JPH08106084A - 樹脂製ブラックマトリクスの形成方法 - Google Patents
樹脂製ブラックマトリクスの形成方法Info
- Publication number
- JPH08106084A JPH08106084A JP23986494A JP23986494A JPH08106084A JP H08106084 A JPH08106084 A JP H08106084A JP 23986494 A JP23986494 A JP 23986494A JP 23986494 A JP23986494 A JP 23986494A JP H08106084 A JPH08106084 A JP H08106084A
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- Japan
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- forming
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- Pending
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- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】透明基板上に液晶表示装置用カラーフィルター
のブラックマトリクス（遮光膜）を樹脂で形成する場合
において、パターンの隅の部分に突起状のレジスト残り
が発生しない、突起のないブラックマトリクスのパター
ンを得ることを目的とする。 【構成】液晶表示装置用カラーフィルターの樹脂製ブラ
ックマトリクスの形成工程において、パターン形成用フ
ォトマスクのパターンの角の先端部に面取り部を設け
る。
のブラックマトリクス（遮光膜）を樹脂で形成する場合
において、パターンの隅の部分に突起状のレジスト残り
が発生しない、突起のないブラックマトリクスのパター
ンを得ることを目的とする。 【構成】液晶表示装置用カラーフィルターの樹脂製ブラ
ックマトリクスの形成工程において、パターン形成用フ
ォトマスクのパターンの角の先端部に面取り部を設け
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置用カラー
フィルターにおける樹脂製ブラックマトリクスの形成方
法に関する。
フィルターにおける樹脂製ブラックマトリクスの形成方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】透明基板上に液晶表示装置用カラーフィ
ルターを形成する場合には一般に、各カラーフィルター
の間隙にブラックマトリクス（遮光膜）を介在させる。
従来より、このブラックマトリクスはクロムを真空成膜
し、その成膜されたクロム面をフォトエッチングプロセ
スでマトリクス状にパターン化している。しかし、この
プロセスは高コストでかつ手間がかかる方法である。そ
こで、感光性樹脂に光吸収性の顔料を分散した材料を用
い、一回のパターン露光および現像プロセスという簡便
な工程で樹脂製のブラックマトリクスを形成することが
提案されている。
ルターを形成する場合には一般に、各カラーフィルター
の間隙にブラックマトリクス（遮光膜）を介在させる。
従来より、このブラックマトリクスはクロムを真空成膜
し、その成膜されたクロム面をフォトエッチングプロセ
スでマトリクス状にパターン化している。しかし、この
プロセスは高コストでかつ手間がかかる方法である。そ
こで、感光性樹脂に光吸収性の顔料を分散した材料を用
い、一回のパターン露光および現像プロセスという簡便
な工程で樹脂製のブラックマトリクスを形成することが
提案されている。
【０００３】ところが、透明基板上に液晶表示装置用カ
ラーフィルターのブラックマトリクスを樹脂で形成する
場合において、従来の方法では現像液が微細部分に入り
込みにくく、図１（Ａ）に示すようにブラックマトリク
スのパターンの隅の部分に突起３状のレジスト残りが発
生する。表示画面内でこの突起３の形状、サイズに差異
があると、液晶表示装置とした際に表示パターンむらと
なり表示品質が低下する。
ラーフィルターのブラックマトリクスを樹脂で形成する
場合において、従来の方法では現像液が微細部分に入り
込みにくく、図１（Ａ）に示すようにブラックマトリク
スのパターンの隅の部分に突起３状のレジスト残りが発
生する。表示画面内でこの突起３の形状、サイズに差異
があると、液晶表示装置とした際に表示パターンむらと
なり表示品質が低下する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶表示装
置用カラーフィルターのブラックマトリクスを樹脂で形
成する場合に、パターンの隅の部分に突起状のレジスト
残りが発生しないブラックマトリクスのパターンを得る
ことを目的とする。
置用カラーフィルターのブラックマトリクスを樹脂で形
成する場合に、パターンの隅の部分に突起状のレジスト
残りが発生しないブラックマトリクスのパターンを得る
ことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、本発明は、液晶表示装置用カラーフィルターの樹
