JPH081066A - 回転式薬液処理装置のバキュームシール構造 - Google Patents

回転式薬液処理装置のバキュームシール構造

Info

Publication number
JPH081066A
JPH081066A JP14200794A JP14200794A JPH081066A JP H081066 A JPH081066 A JP H081066A JP 14200794 A JP14200794 A JP 14200794A JP 14200794 A JP14200794 A JP 14200794A JP H081066 A JPH081066 A JP H081066A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rotary
shaft
annular
suction passage
rotary shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14200794A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuzo Takatsuki
龍三 高月
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tatsumo KK
Original Assignee
Tatsumo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tatsumo KK filed Critical Tatsumo KK
Priority to JP14200794A priority Critical patent/JPH081066A/ja
Publication of JPH081066A publication Critical patent/JPH081066A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70841Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 環状シール材の偏摩耗およびシール性の悪化
を確実に防止する。 【構成】 上面部に薬液処理される基板Bが装着され、
かつ、回転軸23の軸心回りに共回り可能に設けられた
回転カップ2と、この回転カップ2を回転軸23の軸心
回りに回転させる駆動モータ61と、回転軸23に垂直
方向に穿設された吸引通路23aと、この吸引通路23
aに連通して同通路内の空気を吸引する真空ポンプ81
と、回転軸23に外嵌された状態で真空ポンプ81と吸
引通路23aとの間に連通可能に介在され、内周面に環
状シール材9aが嵌装され、かつ、昇降ブロック73に
固定されるシールユニット9とから薬液処理装置1が構
成され、シールユニット9の内周面と回転軸23の外周
面との間にベアリング9bが介在されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の素子およびマ
スク、並びに液晶パネル等の製造工程において、ウエ
ハ、マスクあるいは液晶パネル等の基板の表面に薄膜を
形成させたり、あるいは同表面を現像したりエッチング
する遠心力を利用した回転式薬液処理装置において、真
空にて基板を吸着固定し、回転させて処理を行う基板の
装着台の垂直回転軸の軸心部分に設けられた吸気通路と
この吸気通路内の空気を吸引する吸気機構との間に介在
されるバキュームシール構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程においては、ウエハ等の
基板の上に、感光液等の薬液が均一に塗布された塗膜が
形成される。このような塗膜に所定の処理が施されて半
導体製品が製造される。塗膜の厚みは通常数ミクロンあ
るいはそれ以下と極めて薄く、また均一な厚みが要求さ
れることから、上記要求を満足させることが可能な図6
に示すような薬液処理装置10が利用される。
【0003】この図に示すように、薬液処理装置10
は、回転カップ20と、この回転カップ20の上面を被
覆するフード30と、回転カップ20の外周部を被覆す
