JPH0540962A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPH0540962A JPH0540962A JP3196549A JP19654991A JPH0540962A JP H0540962 A JPH0540962 A JP H0540962A JP 3196549 A JP3196549 A JP 3196549A JP 19654991 A JP19654991 A JP 19654991A JP H0540962 A JPH0540962 A JP H0540962A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- substrate
- optical recording
- recording medium
- containing alumina
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護層に、耐溶剤性、硬度、及び帯電防止性
をもたせる。 【構成】 光記録媒体の基板の光入射側に、アルミナを
主成分とする薄膜よりなる保護層を形成する。また、こ
の保護層は、アルミナゾルを含有する塗布剤をスピンコ
ート法により塗布し、これをクリーンオーブン中で加熱
乾燥させてなる。更に、基板自体を紫外線硬化型樹脂に
より表面処理して強固にしている。
をもたせる。 【構成】 光記録媒体の基板の光入射側に、アルミナを
主成分とする薄膜よりなる保護層を形成する。また、こ
の保護層は、アルミナゾルを含有する塗布剤をスピンコ
ート法により塗布し、これをクリーンオーブン中で加熱
乾燥させてなる。更に、基板自体を紫外線硬化型樹脂に
より表面処理して強固にしている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体に関し、特
に、帯電防止効果を有する保護層を備えた光記録媒体に
関する。
に、帯電防止効果を有する保護層を備えた光記録媒体に
関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体には、再生専用型や書込み可
能型の光ディスクがあるが、光ディスクの基板として
は、ガラスの他に、アクリル樹脂やポリカーボネート樹
脂等の樹脂が使用されている。これらは絶縁体であるた
め、帯電しやすく、これにより塵埃が基板に付着し、読
み取りエラーの一因となっている。
能型の光ディスクがあるが、光ディスクの基板として
は、ガラスの他に、アクリル樹脂やポリカーボネート樹
脂等の樹脂が使用されている。これらは絶縁体であるた
め、帯電しやすく、これにより塵埃が基板に付着し、読
み取りエラーの一因となっている。
【０００３】そこで、従来より、基板の帯電防止のため
に、基板の光入射側に、帯電防止剤を含有させた樹脂を
塗布して保護層とする等の対策がなされている。
に、基板の光入射側に、帯電防止剤を含有させた樹脂を
塗布して保護層とする等の対策がなされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
帯電防止剤含有の保護層（帯電防止型ハードコート）
は、帯電防止性を良くするために、帯電防止剤を多量に
添加すると、硬度が柔らかくなってしまい、一方、帯電
防止剤を少量にして硬度をもたせると帯電防止性が劣る
という問題点があった。
帯電防止剤含有の保護層（帯電防止型ハードコート）
は、帯電防止性を良くするために、帯電防止剤を多量に
添加すると、硬度が柔らかくなってしまい、一方、帯電
防止剤を少量にして硬度をもたせると帯電防止性が劣る
という問題点があった。
【０００５】また、高湿度（50％ＲＨ以上）では帯電防
止効果を発現しても、低湿度（50％ＲＨ以下）では著し
く帯電防止効果が劣るという問題点もあった。また、耐
水性、耐溶剤性が不十分なものも多く、ブリード等が発
生するという問題点もあった。本発明は、このような従
来の問題点に鑑み、低湿環境下においても充分な帯電防
止効果を発揮し、且つ、ブリードの発生しない安定した
保護層を有する光記録媒体を提供することを目的とす
る。
止効果を発現しても、低湿度（50％ＲＨ以下）では著し
く帯電防止効果が劣るという問題点もあった。また、耐
水性、耐溶剤性が不十分なものも多く、ブリード等が発
生するという問題点もあった。本発明は、このような従
