JPH0668449A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH0668449A
JPH0668449A JP4219221A JP21922192A JPH0668449A JP H0668449 A JPH0668449 A JP H0668449A JP 4219221 A JP4219221 A JP 4219221A JP 21922192 A JP21922192 A JP 21922192A JP H0668449 A JPH0668449 A JP H0668449A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供する
ことである。更に好ましくはカレンダーロール汚れがな
く、DOが少なく、走行耐久性、電磁変換特性が共に改
良した磁気記録媒体を提供すること。 【構成】少なくとも最上層(A層)と最下層(B層)を
有する複数の層を有する支持体を用いてRa( Cut off:
0.25mm)−Ra( Cut off:0.08mm)≦10nmとなるよ
うな最上層(A層)を持つ支持体の表面に強磁性粉末及
び非磁性粉末のうち少なくとも1種を結合剤に分散した
下層を設け、その上に該下層が湿潤状態のうちに強磁性
粉末を結合剤に分散した乾燥厚さ1μm以下の上層磁性
層を設けた磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体、特に
1.0μm以下の非常に薄い磁性層を有する磁気記録媒
体に関するものである。更に、詳しくはカレンダー工程
での生産性に優れかつ走行耐久性に優れる高密度記録用
の塗布型磁気記録媒体に関する物である。
【0002】
【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記
録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式か
ら、ディジタル方式まで検討されている。この高密度化
の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒
体が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の
点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布
したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしな
がら、金属薄膜に対して塗布型媒体としては磁性物の充
填度が低い為に、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録
媒体としては、強磁性酸化鉄、Co変性酸化鉄、CrO
2 、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を非
磁性支持体に塗設した物が広く用いられている。塗布型
磁気記録媒体の電磁変換特性の向上には、強磁性粉末の
磁気特性の改良、表面の平滑化などがあり、種々の方法
が提案されているが、高密度化に対しては充分な物では
ない。また、近年、高密度化と共に記載波長が短くなる
傾向にあり、磁性層の厚さが厚いと出力が低下する記録
時の自己減磁損失、再生時の厚み損失の問題が大きくな
っている。このため、磁性層を薄くすることが行なわれ
ているが、磁性層を約2μm以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の表面粗さの影響が現れやすくな
り、電磁変換特性やDOの悪化傾向が見られる。このた
め、特開昭57−198536号公報の如く、支持体表
面の非磁性の厚い下塗層を設けてから磁性層を上層とし
て設けるようにすれば前記の支持体の表面粗さの影響は
ある程度は解消できるが充分でなく、かつヘッド摩耗や
耐久性が改善されないという問題があった。これは、従
来、非磁性下層として熱硬化系樹脂を結合剤として用い
ているので、下層が硬化し、磁性層とヘッドとの摩擦や
他の部材との接触が無緩衝状態で行なわれることや、こ
のような下層を有する磁気記録媒体がやや可とう性に乏
しい等のことに起因していると考えられる。これを解消
するために、下層に非硬化系樹脂を結合剤として用いる
ことが考えられるが、従来方法では、下層を塗布乾燥後
磁性層を上層として塗布する場合、下層が上層の塗布液
の有機溶剤により膨潤し、上層の塗布液に乱流を起こさ
せる等の影響を与え磁性層の表面性を悪くし、電磁変換
特性を低下させる等の問題を生じる。
【0003】また、磁性層を薄層化するためには、塗布
量を減らすことか、もしくは磁性塗布液に溶剤を多量に
加えて濃度を薄くすることが考えられる。前者を取る場
合、塗布量を減らすと塗布後に十分にレベリングの時間
がなく、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えば、スジ
や刻印のパターンが残るといった問題が発生し、歩留ま
りが非常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗
布液の濃度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が
おおく、十分な磁性体充填性が得られないこと、また、
空隙が多いために塗膜の強度が不十分であることなど、
種々の弊害をもたらす。特開昭62−154225号公
報の発明ではこのように歩留まりが悪いことが大きな問
題であった。本出願人は、これらの問題を解決する一つ
の手段として、特開昭63−191315号、同63−
187418号の各公報に記載されているような同時重
層塗布方式を用いて、電磁変換特性の向上できる磁気記
録媒体を提案した。しかしながら、このような方法を適
用してもなお、下記の問題点を解決することができなか
った。即ち、更に再生出力を上げるために磁性層を1μ
m以下と極薄層にしようとすると、ピンホール スジ
等、の塗布欠陥が発生しやすくなり生産性を確保するこ
とが困難になると言う問題がある。更に、上述のよう
に、磁気記録媒体は非常に平滑な表面性が望まれている
が、その手段として特にカレンダー工程では、高温、高
圧で処理する必要性がましている。高温、高圧でカレン
ダー処理すると磁性層を設けない面とカレンダーロール
との摩擦が大きくなり、製造時に支持体を削ることにカ
レンダーロールを汚す問題が顕在化している。ロールが
汚れることにより処理後の磁性層に汚れの跡が付き、電
磁変換特性の低下やドロップアウトの増加につながる。
【0004】また、ベース表面が平滑でその上に設けた
磁性層がすぐれた電磁変換特性を示すと共に、バック面
