置され、また
は前記内周壁面より該制御流体用流路内に突出されて位
置されていることにより、ダイヤフラムの受圧面と制御
流体用流路の流れ方向に沿った内周壁面との間にデッド
スペースが形成されないので、該デッドスペースによる
泡溜まりや液溜まりを確実に防止することができる。
(2).前記した(1)の効果により、泡溜まりによる
サックバック量の不安定化を確実に防止することができ
る。
サックバック量の不安定化を確実に防止することができ
る。
(3).前記した(1)の効果により、液溜まりによる
制御流体の変質・汚染を確実に防止することができる。
制御流体の変質・汚染を確実に防止することができる。
(4).前記した場合に、前記ダイヤフラムの取付面が
前記受圧面の外周側に該受圧面と段差をおいて形成され
ている構造とすると、取付面をバルブ内の制御流体用流
路の外側に組み込んでダイヤフラムを固定することによ
り、前記した(1)〜(3)の効果をともなったダイヤ
フラムのバルブ内への固定を容易、かつ確実に行うこと
ができる。
前記受圧面の外周側に該受圧面と段差をおいて形成され
ている構造とすると、取付面をバルブ内の制御流体用流
路の外側に組み込んでダイヤフラムを固定することによ
り、前記した(1)〜(3)の効果をともなったダイヤ
フラムのバルブ内への固定を容易、かつ確実に行うこと
ができる。
第1図は本考案の一実施例であるサックバックバルブを
示す断面図、第2図は本考案の他の実施例であるサック
バックバルブを一部省略して示す断面図である。 1……プレート、2……バルブ本体、3……シリンダチ
ューブ、4……シール部材、5……カバー、6……制御
流体用流路、6a,6b……制御流体用ポート、7……ダイ
ヤフラム、7a……受圧面、7b……取付面、7c……接続
部、8……ガイドワッシャ、8a……溝、9,10……息抜き
ポート、11……シール部材、12……ピストンロッド、13
……シール部材、14……ピストン、15……シリンダ室、
15a……上側室、15b……下側室、16……コイルばね、17
……作動流体用給排ポート、18……シール部材、19……
摘み、20……調整ねじ、21……ロックナット。H……段
差。
示す断面図、第2図は本考案の他の実施例であるサック
バックバルブを一部省略して示す断面図である。 1……プレート、2……バルブ本体、3……シリンダチ
ューブ、4……シール部材、5……カバー、6……制御
流体用流路、6a,6b……制御流体用ポート、7……ダイ
ヤフラム、7a……受圧面、7b……取付面、7c……接続
部、8……ガイドワッシャ、8a……溝、9,10……息抜き
ポート、11……シール部材、12……ピストンロッド、13
……シール部材、14……ピストン、15……シリンダ室、
15a……上側室、15b……下側室、16……コイルばね、17
……作動流体用給排ポート、18……シール部材、19……
摘み、20……調整ねじ、21……ロックナット。H……段
差。
Claims (3)
- 【請求項1】制御流体用流路と、この制御流体用流路に
受圧面が露呈してサックバックを行うダイヤフラムとを
備えているサックバックバルブであって、前記ダイヤフ
ラムの受圧面が前記制御流体用流路の流れ方向に沿った
内周壁面上に位置されていることを特徴とするサックバ
ックバルブ。 - 【請求項2】制御流体用流路と、この制御流体用流路に
受圧面が露呈してサックバックを行うダイヤフラムとを
備えているサックバックバルブであって、前記ダイヤフ
ラムの受圧面が前記制御流体用流路の流れ方向に沿った
内周壁面より該制御流体用流路内に突出されて位置され
ていることを特徴とするサックバックバルブ。 - 【請求項3】前記ダイヤフラムの取付面が前記受圧面の
外周側に該受圧面と段差をおいて形成されていることを
特徴とする請求項1、または2記載のサックバックバル
ブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8238089U JPH0810399Y2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | サックバックバルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8238089U JPH0810399Y2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | サックバックバルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0322570U JPH0322570U (ja) | 1991-03-08 |
| JPH0810399Y2 true JPH0810399Y2 (ja) | 1996-03-29 |
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ID=31629139
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE19828247C2 (de) * | 1997-07-11 | 2000-01-05 | Smc Kk | Öffnungs- und Schließventil |
| JP2002316085A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-29 | Ckd Corp | サックバックバルブ |
| JP2005114090A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Ckd Corp | 流体制御弁 |
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-
1989
- 1989-07-13 JP JP8238089U patent/JPH0810399Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0853206B1 (en) * | 1997-01-09 | 2000-07-19 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0853206A1 (en) | 1997-01-09 | 1998-07-15 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| US5967414A (en) * | 1997-03-05 | 1999-10-19 | Smc Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0863346A2 (en) | 1997-03-05 | 1998-09-09 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0863345A3 (en) * | 1997-03-05 | 1999-12-29 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0864791A3 (en) * | 1997-03-11 | 1999-12-29 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| US5918810A (en) * | 1997-03-11 | 1999-07-06 | Smc Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0864792A3 (en) * | 1997-03-14 | 1999-12-29 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| US6029903A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-29 | Smc Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| US5931384A (en) * | 1997-03-18 | 1999-08-03 | Smc Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0866254A3 (en) * | 1997-03-18 | 1999-12-29 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| EP0867649A2 (en) | 1997-03-25 | 1998-09-30 | SMC Kabushiki Kaisha | Suck back valve |
| DE19828247C2 (de) * | 1997-07-11 | 2000-01-05 | Smc Kk | Öffnungs- und Schließventil |
| JP2002316085A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-29 | Ckd Corp | サックバックバルブ |
| JP2005114090A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Ckd Corp | 流体制御弁 |
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Also Published As
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