来の問題点に鑑み、低湿環境下においても充分な帯電防
止効果を発揮し、且つ、ブリードの発生しない安定した
保護層を有する光記録媒体を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、基板の光入射側に保護層を有する光記
録媒体において、該保護層がアルミナを主成分とする薄
膜により形成される構成とする。また、前記アルミナを
主成分とする薄膜が、前記基板に塗布されたアルミナゾ
ルを含有する塗布剤の加熱乾燥により形成されるとよ
い。
めに、本発明は、基板の光入射側に保護層を有する光記
録媒体において、該保護層がアルミナを主成分とする薄
膜により形成される構成とする。また、前記アルミナを
主成分とする薄膜が、前記基板に塗布されたアルミナゾ
ルを含有する塗布剤の加熱乾燥により形成されるとよ
い。
【０００７】また、前記基板が、鉛筆硬度２Ｈ以上に表
面処理されたプラスチック基板であるとよい。本発明に
用いられるアルミナゾルとしては、粒子径が20〜 200Å
の水／メタノール分散型ベーマイトアルミナのコロイド
液で、川研ファインケミカル株式会社から「アルミゾル
−ＣＳＡ５５」の製品として市販されているものが挙げ
られる。
面処理されたプラスチック基板であるとよい。本発明に
用いられるアルミナゾルとしては、粒子径が20〜 200Å
の水／メタノール分散型ベーマイトアルミナのコロイド
液で、川研ファインケミカル株式会社から「アルミゾル
−ＣＳＡ５５」の製品として市販されているものが挙げ
られる。
【０００８】保護層の成膜方法は、図１に示すように、
イニシャルポリカーボネート基板、或いは記録層、反射
層を成膜されたポリカーボネート基板の光入射側にアル
ミナゾルをスピンコート法により回転数2000〜5000rpm
で塗布し、その後クリーンオーブン中で80〜 100℃で、
１〜10時間加熱して、アルミナを主成分とする薄膜より
なる保護層を形成する。このとき、アルミナの微粒子は
加熱により互いに結着する。但し、微細構造的には、部
分的に未結着となることもあり得るが、本発明の目的と
する効果が達成されるのであれば、未結着部分が存在し
ても差支えない。
イニシャルポリカーボネート基板、或いは記録層、反射
層を成膜されたポリカーボネート基板の光入射側にアル
ミナゾルをスピンコート法により回転数2000〜5000rpm
で塗布し、その後クリーンオーブン中で80〜 100℃で、
１〜10時間加熱して、アルミナを主成分とする薄膜より
なる保護層を形成する。このとき、アルミナの微粒子は
加熱により互いに結着する。但し、微細構造的には、部
分的に未結着となることもあり得るが、本発明の目的と
する効果が達成されるのであれば、未結着部分が存在し
ても差支えない。
【０００９】尚、この保護層は、可視光透過率95％以上
の透明さを有する。保護層の成膜方法としては、アルミ
ニウムをターゲットとした反応スパッタリングも考えら
れるが、生産効率及び生産コストの点で上記の方法が有
利である。加熱温度は、温度が高くなるほど最適加熱時
間は短くなるが、ポリカーボネート基板を用いる場合は
100℃以下が望ましい。また、加熱時間は長時間になる
程保護層自体は強固になるが、加熱時間が長過ぎると保
護層表面の水酸基（−ＯＨ）が失われ、帯電防止性が低
下するので、各加熱温度には、それに最適な加熱時間が
設定される。尚、加熱温度を下げるためには、使用する
アルミナゾル中に、アルミナ 100重量部当たり５〜25重
量％程度の有機ケイ素化合物を含有させるようにすると
よい。
の透明さを有する。保護層の成膜方法としては、アルミ
ニウムをターゲットとした反応スパッタリングも考えら
れるが、生産効率及び生産コストの点で上記の方法が有
利である。加熱温度は、温度が高くなるほど最適加熱時
間は短くなるが、ポリカーボネート基板を用いる場合は
100℃以下が望ましい。また、加熱時間は長時間になる
程保護層自体は強固になるが、加熱時間が長過ぎると保
護層表面の水酸基（−ＯＨ）が失われ、帯電防止性が低
下するので、各加熱温度には、それに最適な加熱時間が
設定される。尚、加熱温度を下げるためには、使用する
アルミナゾル中に、アルミナ 100重量部当たり５〜25重
量％程度の有機ケイ素化合物を含有させるようにすると
よい。
【００１０】尚、ポリカーボネート基板に、アルミナゾ
ルを直接塗布すると、ポリカーボネート基板が非常に柔
らかいため、鉛筆硬度Ｈ程度の硬度しか得られなくなる
