JPH01223644A - 光学式情報記録媒体 - Google Patents

光学式情報記録媒体

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Publication number
JPH01223644A
JPH01223644A JP63047481A JP4748188A JPH01223644A JP H01223644 A JPH01223644 A JP H01223644A JP 63047481 A JP63047481 A JP 63047481A JP 4748188 A JP4748188 A JP 4748188A JP H01223644 A JPH01223644 A JP H01223644A
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JP
Japan
Prior art keywords
information recording
substrate
recording medium
optical information
intermediate layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63047481A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiya Sato
俊也 佐藤
Shigeru Takahashi
茂 高橋
Seikichi Tanno
丹野 清吉
Morimichi Unno
海野 盛道
Yoshiaki Okabe
義昭 岡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63047481A priority Critical patent/JPH01223644A/ja
Publication of JPH01223644A publication Critical patent/JPH01223644A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学式情報記録媒体、例えば光ディスクに係
り、特に、情報の記録・再生もしくは消去特性に優れた
光学式情報記録媒体に関する。
〔従来の技術〕
近年、情報量の増大にともない、その高密度化高速アク
セス等の必要性が高まってきており、この要求に答える
べく数多くの研究がなされている。
なかでも、Ga、Tb等の希土類金属とFe。
Co等の遷移金属との組み合わせによる非晶質合金薄膜
は磁化容易軸を膜面に対し垂直方向に有し、記録再生・
消去の可能な高密度記録媒体として注目されている。
また、上記非晶質合金薄膜が形成される基板としては、
加工性、生産性、取り扱い等の点から、ポリメチルメタ
クリレート(PMMA)あるいはポリカーボネート(p
c)等の透明プラスチックが望ましい。
かかる情報記録媒体を安価に製造する方法としては、射
出成形法により、スタンパ面の微細な凹凸を転写成形し
た上記透明プラスチック基板を作成し、その後、記録・
再生用レーザーの熱エネルギーの変換効率を上げるため
にSi、Ti、Zr等の酸化物、窒化物の薄膜を蒸着、
スパッタリング、電子ビーム等により形成し、その上に
上記非晶質合金薄膜を蒸着、スパッタリング、電子ビ−
ム等により形成する。その後、保護膜を形成し、接着剤
により貼り合わせを行ない、円板状ディスクを得る方法
がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記Si、Ti、Zr等の酸化物、窒化物の薄膜は、P
MMA、PC等のプラスチック基板との密着性が悪い。
そのため2層間の界面で剥離が生じ、記録層の劣化が起
こり、長期に渡る安定な記録・再生が保障できなくなる
また、PMMA、PC等のプラスチック材料は、射出成
形時、スタンパ面上の微細な凹凸を精度よく転写するた
めに、分子量を大幅に低減して、流動性を向上させてい
る。そのため、集光されたレーザー光によるヒートモー
ドを利用した記録・消去可能ディスクにおいては、信号
記録時の熱により、前記した微細な凹凸が熱変形し、そ
の結果、ノイズの増加となる。
このような微細な凹凸の熱変形を防止するために、基板
表面をプラズマ処理(特開昭62−92145)したり
、基板に紫外線硬化樹脂を用いた方法(特開昭54−1
30902)等があるが、前者は基板と記録層の密着性
が劣り、後者は射出成形法に比べて生産性が悪い。
さらに、P MMA 、 P C等のプラスチック材料
を射出成形して得た基板を用いて製造した光学的情報記
録媒体では、基板と記録層との界面においてプラスチッ
ク基板を透過した湿気やガスによって記録層の変質が生
じたり、記録層の剥離が起こる。
本発明の目的は、大量生産に好適で、かつ、信号記録面
の凹凸形状のレーザー光によるヒートモードを利用した
記録・消去に対する熱安定性を向上し、記8Mとの密着
性の高い光学的情報記録媒体を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、透明プラスチック基板と記録層との間にS
i中間層を設けることにより達成される。
本発明において、Si中間層の形成は公知の方法で行な
うことができる。例えばスパッタリング。
CVD、PVD、イオンブレーティングなどである。な
かでも、プラズマCVD法においては、プラズマガスを
アルゴン、反応ガスをSiH+ とし、流量を各々O〜
50m12 /min、 10〜50mQ /winと
して、反応圧力0.5〜10mTorr 、放電電力5
0〜500Wの範囲内で条件を設定すると、良好なSi
中間層が得られる。
また、Si中間層を形成する前にプラスチック基板表面
をアルゴン等の気体の雰囲気下でスパッタエツチングす
ることにより、より優れた効果が得られる。スパッタエ
ッチは公知の方法で行なうことができるが、例えば、R
Fスパッタにおいて圧力0.5〜5mTorr、放電電
力50〜500Wの範囲内で選択すればよい。スパッタ
エツチング時間は放電電力の大きさにより異なるが、一
般には0.1〜10分が好適であり、0.1分以下であ
るとスパッタエツチングによる効果があられれず、1o
分以上では基板表面の粗面化が進み、光学的特性が劣化
してしまう。
〔作用〕
本発明に従い、透明プラスチック基板と記録層の間にS
i中間層を設けることにより、記録層と基板との密着性
を向上させ、長期に渡シ1記録・再生および消去特性の
安定な光学式情報記録媒体が得られる。
〔実施例〕
以下、本発明を具体的に説明するための実施例を示すが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
尚、実施例におけるSi中間層形成はプラズマCVD法
