JPH08106624A - 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム - Google Patents
二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルムInfo
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- JPH08106624A JPH08106624A JP6261384A JP26138494A JPH08106624A JP H08106624 A JPH08106624 A JP H08106624A JP 6261384 A JP6261384 A JP 6261384A JP 26138494 A JP26138494 A JP 26138494A JP H08106624 A JPH08106624 A JP H08106624A
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- film
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- biaxially oriented
- polyethylene terephthalate
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 繰り返し単位にエチレンテレフタレートを8
5モル%以上含有するポリエステルからなるフイルムで
あって、フイルム全厚みが3〜8μmであり、長手方向
の弾性率Aが500kg/mm2 以上で、幅方向の弾性
率Bとの差|A−B|が200kg/mm2 未満であ
り、フイルムの少なくとも片面の表面粗さ(Ra)が
0.1〜5nmであり、塗布層厚みの総和が2μm以下
であるデジタルビデオ用の塗布型磁気記録媒体の支持体
として用いられることを特徴とする二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフイルム。 【効果】 製造工程、VTR中での耐切断性が高く、安
価で、しかも電磁変化特性、トラッキングずれ特性の良
好な、デジタルビデオ用磁気テープのベースフイルムと
して最適なフイルムを得ることができる。
5モル%以上含有するポリエステルからなるフイルムで
あって、フイルム全厚みが3〜8μmであり、長手方向
の弾性率Aが500kg/mm2 以上で、幅方向の弾性
率Bとの差|A−B|が200kg/mm2 未満であ
り、フイルムの少なくとも片面の表面粗さ(Ra)が
0.1〜5nmであり、塗布層厚みの総和が2μm以下
であるデジタルビデオ用の塗布型磁気記録媒体の支持体
として用いられることを特徴とする二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフイルム。 【効果】 製造工程、VTR中での耐切断性が高く、安
価で、しかも電磁変化特性、トラッキングずれ特性の良
好な、デジタルビデオ用磁気テープのベースフイルムと
して最適なフイルムを得ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向ポリエチレン
テレフタレートフイルムに関し、とくに、デジタルビデ
オ用の塗布型磁気記録媒体の支持体(ベースフイルム)
として用いられる二軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムに関する。
テレフタレートフイルムに関し、とくに、デジタルビデ
オ用の塗布型磁気記録媒体の支持体(ベースフイルム)
として用いられる二軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、VTR用磁気記録媒体(磁気テー
プ)の分野では、アナログ記録から、ダビング時等の記
録の劣化が少ないデジタル記録の実用化が進んでいる。
デジタルビデオ用の磁気記録媒体では、より高密度記録
化が要求されるとともに、記録速度向上のための磁性層
の改良および磁気記録媒体の走行速度(搬送速度)の向
上が求められている。また、一般に、VTRの小型化に
伴い、磁気記録媒体あるいはそのベースフイルムの一層
の薄手化が要求されている。
プ)の分野では、アナログ記録から、ダビング時等の記
録の劣化が少ないデジタル記録の実用化が進んでいる。
デジタルビデオ用の磁気記録媒体では、より高密度記録
化が要求されるとともに、記録速度向上のための磁性層
の改良および磁気記録媒体の走行速度(搬送速度)の向
上が求められている。また、一般に、VTRの小型化に
伴い、磁気記録媒体あるいはそのベースフイルムの一層
の薄手化が要求されている。
【0003】また、VTR内での高速搬送化に伴う磁気
ヘッドや磁気テープの磨耗を抑えるために、ヘッドとテ
ープの接触面積の増大化がはかられつつある。しかしこ
の接触面積の増大は、一方で接触の不均一性を増大させ
ることになり、それによって出力の劣化や出力変動の増
大を招いている。接触の均一性を確保するためには、磁
気テープの主として幅方向のスティフネスの増大が要求
され、そのためにベースフイルムの幅方向の弾性率(ヤ
ング率)の向上が求められている。
ヘッドや磁気テープの磨耗を抑えるために、ヘッドとテ
ープの接触面積の増大化がはかられつつある。しかしこ
の接触面積の増大は、一方で接触の不均一性を増大させ
ることになり、それによって出力の劣化や出力変動の増
大を招いている。接触の均一性を確保するためには、磁
気テープの主として幅方向のスティフネスの増大が要求
され、そのためにベースフイルムの幅方向の弾性率(ヤ
ング率)の向上が求められている。
【0004】このような要求、つまり、走行速度向上、
薄手化、幅方向の弾性率向上を満たす、デジタルビデオ
用の塗布型磁気記録媒体のベースフイルムとして、従来
は、高弾性率特性をもっているポリエチレンナフタレー
ト(以下、PENということもある)フイルムが最適と
されてきた(たとえば特開平6−150290号公
報)。
薄手化、幅方向の弾性率向上を満たす、デジタルビデオ
用の塗布型磁気記録媒体のベースフイルムとして、従来
は、高弾性率特性をもっているポリエチレンナフタレー
ト(以下、PENということもある)フイルムが最適と
されてきた(たとえば特開平6−150290号公
報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、PENをベ
ースフイルムとする磁気記録媒体においては、ベースフ
イルムに磁性層等を塗布、乾燥する工程、裁断工程、さ
らにはVTR内での走行中に切断しやすいという問題が
ある。これは、PENは薄手で高弾性率のフイルムに成
形可能であるものの、引裂伝幡抵抗がそれ程高くないた
め、一旦起点が生じると、走行中に切断しやすくなるた
めであると考えられる。また、PENは、一般に高価で
あり、それをベースフイルムとする磁気記録媒体のコス
トも高くなるという問題もある。
ースフイルムとする磁気記録媒体においては、ベースフ
イルムに磁性層等を塗布、乾燥する工程、裁断工程、さ
らにはVTR内での走行中に切断しやすいという問題が
ある。これは、PENは薄手で高弾性率のフイルムに成
形可能であるものの、引裂伝幡抵抗がそれ程高くないた
め、一旦起点が生じると、走行中に切断しやすくなるた
めであると考えられる。また、PENは、一般に高価で
あり、それをベースフイルムとする磁気記録媒体のコス
トも高くなるという問題もある。
【0006】また、一般に、磁気記録媒体においては、
たとえばデジタルビデオ用磁気テープにおいては、所定
の小さなピッチで複数本の記録用トラックが配設される
が、記録時や再生時の良好な特性を得るためには、テー
プ走行時等にトラッキングずれを小さく抑えることが要
求される。この要求を満たすためには、テープの変形強
度を高くすると共に、仮に変形を生じさせるような力や
応力が作用した場合、縦、横に均一に変形すること、つ
まり、強度特性等のバランスがとれていることが要求さ
れる。
