JPH08106650A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08106650A JPH08106650A JP6242450A JP24245094A JPH08106650A JP H08106650 A JPH08106650 A JP H08106650A JP 6242450 A JP6242450 A JP 6242450A JP 24245094 A JP24245094 A JP 24245094A JP H08106650 A JPH08106650 A JP H08106650A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- compd
- substrate
- coating method
- recording
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ディスク表面への塵の付着を防止する。
【構成】 光ディスク表面に次の式で表される化合物に
よるコーティング層を形成する。 ただし、ＲはＣＨ3 Ｏ─、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ─、ＨＯ─の
うちの１種、または複数種を表す。
よるコーティング層を形成する。 ただし、ＲはＣＨ3 Ｏ─、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ─、ＨＯ─の
うちの１種、または複数種を表す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塵の付着しにくい光ディ
スク及びその製造方法に関する。
スク及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報処理量の急速な増加に伴い、
記録容量の大きい記録媒体、特に高密度記録法として光
ディスクが注目されている。光ディスクは大きくはコン
パクトディスク、レーザーディスク等の再生専用型、一
度だけ書き込み可能な追記型、及び光磁気ディスクに代
表されるような書換可能型に分類される。
記録容量の大きい記録媒体、特に高密度記録法として光
ディスクが注目されている。光ディスクは大きくはコン
パクトディスク、レーザーディスク等の再生専用型、一
度だけ書き込み可能な追記型、及び光磁気ディスクに代
表されるような書換可能型に分類される。
【０００３】これらはいずれも透明基板上に反射膜や記
録膜を形成した構造を有し、反射膜や記録膜上に直径が
１μm 程度になるようにビームを絞り、反射膜や記録膜
と反対側の基板表面から入射させることで、情報の記録
または再生を行う。光ディスクに使用される透明基板と
してはガラスやプラスチックが使用されてきたが、近年
は、量産性、価格、重量等の点で有利なプラスチック基
板が主流となっている。
録膜を形成した構造を有し、反射膜や記録膜上に直径が
１μm 程度になるようにビームを絞り、反射膜や記録膜
と反対側の基板表面から入射させることで、情報の記録
または再生を行う。光ディスクに使用される透明基板と
してはガラスやプラスチックが使用されてきたが、近年
は、量産性、価格、重量等の点で有利なプラスチック基
板が主流となっている。
【０００４】しかしながら、プラスチック基板はその表
面硬度が低いため傷が付き易く、また表面が帯電し易い
ので塵が付着し易い。基板表面に付着した塵が大きい場
合には、記録または再生用光ビームが散乱され、正確な
記録や再生が困難になる。また付着した塵が小さい場合
でも、その量が多くなるに従って記録または再生用光ビ
ームの損失が増大し、反射膜や記録膜に到達する光エネ
ルギーが低下する。
面硬度が低いため傷が付き易く、また表面が帯電し易い
ので塵が付着し易い。基板表面に付着した塵が大きい場
合には、記録または再生用光ビームが散乱され、正確な
記録や再生が困難になる。また付着した塵が小さい場合
でも、その量が多くなるに従って記録または再生用光ビ
ームの損失が増大し、反射膜や記録膜に到達する光エネ
ルギーが低下する。
【０００５】プラスチック基板表面に傷が付きにくくす
るために、表面に有機物をハードコートすることが従来
より知られていた。また、塵の付着を防止する目的に
は、ハードコート剤中にSnＯ2 、SbＯ3 、In2 Ｏ3 等の
金属酸化物やラウリル酸ナトリウムやラウリル酸カリウ
ム等の界面活性剤を分散させて混入させたものを塗布し
た後、硬化する方法が提案された。
るために、表面に有機物をハードコートすることが従来
より知られていた。また、塵の付着を防止する目的に
は、ハードコート剤中にSnＯ2 、SbＯ3 、In2 Ｏ3 等の
金属酸化物やラウリル酸ナトリウムやラウリル酸カリウ
ム等の界面活性剤を分散させて混入させたものを塗布し
た後、硬化する方法が提案された。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、金属酸化物を
分散させたハードコート剤を基板表面に塗布した場合、
金属酸化物の分布が均一となり難く、従って、硬化にむ
らが発生し、また、界面活性剤を分散させたハードコー
トを基板表面に施した場合には、その帯電防止効果の耐
久性が乏しいという問題があった。
分散させたハードコート剤を基板表面に塗布した場合、
金属酸化物の分布が均一となり難く、従って、硬化にむ
らが発生し、また、界面活性剤を分散させたハードコー
トを基板表面に施した場合には、その帯電防止効果の耐
久性が乏しいという問題があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる問題点の解決のた
めに、本発明者は鋭意研究の結果、式（１）で示される
化合物を揮発性の溶剤または紫外線硬化型樹脂に含有さ
せたものをプラスチック基板表面に塗布した後、硬化さ
せることにより、式（１）で示される化合物の層を設け
ることで、塵の付着しにくい信頼性に優れた光ディスク
の製造が可能となることを見出し、本発明をなすに至っ
た。
めに、本発明者は鋭意研究の結果、式（１）で示される
化合物を揮発性の溶剤または紫外線硬化型樹脂に含有さ
せたものをプラスチック基板表面に塗布した後、硬化さ
せることにより、式（１）で示される化合物の層を設け
ることで、塵の付着しにくい信頼性に優れた光ディスク
の製造が可能となることを見出し、本発明をなすに至っ
た。
【０００８】従って、本発明は、第１に「光ディスクの
少なくとも記録ないし再生用光ビーム入射側の基板表面
に次の式（１）で表される化合物を塗布して、コーティ
ング層を形成したことを特徴とする光ディスク。 ただし、ＲはＣＨ3 Ｏ─、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ─、ＨＯ─の
うちの１種、または複数種を表す」を提供し、第２に
「化合物の塗布方法がスピンコート法、スプレーコート
法、ディップコート法のいずれかであることを特徴とす
る請求項１記載の光ディスクの製造方法」を提供する。
少なくとも記録ないし再生用光ビーム入射側の基板表面
に次の式（１）で表される化合物を塗布して、コーティ