により行ない、その形成条件は以下の3種類である。
(A)  マイクロ波(2,45GHz)電カニ270
Wプラズマガス         :アルゴン供給量 
           : 40 m fA /min
反応ガス           :SiH4供給量  
          :30m12/min反応圧力 
          : 2mTorr反応時間   
        :0.1〜10m1n又スパツタ工ツ
チ条件は、 (B)  RF (13,56MHz)電力 :300
W圧力             :5mTorrスパ
ッタエッチ時間      二0.1〜10m1nガス
流量           :40m12/min上記
の条件でプラスチック基板上にSi中間層を形成するか
、あるいは基板をスパッタエッチした後Si中間層を形
成し、その上に前記したようにSiの窒化物の薄膜を形
成しく約1000人)、記録・消去可能な非晶質合金薄
膜をその上に形成しく約1000人)、試料を作成した
尚、Si中間膜形成時間が3 minの場合のSi中間
層の厚さは約200人である。
また、作成した試料の評価は下記の方法により実施した
(1)密着性試験:先端が鋭利なカッターナイフで試料
面に1 mu X 1 rrnのマス目を100個つけ
た後、市販 の粘着テープ(スコッチ・メ ンディングテープ、住友スリ ーエム株式会社)を貼り付け、 すばやく剥したときに残った マス目の数を表示した。
(2)寿命試験:試料を60”C−95%RH(7)恒
温恒湿槽に入れ、基板と記 録層が剥離を起こす時間を表 示した。
前述した、記録層を形成した基板を接着剤により貼り合
わせてディスクとした。
(3)書き換え試験二作製したディスクを180゜rp
mで回転し、830nmの 半導体レーザーを用いて記録 ・消去を繰り返し行ない、正 常に再生可能な回数を表示し た。
実施例1 基板材料として、PCを用い、射出成形して基板を得た
。この基板の信号面に前記条件(A)でSi中間層を形
成し、試料を作成し、密着性試験。
寿命試験を行なった。その結果を表1に示す。
また、上記条件にて試料を作成し、前述したように2枚
貼り合わせ光ディスクとし、書き換え試験を行なった。
その結果を表1に示す。
実施例2 基板材料として、pcを用い、射出成形で基板を得た。
この基板の信号面を前記条件(B)でスパッタエツチン
グし、その上に前記条件(B)でSi中間層を形成し、
試料を作成し、密着性試験。
寿命試験を行なった。その結果を表1に示す。
また、上記条件にて試料を作成し、前述したように2枚
貼り合わせ光ディスクとし、書き換え試験を行なった。
その結果を表1に示す。
比較例I Si中間層を形成せず、それ以外は実施例1と同様に試
料、光ディスクを作成し、試験を行なった。その結果を
表1に示す。
〔発明の効果〕
本発明によれば、プラスチック基板と記録層との間に中
間層を設けることにより、密着性が向上するので、情報
の記録・再生もしくは消去特性に優れ、かつ長期間に渡
り安定にその特性を維持することに効果がある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光学的に記録、再生もしくは消去可能である基板と
    情報記録層とからなる光学式情報記録媒体において、基
    板を透明プラスチックとし、基板上に設けられた情報記
    録層との間に、10〜2000Åの厚さを有するSi中
    間層を設けたことを特徴とする光学式情報記録媒体。 2、スパッタエッチングされた基板上にSi中間層を設
    けたことを特徴とする請求項1記載の光学式情報記録媒
    体。
JP63047481A 1988-03-02 1988-03-02 光学式情報記録媒体 Pending JPH01223644A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63047481A JPH01223644A (ja) 1988-03-02 1988-03-02 光学式情報記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63047481A JPH01223644A (ja) 1988-03-02 1988-03-02 光学式情報記録媒体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01223644A true JPH01223644A (ja) 1989-09-06

Family

ID=12776321

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63047481A Pending JPH01223644A (ja) 1988-03-02 1988-03-02 光学式情報記録媒体

Country Status (1)

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JP (1) JPH01223644A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0626683A1 (en) * 1993-05-27 1994-11-30 Canon Kabushiki Kaisha Optical recording medium and process for producing the same
EP0917138A3 (en) * 1997-11-17 1999-11-03 Eastman Kodak Company Recordable optical disks with metallic interlayer
US6007878A (en) * 1993-05-27 1999-12-28 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing an optical recording medium having a protective layer formed using a plasma processing device

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US6007878A (en) * 1993-05-27 1999-12-28 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing an optical recording medium having a protective layer formed using a plasma processing device
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