たとえばデジタルビデオ用磁気テープにおいては、所定
の小さなピッチで複数本の記録用トラックが配設される
が、記録時や再生時の良好な特性を得るためには、テー
プ走行時等にトラッキングずれを小さく抑えることが要
求される。この要求を満たすためには、テープの変形強
度を高くすると共に、仮に変形を生じさせるような力や
応力が作用した場合、縦、横に均一に変形すること、つ
まり、強度特性等のバランスがとれていることが要求さ
れる。
【0007】そこで本発明者らは、PENに代わるベー
スフイルムを鋭意検討した結果、近年の生産、製膜技術
の進歩に伴ない、ポリエチレンテレフタレート(以下、
PETということもある)を主体とするフイルムでも、
十分な薄手化とともに所定方向の弾性率向上が可能で、
かつ、表面の超平滑化により高速走行が可能なフイルム
を作製できることを見出し、本発明に到達した。
スフイルムを鋭意検討した結果、近年の生産、製膜技術
の進歩に伴ない、ポリエチレンテレフタレート(以下、
PETということもある)を主体とするフイルムでも、
十分な薄手化とともに所定方向の弾性率向上が可能で、
かつ、表面の超平滑化により高速走行が可能なフイルム
を作製できることを見出し、本発明に到達した。
【0008】すなわち本発明の目的は、磁性層等の塗
布、乾燥工程でのフイルム切断を防止でき、VTR内走
行中のテープ切断も防止でき、かつ、製造コストダウン
が可能で、しかも、電磁変換特性やトラッキングずれに
対する特性も良好な、デジタルビデオ用塗布型磁気記録
媒体の支持体として好適な、二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフイルムを提供することにある。
布、乾燥工程でのフイルム切断を防止でき、VTR内走
行中のテープ切断も防止でき、かつ、製造コストダウン
が可能で、しかも、電磁変換特性やトラッキングずれに
対する特性も良好な、デジタルビデオ用塗布型磁気記録
媒体の支持体として好適な、二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフイルムを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルムは、繰り
返し単位にエチレンテレフタレートを85モル%以上含
有するポリエステルからなるフイルムであって、フイル
ム全厚みが3〜8μmであり、長手方向の弾性率Aが5
00kg/mm2 以上であり、幅方向の弾性率Bとの差
|A−B|が200kg/mm2 未満であり、フイルム
の少なくとも片面の表面粗さ(Ra)が0.1〜5nm
であり、塗布層厚みの総和が2μm以下であるデジタル
ビデオ用の塗布型磁気記録媒体の支持体として用いられ
ることを特徴とするものからなる。
二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルムは、繰り
返し単位にエチレンテレフタレートを85モル%以上含
有するポリエステルからなるフイルムであって、フイル
ム全厚みが3〜8μmであり、長手方向の弾性率Aが5
00kg/mm2 以上であり、幅方向の弾性率Bとの差
|A−B|が200kg/mm2 未満であり、フイルム
の少なくとも片面の表面粗さ(Ra)が0.1〜5nm
であり、塗布層厚みの総和が2μm以下であるデジタル
ビデオ用の塗布型磁気記録媒体の支持体として用いられ
ることを特徴とするものからなる。
【0010】上記において、塗布層とは、磁性層のみに
限らず、その下層、バックコート層を含むものを言い、
それらの厚みの総和が2μm以下である。
限らず、その下層、バックコート層を含むものを言い、
それらの厚みの総和が2μm以下である。
【0011】本発明フイルムは、繰り返し単位にエチレ
ンテレフタレートを85モル%以上含有するポリエステ
ルからなる。このようなPETフイルムとすることによ
り、薄手のフイルムを効率よく製膜でき、かつ、後述の
如く製膜条件の適切な設定により、目標とする長手方
向、幅方向の弾性率を得ることが可能となる。但し、上
記エチレンテレフタレート含有量の条件を満たす限り、
本発明の目的を阻害しない範囲内で、2種以上のポリエ
ステルを混合してもよいし、共重合ポリマを用いてもよ
い。
ンテレフタレートを85モル%以上含有するポリエステ
ルからなる。このようなPETフイルムとすることによ
り、薄手のフイルムを効率よく製膜でき、かつ、後述の
如く製膜条件の適切な設定により、目標とする長手方
向、幅方向の弾性率を得ることが可能となる。但し、上
記エチレンテレフタレート含有量の条件を満たす限り、
本発明の目的を阻害しない範囲内で、2種以上のポリエ
ステルを混合してもよいし、共重合ポリマを用いてもよ
い。
【0012】本発明フイルムの全厚みは、3〜8μmで
ある。この範囲の厚みとすることにより、上記2μm以
下の塗布層厚みを加えても、磁気記録媒体として十分に
薄手化の要求に応えることができ、しかも、PETが本
来有する高い機械的強度を発揮して、十分に高い耐切断
性を発揮することができる。3μm未満では、ベースフ
イルムとしての強度が不足するおそれがあり、8μmを
越えると、磁気記録媒体全体として薄手化(小型化)の
要求を十分に満足できなくなる。
ある。この範囲の厚みとすることにより、上記2μm以
下の塗布層厚みを加えても、磁気記録媒体として十分に
薄手化の要求に応えることができ、しかも、PETが本
来有する高い機械的強度を発揮して、十分に高い耐切断
性を発揮することができる。3μm未満では、ベースフ
イルムとしての強度が不足するおそれがあり、8μmを
越えると、磁気記録媒体全体として薄手化(小型化)の
要求を十分に満足できなくなる。
【0013】本発明フイルムは特定範囲の弾性率(ヤン
グ率)を有する。すなわち、長手方向の弾性率Aが50
0kg/mm2 以上であり、かつ、幅方向の弾性率Bと
の差|A−B|が200kg/mm2 未満である。長手
方向の弾性率Aを500kg/mm2 以上とすることに
より、まず長手方向に、磁気記録媒体ベースフイルムと
して必要かつ十分な引張強度を付与できる。この弾性率
Aの上限は、特に限定されるものではないが、900k
g/mm2 を越えると、幅方向弾性率との間で、目標と
するバランス、つまり|A−B|が200kg/mm2
未満の条件を達成しにくくなる。
グ率)を有する。すなわち、長手方向の弾性率Aが50
0kg/mm2 以上であり、かつ、幅方向の弾性率Bと
の差|A−B|が200kg/mm2 未満である。長手
方向の弾性率Aを500kg/mm2 以上とすることに
より、まず長手方向に、磁気記録媒体ベースフイルムと
して必要かつ十分な引張強度を付与できる。この弾性率
Aの上限は、特に限定されるものではないが、900k
g/mm2 を越えると、幅方向弾性率との間で、目標と
するバランス、つまり|A−B|が200kg/mm2
未満の条件を達成しにくくなる。
【0014】本発明フイルムにおいては、長手方向の弾
性率Aが500kg/mm2 以上であると同時に、幅方
向の弾性率Bとの差|A−B|が200kg/mm2 未
満、好ましくは150kg/mm2 未満、より好ましく
は100kg/mm2 未満となるように幅方向の弾性率
Bが設定されている。つまり、長手方向の高い弾性率A
に対して差の小さい、バランスのとれた幅方向の弾性率
Bに設定される。したがって、幅方向の弾性率Bも比較
的高く(弾性率Aに近い値に)設定されることになり、
この方向にも磁気記録媒体用のベースフイルムとして十
分な強度を有することになり、両方向の変形強度が高く
保たれる。そして、|A−B|を200kg/mm2 未
満として両方向弾性率のバランスをとることにより、仮
に変形が生じたとしても両方向にバランスのとれた変
形、つまり特定方向にのみ歪むような変形は防止され
る。この両弾性率を比較的高く保つこと、および、両弾
性率のバランスをとること、により、磁気記録体(磁気
テープ)のトラッキングずれが極めて小さく抑えられ
る。
性率Aが500kg/mm2 以上であると同時に、幅方
向の弾性率Bとの差|A−B|が200kg/mm2 未