では良好な走行耐久性を有し、かつバックコート層を設
けなくても良好な走行耐久性を有する、生産性の高い磁
気記録媒体を得ることを目的にしてポリエチレンフタレ
ートベースの表面に下層磁性層(第1磁性層)及び上層
磁性層(第2磁性層)をこの順に設けてなる磁気記録媒
体において、前記ポリエチレンテレフタレートベースが
平均粒子径0.5〜0.7μm、標準偏差が0.1μm
以下の分布を持つ不活性無機粒子を含み、前記ポリエチ
レンテレフタレートベースの表面の中心線平均粗さ(K
a)が16nm以下であり、かつ突起密度(Ds)が
0.7μm以上の突起において6000個/mm2 以上で
ある磁気記録媒体が提案されている。しかしながら単に
Raを小さくしたのみでは十分ではなく、特開平3−1
76809号公報では磁性層の表面うねり、支持体の界
面うねりを小さくするという提案がされている。しかし
ながら、単なるうねりの減少のみでは必ずしも電磁変換
特性の改良が十分ではなく、かつ磁性層と反対側の面の
突起高さが0.30μm(300nm)以上である突起
の個数が少ないため、その凹凸がはっきりとしかつ走行
性も十分ではなかった。
【0005】一方、非磁性支持体として先に特開平3−
86916号公報には非磁性支持体を2層構造とし、そ
の下層に粒子サイズ及び含有量を規定したフィラー粒子
を添加した重層の非磁性支持体を用いることが提案され
た。しかしながら、単にこのような支持体を適用しても
巻き上げた際に磁性層面とベース背面とが接することに
なり、該支持体下層に添加したフィラー粒子による突起
群が磁性層に種々のへこみを形成するため、これにより
電磁変換特性を低下させる問題が新たに発生した。ま
た、最近のVHSハーフに使用される機構部品がコスト
ダウンされて、俗に言われている粗悪ピン等に対してス
リキズ性が劣りDO増加、走行不良等の問題点もでてき
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電磁変換特
性が良好な磁気記録媒体を提供することである。更に好
ましくはカレンダーロール汚れを防止してドロップアウ
ト低減すると共に、粗悪機構部品との耐久性が良好であ
り、また磁性層の非磁性支持体によるへこみを防止して
電磁変換特性、走行耐久性の優れた磁気記録媒体を提供
することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは非磁性支持
体の表面粗さ、突起の状態、該支持体上に設けた磁性層
等の層の構成に着目して、上記問題を解決すべく鋭意検
討した結果中心線平均粗さRaも Cut offの値によって
異なる結果が出るが、その異なる Cut offのRaの差を
とり、かつ下層非磁性層又は下層磁性層の上に Wet on
Wet (同時又は逐次)湿潤塗布方式により上層磁性層を
設ける複数層との組合せにより、顕著な改良効果が見出
され、本発明に至った。
【0008】すなわち本発明の上記目的は非磁性支持体
上に強磁性粉末及び非磁性粉末のうち少なくとも1種を
結合剤に分散した下層を設け、その上に該下層が湿潤状
態の内に強磁性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設
けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚み
が1.0μm以下であり、かつ前記非磁性支持体が、複
数の層により構成される支持体であり、磁性層を塗設す
る側を最上層(A層)とし、磁性層を塗設する側と反対
側を最下層(B層)として、該最上層(A層)と該最下
層(B層)共にフィラー粒子を含む熱可塑性樹脂で構成
されてなる二軸配向フィルムであり、かつ前記最上層
(A層)の表面の中心線平均粗さRaが下記の範囲であ
ることを特徴とする磁気記録媒体によって達成できる。 Ra( Cut off :0.25 mm)−Ra( Cut off :0.08 mm)
≦10nm
【0009】すなわち、本発明はRa( Cut off:0.25 m
m)とRa( Cut off:0.08 mm)の差をとり、この値を10
nm以下とすることにより、その理由は定かではない
が、うねりが少ないことの尺度及び表面凹凸が均一に生
じていることの尺度となっているように思われ、このよ
うな支持体に表面粗さを吸収する下層非磁性層、又は下
層磁性層を設け、かつ Wet on Wet 法により上層磁性層
を設ける構成と組合せることにより極めて平滑かつ均一
な磁気記録媒体が得られ、電磁変換特性の大巾な改良が
達成できたものである。
【0010】更に本発明は前記支持体の最下層(B層)
に平均粒径が100〜600nmのフィラー粒子を含む
ことと組合せることによりカレンダーロール汚れが防止
され、ドロップアウトが低減すると共に粗悪機構部品と
の耐久性が良好であり、また磁性層の非磁性支持体によ
るへこみを防止して電磁変換特性と走行耐久性の優れた
磁気記録媒体得ることができる。本発明のRa( Cut of
f:0.25 mm)−Ra( Cut off:0.08 mm)が10nm以下に
最上層(A層)にするにはA層に使用するフィラー粒子
の粒径、添加量と製膜条件等をコントロールすることに
よって得ることができる。非磁性支持体のA層中に含有
されるフィラーの平均粒子は、10〜450nmが好ま
しく、更に好ましくは10〜350nmである。さらに
C層中に含有されるフィラー粒子の含有量は1.5〜4
0重量%、好ましくは2〜15重量%である。更にA層
の厚さtaと平均粒径daの比ta/daが0.1〜3
であることが好ましい。製膜条件については後述の非磁
性支持体の製造方法の項に記載している。
【0011】本発明を構成する非磁性支持体の該A層表
面の中心平均粗さはRaは、( Cutoff :0.25 mm のR
a)−(Cut off:0.08 mm のRa)≦10nmが好まし
い。更に好ましくはそれぞれのRaの差が5nm以下で
ある。カットオフを小さくしても(例:0.25mm→
0.08mm)Ra値が大きくかわらないのは、0.25
mmの長さに相当する突起がないまたは、少ない事を意
味する。逆に大きくかわる事はベース面全体のうねりが
おおきくなり電磁変換特性が悪化する。一般的、Raが
低い事は平面性が良く且つ電磁変換特性がよくなる事は
知られているが、平面性が良くなると逆に走行耐久性が
悪化してしまう、特に最近は俗名でいわゆる粗悪ピンと
の組み合わせた場合、特に粗悪ピンに対して耐久性が大
きく劣り、この為に、磁性層自体が削れて、DO増加、
走行停止等の問題点が発生してしまう。本発明は電磁変
換特性を悪化させずに、走行耐久性をよくする事鋭意検
討した結果、前記のそれぞれカットオフで測定したRa