るケーシング40と、上記回転カップ20を軸心回りに
回転させるための駆動モータ610とを備えた構成を有
している。回転カップ20の中心部には駆動モータ61
0の駆動軸と共用された回転軸230が下方に向かって
延設されている。駆動モータ610は回転カップ2の大
径軸部231が嵌め込まれた軸受体240の下部に固定
されている。従って、駆動モータ610を回転駆動させ
ることによって回転カップ20は回転軸230回りに共
回りする。
【0004】回転カップ20の上面に基板Bを配置し、
その上に薬液を滴下した後、フード30で覆って回転カ
ップ20を高速回転させることにより、遠心力で回転中
心から径方向に薬液が拡散され、基板B上に均一な塗膜
が形成される。
【0005】回転カップ20の外周縁部には、フード3
0と回転カップ20との間に形成される基板載置空間S
と外部とを連通する複数の排出孔201が穿設され、余
分な薬液がこれらの排出孔201を介してケーシング4
0に設けられた回収通路401内に放出されるようにな
っている。
【0006】そして、高速回転によっても回転カップ2
0の上面に配置された基板Bの位置ずれが起らないよう
に、基板Bは回転カップ20の表面に真空吸着されてい
る。基板Bを真空吸着するために、回転軸230の軸心
部分には上下に貫通した吸引通路230aが設けられて
いる。回転軸230は駆動モータ610の下端部より下
方に突出されているとともに、駆動モータ610の底部
には、回転軸230の下端部を包囲するシールユニット
90が固定されている。
【0007】上記シールユニット90には、回転軸23
0の下端部が嵌め込まれる軸孔910が設けられてお
り、この軸孔910の内周面と、回転軸230の外周面
との間に環状シール材9aが装着されている。また、軸
孔910の下部には吸気ポート920が設けられてお
り、この吸気ポート920にはユニオン93および吸気
管82を介して図外の吸引機構が接続されている。
【0008】従って、図外の吸気機構を稼働させること
によって、吸気管82、ユニオン93および吸気ポート
920を介して吸引通路230a内の空気が吸引される
ため、吸引通路230aの上部開口を塞ぐように載置さ
れた基板Bは回転カップ20の表面に吸着固定された状
態になる。この状態で回転カップ20を軸心回りに回転
させても、上記の吸着固定によって基板Bが位置ずれす
ることはない。
【0009】また、軸孔910の内周面と回転軸230
の外周面との間には環状シール材9aが介在されている
ため、吸気ポート920内への外気の侵入が有効に抑止
され、吸引通路230a内の良好な真空状態が維持され
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、シールユニ
ット90におけるシール状態を確実なものにするために
は、回転軸230の軸心と、軸孔910の中心とをミク
ロンオーダーの誤差で一致させることが必要であるが、
そのようなことは非常に困難である。従って、回転軸2
30を高速回転させると、上記わずかな偏心が原因とな
って環状シール材9aの内周面が偏摩耗して環状シール
材9aのシール性が損なわれる。
【0011】環状シール材9aのシール性が損なわれる
と、吸引通路230a内を所定の真空度にすることがで
きなくなり、回転カップ20上の基板Bを吸着保持する
力が弱まり、最悪の場合は基板Bが回転カップ20の表
面から剥がれて飛び出し、回転カップ20の周縁部やフ
ード30に激突して破損するという問題点を有してい
る。
【0012】また、回転軸230の下端に回転検出機構
等を設ける必要性が生じることがある。このようなとき
には、回転軸230の表面から吸引通路230aに連通
する横孔を穿設し、この横孔を介して吸引通路230a
内の空気を横引きするようにするとともに、回転軸23
0をシールユニット90よりも突出させ、この部分に上
記回転検出機構等を設けることが行われる。
【0013】しかしこのような横引き方式を採用した場
合には、回転軸が長くなり偏心や振動が大きくなった
り、吸引操作のON・OFF時に回転軸230を径方向
に吸引したり押圧したりする力が加わるため、このよう