ので、アルミナゾルを塗布する前にポリカーボネート表
面に高硬度（ポリカーボネート上で２Ｈ程度）の樹脂を
塗布すること（以後、これを表面処理という）が望まし
い。
ルを直接塗布すると、ポリカーボネート基板が非常に柔
らかいため、鉛筆硬度Ｈ程度の硬度しか得られなくなる
ので、アルミナゾルを塗布する前にポリカーボネート表
面に高硬度（ポリカーボネート上で２Ｈ程度）の樹脂を
塗布すること（以後、これを表面処理という）が望まし
い。
【００１１】塗布する樹脂としては、種々のものが考え
られるが、製造工程の簡略化を考えると、電子線硬化型
樹脂、光開始剤を含有した紫外線硬化型樹脂が望まし
い。放射線硬化型樹脂としては、分子側鎖或いは分子末
端にアクリロイル基あるいはメタクリロイル基等のＣ＝
Ｃ等の不飽和結合を複数有するものが主成分樹脂として
挙げられる。
られるが、製造工程の簡略化を考えると、電子線硬化型
樹脂、光開始剤を含有した紫外線硬化型樹脂が望まし
い。放射線硬化型樹脂としては、分子側鎖或いは分子末
端にアクリロイル基あるいはメタクリロイル基等のＣ＝
Ｃ等の不飽和結合を複数有するものが主成分樹脂として
挙げられる。
【００１２】その代表例としては、多官能アクリレー
ト、メタクリレートとエステルアクリレート、エステル
メタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタ
クリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリ
レート等の混合物を挙げることができる。
ト、メタクリレートとエステルアクリレート、エステル
メタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタ
クリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリ
レート等の混合物を挙げることができる。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を説明する。 実施例１ 105mm× 105mmのポリカーボネート基板上に川研ファイ
ンケミカル株式会社製「アルミゾル−ＣＳＡ５５」を約
２ミリリットル落とし、スピンコーターで2000rpm で10
秒間振り切って、アルミナゾルを塗布した。尚、このア
ルミナゾルの固形分濃度は約６重量％である。
ンケミカル株式会社製「アルミゾル−ＣＳＡ５５」を約
２ミリリットル落とし、スピンコーターで2000rpm で10
秒間振り切って、アルミナゾルを塗布した。尚、このア
ルミナゾルの固形分濃度は約６重量％である。
【００１４】その後クリーンオーブン中で80℃で10時間
加熱してアルミナを主成分とする薄膜よりなる保護層を
形成した。 実施例２ 実施例１で用いた基板と同様の基板上に、同様にしてア
ルミナゾルを塗布し、その後クリーンオーブン中で90℃
で４時間加熱してアルミナを主成分とする薄膜よりなる
保護層を形成した。
加熱してアルミナを主成分とする薄膜よりなる保護層を
形成した。 実施例２ 実施例１で用いた基板と同様の基板上に、同様にしてア
ルミナゾルを塗布し、その後クリーンオーブン中で90℃
で４時間加熱してアルミナを主成分とする薄膜よりなる
保護層を形成した。
【００１５】実施例３ 実施例１で用いた基板と同様のポリカーボネート基板
に、日本化薬株式会社製光磁気ディスク用ハードコート
剤「ＩＮＣ−９４４」を約５μｍ塗布し、紫外線照射
（Ｆｕｓｉｏｎ社製ＵＶランプ）により硬化させ、基板
にハードコートを形成することにより表面処理を行っ
た。その際照射量は2400mJ/cm2である。
に、日本化薬株式会社製光磁気ディスク用ハードコート
剤「ＩＮＣ−９４４」を約５μｍ塗布し、紫外線照射
（Ｆｕｓｉｏｎ社製ＵＶランプ）により硬化させ、基板
にハードコートを形成することにより表面処理を行っ
た。その際照射量は2400mJ/cm2である。
【００１６】その後、ハードコート上に実施例２と同様
にしてアルミナを主成分とする薄膜よりなる保護層を形
成した。比較例を説明する。 比較例１ 実施例１で用いた基板と同様のポリカーボネート基板に
日本化薬株式会社製光磁気ディスク用ハードコート剤
「ＩＮＣ−９４４」を約５μｍ塗布し、紫外線照射（Ｆ
ｕｓｉｏｎ社製ＵＶランプ）により硬化させた。つま
り、表面処理を行っただけで、保護層を形成していな
い。