差をコントロールすることにより、Ra自体の絶対値が
高くても、電磁変換特性が優れ、且つ走行耐久性に優れ
る事を見いだした。本発明のRaをコントロールする方
法は、前記のA層に使用するフィラーの粒径及び添加量
と製膜条件をコントロールすること及びB層突起個数を
コントロールすることにより達成される。
【0012】本発明での中心線粗さRaの測定は小坂製
作所製表面粗さ測定器(SE−3FK)用いて次のよう
に求めた。即ちフィルム断面曲線からその中心線からそ
の中心線方向に基準長さL(2.5cm)の部分を抜取り
この抜取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸と
して、粗さ曲線Y−f(X)で表わした時、次の式1で
与えられた値をnmで表わす。但し、触針の先端半径は
2μ、荷重30mgとし、それぞれのカットオフ値で測定
した。Raは縦方向に5点、横方向に5点の計10点の
平均値を求めた。
【0013】
【数1】
【0014】本発明の好ましい態様は以下の通りであ
る。 (1) 前記下層が無機質粉末とカーボンブラックを含む非
磁性粉末を含有する下層非磁性層であることを特徴とす
る磁気記録媒体。
【0015】(2) 前記下層が強磁性粉末を含む下層磁性
層であり、前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末の平均
長軸長が前記下層磁性層に含まれる強磁性粉末の平均長
軸長よりも小さいことを特徴とする磁気記録媒体。
【0016】(3) 前記支持体の最下層(B層)の表面の
突起個数が0.1mm2 当り高さ200nm〜400nm
のものが800〜2000個で、高さ400nm以上の
ものが300個以下であることを特徴とする磁気記録媒
体。
【0017】(4) 前記支持体の最下層(B層)に平均粒
径が100〜600nmのフィラー粒子を含み、最上層
(A層)に平均粒径が10〜450nmのフィラー粒子
を含み、最下層(B層)と最上層(A層)との間に熱可
塑性樹脂Cよりなる中間層(C層)を含む支持体である
ことを特徴とする磁気記録媒体。
【0018】このように、本発明は、磁性層を1μm以
下とすることにより、自己減磁損失の低減と出力向上を
図り、更に非磁性支持体を複数層(積層)構造にし、最
上層(A層)側には微粒子のフィラー粒子を添加して平
滑にし、かつ走行性を確保しその上に下層磁性層、上層
磁性層を設け、最下層(B層)側には適度の粒径フィラ
ー粒子を添加することにより適度に突起群を設けること
により、クリーニング効果により、カレンダーロール汚
れが解消できると共に、フィラー粒子の種類を選ぶこと
により粗悪機構部品との走行耐久性が得られ、磁性層へ
のへこみの転写を防止したものである。本発明に使用す
る非磁性支持体は、平均粒径が100〜600nmのフ
ィラー粒子を含む熱可塑性樹脂よりなる最下層(以降B
層と簡略化することもある)とB層上に設けられた少な
くとも熱可塑性樹脂よりなる中間層(以降C層と簡略化
することもある)とが積層され、また前記C層上に不活
性粒子を含有する熱可塑性樹脂よりなる最上層(以降A
層と簡略化することもある)とが積層されたものである
ことが好ましい。
【0019】前記非磁性支持体の最下層(B層)の突起
個数が0.1mm2 当り高さ200nm〜400nmの物
が800〜2000個で、高さ400nm以上の物が3
00個以下である面を有するものであることが好まし
い。B層に該フィラーを含む事により、カレンダーロー
ル汚れを防止し、これによる電磁変換特性悪化の防止、
走行特性等を改善することができる。これは、該フィラ
ー粒子がカレンダーロールをクリーニングするためと考
えられる。しかし、従来技術では、該B層の突起が磁性
層に写り、磁性層のへこみにより電磁変換特性が悪化す
るという問題も同時に起きた。本発明は、このカレンダ
ーロール汚れを防止するとともに、従来問題となった該
写りによる磁性層のへこみを防止し、電磁変換特性を向
上することができたものである。該フィラー粒子の平均
粒径はdBは生産適性、ロール汚れを少なくする観点か
ら100〜600nm、特に好ましくは、100〜55
0nmの範囲である。ここでフィラー粒子の平均粒径と
は、非磁性支持体から粒子にダメージを与えない条件で
熱可塑性樹脂をプラズマ低温廃化処理法で除去し粒子を
露出させ、これを走査型電子顕微鏡(SEM)で観察
し、次いで粒子の画像をイメージアナライザーで処理
し、観察箇所を変えて粒子数5000個以上で数値処理
を行いそれによって求めた数平均粒径を意味する。
【0020】また、本発明の非磁性支持体最下層(B
層)中のフィラー粒子の含有量は、1.5〜40重量
%、好ましくは2〜30重量%、更に好ましくは3〜2
0重量%であることが望ましい。含有量が上記範囲より
多いと電磁変換特性が低下し、少ないとカレンダーロー
ル汚れを少なくすることがしにくい。更に本発明の非磁
性支持体B層の厚さtBと該B層中に含有するフィラー
粒子の平均粒径dBの比、tB/dBは0.1〜3、好
ましくは0.3〜1.5の範囲であることが必要であ
る。tB/dBが上記の範囲より少ないとカレンダーロ
ール汚れを減らす効果が少なくなり、逆に大きいと電磁
変換特性が低下する。非磁性支持体の最下層(B層)の
突起個数は0.1mm2 当り高さ200nm〜400nm
の物が800〜2000個が好ましい、好ましくは、8
50〜1750個、更に好ましくは1200〜1700
個の範囲である。突起数2000個以上になると、電磁
変換特性が低下する。逆に800個以下であると、走行
耐久性が劣ってしまう。
【0021】更に、高さ400nm以上の物が300個
以下が好ましく、好ましくは250個以下、更に好まし
くは200個以下である。400nm以上の物が300
個以上になると電磁変換特性が低下する。このような、
フィラー粒子の分布の調整は、非磁性支持体を製造する
ためのフィルムの延伸操作等により行うことが出来る。
本発明で突起高さ及び突起個数の測定は、タリーステッ
プ表面粗さ計(テイラーホブソン社製)により表面粗さ
曲線を求め、この曲線をピークとして認識されるものに
ついて、平均線からの高さを測定した。非磁性支持体の
C層中にフィラー粒子を含有している必要は特にない
が、平均粒径が5〜600nm、特に10〜450nm
のフィラー粒子が0.001〜0.15重量%、特に
0.005〜0.5重量%含有されていると走行性に
は、好ましい。尚A層厚みは、特に制限はないが、好ま
しくは2〜100μm、特に好ましくは3〜15μmの
範囲から選択される。
【0022】本発明に使用するフィラー粒子の形状は粒
径比(粒子の長径/短径)が1〜1.3の粒子、特に、
球形状の粒子の場合にロール汚れ改良の効果が著しい。
本発明に使用するフィラー粒子は非磁性支持体中での単