な押引の繰り返しによって、回転軸230の横振れが大
きくなり、環状シール材9aの偏摩耗およびシール性の
悪化が助長されるという問題点を有している。
【0014】また、上記のようなシールユニットに対し
て磁性流体シール機構を適用することが考えられる。磁
性流体シール機構は、強磁性体の微粒子の表面を、界面
活性剤分子で密に被覆しそれを溶媒中に高密度で分散さ
せた、いわゆる磁性流体が応用されたシール機構であ
る。
【0015】そしてこの磁性流体を適用する場合は、上
記シールユニット90の軸孔910に環状シール材9a
の代わりに、内径が回転軸230の外径よりも大きい環
状の永久磁石を配設し、回転軸230の外周面と環状永
久磁石の内周面との間に形成された隙間に上記磁性流体
を介在させるようにすればよい。こうすることによっ
て、磁性流体は上記隙間内に形成された磁路に張り詰め
られた状態になり、良好なシール効果が得られる。
【0016】このような磁性流体シール機構を用いれ
ば、回転軸230の偏心回転にも柔軟に対応することが
できるが、このようなシール機構は非常に高価であると
いう問題点を有している。
【0017】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、環状シール材の偏摩耗およびシール
性の悪化を有効に抑止することができる安価な回転式薬
液処理装置のバキュームシール構造を提供することを目
的としている。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
回転式薬液処理装置のバキュームシール構造は、上部に
薬液処理される基板の装着台を支持し、軸受体に軸心回
りに回転可能に軸支された垂直回転軸と、この垂直回転
軸に上面から垂直方向途中位置まで穿設された吸引通路
と、この吸引通路に連通して同通路内の空気を吸引する
吸引機構と、上記垂直回転軸に外嵌された状態で上記吸
引機構と吸引通路との間に連通可能に介在され、内周面
に環状シール材が嵌装され、かつ、上記軸受体に固定さ
れる円筒状のシールユニットとからなる回転式薬液処理
装置において、上記垂直回転軸にはこの吸引通路に連通
する一または複数の径方向に延びた連絡孔が穿設され、
上記シールユニットには上記連絡孔を囲繞した環状吸気
ポートが形成され、この環状吸気ポートが上記吸引機構
に連通され、上記シールユニットの内周面と垂直回転軸
の外周面との間にベアリングが介在されていることを特
徴とするものである。
【0019】本発明の請求項2記載の回転式薬液処理装
置のバキュームシール構造は、請求項1記載の回転式薬
液処理装置のバキュームシール構造において、上記環状
吸気ポートには横方向に通気孔が穿孔された環状のスペ
ーサーが設けられ、このスペーサーの上下に上記環状シ
ール材が設けられていることを特徴とするものである。
【0020】
【作用】上記請求項1記載の回転式薬液処理装置のバキ
ュームシール構造によれば、シールユニットの内周面と
垂直回転軸の外周面との間にベアリングが介在されてい
るため、垂直回転軸の少なくともシールユニットに対向
した部分においては、上記ベアリングによって垂直回転
軸の軸心とシールユニットの中心とが一致した状態にな
り、それ以外の部分ではたとえ垂直回転軸が偏心状態で
あっても、シールユニットに包囲された部分は偏心して
おらず、従って、垂直回転軸の軸心回りの偏心回転によ
る環状シール材の偏摩耗や、シール性の悪化が有効に抑
止される。
【0021】また、垂直回転軸には吸引通路に連通する
一または複数の径方向に延びる連絡孔が穿設され、シー
ルユニットにはこの連絡孔に対応した環状吸気ポートが
形成されており、垂直回転軸の連絡孔は環状吸気ポート
に包囲された状態になっているため、回転軸の回転によ
って連絡孔がどの位相に位置しても、連絡孔は上記環状
吸気ポートに連通しており、常に有効に吸引通路内の空
気を吸引し、真空度に変動がない状態で吸引通路内の真
空状態を維持することが可能になる。
【0022】上記請求項2記載の回転式薬液処理装置の
バキュームシール構造によれば、環状吸気ポートには横
方向に通気孔が穿孔された環状のスペーサーが設けら
れ、このスペーサーによって環状吸気ポートを形成して