満、好ましくは150kg/mm2 未満、より好ましく
は100kg/mm2 未満となるように幅方向の弾性率
Bが設定されている。つまり、長手方向の高い弾性率A
に対して差の小さい、バランスのとれた幅方向の弾性率
Bに設定される。したがって、幅方向の弾性率Bも比較
的高く(弾性率Aに近い値に)設定されることになり、
この方向にも磁気記録媒体用のベースフイルムとして十
分な強度を有することになり、両方向の変形強度が高く
保たれる。そして、|A−B|を200kg/mm2 未
満として両方向弾性率のバランスをとることにより、仮
に変形が生じたとしても両方向にバランスのとれた変
形、つまり特定方向にのみ歪むような変形は防止され
る。この両弾性率を比較的高く保つこと、および、両弾
性率のバランスをとること、により、磁気記録体(磁気
テープ)のトラッキングずれが極めて小さく抑えられ
る。
【0015】幅方向の弾性率Bとの差|A−B|を20
0kg/mm2 未満として両弾性率A、Bをバランスよ
く比較的高い値に保つことにより、ベースフイルム、ひ
いては磁気テープが、幅方向にも十分に高いスティフネ
スをもつようになるので、ヘッドとテープとの接触の均
一性を確保でき、出力の劣化や出力変動の増大も防止で
きる。つまり、ヘッドタッチが良好で極めて優れた電磁
変換特性を達成できる。また、狭幅のテープやフイルム
であっても、十分に高い耐切断強度をもつことができ
る。
0kg/mm2 未満として両弾性率A、Bをバランスよ
く比較的高い値に保つことにより、ベースフイルム、ひ
いては磁気テープが、幅方向にも十分に高いスティフネ
スをもつようになるので、ヘッドとテープとの接触の均
一性を確保でき、出力の劣化や出力変動の増大も防止で
きる。つまり、ヘッドタッチが良好で極めて優れた電磁
変換特性を達成できる。また、狭幅のテープやフイルム
であっても、十分に高い耐切断強度をもつことができ
る。
【0016】また、本発明フイルムにおいては、少なく
とも片面の表面粗さ(Ra)が0.1〜5nmとされ、
好ましくは0.1〜3nm、より好ましくは0.1〜2
nmとされる。このように0.1〜5nmと超平滑な表
面に形成されることにより、高いレベルの電磁変換特性
が達成でき、しかも良好なハンドリング性も確保でき
る。Raが5nmを超えると、高速走行の要求を十分に
満足させられなくなるおそれが生じ、また、高速走行に
おける磨耗粉が増大するおそれがある。0.1nm未満
では、表面突起が殆どなく鏡面に近くなるので、フイル
ムとガイドローラ等の接触物との間の摩擦係数が大きく
なりすぎるおそれがある。
とも片面の表面粗さ(Ra)が0.1〜5nmとされ、
好ましくは0.1〜3nm、より好ましくは0.1〜2
nmとされる。このように0.1〜5nmと超平滑な表
面に形成されることにより、高いレベルの電磁変換特性
が達成でき、しかも良好なハンドリング性も確保でき
る。Raが5nmを超えると、高速走行の要求を十分に
満足させられなくなるおそれが生じ、また、高速走行に
おける磨耗粉が増大するおそれがある。0.1nm未満
では、表面突起が殆どなく鏡面に近くなるので、フイル
ムとガイドローラ等の接触物との間の摩擦係数が大きく
なりすぎるおそれがある。
【0017】上記のような表面粗さ(Ra)は、フイル
ム中に、とくに表面層中に、非常に高度に分散された
(平均凝集度が2未満の)、好ましくは平均粒径が5〜
500nm、より好ましくは10〜300nmの不活性
超微粒子を、好ましくは0.005〜2重量%、より好
ましくは0.03〜1.5重量%、さらに好ましくは
0.1〜1.0重量%含有させることにより達成可能で
ある。
ム中に、とくに表面層中に、非常に高度に分散された
(平均凝集度が2未満の)、好ましくは平均粒径が5〜
500nm、より好ましくは10〜300nmの不活性
超微粒子を、好ましくは0.005〜2重量%、より好
ましくは0.03〜1.5重量%、さらに好ましくは
0.1〜1.0重量%含有させることにより達成可能で
ある。
【0018】含有される不活性超微粒子の種類として
は、特に限定されず、炭酸カルシウム、α型、γ型、δ
型、θ型アルミナ、ジルコニア、シリカ、チタン粒子等
の無機粒子、あるいは、架橋ポリスチレン、ジビニルベ
ンゼン、シリコーン粒子等の有機粒子から選ぶことがで
きる。なお、この不活性超微粒子の他に、酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。
は、特に限定されず、炭酸カルシウム、α型、γ型、δ
型、θ型アルミナ、ジルコニア、シリカ、チタン粒子等
の無機粒子、あるいは、架橋ポリスチレン、ジビニルベ
ンゼン、シリコーン粒子等の有機粒子から選ぶことがで
きる。なお、この不活性超微粒子の他に、酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。
【0019】本発明フイルムは、単層のフイルムとして
も構成できるが、全厚みを所定範囲内に納め、各方向の
弾性率を特定範囲内に納め、かつ、少なくとも片面の表
面粗さ(Ra)を前記のような範囲内に効率よく納める
ためには、2層あるいは3層、さらにはそれ以上の積層
構成とすることが好ましい。積層構成とすることによ
り、たとえば表面粗さ(Ra)を、主として表面層のみ
で効率よく前述のような範囲内にコントロールできるよ
うになる。積層の方法は特に限定されず、2台以上の押
出機を用いてポリマー管やポリマーをシート上に吐出す
る口金で積層する共押出による方法が好ましいが、製膜
中や製膜後にコーティングする方法も適用可能である。
も構成できるが、全厚みを所定範囲内に納め、各方向の
弾性率を特定範囲内に納め、かつ、少なくとも片面の表
面粗さ(Ra)を前記のような範囲内に効率よく納める
ためには、2層あるいは3層、さらにはそれ以上の積層
構成とすることが好ましい。積層構成とすることによ
り、たとえば表面粗さ(Ra)を、主として表面層のみ
で効率よく前述のような範囲内にコントロールできるよ
うになる。積層の方法は特に限定されず、2台以上の押
出機を用いてポリマー管やポリマーをシート上に吐出す
る口金で積層する共押出による方法が好ましいが、製膜
中や製膜後にコーティングする方法も適用可能である。
【0020】積層構成としても特に限定されず、たとえ
ば、A層とB層を有する少なくとも2層構造からなり、
A層厚みが0.03〜2μmである二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムに構成できる。また、両外層
に同一組成のポリマ層を有する少なくとも3層構造から
なり、最外層を構成する層の少なくとも1層の厚みが
0.03〜2μmである二軸配向ポリエチレンテレフタ
レートフイルムとしてもよい。さらに、A層/B層/C
層の少なくとも3層構造からなり、A層厚みが0.03
〜2μm、C層厚みが0.01〜0.5μmである二軸
配向ポリエチレンテレフタレートフイルムとしてもよ
い。中でも、最外層を構成する層の少なくとも1層の厚
みtと該層に含有される粒子の平均粒径dとの比d/t
が、好ましくは0.1〜10、より好ましくは0.1〜
7の範囲にあるのがRaを本発明範囲内に納める上で望
ましい。
ば、A層とB層を有する少なくとも2層構造からなり、
A層厚みが0.03〜2μmである二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムに構成できる。また、両外層
に同一組成のポリマ層を有する少なくとも3層構造から
なり、最外層を構成する層の少なくとも1層の厚みが
0.03〜2μmである二軸配向ポリエチレンテレフタ
レートフイルムとしてもよい。さらに、A層/B層/C
層の少なくとも3層構造からなり、A層厚みが0.03
〜2μm、C層厚みが0.01〜0.5μmである二軸
配向ポリエチレンテレフタレートフイルムとしてもよ
い。中でも、最外層を構成する層の少なくとも1層の厚
みtと該層に含有される粒子の平均粒径dとの比d/t
が、好ましくは0.1〜10、より好ましくは0.1〜
7の範囲にあるのがRaを本発明範囲内に納める上で望