一粒子指数が0.7以上、好ましくは0.9以上である
場合にこれらの効果がより一層良好になる。本発明に使
用するフィラー粒子の粒径の相対標準偏差が0.6以下
の場合にこれらの効果が発揮できる。ここで、単一粒子
指数とは、非磁性支持体断面を透過型電子顕微鏡で観察
し、凝集していないフィラー粒子の占める面積X、2個
以上のフィラー粒子が凝集している面積Yとした時、
(X−Y)/Xで与えられる値である。また、相対標準
偏差とは、フィラー粒子の平均粒径に対する標準偏差を
平均で割った値である。
【0023】本発明に使用するフィラー粒径の種類は、
上記クリーニング機能を有し、磁気記録媒体及びそれに
使用する機器等の諸特性に悪影響を及ぼさない素材から
なる粒子であれば特に限定されない。具体的には、一般
的に充填剤として知られているものが挙げられ、無機化
合物としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン等が挙げ
られ、有機化合物としては各種樹脂粒子等が挙げられ
る。このフィラー粒子の好ましい例を挙げれば、コロイ
ダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子、架橋
高分子による粒子(例えば架橋ポリスチレン)等がある
が、特に10重量%減量時、温度(窒素中で熱重量分析
装置島津TG−30Mを用いて測定。昇温速度20℃/
分)が38℃以上になるまで架橋度を高くした架橋分子
粒子の場合にカレンダーロール汚れが少なくなるので好
ましい。なお、コロイダルシリカに起因する球形シリカ
の場合にはアルコキシド法で製造された、ナトリウム含
有が少ない実質的に球形のシリカの場合にはこれらの効
果がより一層発揮される。しかしながら、その他の粒
子、例えば炭酸カルシウム、酸化チタン、アルミナ等他
の粒子でも熱可塑性樹脂B層の厚さtBと平均粒径dB
の比の適切なコントロールにより充分使いこなせるもの
である。
【0024】本発明を構成する非磁性支持体はB層を形
成するための組成物とA層を形成するための組成物及び
C層を形成するための組成物からなる積層フィルムを2
軸延伸したフィルムであることが好ましい。この延伸あ
るいは配向の程度は、特に限定されないが、高分子の分
子配向の程度の目安であるヤング率が長手方向、幅方向
ともに350kg/mm2 程度が製造上の限界である。本発
明を構成する非磁性支持体の該B層の厚みは、0.01
〜2μm、好ましくは0.02〜1μmの場合に電磁変
換特性、生産適性共に良好である。また、非磁性支持体
の厚みむら、あるいは変動は小さい方が好ましく、好ま
しくは非磁性支持体の長手方向200cm当りの最大厚み
と最小厚みの差が非磁性支持体の平均厚みの0.1倍以
下、好ましくは0.05倍以下であることが望ましい。
【0025】以下、本発明に使用される非磁性支持体の
製造方法について具体的に説明する。まず、熱可塑性樹
脂Bにフィラー粒子を含有せしめる方法としては、フィ
ラー粒子をエチレングリコールのスラリーとし、ベント
方式の2軸混練押し出し機を用いて熱可塑性樹脂を練り
混む方法が、延伸破れなく上記所定範囲の厚さと平均粒
径の関係、含有量の非磁性支持体を得るのに極めて有効
である。粒子の含有量を調節する方法としては、上記方
法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時にフィ
ラー粒子を実質的に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して
粒子の含有量を調節する方法が有効である。次に熱可塑
性樹脂C、フィラー粒子を所定量含有する熱可塑性樹脂
B及び熱可塑性樹脂Aのペレットを必要に応じて乾燥し
た後、公知の溶融積層用押し出し装置に供給し、スリッ
ト状のダイからシート状に押し出しし、キャスティング
ロール上で冷却固定化せしめて未延伸フィルムを作る。
即ち、3台の押し出し機、3層のマニホールドまたは合
流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂A、B、Cを積層
し、口金から3層のシートを押し出し、キャスティング
ロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、熱
可塑性樹脂Bのポリマー流路に、スタッチックミキサ
ー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく、本発明
範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲の
表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。ま
た、合流ブロックとして短形のフィードブロックを用い
るのが本発明範囲の厚みと平均粒径の関係を得るのに極
めて有効である。また、熱可塑性樹脂B及び熱可塑性樹
脂A側の押し出し機の溶融温度を、熱可塑性樹脂Cよ
り、10〜40℃高くすることが、延伸破れなく、本発
明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲
の積層厚みむら、表面粒子の濃度比、全反射ラマン結晶
化指数のフィルムを得るのに有効である。ここで、熱可
塑性樹脂Bがポリエステル樹脂の場合、全反射ラマン結
晶化指数とは、全反射ラマンスペクトルを測定し、カル
ボニル基の伸縮振動である1730cm-1の反値幅を指
す。但し、測定深さは表面から500〜1000Å程度
とする。その好ましい指数は、12〜18cm-1の範囲で
ある。
【0026】次に未延伸フィルムを2軸延伸し、2軸配
向せしめる。延伸方法としては逐次2軸延伸方法または
同時2軸延伸方法を用いることができる。但し、最初に
長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次2軸延伸方向を
用い、長手方向の延伸を3段階以上に分けて、総縦横倍
率を3.0〜6.5倍で行う方法は、本発明範囲の厚さ
と平均粒径の関係、フィラー粒子の含有量の非磁性支持
体を得るのに有効である。長手方向延伸温度は熱可塑性
樹脂の種類により異なり、一概に言えないが、通常、そ
の1段目を50〜130℃とし、2段目以降はそれより
高くすることが有効である。長手方向延伸速度は5,0
00〜50,000%/分の範囲が好適である。幅方向
の延伸方法としてはテンタを用いる方法が一般的であ
る。延伸倍率は、3.0〜5.0倍、延伸速度1,00
0から2,000%/分、温度は80〜160℃の範囲
が好適である。次にこの延伸フィルムを熱処理する。こ
の場合の熱処理温度は170〜200℃、特に170〜