いるため、真空の吸引力により環状シール材が吸引さ
れ、吸気ポートを閉塞させることが有効に防止される。
【0023】
【実施例】図1は、本発明のバキュームシール構造が適
用された回転式薬液処理装置の一例を示す一部切欠き斜
視図であり、図2はそのA−A線断面図である。これら
の図に示すように、薬液処理装置1は、円盤状の回転カ
ップ(装着台)2、この回転カップ2の上面を覆うフー
ド3、上記回転カップ2が嵌装されるケーシング4、フ
ード3の着脱を行うフード着脱機構5、回転カップ2を
回転させるカップ回転機構6、および中径軸部21を昇
降させる昇降機構7と、回転カップ2の表面に基板Bを
吸着固定するために使用される吸引機構8と、この吸引
機構8と回転カップ2との間に介在されるシールユニッ
ト9とからなる基本構成を有している。
【0024】上記回転カップ2は、中径軸部21と、環
状皿部22とから構成されている。上記環状皿部22の
上面は、上記中径軸部21の上面と面一、あるいはわず
かに低い面一状になるように寸法設定されており、この
面一の面に塗膜形成を施す基板Bが中径軸部21の中心
軸に一致して載置されるようになっている。上記環状皿
部22の外周縁部には上方に突出した環状堰部(外周
壁)22aが設けられており、環状堰部22aでフード
3を受けるようになっている。フード3が装着された状
態でこの環状堰部22aによって囲まれた部分に基板載
置空間Sが形成される。
【0025】上記環状堰部22aの下部の周面には基板
載置空間Sから外方に向かって斜め下方に傾斜した小径
の排出孔201が所定間隔で複数個穿設されており、こ
の排出孔201を介して基板載置空間S内の余分な薬液
を外部に排出するようになっている。
【0026】上記中径軸部21の下部には同心の回転軸
(垂直回転軸)23が共回り可能に結合されている。中
径軸部21および回転軸(垂直回転軸)23の軸心部分
にはそれらを貫通した吸引通路23aが形成されてお
り、図2に示す真空ポンプを作動することによって回転
軸23の下端部に接続された吸気管82を介して基板B
を中径軸部21に吸着固定させるようになっている。
【0027】回転カップ2は、中径軸部21の小径部が
筒状の大径軸部24の筒孔に嵌め込まれた状態で大径軸
部24に固定されている。この大径軸部24の上部には
フランジ部24aが形成され、このフランジ部24aに
上記回転カップ2の環状皿部22が固定されている。
【0028】大径軸部24の下部は、支持架台Pに穿設
された装着孔P1に嵌め込まれ、外周面にフランジ(軸
受体)25aを有する支持筒体25に、ベアリング26
を介して嵌装されている。従って、回転カップ2は、支
持架台Pに対して回転軸23の軸心回りに回転可能にな
っている。
【0029】上記フード3は、フード本体31、このフ
ード本体31の中心部が上方に突出した円柱状の把持部
32、およびフード本体31の外周縁部が上方に膨出し
た膨出縁部33から構成されている。この膨出縁部33
は上記環状堰部22aに対応して設けられているもの
で、膨出縁部33の底面部が環状堰部22aの上面部に
当接することによって回転カップ2を閉止するようにな
っている。上記把持部32の頂部には後述するフード着
脱機構5による着脱動作を可能にすべくその下の胴部3
2aよりも径の大きい鍔部32bが形成されている。
【0030】上記回転カップ2の外周部に形成された環
状堰部22aの上面部には、図1に示すように、環状で
あって断面矩形状の内側突起27と外側突起28とから
なる二条の突起が径方向に所定間隔を置いて設けられて
いる。そして、内側突起27と外側突起28との間にO
リング204が嵌入され、シール構造が形成されてい
る。
【0031】上記回転カップ2の排出孔201に対向し
たケーシング4の内周面に環状の排出用帯孔41が設け
られている。この排出用帯孔41の開口は上記環状堰部
22aに穿設された排出孔201に対向して設けられ、
回転カップ2の基板載置空間Sから排出された不要の薬
液はこの排出用帯孔41を介して回収通路401内に導
入されるようになっている。回収通路401の周方向一
部には下方に向かって垂直孔42が設けられ、回収通路