ング層を形成したことを特徴とする光ディスク。 ただし、ＲはＣＨ3 Ｏ─、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ─、ＨＯ─の
うちの１種、または複数種を表す」を提供し、第２に
「化合物の塗布方法がスピンコート法、スプレーコート
法、ディップコート法のいずれかであることを特徴とす
る請求項１記載の光ディスクの製造方法」を提供する。
【０００９】
【作用】揮発性溶媒中の式（１）で表される化合物の含
有量は、通常約 0.2〜4.5 重量％が適当であり、好まし
くは 1.5〜4.0 重量％である。含有量が少な過ぎると効
果にむらを生じ、多過ぎると効果が上がらないばかり
か、沈殿が生ずる等の問題が発生する。
有量は、通常約 0.2〜4.5 重量％が適当であり、好まし
くは 1.5〜4.0 重量％である。含有量が少な過ぎると効
果にむらを生じ、多過ぎると効果が上がらないばかり
か、沈殿が生ずる等の問題が発生する。
【００１０】基板表面に塗布する方法としては、スピン
コート法、スプレーコート法、ディップコート法等があ
る。このうち、光ディスクの製造工程においてはスピン
コート法がむらが発生しにくく最も適しており、また、
光ディスクを購入したユーザーが自ら行う場合にはスプ
レーコート法が適している。溶剤としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル系が好適である。
コート法、スプレーコート法、ディップコート法等があ
る。このうち、光ディスクの製造工程においてはスピン
コート法がむらが発生しにくく最も適しており、また、
光ディスクを購入したユーザーが自ら行う場合にはスプ
レーコート法が適している。溶剤としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル系が好適である。
【００１１】光ディスク表面に形成された式（１）の化
合物被膜の表面抵抗値は約１０9 Ωである。これはプラ
スチック基板表面の表面抵抗値である１０13〜１０16Ω
に比較して格段に小さい。即ち、塵が付着しにくく、帯
電現象を示す下限値である１０11Ωに比べても十分小さ
く十分な効果が得られる。以下、実施例により本発明を
より具体的に説明するが、本発明はこれに限られるもの
ではない。
合物被膜の表面抵抗値は約１０9 Ωである。これはプラ
スチック基板表面の表面抵抗値である１０13〜１０16Ω
に比較して格段に小さい。即ち、塵が付着しにくく、帯
電現象を示す下限値である１０11Ωに比べても十分小さ
く十分な効果が得られる。以下、実施例により本発明を
より具体的に説明するが、本発明はこれに限られるもの
ではない。
【００１２】
【実施例】帯電防止コーティングを全く行わないポリカ
ーボネイト製光ディスク基板と種々の条件で表面に帯電
防止コーティングを行ったポリカーボネイト製光ディス
ク基板を用意した。次に、直径 0.8〜1.2mm に粉砕した
発砲スチロールに上記の光ディスク基板を10mmの距離ま
で接近させ、これにより基板に付着した発砲スチロール
の数を数えた。
ーボネイト製光ディスク基板と種々の条件で表面に帯電
防止コーティングを行ったポリカーボネイト製光ディス
ク基板を用意した。次に、直径 0.8〜1.2mm に粉砕した
発砲スチロールに上記の光ディスク基板を10mmの距離ま
で接近させ、これにより基板に付着した発砲スチロール
の数を数えた。
【００１３】結果を表１に示す。表１より、コーティン
グを行うことで塵の付着を防止できることがわかる。特
に、2.0 重量％以上の濃度の溶液で処理したものについ
ては発砲スチロールの付着がゼロであり、大きな効果が
あることがわかる。
グを行うことで塵の付着を防止できることがわかる。特
に、2.0 重量％以上の濃度の溶液で処理したものについ
ては発砲スチロールの付着がゼロであり、大きな効果が
あることがわかる。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
塵が付着しにくく、信頼性に優れた光ディスクとその製
造方法が提供される。
塵が付着しにくく、信頼性に優れた光ディスクとその製
造方法が提供される。
【図１】 本発明のコーティングを行った光ディスク基
板である。
板である。
１・・・光ディスク基板 ２・・・コーティング層 以上
Claims (2)
- 【請求項１】 光ディスクの少なくとも記録ないし再生
用光ビーム入射側の基板表面に次の式（１）で表される
化合物を塗布して、コーティング層を形成したことを特
徴とする光ディスク。 ただし、ＲはＣＨ3 Ｏ─、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ─、ＨＯ─の
うちの１種、または複数種を表す。 - 【請求項２】 化合物の塗布方法がスピンコート法、ス
プレーコート法、ディップコート法のいずれかであるこ
とを特徴とする請求項１記載の光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6242450A JPH08106650A (ja) | 1994-10-06 | 1994-10-06 | 光ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6242450A JPH08106650A (ja) | 1994-10-06 | 1994-10-06 | 光ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08106650A true JPH08106650A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17089283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6242450A Pending JPH08106650A (ja) | 1994-10-06 | 1994-10-06 | 光ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08106650A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6994892B2 (en) | 2002-02-28 | 2006-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing optical recording medium |
-
1994
- 1994-10-06 JP JP6242450A patent/JPH08106650A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6994892B2 (en) | 2002-02-28 | 2006-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing optical recording medium |
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