190℃、時間は0.5〜60秒の範囲が好適である。
本発明に使用する非磁性支持体を構成する熱可塑性樹脂
A、B、Cは同じでも、異なる種類の物でもよく、ポリ
エステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレ
ンスフィドなど特に限定されることはないが、特にポリ
エステル、中でもエチレンテレフタレート、エチレン
α、β−ビス(2−クロロフェノキシ)エタン−4,
4′−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレ
ート単位から選ばれた少なくとも1種の構造単位を主要
構成成分とする場合に生産適性がより一層良好となるの
で望ましい。
【0027】また、本発明を構成する熱可塑性樹脂Bま
たは熱可塑性Aは結晶性である場合に生産適性がより一
層良好となるので好ましい。ここでいう結晶性とはいわ
ゆる非結晶質ではないことを示すものであり、定量的に
は結晶化パラメータにおける冷結晶化温度Tccが検出
され、かつ結晶化パラメータΔTcgが150℃以下の
ものである。更に、示差走査熱量計で測定された融解熱
(融解エンタルピー変化)7.5cal/g以上の結晶
性を示す場合に生産適性がより一層良好となるので望ま
しい。特にエチレンテレフタレートが好ましい。なお、
本発明を阻害しない範囲で熱可塑性樹脂A、B、Cから
選ばれる少なくとも1種に他種の熱可塑性樹脂を混合し
ても良いし、共重合ポリマーを用いてもよい。また、本
発明の目的を阻害しない範囲で熱可塑性樹脂A、B、C
から選ばれる少なくとも一種に酸化防止剤、熱安定剤、
滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常添加される
程度されてもよい。
【0028】本発明に使用される非磁性支持体は塗布液
が塗布される前にあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などをおこなって
もよい。また、非磁性支持体のテープ走行方向のF−5
値は、好ましくは5〜50kg/mm2 、テープ幅方向のF
−5値は、好ましくは3〜30kg/mm2 である。また、
非磁性支持体のテープ走行方向及び幅方向の100℃3
0分での熱収縮率は好ましくは3%以下、更に好ましく
は1.5%以下、80℃30分での熱収縮率は好ましく
は1%以下、更に好ましくは0.5%以下である。破断
強度は両方とも5〜100kg/mm2 、弾性率は100〜
2000kg/mm2 、が好ましい。
【0029】本発明の磁気記録媒体における磁性層は強
磁性粉末が結合剤中に分散されてなる層である。本発明
に使用される磁性粉末には特に制限はない。その例とし
て、γ−Fe2 3 、FeOX(1.33<x<1.
5)、Co含有のγ−Fe2 3 、Co含有のFeOX
(1.33<x<1.5)、Fe3 4 、Co含有Fe
3 4 、CrO2 、FeまたはNiまたはCoを主成分
(75%以上)とする強磁性合金粉末、バリウムフェラ
イト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末
が使用できるが、Co含有Fe3 4 、Co含有のFe
OX(1.33<x<1.5)、が好ましい。本発明の
上層磁性層は強磁性粉末として、好ましくFe2+/Fe
3+モル比が20/100〜50/100更に好ましくは
25/100〜35/100のCo含有酸化鉄粉末であ
る。また、上層の磁性層に用いるCo含有酸化鉄粉末の
抗磁力は650〜1500Oeであり、好ましくは、7
50〜950Oeである。抗磁力が650Oe未満では
高域の出力が劣る。また、抗磁力が1500Oeを越え
ると低域の出力が顕著に低下する。また、上層磁性層に
使用されるCo含有酸化鉄粉末の粒子サイズに関しては
平均長軸長が0.10〜0.25μmであることが好ま
しく、更に好ましくは、0.1〜0.20μmである。
また結晶子サイズの大きさは、500A以下が好まし
く、更に好ましくは200〜360Aである。平均長軸
長が0.25μmを越える場合や結晶子サイズが500
Aを越える場合は、ノイズが高くなり好ましくない。平
均長軸長が0.1μm以下では分散性が低下し角型比が
低下して電磁変換特性が劣化する。
【0030】また、本発明に下層の磁性層は、強磁性粉
末として、Fe2+/Fe3+モル比が20/100未満で
あり、この抗磁力は上層の抗磁力の0.8〜1.0倍で
有ることが好ましい。特に下層の抗磁力が600〜85
0Oeであることが最も好ましい。下層の抗磁力が上層
の抗磁力の1.0倍を越えると、長波長域の電磁変換特
性が劣り、0.6未満ではリニアオーディオの周波数特
性が劣化する。下層の磁性層に使用するCo含有酸化鉄
粉末のFe2+/Fe3+モル比が20/100未満であり
好ましくは5/100〜10/100である。20/1
00以上であると転写特性が劣化して好ましくない。ま
た、下層の磁性層に用いるCo含有酸化鉄粉末は、平均
長軸長が0.1〜0.25μmの範囲で且つ上層のCo
含有酸化鉄粉末の平均長軸長より大きいことが好まし
い。更には、下層のCo含有酸化鉄の結晶子サイズより
大きいことが好ましい。より好ましくは、下層のCo含
有酸化鉄の平均長軸長が0.15〜0.25μmであ
り、結晶子サイズは300〜450Aである。平均長軸
長が0.25μmを越える場合や結晶子サイズが500
Aを越える場合は、表面性が劣化して好ましくない。ま
た、平均長軸長が0.10μm未満では十分に分散でき
ずに表面性が低下して好ましくない。
【0031】本発明の下層磁性層及び上層磁性層に使用
される結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、放射線硬化性樹脂、または反応型樹脂やこれ
らの混合物が使用される。樹脂成分の例としては、塩化
ビニル系共重合体(例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、−SO3 Naまたは−SO2 Na等の極性基及
びエポキシ基が導入された塩化ビニル系共重合体)、ニ
トロセルロース樹脂等のセルロース誘導体。アクリル樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン系
樹脂(例えば、ポリエステルポリウレタン樹脂、−SO
3 Naまたは−SO2 Na等の極性基が導入されたポリ
ウレタン系樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂)
を挙げることができる。また、硬化剤を使用する場合、
通常は、ポリイソシアネート化合物が用いられる。ポリ
イソシアネート化合物は、通常ポリウレタン系樹脂等の