ましい。
【0021】さらに、本発明フイルムの長手方向(M
D)の熱収縮SMDと幅方向(TD)の熱収縮STDとの比
SMD/STDは、0.8以上1.2以下、より好ましくは
0.9以上1.1以下の範囲であることが望ましい。こ
のように、熱収縮(量)についても両方向にバランスさ
せることにより、温度変化に対する磁気テープの変形や
歪みについても最小限に抑えることができ、トラッキン
グずれを一層効果的に防止できる。
D)の熱収縮SMDと幅方向(TD)の熱収縮STDとの比
SMD/STDは、0.8以上1.2以下、より好ましくは
0.9以上1.1以下の範囲であることが望ましい。こ
のように、熱収縮(量)についても両方向にバランスさ
せることにより、温度変化に対する磁気テープの変形や
歪みについても最小限に抑えることができ、トラッキン
グずれを一層効果的に防止できる。
【0022】次に本発明フイルムの製造方法について説
明するが、これに限定されるものではない。まず、PE
Tを主要構成成分とする所定のポリエステルに粒子を含
有せしめる方法としては、例えばジオール成分であるエ
チレングリコールにスラリーの形で分散せしめ、このエ
チレングリコールを所定のジカルボン酸成分と重合せし
める方法が好ましい。粒子を添加する際には、例えば、
粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦
乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が非常によ
く、所望の微細表面突起を均一に形成することができ
る。また粒子の水スラリーを直接所定のポリエステルペ
レットと混合し、ベント方式の2軸混練押出機に供給し
ポリエステルに練り込む方法も本発明の効果をより一層
良好とするのに非常に有効である。粒子の含有量を調節
する方法としては、上記方法で高濃度の粒子マスターを
作っておき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しない
ポリエステルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が
有効である。
明するが、これに限定されるものではない。まず、PE
Tを主要構成成分とする所定のポリエステルに粒子を含
有せしめる方法としては、例えばジオール成分であるエ
チレングリコールにスラリーの形で分散せしめ、このエ
チレングリコールを所定のジカルボン酸成分と重合せし
める方法が好ましい。粒子を添加する際には、例えば、
粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦
乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が非常によ
く、所望の微細表面突起を均一に形成することができ
る。また粒子の水スラリーを直接所定のポリエステルペ
レットと混合し、ベント方式の2軸混練押出機に供給し
ポリエステルに練り込む方法も本発明の効果をより一層
良好とするのに非常に有効である。粒子の含有量を調節
する方法としては、上記方法で高濃度の粒子マスターを
作っておき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しない
ポリエステルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が
有効である。
【0023】上記の方法にて得られたポリエステルのペ
レットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶
融押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押
出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延
伸フイルムを作る。積層フイルムとする場合には、2台
以上の押出機、2層以上のマニホールドまたは合流ブロ
ック(例えば角型合流部を有する合流ブロック)を用い
て積層し、口金から2層以上のシートを押し出し、キャ
スティングロールで冷却して積層未延伸フイルムを作
る。この場合、ポリマ流路にスタティックミキサー、ギ
ヤポンプを設置する方法は有効である。また、最表層積
層部側のポリマーを押出す押出機の溶融温度を基層部側
より5〜10℃低くすることが有効である。
レットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶
融押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押
出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延
伸フイルムを作る。積層フイルムとする場合には、2台
以上の押出機、2層以上のマニホールドまたは合流ブロ
ック(例えば角型合流部を有する合流ブロック)を用い
て積層し、口金から2層以上のシートを押し出し、キャ
スティングロールで冷却して積層未延伸フイルムを作
る。この場合、ポリマ流路にスタティックミキサー、ギ
ヤポンプを設置する方法は有効である。また、最表層積
層部側のポリマーを押出す押出機の溶融温度を基層部側
より5〜10℃低くすることが有効である。
【0024】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を3段階以上に分けて、縦延
伸温度80〜150℃、総縦延伸倍率3.0〜5.5
倍、縦延伸速度5,000〜50,000%/分の範囲
で行うのが好ましい。幅方向の延伸方法としてはテンタ
ーを用いる方法が好ましく、延伸温度80〜160℃、
幅方向延伸倍率は縦倍率より大きく3.5〜6.5倍、
幅方向の延伸速度500〜20,000%/分の範囲が
好ましい。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を3段階以上に分けて、縦延
伸温度80〜150℃、総縦延伸倍率3.0〜5.5
倍、縦延伸速度5,000〜50,000%/分の範囲
で行うのが好ましい。幅方向の延伸方法としてはテンタ
ーを用いる方法が好ましく、延伸温度80〜160℃、
幅方向延伸倍率は縦倍率より大きく3.5〜6.5倍、
幅方向の延伸速度500〜20,000%/分の範囲が
好ましい。
【0025】長手方向(MD)と幅方向(TD)のヤン
グ率を本発明において有効な値の範囲に設定する手段と
しては、例えば長手方向に延伸温度80〜150℃、好
ましくは80〜120℃、縦延伸倍率3.5〜5.5
倍、好ましくは3.6〜5.0倍で延伸を行い、次いで
延伸温度80〜160℃、好ましくは80〜120℃、
延伸倍率3.5〜6.0倍、好ましくは4.0〜5.5
倍で幅方向に延伸を行い、100〜200℃で熱処理を
行う。さらに延伸温度100〜230℃、好ましくは1
50〜220℃、延伸倍率1.01〜1.5倍で幅方向
に延伸する。次にこの延伸フイルムを熱処理する。この
場合の熱処理温度は170〜220℃、特に170〜2
10℃で時間は0.5〜60秒の範囲が好適である。
グ率を本発明において有効な値の範囲に設定する手段と
しては、例えば長手方向に延伸温度80〜150℃、好
ましくは80〜120℃、縦延伸倍率3.5〜5.5
倍、好ましくは3.6〜5.0倍で延伸を行い、次いで
延伸温度80〜160℃、好ましくは80〜120℃、
延伸倍率3.5〜6.0倍、好ましくは4.0〜5.5
倍で幅方向に延伸を行い、100〜200℃で熱処理を
行う。さらに延伸温度100〜230℃、好ましくは1
50〜220℃、延伸倍率1.01〜1.5倍で幅方向
に延伸する。次にこの延伸フイルムを熱処理する。この
場合の熱処理温度は170〜220℃、特に170〜2
10℃で時間は0.5〜60秒の範囲が好適である。
【0026】[物性の測定方法ならびに効果の評価方
法]本発明の特性値の測定方法ならびに効果の評価方法