脂製ブラックマトリクスの透明基板上への形成工程にお
いて、図１（Ｂ）に示すようにパターン形成用フォトマ
スクのパターンの角の先端部に予め面取り部４を設け
る。これにより、ブラックマトリクス２のパターンの隅
の部分が滑らかとなり、従来のような突起は発生しな
い。なお、面取り量については、突起防止とともに開口
率の確保も考慮し、図２に示すように、面取り部４の角
度は通常45°、面取り部非形成のパターンの角の頂点と
面取り辺の両端との距離ａが2 〜10μｍとなるようにす
るのが適当である。また、面取り部４の形状は、直線ば
かりでなく、上記の距離ａを半径とする円弧としてもよ
い。
めに、本発明は、液晶表示装置用カラーフィルターの樹
脂製ブラックマトリクスの透明基板上への形成工程にお
いて、図１（Ｂ）に示すようにパターン形成用フォトマ
スクのパターンの角の先端部に予め面取り部４を設け
る。これにより、ブラックマトリクス２のパターンの隅
の部分が滑らかとなり、従来のような突起は発生しな
い。なお、面取り量については、突起防止とともに開口
率の確保も考慮し、図２に示すように、面取り部４の角
度は通常45°、面取り部非形成のパターンの角の頂点と
面取り辺の両端との距離ａが2 〜10μｍとなるようにす
るのが適当である。また、面取り部４の形状は、直線ば
かりでなく、上記の距離ａを半径とする円弧としてもよ
い。
【０００６】
【作用】本発明の方法によれば、フォトマスクのパター
ンの角の部分の先端の鋭角がなくなるため、現像の不均
一が発生しにくくなり、ブラックマトリクスのパターン
の隅の部分に突起が発生しない。また光学的要因により
パターンの角が滑らかになる。
ンの角の部分の先端の鋭角がなくなるため、現像の不均
一が発生しにくくなり、ブラックマトリクスのパターン
の隅の部分に突起が発生しない。また光学的要因により
パターンの角が滑らかになる。
【０００７】
【実施例】本発明による樹脂ブラックマトリクスの形成
過程の一実施例を説明する。液晶表示装置用カラーフィ
ルターを形成するガラス基板上に、黒色顔料を分散した
紫外線硬化型感光性樹脂、例えばフジハント（株）製、
製品名「CK-2000 」をスピンコーターにより均一に全面
に塗布し、酸素遮断膜としてポリビニルアルコールを全
面に塗布した後、プレベークを行い、次いでブラックマ
トリクスのパターン形成用のフォトマスクを介して紫外
線を塗布面から50mJ／cm2 照射する。この際に用いるフ
ォトマスクのパターンの１画素分の形状は、図３（１）
および図３（２）に示すように、パターンの角の先端部
に面取り部４を設けた形状である。なお、ここに挙げた
例のように、面取り部４の大きさはパターン内で統一す
る必要はない。
過程の一実施例を説明する。液晶表示装置用カラーフィ
ルターを形成するガラス基板上に、黒色顔料を分散した
紫外線硬化型感光性樹脂、例えばフジハント（株）製、
製品名「CK-2000 」をスピンコーターにより均一に全面
に塗布し、酸素遮断膜としてポリビニルアルコールを全
面に塗布した後、プレベークを行い、次いでブラックマ
トリクスのパターン形成用のフォトマスクを介して紫外
線を塗布面から50mJ／cm2 照射する。この際に用いるフ
ォトマスクのパターンの１画素分の形状は、図３（１）
および図３（２）に示すように、パターンの角の先端部
に面取り部４を設けた形状である。なお、ここに挙げた
例のように、面取り部４の大きさはパターン内で統一す
る必要はない。
【０００８】次いで、露光後の基板を専用の現像液、例
えばフジハント（株）製、商品名「CD」によりシャワー
現像すると、ブラックマトリクスのパターンの隅の部分
が図１（Ｂ）に示すように全体に丸くなり、不均一な突
起などが発生せず安定した表示品質のパターンが得られ
る。
えばフジハント（株）製、商品名「CD」によりシャワー
現像すると、ブラックマトリクスのパターンの隅の部分
が図１（Ｂ）に示すように全体に丸くなり、不均一な突
起などが発生せず安定した表示品質のパターンが得られ
る。
【０００９】
【発明の効果】本発明の方法によりブラックマトリクス
のパターンの隅の部分に突起が発生せず、滑らかにな
る。このため、液晶表示装置とした場合の表示パターン
のむらの発生が抑えられ、表示品質が向上する。
のパターンの隅の部分に突起が発生せず、滑らかにな
る。このため、液晶表示装置とした場合の表示パターン
のむらの発生が抑えられ、表示品質が向上する。
【００１０】
【図１】（Ａ）および（Ｂ）は、従来の方法および本発
明の方法による場合のフォトマスクとブラックマトリク
スの様子をそれぞれ示す説明図である。
明の方法による場合のフォトマスクとブラックマトリク
スの様子をそれぞれ示す説明図である。
【図２】本発明に用いる面取り形状の一例を示す平面図
である。
である。
【図３】本発明によるフォトマスクのパターン形状の実
施例を示す平面図である。
施例を示す平面図である。
１ フォトマスク ２ ブラックマトリクス ３ 突起 ４ 面取り部
Claims (1)
- 【請求項１】液晶表示装置用カラーフィルターの樹脂製
ブラックマトリクスの形成方法において、パターン形成
用フォトマスクのパターンの角の先端部に面取り部を設