硬化成分として使用されているもののなかから選択され
る。また、電子線照射による硬化処理を行う場合には、
反応性二重結合を有する化合物(ウレタンアクリレー
ト)を使用することができる。本発明の上層磁性層及び
下層磁性層に用いられる結合剤は、強磁性粉末に対し、
5〜50重量%の範囲、好ましくは10〜35重量%の
範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合、5
〜30重量%、ポリウレタン樹脂を用いる場合は、3〜
30重量%、ポリイソシアネートは0〜20重量%の範
囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。
【0032】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は5〜500m2/g、DBP吸油量10〜
400ml/100g、粒子径は5〜300mμ、pHは
2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.
1〜1g/ccが好ましい。本発明に用いられるカーボン
ブラックの具体的な例としてはキャボット製:BLAC
KPEARLS2000、1300、1000、90
0、800、700、VALCAN XC−72、旭カ
ーボン社製:#80、#60、#55、#50、#3
5、三菱化成工業製:#2400B、#2300、#9
00、#650、#40、#30、10Bが挙げられ
る。
【0033】次に本発明の磁気記録媒体の製造方法につ
いて以下に述べる。強磁性粉末、結合剤、カーボンブラ
ック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての
原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわな
い。また、個々の原料を2つ以上の工程で分割して添加
してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、
分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割し
て投入してもよい。
【0034】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いBrを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部(ただし全結合剤
の30重量%以上が好ましい)および強磁性粉末100
部に対し15〜500部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平1−106338
号、特開昭64−79274号に記載されている。
【0035】本発明では、特開昭62−212933号
に示されるような同時重層塗布方式を用いることによ
り、より効率的に生産することができる。本発明のよう
な重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例と
して以下のような構成を提案できる。 1.磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状
態のうちに特公平1−46186号や特開昭60−23
8179号、特開平2−265672号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
を塗布する。 2.特開昭63−88080号、特開平2−17921
号、特開平2−265672号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布へッドに
より上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 3.特開平2−174965号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層及び下層をほぼ同時に塗布する。なお、強磁性粉末の
凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止
するため、特開昭62−95174号や特開平1−23
6968号に開示されているような方法により塗布ヘッ
ド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さら
に、塗布液の粘度については、特願平1−312659
号に開示されている数値範囲を満足することが好まし
い。
【0036】本発明では、上記の下層用塗布液を湿潤状
態で重畳して塗布する、所謂ウエット・オン・ウエット
塗布方式によって、非磁性支持体上に設ける。本発明で
下層と上層を設けるに用いるウエット・オン・ウエット
塗布方式とは、初め一層を塗布した後に湿潤状態で可及
的速やかに次の層をその上に塗布する所謂逐次塗布方
法、及び多層同時にエクストルージョン塗布方式で塗布
する方法等をいう。
【0037】ウエット・オン・ウエット塗布方式として
は、特開昭61−139929号公報に示した磁気記録
媒体塗布方法が使用できる。本発明の媒体を得るために
は強力な配向を行う必要がある。1000G(ガウス)
以上のソレノイドと2000G以上のコバルト磁石を併
用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も
高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適
用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向
法が必要である。
【0038】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは70℃以上、さらに好ましくは80℃以上であ
る。線圧力は好ましくは200kg/cm、さらに好ましく
は300kg/cm以上、その速度は20m/分〜700m
/分の範囲である。本発明の効果は80℃以上の温度で
300kg/cm以上の線圧でより一層効果を上げることが
できる。
【0039】
【実施例】本発明の具体的実施例を説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。実施例中「部」との
表示は「重量部」を示す。
【0040】実施例1−1 非磁性支持体 平均粒径100nmの架橋性ポリスチレン粒子、平均粒
径120nmのコロイダルシリカに起因するシリカ粒子
及び平均粒径100nmの酸化アルミを重量比で5:2
5:65に含有するエチレングリコールスラリーを調整
し、このエチレングリコールスラリーを190℃で1.