は次の通りである。 (1)粒子の平均粒径 フイルム断面を透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、1
0万倍以上の倍率で観察する。TEMの切片厚さは約1
00nmとし、場所を変えて100視野以上測定する。
粒子の平均径は重量平均径から求める。また凝集粒子の
一次粒径は、凝集粒子の分割できない粒子最小単位につ
いての数平均径、凝集二次粒径は凝集体についての数平
均径である(それぞれ等価円相当径)。
法]本発明の特性値の測定方法ならびに効果の評価方法
は次の通りである。 (1)粒子の平均粒径 フイルム断面を透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、1
0万倍以上の倍率で観察する。TEMの切片厚さは約1
00nmとし、場所を変えて100視野以上測定する。
粒子の平均径は重量平均径から求める。また凝集粒子の
一次粒径は、凝集粒子の分割できない粒子最小単位につ
いての数平均径、凝集二次粒径は凝集体についての数平
均径である(それぞれ等価円相当径)。
【0027】(2)粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
【0028】(3)フイルム積層厚み 2次イオン質量分析装置(SIMS)を用いて、表層か
ら深さ5000nmの範囲のフイルム中の粒子のうち最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリマの炭素元素の濃
度比(M+ /C+ )を粒子濃度とし、表層から深さ50
00nmまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの場合は、一旦
極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度
分布曲線をもとに表層粒子濃度が最大値の1/2となる
深さ(この深さは極大となる深さよりも深い)を求め、
これを積層厚さとした。条件は次の通り。 測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 測定条件 1次イオン種 : O2 + 1次イオン加速電圧 : 1.2kV 1次イオン電流 : 200nA ラスター領域 : 400μm 分析領域 : ゲート30% 測定真空度 : 6.0×10-9Torr E−GUN : 0.5kV−3.0A なお、表層から深さ5000nmの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子の場合は、SIMSでは測定が難
しいので、表面からエッチングしながらXPS(X線光
電子分光法)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデ
プスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、
また電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態
やポリマの違いによるコントラストの差から界面を認識
し積層厚さを求めることもできる。さらには積層ポリマ
剥離後、薄膜段差測定機を用いて求めることもできる。
ら深さ5000nmの範囲のフイルム中の粒子のうち最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリマの炭素元素の濃
度比(M+ /C+ )を粒子濃度とし、表層から深さ50
00nmまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの場合は、一旦
極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度
分布曲線をもとに表層粒子濃度が最大値の1/2となる
深さ(この深さは極大となる深さよりも深い)を求め、
これを積層厚さとした。条件は次の通り。 測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 測定条件 1次イオン種 : O2 + 1次イオン加速電圧 : 1.2kV 1次イオン電流 : 200nA ラスター領域 : 400μm 分析領域 : ゲート30% 測定真空度 : 6.0×10-9Torr E−GUN : 0.5kV−3.0A なお、表層から深さ5000nmの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子の場合は、SIMSでは測定が難
しいので、表面からエッチングしながらXPS(X線光
電子分光法)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデ
プスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、
また電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態
やポリマの違いによるコントラストの差から界面を認識
し積層厚さを求めることもできる。さらには積層ポリマ
剥離後、薄膜段差測定機を用いて求めることもできる。
【0029】(4)ヤング率 JIS−Z−1702に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25
℃、65%RHにて測定した。
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25
℃、65%RHにて測定した。
【0030】(5)表面粗さRa(中心線平均表面粗
さ) 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、20回の測定
の平均値をもって値とした。 ・触針先端半径 : 0.5μm ・触針荷重 : 5mg ・測定長 : 1mm ・カットオフ値 : 0.08mmもしくは0.008
mm なお、Raの定義は例えば、奈良治郎著「表面粗さの測
定・評価法」(総合技術センター、1983)に示され
ているものである。
さ) 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、20回の測定
の平均値をもって値とした。 ・触針先端半径 : 0.5μm ・触針荷重 : 5mg ・測定長 : 1mm ・カットオフ値 : 0.08mmもしくは0.008
mm なお、Raの定義は例えば、奈良治郎著「表面粗さの測
定・評価法」(総合技術センター、1983)に示され
ているものである。
【0031】(6)工程でのフイルム切断発生率 小型のテストスリッター(切断方式:シェアーカッタ
ー)で200mm幅のフイルム原反を1/4インチ幅に
裁断する際に、切断トラブルの発生回数を記録し、裁断
長さ10万mについての発生回数をフイルム切断発生率
と定義し、この値が0.1未満のものを優(○)、0.
1以上1未満のものを良(△)、1以上のものを不良
(×)とした。優および良が実用可能範囲である。
ー)で200mm幅のフイルム原反を1/4インチ幅に
裁断する際に、切断トラブルの発生回数を記録し、裁断
長さ10万mについての発生回数をフイルム切断発生率
と定義し、この値が0.1未満のものを優(○)、0.
1以上1未満のものを良(△)、1以上のものを不良
(×)とした。優および良が実用可能範囲である。
【0032】(7)出力特性(C/N)(電磁変換特
性) 本発明のフイルムの表面に、下記組成の磁性塗料および
非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗
布(上層は磁性塗料で塗布厚0.1μm、非磁性下層の
厚みは適宜変化させた)し、磁気配向させ、乾燥させ
る。次いで反対面に下記組成のバックコート層を公知の
手段で形成させた後、小型テストカレンダー装置(スチ
ール/スチールロール、5段)で、温度:85℃、線
圧:200kg/cmでカレンダー処理した後、60
℃、48時間キュアリングする。上記テープ原反を8m