けたことを特徴とする樹脂製ブラックマトリクスの形成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23986494A JPH08106084A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 樹脂製ブラックマトリクスの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23986494A JPH08106084A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 樹脂製ブラックマトリクスの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08106084A true JPH08106084A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17051024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23986494A Pending JPH08106084A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 樹脂製ブラックマトリクスの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08106084A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006165179A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Denso Corp | 半導体基板およびその製造方法 |
| KR100747049B1 (ko) * | 2004-12-10 | 2007-08-07 | 삼성코닝 주식회사 | 전자기파 차폐 필터 및 그 제조 방법 |
| US7580095B2 (en) | 2004-10-20 | 2009-08-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for display device |
| KR101439082B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2014-09-12 | 한국과학기술원 | 웨이퍼 레벨 패키지용 캡핑 웨이퍼의 제조를 위한 포토마스크 및 이를 이용한 웨이퍼 레벨 패키지용 캡핑 웨이퍼의 제조 방법 |
| US9075257B2 (en) | 2012-05-07 | 2015-07-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
| WO2020073384A1 (zh) * | 2018-10-08 | 2020-04-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 液晶显示面板 |
-
1994
- 1994-10-04 JP JP23986494A patent/JPH08106084A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7580095B2 (en) | 2004-10-20 | 2009-08-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for display device |
| JP2006165179A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Denso Corp | 半導体基板およびその製造方法 |
| KR100747049B1 (ko) * | 2004-12-10 | 2007-08-07 | 삼성코닝 주식회사 | 전자기파 차폐 필터 및 그 제조 방법 |
| US9075257B2 (en) | 2012-05-07 | 2015-07-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
| US9500913B2 (en) | 2012-05-07 | 2016-11-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
| KR101439082B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2014-09-12 | 한국과학기술원 | 웨이퍼 레벨 패키지용 캡핑 웨이퍼의 제조를 위한 포토마스크 및 이를 이용한 웨이퍼 레벨 패키지용 캡핑 웨이퍼의 제조 방법 |
| WO2020073384A1 (zh) * | 2018-10-08 | 2020-04-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 液晶显示面板 |
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