にしてアルミナを主成分とする薄膜よりなる保護層を形
成した。比較例を説明する。 比較例１ 実施例１で用いた基板と同様のポリカーボネート基板に
日本化薬株式会社製光磁気ディスク用ハードコート剤
「ＩＮＣ−９４４」を約５μｍ塗布し、紫外線照射（Ｆ
ｕｓｉｏｎ社製ＵＶランプ）により硬化させた。つま
り、表面処理を行っただけで、保護層を形成していな
い。
【００１７】比較例２ 日本化薬株式会社製光磁気ディスク用ハードコート剤
「ＩＮＣ−９４４」 100重量部に対し、花王株式会社製
帯電防止剤「サニゾールＣ」を５重量部添加し、比較例
１と同様の方法で塗布，硬化させた。以上の実施例１〜
３及び比較例１，２の評価結果を下表に示す。 ────────────────────────────────── サンプル 表面抵抗 鉛筆硬度 ゴミ付着数比 エタノール拭き取り （Ω／□） テスト後の表面抵抗 （Ω／□） ────────────────────────────────── 実施例１ 6.5 ×1012 Ｈ １ 9.5 ×1012 実施例２ 7.8 ×1012 Ｈ １ 8.5 ×1012 実施例３ 7.5 ×1012 ３Ｈ １ 8.0 ×1012 比較例１ １×1014以上 ３Ｈ ５ １×1014以上 比較例２ 5.0 ×1013 Ｈ ３ １×1014以上 ─────────────────────────────────── （表面抵抗値は24℃，27％ＲＨにて測定）尚、ゴミ付着
試験は24℃，27％ＲＨにてダートチャンバー（ＡＳＴＭ
Ｄ ２７４１−６８）により、ゴミ（10μｍカーボン
粒子）を付着させ、付着した粒子数をカウントして、実
施例１における粒子数を１とし、その比（相対値）で示
した。
「ＩＮＣ−９４４」 100重量部に対し、花王株式会社製
帯電防止剤「サニゾールＣ」を５重量部添加し、比較例
１と同様の方法で塗布，硬化させた。以上の実施例１〜
３及び比較例１，２の評価結果を下表に示す。 ────────────────────────────────── サンプル 表面抵抗 鉛筆硬度 ゴミ付着数比 エタノール拭き取り （Ω／□） テスト後の表面抵抗 （Ω／□） ────────────────────────────────── 実施例１ 6.5 ×1012 Ｈ １ 9.5 ×1012 実施例２ 7.8 ×1012 Ｈ １ 8.5 ×1012 実施例３ 7.5 ×1012 ３Ｈ １ 8.0 ×1012 比較例１ １×1014以上 ３Ｈ ５ １×1014以上 比較例２ 5.0 ×1013 Ｈ ３ １×1014以上 ─────────────────────────────────── （表面抵抗値は24℃，27％ＲＨにて測定）尚、ゴミ付着
試験は24℃，27％ＲＨにてダートチャンバー（ＡＳＴＭ
Ｄ ２７４１−６８）により、ゴミ（10μｍカーボン
粒子）を付着させ、付着した粒子数をカウントして、実
施例１における粒子数を１とし、その比（相対値）で示
した。
【００１８】これによると、実施例１〜３は、低湿環境
下においても、1012オーダーの表面抵抗を維持し、高い
帯電防止性が得られ、もって、ゴミの付着が少なく、ゴ
ミによるエラーレートの少ない光ディスクを得ることが
できることが分かった。また、実施例１〜３は、耐溶剤
性（耐エタノール性）があることが分かった。特に、実
施例３のように、表面処理して基板自体に硬度を付与し
たものは、表面の耐擦傷性も強化でき、拭き取りやシェ
ルとの接触の際に、ディスク表面に傷が付くといった事
態が起こりにくいディスクを得ることができることが分
かった。
下においても、1012オーダーの表面抵抗を維持し、高い
帯電防止性が得られ、もって、ゴミの付着が少なく、ゴ
ミによるエラーレートの少ない光ディスクを得ることが
できることが分かった。また、実施例１〜３は、耐溶剤
性（耐エタノール性）があることが分かった。特に、実
施例３のように、表面処理して基板自体に硬度を付与し
たものは、表面の耐擦傷性も強化でき、拭き取りやシェ
ルとの接触の際に、ディスク表面に傷が付くといった事
態が起こりにくいディスクを得ることができることが分
かった。
【００１９】また、比較例２はエタノール拭き取りによ
り表面の活性剤が溶け出してしまい、帯電防止性の劣化
が極端であった。
り表面の活性剤が溶け出してしまい、帯電防止性の劣化
が極端であった。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