m幅にスリットし、パンケーキを作成した。次いで、こ
のパンケーキから長さ200m分を、カセットに組み込
みカセットテープとした。このテープに、市販のHi8
用VTR(SONY社製 EV−BS3000)を用い
て、7MHz+1MHzのC/Nの測定を行った。
性) 本発明のフイルムの表面に、下記組成の磁性塗料および
非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗
布(上層は磁性塗料で塗布厚0.1μm、非磁性下層の
厚みは適宜変化させた)し、磁気配向させ、乾燥させ
る。次いで反対面に下記組成のバックコート層を公知の
手段で形成させた後、小型テストカレンダー装置(スチ
ール/スチールロール、5段)で、温度:85℃、線
圧:200kg/cmでカレンダー処理した後、60
℃、48時間キュアリングする。上記テープ原反を8m
m幅にスリットし、パンケーキを作成した。次いで、こ
のパンケーキから長さ200m分を、カセットに組み込
みカセットテープとした。このテープに、市販のHi8
用VTR(SONY社製 EV−BS3000)を用い
て、7MHz+1MHzのC/Nの測定を行った。
【0033】 (磁性塗料の組成) ・強磁性金属粉末 : 100重量部 ・スルホン酸Na変成塩化ビニル共重合体 : 10重量部 ・スルホン酸Na変成ポリウレタン : 10重量部 ・ポリイソシアネート : 5重量部 ・ステアリン酸 : 1.5重量部 ・オレイン酸 : 1重量部 ・カーボンブラック : 1重量部 ・アルミナ : 10重量部 ・メチルエチルケトン : 75重量部 ・シクロヘキサノン : 75重量部 ・トルエン : 75重量部
【0034】 (非磁性下層塗料の組成) ・酸化チタン : 100重量部 ・カーボンブラック : 10重量部 ・スルホン酸Na変成塩化ビニル共重合体 : 10重量部 ・スルホン酸Na変成ポリウレタン : 10重量部 ・メチルエチルケトン : 30重量部 ・メチルイソブチルケトン : 30重量部 ・トルエン : 30重量部
【0035】 (バックコートの組成) ・カーボンブラック(平均粒径20nm) : 95重量部 ・カーボンブラック(平均粒径280nm): 5重量部 ・αアルミナ : 0.1重量部 ・酸化亜鉛 : 0.3重量部 ・スルホン酸Na変成ポリウレタン : 20重量部 ・スルホン酸Na変成塩化ビニル共重合体 : 30重量部 ・シクロヘキサノン : 200重量部 ・メチルエチルケトン : 300重量部 ・トルエン : 100重量部
【0036】(8)デッキ内部での切断発生率 上記のように作成されたHi8カセットテープをVTR
にかけ、ローディング→早送り→巻き戻し→イジェクト
のプロセスをカセット1巻につき最大100回繰り返す
(テープが切断トラブルを起こしたらそこで中止)。こ
のテストを一つのフイルムの水準につき100巻以上行
い、切断トラブルを起こしたカセットの巻数のテストし
た全カセットの巻数に対する百分率を切断発生率と定義
した。
にかけ、ローディング→早送り→巻き戻し→イジェクト
のプロセスをカセット1巻につき最大100回繰り返す
(テープが切断トラブルを起こしたらそこで中止)。こ
のテストを一つのフイルムの水準につき100巻以上行
い、切断トラブルを起こしたカセットの巻数のテストし
た全カセットの巻数に対する百分率を切断発生率と定義
した。
【0037】(9)熱収縮の比(熱収縮バランス) 70℃、20%RH、7時間におけるフイルムの長手方
向(MD)の熱収縮SMDと幅方向(TD)の熱収縮STD
との大きさの比SMD/STDを用い、この値が0.8以上
1.2以下のものは良好(○)、前記範囲外のものを不
良(×)とした(トラッキングずれの良、不良に対応し
ている)。
向(MD)の熱収縮SMDと幅方向(TD)の熱収縮STD
との大きさの比SMD/STDを用い、この値が0.8以上
1.2以下のものは良好(○)、前記範囲外のものを不
良(×)とした(トラッキングずれの良、不良に対応し
ている)。
【0038】
【実施例】以下、実施例に基づいて説明する。まず、以
下の方法により、所定の粒子を含有するPET原料を作
成した。 原料1〜5 所定の平均粒径を有する、コロイダルシリカに起因する
シリカ粒子、または炭酸カルシウム粒子を所定量含有す
る(もしくは含有しない)エチレングリコールスラリー
を調製し、テレフタル酸ジメチルと交換反応させ、重縮
合を行った(重合触媒:酢酸マグネシウム0.10重量
%、三酸化アンチモン0.03重量%、リン酸トリメチ
ル0.026重量%)。粒子処方をそれぞれ変更するこ
とにより以下のように作成した。 原料1:無粒子(固有粘度:0.65) 原料2:平均粒径0.2μmのシリカ粒子を0.25%
含有するもの 原料3:平均粒径0.04μmのシリカ粒子を0.9%
含有するもの 原料4:平均粒径0.3μmのシリカ粒子を3.5%含
有するもの 原料5:平均粒径0.45μmの炭酸カルシウム粒子を
1.0%含有するもの
下の方法により、所定の粒子を含有するPET原料を作
成した。 原料1〜5 所定の平均粒径を有する、コロイダルシリカに起因する
シリカ粒子、または炭酸カルシウム粒子を所定量含有す
る(もしくは含有しない)エチレングリコールスラリー
を調製し、テレフタル酸ジメチルと交換反応させ、重縮
合を行った(重合触媒:酢酸マグネシウム0.10重量
%、三酸化アンチモン0.03重量%、リン酸トリメチ
ル0.026重量%)。粒子処方をそれぞれ変更するこ
とにより以下のように作成した。 原料1:無粒子(固有粘度:0.65) 原料2:平均粒径0.2μmのシリカ粒子を0.25%
含有するもの 原料3:平均粒径0.04μmのシリカ粒子を0.9%
含有するもの 原料4:平均粒径0.3μmのシリカ粒子を3.5%含
有するもの 原料5:平均粒径0.45μmの炭酸カルシウム粒子を
1.0%含有するもの
【0039】原料6 原料1の無粒子PETのペレットに、粒子中の組成がジ
ビニルベンゼン81%である平均粒径0.1μmのジビ
ニルベンゼン粒子を1%含有する水スラリーを添加し、
水分をベントで系外に押し出しながら該粒子を練り込
み、粒子含有ペレットを作成した。
ビニルベンゼン81%である平均粒径0.1μmのジビ
ニルベンゼン粒子を1%含有する水スラリーを添加し、
水分をベントで系外に押し出しながら該粒子を練り込
み、粒子含有ペレットを作成した。
【0040】原料7 原料1の無粒子PETを200℃で15時間、真空下で
固相重合することにより、固有粘度を0.78にまで高
めたペレットを作成した。
固相重合することにより、固有粘度を0.78にまで高
めたペレットを作成した。
【0041】原料8 重合触媒を二酸化ゲルマニウム0.015重量%および
リン酸トリメチル0.013重量%として、原料1と同
様にして無粒子PETを作成した(固有粘度:0.6
5)。
リン酸トリメチル0.013重量%として、原料1と同
様にして無粒子PETを作成した(固有粘度:0.6
5)。
【0042】原料9 常法により得られたポリエチレン−2,6−ナフタレン
ジカルボキシレート(PEN)のペレットに、粒子中の
組成がジビニルベンゼン81%である平均粒径0.1μ
mにジビニルベンゼン粒子を0.7%含有する水スラリ
ーを添加し、水分をベントで系外に押し出しながら該粒
子を練り込み、粒子含有ペレットを作成した。
ジカルボキシレート(PEN)のペレットに、粒子中の
組成がジビニルベンゼン81%である平均粒径0.1μ
mにジビニルベンゼン粒子を0.7%含有する水スラリ
ーを添加し、水分をベントで系外に押し出しながら該粒
子を練り込み、粒子含有ペレットを作成した。
【0043】実施例1(単層) 原料2を180℃で6時間減圧乾燥(3Torr)した
後、公知の押出機に供給し、280℃で溶融し、静電印
加キャスト法を用いて表面温度25℃の表面平坦なキャ
スティングドラムに巻き付けて冷却、固化し、未延伸フ
イルムを作成した。フイルムの厚みは、押出機もしくは
ポリマ流路内に設けられたギアポンプの回転数を制御す
ることによって調整した。
後、公知の押出機に供給し、280℃で溶融し、静電印