5時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチルとエステル
交換反応させ、重縮合し、該粒子を0.5〜20重量%
含有するポリエチレンテレフタレート(以下、PETと
略す)のペレットを作成した。この時、重縮合時間を調
節し、固有粘度0.70とした(熱可塑性樹脂B)。平
均粒径50nmの架橋性ポリスチレン粒子、平均粒径1
00nmのコロイダルシリカに起因するシリカ粒子を重
量比で5:95に含有するエチレングリコールスラリー
を調整し、前記樹脂B同様に熱可塑性樹脂Aを作成し
た。また、常法によって固有粘度0.62のPETを製
造し、熱可塑性樹脂Cとした。これらのポリマーをそれ
ぞれ180℃で6時間減圧乾燥(3torr)した後、
熱可塑性樹脂Bを押し出し機1に、樹脂Aを押し出し機
3に供給し、290℃で溶融し、更に熱可塑性樹脂Cを
押し出し機2に供給し、280℃で溶融し、これらのポ
リマーを合流ブロックで合流積層し、静電印加キャスト
を用いて表面温度30℃のキャスティングドラムに巻き
付けて冷却固化し、積層未延伸フィルムを作った。この
時、それぞれの押し出し機の吐出量を調節し、総厚さ、
熱可塑性樹脂B層の厚さ及び熱可塑性樹脂Aの厚みを調
節した。この延伸フィルムを温度80℃にて長手方向に
4.5倍延伸した。この延伸は2組ずつのロールの周速
差で、4段階で行った。この一軸延伸フィルムをテンタ
を用いて延伸速度2,000%/分で100℃で幅方向
に4.0倍延伸し、定長下で、190℃にて5秒熱処理
し、総厚み14.0μの二軸配向積層フィルムを得た。
【0041】 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び
下層磁性層用塗布液を調整した。 上層用磁性層塗布液 Co−γ−FeOx 100部 (xはFe2+/Fe3+モル比 30/100) (抗磁力800Oe、平均長軸径0.15μm) 塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体 10部 (スルホン酸基0.25重量%含有) ポリエステルポリウレタン 5部 (スルホン酸基0.1重量%含有) ポリイソシアネート 6部 (日本ポリウレタン(株)製コロネートL) ステアリン酸(工業用) 1部 ブチルステアレート(工業用) 1部 α−アルミナ(平均粒径:0.1μm) 10部 カーボンブラック(平均粒径:70nm) 1部 溶媒(酢酸ブチル/メチルエチルケトン=7/3重量比) 100部
【0042】 下層磁性層用塗布液 Co−γ−FeOx 100部 (xはFe2+/Fe3+モル比 5/100) (抗磁力700Oe、平均長軸径0.20μm) 塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体 11部 (スルホン酸基0.25重量%含有) ポリエステルポリウレタン 4部 (スルホン酸基0.1重量%含有) ポリイソシアネート 6部 (日本ポリウレタン(株)製コロネートL) ステアリン酸(工業用) 1部 ブチルステアレート(工業用) 1部 カーボンブラック(平均粒径:20nm) 5部 溶媒(酢酸ブチル/メチルエチルケトン=7/3重量比) 100部 上記の各組成物を混練機で混練分散して、上層液及び下
層液を得た。得られた塗布液を、乾燥後の厚さが上層が
0.5μm、下層が3.5μmになるように、厚さ14
μmので得られたポリエチレンテレフタレート支持体
表面に重層塗布し、引続き、磁場配向処理乾燥、及びス
ーパーカレンダー処理を行って、1/2インチ幅にスリ
ットして、試料を作成した。
【0043】実施例1−2 実施例1−1においての非磁性支持体の作成におい
て、B層のコロイダルシリカの平均粒径を300nmに
代えてフィラーの添加量を10重量%に変更し、また熱
可塑性樹脂Cにコロイダルシリカ平均粒径10nmのフ
ィラーを0.005重量%添加した。
【0044】実施例1−3 実施例1−1においての非磁性支持体の作成におい
て、B層のコロイダルシリカの平均粒径を550nmに
代えてフィラーの添加量を4重量%にした。
【0045】比較例1〜3 実施例1−1においての非磁性支持体の作成におい
て、B層のコロイダルシリカの平均粒径とフィラーの添
加量をそれぞれ変更した。
【0046】実施例1−4〜1−5 実施例1−1の上層磁性層厚みを変更した。
【0047】実施例1−6 実施例1−1においての非磁性支持体の作成におい
て、A層のコロイダルシリカの平均粒径と添加量をそれ
ぞれ変更した。
【0048】比較例4〜5 実施例1−1の上層磁性層厚みを変更した。得られた試
料の性能を評価し、その結果を表1に示した。
【0049】
【表1】
【0050】1.DO増加 VHS、T−120のテープのまず初期DOを次の方法
で測定する。1/10H以上の期間で再生出力レベルが
16dB以上低下するドロップをドロップアウトカウン
ターで計測する。その後FF/REW100パス走行さ
せて、初期DO測定と同じ方法で100パス走行させた
物のDOを測定し、初期DOからの増加分を調べた。
【0051】2.走行耐久性 VHS、T−120のテープの中で、10分間の長さを
繰り返し走行させて、再生出力が、スタートより−6d
B以上低下するまでの走行パス回数を測定した。
【0052】3.カレンダーロール汚れ カレンダーロール汚れ:○、△、×の3段階で評価し
た。 ○:連続して塗布原反100万m以上カレンダー処理し
て汚れによる電磁変換特性の低下がないもの △:連続して塗布原反50万mまでカレンダー処理でき
るもの ×:塗布原反を連続してカレンダー処理できるのが、5
0万m未満であるもの
【0053】4.電磁変換特性 再生出力:松下製VTR AG−3700を用いた4.