従来のように、帯電防止剤を含有する樹脂を保護層とす
るのではなく、基板の表面にアルミナを主成分とする薄
膜を保護層として形成し、低湿環境下においても、帯電
防止効果の高い保護層を形成することができるという効
果を得ることができる。
従来のように、帯電防止剤を含有する樹脂を保護層とす
るのではなく、基板の表面にアルミナを主成分とする薄
膜を保護層として形成し、低湿環境下においても、帯電
防止効果の高い保護層を形成することができるという効
果を得ることができる。
【００２１】また、耐溶剤性を向上させることができる
という効果を得ることができる。また、アルミナを主成
分とする薄膜を、アルミナゾルを含有する塗布剤の加熱
乾燥により形成すると、生産効率、生産コストの点で有
利であるという効果を得ることができる。更に、プラス
チック基板の場合、表面処理して、基板自体に硬度を付
与しておくと、耐擦傷性を向上させることができるとい
う効果を得ることができる。
という効果を得ることができる。また、アルミナを主成
分とする薄膜を、アルミナゾルを含有する塗布剤の加熱
乾燥により形成すると、生産効率、生産コストの点で有
利であるという効果を得ることができる。更に、プラス
チック基板の場合、表面処理して、基板自体に硬度を付
与しておくと、耐擦傷性を向上させることができるとい
う効果を得ることができる。
【図１】 光記録媒体の主な構成を示す図
Claims (3)
- 【請求項１】基板の光入射側に保護層を有する光記録媒
体において、該保護層がアルミナを主成分とする薄膜に
より形成されたことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】前記アルミナを主成分とする薄膜が、前記
基板に塗布されたアルミナゾルを含有する塗布剤の加熱
乾燥により形成されたことを特徴とする請求項１記載の
光記録媒体。 - 【請求項３】前記基板が、鉛筆硬度２Ｈ以上に表面処理
されたプラスチック基板であることを特徴とする請求項
１記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3196549A JPH0540962A (ja) | 1991-08-06 | 1991-08-06 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3196549A JPH0540962A (ja) | 1991-08-06 | 1991-08-06 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0540962A true JPH0540962A (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=16359589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3196549A Pending JPH0540962A (ja) | 1991-08-06 | 1991-08-06 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0540962A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7762460B2 (en) | 2004-02-18 | 2010-07-27 | Nec Corporation | Information processing device for using bar code and radio frequency-identification tag |
-
1991
- 1991-08-06 JP JP3196549A patent/JPH0540962A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7762460B2 (en) | 2004-02-18 | 2010-07-27 | Nec Corporation | Information processing device for using bar code and radio frequency-identification tag |
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