加キャスト法を用いて表面温度25℃の表面平坦なキャ
スティングドラムに巻き付けて冷却、固化し、未延伸フ
イルムを作成した。フイルムの厚みは、押出機もしくは
ポリマ流路内に設けられたギアポンプの回転数を制御す
ることによって調整した。
【0044】この未延伸フイルムを延伸温度95℃にて
長手方向に3.8倍延伸した。延伸は2組ずつのロール
の周速差で、4段階で行った。得られた一軸延伸フイル
ムをステンタAを用いて、延伸速度2000%/分で9
5℃で幅方向に4.2倍延伸し、さらに210℃で5秒
間熱固定処理を行い、厚さ6μmの二軸配向フイルムを
得た。
長手方向に3.8倍延伸した。延伸は2組ずつのロール
の周速差で、4段階で行った。得られた一軸延伸フイル
ムをステンタAを用いて、延伸速度2000%/分で9
5℃で幅方向に4.2倍延伸し、さらに210℃で5秒
間熱固定処理を行い、厚さ6μmの二軸配向フイルムを
得た。
【0045】実施例2(A層/B層) 原料1/原料4を1:1の重量比で混合したペレット
(A層)および、原料1/原料3を1:1の重量比で混
合したペレット(B層)を2台の押出機にそれぞれ供給
し、280℃で溶融した。これらの2種類のポリマを合
流ブロック(フィードブロック)を用いて合流積層し、
実施例1と同様に冷却固化して、積層未延伸フイルムを
作成した。各層の厚みは、押出機もしくはポリマ流路内
に設けられたギアポンプの回転数を制御することによっ
て調整した。この未延伸フイルムに実施例1と同様に延
伸プロセスを施すことにより、総厚5.8μm、A層厚
み0.2μmの二軸配向積層フイルムを得た。
(A層)および、原料1/原料3を1:1の重量比で混
合したペレット(B層)を2台の押出機にそれぞれ供給
し、280℃で溶融した。これらの2種類のポリマを合
流ブロック(フィードブロック)を用いて合流積層し、
実施例1と同様に冷却固化して、積層未延伸フイルムを
作成した。各層の厚みは、押出機もしくはポリマ流路内
に設けられたギアポンプの回転数を制御することによっ
て調整した。この未延伸フイルムに実施例1と同様に延
伸プロセスを施すことにより、総厚5.8μm、A層厚
み0.2μmの二軸配向積層フイルムを得た。
【0046】実施例3(A層/B層/C層) 原料1/原料6を1:2の重量比で混合したペレット
(A層)および、原料1のみ(B層)、および原料3の
み(C層)を3台の押出機にそれぞれ供給し、280℃
で溶融した。これら3種類のポリマを合流ブロック(フ
ィードブロック)を用いて合流積層し、実施例1と同様
に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作成した。各層
の厚みは、押出機もしくはポリマ流路内に設けられたギ
アポンプの回転数を制御することによって調整した。こ
の未延伸フイルムに実施例1と同様に延伸プロセスを施
すことにより、総厚5.5μm、A層厚み1μm、C層
厚み0.03μmの二軸配向積層フイルムを得た。
(A層)および、原料1のみ(B層)、および原料3の
み(C層)を3台の押出機にそれぞれ供給し、280℃
で溶融した。これら3種類のポリマを合流ブロック(フ
ィードブロック)を用いて合流積層し、実施例1と同様
に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作成した。各層
の厚みは、押出機もしくはポリマ流路内に設けられたギ
アポンプの回転数を制御することによって調整した。こ
の未延伸フイルムに実施例1と同様に延伸プロセスを施
すことにより、総厚5.5μm、A層厚み1μm、C層
厚み0.03μmの二軸配向積層フイルムを得た。
【0047】実施例4(A層/B層/C層) 実施例3において、B層原料として原料7を用いたこと
以外は、実施例3と同様のプロセスで二軸配向積層フイ
ルムを得た。ただし、磁性層をA面側に設けた。
以外は、実施例3と同様のプロセスで二軸配向積層フイ
ルムを得た。ただし、磁性層をA面側に設けた。
【0048】実施例5(A層/B層/C層) 実施例3において、B層原料として原料8を用いたこと
以外は、実施例3と同様のプロセスで二軸配向積層フイ
ルムを得た。C/Nが特に良好な結果となった。
以外は、実施例3と同様のプロセスで二軸配向積層フイ
ルムを得た。C/Nが特に良好な結果となった。
【0049】実施例6(A層/B層/C層) 実施例4において、C層原料として原料4のみを用いる
こと以外は、実施例4と同様のプロセスで二軸配向積層
フイルムを得た。
こと以外は、実施例4と同様のプロセスで二軸配向積層
フイルムを得た。
【0050】実施例7(A層/B層/C層) 実施例6において、A層原料として原料5のみを用いる
こと以外は、実施例6と同様のプロセスで二軸配向積層
フイルムを得た。
こと以外は、実施例6と同様のプロセスで二軸配向積層
フイルムを得た。
【0051】実施例8(A層/B層/C層) 原料1/原料6を1:1の重量比で混合したペレット
(A層)および原料1のみ(B層)を用いて実施例2と
同様のプロセスにてA層/B層の2層積層未延伸フイル
ムを得た。この未延伸フイルムを延伸温度100℃で長
手方向に4.0倍延伸した後、B層側の表面に、公知の
方法により下記処方からなるコーティング層を設けた。
テレフタル酸/スルホイソフタル酸/エチレングリコー
ル/ジエチレングリコール(モル比:85/15/95
/5)からなる水溶性ポリエステルの溶液中に、平均粒
径45nmのコロイダルシリカ2重量%分散液を、5重
量%添加したものを用いた。なお、塗布量はウェットの
状態で約1.6g/m2 とした。
(A層)および原料1のみ(B層)を用いて実施例2と
同様のプロセスにてA層/B層の2層積層未延伸フイル
ムを得た。この未延伸フイルムを延伸温度100℃で長
手方向に4.0倍延伸した後、B層側の表面に、公知の
方法により下記処方からなるコーティング層を設けた。
テレフタル酸/スルホイソフタル酸/エチレングリコー
ル/ジエチレングリコール(モル比:85/15/95
/5)からなる水溶性ポリエステルの溶液中に、平均粒
径45nmのコロイダルシリカ2重量%分散液を、5重
量%添加したものを用いた。なお、塗布量はウェットの
状態で約1.6g/m2 とした。
【0052】この後、得られた一軸延伸フイルムをステ
ンタAを用いて、延伸速度2000%/分で100℃で
幅方向に4.2倍延伸し、さらに215℃で5秒間熱固
定処理を行い、厚さ5.5μmの積層二軸配向フイルム
を得た。
ンタAを用いて、延伸速度2000%/分で100℃で
幅方向に4.2倍延伸し、さらに215℃で5秒間熱固
定処理を行い、厚さ5.5μmの積層二軸配向フイルム
を得た。
【0053】実施例9(A層/B層/A層) 原料1/原料6を1:2の重量比で混合したペレット
(A層)および、原料1のみ(B層)を2台の押出機に
それぞれ供給し、280℃で溶融した。これら2種類の
ポリマを3層(A層/B層/A層)用の合流ブロック
(フィードブロック)を用いて合流積層し、実施例1と
同様に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作成した。
以下実施例8と同様のプロセスにて、総厚さ6.1μ
m、両面側のA層厚さがそれぞれ0.5μmの積層二軸
配向フイルムを得た。
(A層)および、原料1のみ(B層)を2台の押出機に
それぞれ供給し、280℃で溶融した。これら2種類の
ポリマを3層(A層/B層/A層)用の合流ブロック
(フィードブロック)を用いて合流積層し、実施例1と
同様に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作成した。
以下実施例8と同様のプロセスにて、総厚さ6.1μ
m、両面側のA層厚さがそれぞれ0.5μmの積層二軸
配向フイルムを得た。
【0054】実施例10(A層/B層/A′層) 実施例9において、表裏のA層の積層厚みを、それぞれ
のポリマの供給量をコントロールすることによって変更
すること以外は、実施例9と同様のプロセスで、総厚さ
5.8μm、A層厚さが1.1μm、A′層厚さが0.