2MHZの出力。VHS型ビデオテープ「スーパXGT
−120」(富士写真フイルム(株)製のそれを0dB
としたときの相対値である。 C/N 松下製VTR AG6200を用い、再生R
F出力に対するノイズの比を測定した。なお、このC/
NはVHS型ビデオテープ「スーパXGT−120」
(富士写真フイルム(株)製のそれを0dBとしたとき
の相対値である。
【0054】表1より明かなように、実施例試料は、D
O増加がなく走行耐久性が優れ、かつカレンダーロール
汚れもなく、再生出力、C/N比が改善された磁気記録
媒体である。比較例1〜3はそれぞれの測定 Cut offで
のRaの差が10nm以上であり、すなわち面全体のう
ねりがおおきいことをしめしており、この為に電磁変換
特性が低下してしまう。比較例4〜5は上層磁性層厚み
が厚くなると記録、再生時の各損失が大きくなり、電磁
変換特性が低下する。
【0055】実施例7,比較例8 以下の処方で上層磁性塗布液及び下層非磁性層用塗布液
を調製した。 上層磁性塗布液処方 強磁性粉末:Fe合金粉末 100部 組成;Fe 93重量%、Ni 3重量%、Co 3重量%、その他 Zn,Cr等 Hc 1600Oe、σs 135emu/g 長軸長 0.18μm、針状比 9 塩化ビニル共重合体 10部 −SO3 Na,エポキシ基含有 ポリウレタン樹脂 5部 −SO3 Na含有,分子量 45000 αアルミナ(平均粒径0.2μm) 5部 シクロヘキサノン 150部 メチルエチルケトン 200部 上記組成物をサンドミル中で6時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート(コロネートL)及びステアリン酸
5部、ステアリン酸ブチル10部を加えて磁性塗布液を
得た。
【0056】 下層非磁性層用塗布液処方 粒状TiO2 100部 平均粒径 0.09μm カーボンブラック 5部 平均粒径 20mμ 塩化ビニル共重合体 8部 −SO3 Na,エポキシ基含有、分子量 50000 ポリウレタン樹脂 5部 −SO3 Na含有、分子量 45000 αアルミナ(平均粒径 0.2μm) 5部 シクロヘキサノン 150部 メチルエチルケトン 50部
【0057】上記組成物をサンドミル中で4時間混合分
散したのち、ポリイソシアネート(コロネートL)5
部、ステアリン酸5部、ステアリン酸ブチル10部を加
えて下層非磁性層用塗布液を得た。得られた塗布液を用
いて上層が0.3μm、下層が3.0μmになるように
厚さ14μmので得られたポリエチレン支持体表面に
重層塗布し、引続き磁場配向処理、乾燥、及びスーパー
カレンダー処理を行なって、1/2インチ幅にスリット
して、試料を作成した。得られた試料の性能を評価し、
その結果を表2に示した。
【0058】
【表2】
【0059】表2の結果より明らかな如く、下層が非磁
性層、上層が磁性層の系においてもRa( Cut off:0.25
mm)−Ra( Cut off:0.08mm)の差を10nm以下とす
ることによりDO増加、走行耐久性が顕著に改良し、か
つRF出力、C/N等の電磁変換特性が改良されること
がわかる。
【0060】
【発明の効果】少なくとも最上層(A層)と最下層(B
層)を有する複数の層を有する支持体を用いてRa( Cu
t off:0.25mm)−Ra( Cut off:0.08mm)≦10nmと
なるような最上層(A層)を持つ支持体の表面に強磁性
粉末及び非磁性粉末のうち少なくとも1種を結合剤に分
散した下層を設け、その上に該下層が湿潤状態のうちに
強磁性粉末を結合剤に分散した乾燥厚さ1μm以下の上
層磁性層を設けることによってドロップアウト(DO)
増加が小さく、走行耐久性に優れ、カレンダーロール汚
れがなく、かつRF出力やC/Nが高い電磁変換特性の
優れた磁気記録媒体が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 日比野信郎 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性支持体上に強磁性粉末及び非磁性
    粉末のうち少なくとも1種を結合剤に分散した下層を設
    け、その上に該下層が湿潤状態の内に強磁性粉末を結合
    剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録媒体におい
    て、前記上層磁性層の乾燥厚みが1.0μm以下であ
    り、かつ前記非磁性支持体が、複数の層により構成され
    る支持体であり、磁性層を塗設する側を最上層(A層)
    とし、磁性層を塗設する側と反対側を最下層(B層)と
    して、該最上層(A層)と該最下層(B層)共にフィラ
    ー粒子を含む熱可塑性樹脂で構成されてなる二軸配向フ
    ィルムであり、かつ前記最上層(A層)の表面の中心線
    平均粗さRaが下記の範囲であることを特徴とする磁気
    記録媒体。 Ra( Cut off :0.25 mm)−Ra( Cut off :0.08 mm)
    ≦10nm
  2. 【請求項2】 前記支持体の最下層(B層)に含まれる
    フィラー粒子の平均粒径が100〜600nmであるこ
    とを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記下層が無機質粉末とカーボンブラッ
    クを含む非磁性粉末を含有する下層非磁性層であること
    を特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記下層が強磁性粉末を含む下層磁性層
    であり、前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末の平均長
    軸長が前記下層磁性層に含まれる強磁性粉末の平均長軸
    長よりも小さいことを特徴とする請求項1記載の磁気記
    録媒体。
  5. 【請求項5】 前記支持体の最下層(B層)の表面の突
    起個数が0.1mm2当り高さ200nm〜400nmの
    ものが800〜2000個で、高さ400nm以上のも
    のが300個以下であることを特徴とする請求項1記載
    の磁気記録媒体。
  6. 【請求項6】 前記支持体の最下層(B層)に平均粒径
    が100〜600nmのフィラー粒子を含み、最上層
    (A層)に平均粒径が10〜450nmのフィラー粒子
    を含み、最下層(B層)と最上層(A層)との間に熱可
    塑性樹脂Cよりなる中間層(C層)を含む支持体である
    ことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
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