2μmの積層二軸配向フイルムを得た。
のポリマの供給量をコントロールすることによって変更
すること以外は、実施例9と同様のプロセスで、総厚さ
5.8μm、A層厚さが1.1μm、A′層厚さが0.
2μmの積層二軸配向フイルムを得た。
【0055】比較例1 原料9を180℃で6時間減圧乾燥(3Torr)した
後、公知の押出機に供給し、295℃で溶融し、静電印
加キャスト法を用いて表面温度25℃の表面平坦なキャ
スティングドラムに巻き付けて冷却、固化し、未延伸フ
イルムを作成した。フイルムの厚みは、押出機もしくは
ポリマ流路内に設けられたギアポンプの回転数を制御す
ることによって調整した。
後、公知の押出機に供給し、295℃で溶融し、静電印
加キャスト法を用いて表面温度25℃の表面平坦なキャ
スティングドラムに巻き付けて冷却、固化し、未延伸フ
イルムを作成した。フイルムの厚みは、押出機もしくは
ポリマ流路内に設けられたギアポンプの回転数を制御す
ることによって調整した。
【0056】この未延伸フイルムを延伸温度135℃に
て長手方向に4.6倍延伸した。延伸は2組ずつのロー
ル周速差で、4段階で行った。得られた一軸延伸フイル
ムをステンタAを用いて、延伸速度2500%/分で1
30℃で幅方向に5.6倍延伸し、さらに、引き続きス
テンタBを用いて、延伸速度700%/分で160℃で
幅方向に、1.4倍再延伸し、さらに220℃で5秒間
熱固定処理を行い、厚さ5μmの二軸配向フイルムを得
た。
て長手方向に4.6倍延伸した。延伸は2組ずつのロー
ル周速差で、4段階で行った。得られた一軸延伸フイル
ムをステンタAを用いて、延伸速度2500%/分で1
30℃で幅方向に5.6倍延伸し、さらに、引き続きス
テンタBを用いて、延伸速度700%/分で160℃で
幅方向に、1.4倍再延伸し、さらに220℃で5秒間
熱固定処理を行い、厚さ5μmの二軸配向フイルムを得
た。
【0057】比較例2 実施例1において、原料5のみを用いて、単層未延伸フ
イルムを作成した。この未延伸フイルムを延伸温度95
℃にて長手方向に3.2倍延伸した。延伸は2組ずつの
ロールの周速差で、4段階で行った。得られた一軸延伸
フイルムをステンタを用いて、延伸速度2000%/分
で95℃で幅方向に3.4倍延伸し、引き続き再度長手
方向に、延伸温度140℃で1.35倍延伸し、さらに
210℃で5秒間熱固定処理を行い、厚さ6μmの二軸
配向フイルムを得た。
イルムを作成した。この未延伸フイルムを延伸温度95
℃にて長手方向に3.2倍延伸した。延伸は2組ずつの
ロールの周速差で、4段階で行った。得られた一軸延伸
フイルムをステンタを用いて、延伸速度2000%/分
で95℃で幅方向に3.4倍延伸し、引き続き再度長手
方向に、延伸温度140℃で1.35倍延伸し、さらに
210℃で5秒間熱固定処理を行い、厚さ6μmの二軸
配向フイルムを得た。
【0058】上記実施例1〜10、比較例1、2におけ
るフイルム製造条件およびフイルムの各特性の測定、評
価結果を以下の表1〜表3に示す。
るフイルム製造条件およびフイルムの各特性の測定、評
価結果を以下の表1〜表3に示す。
【0059】
【表1】
【0060】
【表2】
【0061】
【表3】
【0062】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のデジタル
ビデオ用のベースフイルムと用いられる二軸配向ポリエ
チレンテレフタレートフイルムによるときは、磁性層等
の塗布、乾燥工程、裁断工程等の磁気テープ製造工程に
おけるフイルム切断を防止し、高速でも安定した製造を
行うことができる。また、VTR内においても、高速走
行に対しテープ切断を防止することができる。
ビデオ用のベースフイルムと用いられる二軸配向ポリエ
チレンテレフタレートフイルムによるときは、磁性層等
の塗布、乾燥工程、裁断工程等の磁気テープ製造工程に
おけるフイルム切断を防止し、高速でも安定した製造を
行うことができる。また、VTR内においても、高速走
行に対しテープ切断を防止することができる。
【0063】また、PETを主体とするフイルムである
から、従来のPENフイルムに比べ大幅な製造コストダ
ウンをはかることができる。
から、従来のPENフイルムに比べ大幅な製造コストダ
ウンをはかることができる。
【0064】さらに、ヘッドタッチが良好で電磁変換特
性が良く、かつ、トラッキングずれが少ない、デジタル
ビデオ用磁気テープのベースフイルムとして最適なフイ
ルムを得ることができる。
性が良く、かつ、トラッキングずれが少ない、デジタル
ビデオ用磁気テープのベースフイルムとして最適なフイ
ルムを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 9:00 C08L 67:00
Claims (5)
- 【請求項1】 繰り返し単位にエチレンテレフタレート
を85モル%以上含有するポリエステルからなるフイル
ムであって、フイルム全厚みが3〜8μmであり、長手
方向の弾性率Aが500kg/mm2 以上であり、幅方
向の弾性率Bとの差|A−B|が200kg/mm2 未
満であり、フイルムの少なくとも片面の表面粗さ(R
a)が0.1〜5nmであり、塗布層厚みの総和が2μ
m以下であるデジタルビデオ用の塗布型磁気記録媒体の
支持体として用いられることを特徴とする二軸配向ポリ
エチレンテレフタレートフイルム。 - 【請求項2】 A層とB層を有する少なくとも2層構造
からなり、A層厚みが0.03〜2μmである、請求項
1記載の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイル
ム。 - 【請求項3】 両外層に同一組成のポリマ層を有する少
なくとも3層構造からなり、最外層を構成する層の少な
くとも1層の厚みが0.03〜2μmである、請求項1
記載の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム。 - 【請求項4】 A層/B層/C層の少なくとも3層構造
からなり、A層厚みが0.03〜2μm、C層厚みが
0.01〜0.5μmである、請求項1記載の二軸配向
ポリエチレンテレフタレートフイルム。 - 【請求項5】 長手方向の熱収縮SMDと幅方向の熱収縮
STDとの比SMD/STDが0.8以上1.2以下である、
請求項1ないし4のいずれかに記載の二軸配向ポリエチ
レンテレフタレートフイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6261384A JPH08106624A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6261384A JPH08106624A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08106624A true JPH08106624A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17361107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6261384A Pending JPH08106624A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08106624A (ja) |
-
1994
- 1994-09-30 JP JP6261384A patent/JPH08106624A/ja active Pending
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