401に溜った不要の薬液はこの垂直孔42から外部に
排出されるようになっている。
【0032】また、薬液処理装置1には、フード3を回
転カップ2に対して着脱するために、フード着脱機構5
が設けられている。このフード着脱機構5は、ケーシン
グ4に囲繞され、フード3を閉止する蓋体51、水平腕
が蓋体51に固定されたL字アーム52、およびこのL
字アーム52を上下動させるシリンダ53から構成され
ている。このシリンダ53は縦置きとされ、その頂部に
出没可能に突設されたシリンダロッド54の上端部がL
字アーム52の垂直腕に固定されている。
【0033】上記蓋体51の中央部には上記把持部32
の胴部32aの外径より大径でかつ鍔部32bよりも小
径の嵌入孔51bが設けられ、また蓋体51の中央部に
は鍔部32bを内部に収容する伏せ椀部51aが設けら
れている。シリンダ53により蓋体51を上方に引き上
げると、上記嵌入孔51bの縁部が鍔部32bに係合し
て、フード3も上方に引き上げられる。
【0034】また、上記回転カップ2を回転軸23の軸
心回りに回転させるために、支持架台Pの下部にはカッ
プ回転機構6が設けられている。このカップ回転機構6
は、駆動モータ61、この駆動モータ61の駆動軸に共
回りするように設けられた駆動プーリ62、大径軸部2
4およびボールスプライン63aと共回りするように設
けられた従動プーリ63および駆動プーリ62と従動プ
ーリ63との間に張設されたベルト64から構成されて
いる。
【0035】上記回転軸23の外周面にはスプラインが
形成されており、このスプラインに噛合するボールスプ
ライン63aが大径軸部24の筒孔の下部に嵌入固定さ
れている。上記従動プーリ63は大径軸部24およびボ
ールスプライン63aと共回りするように固定されてい
る。従って、上記駆動モータ61の回転力は駆動プーリ
62、ベルト64および従動プーリ63を介して大径軸
部24およびボールスプライン63aに伝達され、ま
た、上記ボールスプライン63aを介して回転軸23に
伝達され、中径軸部21および環状皿部22からなる回
転カップ2が回転するようになっている。
【0036】また、回転軸23の下部には昇降機構7が
設けられている。この昇降機構7は、回転軸23の下端
部近傍に縦置き状態で設けられた第二シリンダ71、こ
の第二シリンダ71のシリンダロッド72の上端部に結
合された昇降ブロック73およびこの昇降ブロック73
の上下動をガイドするための上下方向に延びたガイドレ
ール74から構成されている。
【0037】上記昇降ブロック73は、側面視が鉤形を
呈しており、上部は水平方向に延びる軸受部73aにな
っている。この軸受部73aは、先端側が二股に分岐さ
れており、二股の上方側に上部軸受73b、同下方側に
下部軸受(軸受体)73cが形成されている。そして、
上部軸受73bはベアリング73dを介して回転軸23
の下部に結合されており、第二シリンダ71を作動させ
てシリンダロッド72を上下動させることにより回転軸
23を上下動させるようになっている。回転軸23が第
二シリンダ71の作動によって上昇させられると、その
頂部に設けられた回転カップ2の中径軸部21と大径軸
部24との結合状態が解除され、中径軸部21のみが環
状皿部22に対して上方に移動し、基板Bの載置や取り
上げ動作が容易に行い得るようになる。
【0038】上記吸引機構8は、図2に示すように、真
空ポンプ81およびこの真空ポンプ81と回転軸23の
吸引通路23a間に配設された吸気管82から構成され
ている。そして、図3は、図2の要部の部分拡大図であ
ってシールユニットの断面を示しており、また、図4は
シールユニットの内部を例示する一部切欠き斜視図であ
る。これらの図に示すように、上記吸気管82と、回転
軸23の下端部との間に本発明に係るシールユニット9
が介在されている。
【0039】このシールユニット9は、内部に回転軸2
3の下端部を嵌め込む軸孔91の穿設された円筒状のユ
ニット本体9xと、このユニット本体9xの軸孔91の
内周面と回転軸23の外周面との間に介在される複数の
環状シール材9aと、これら複数の環状シール材9aの
上下部に配設される上下一対のベアリング9bとを備え
ている。
【0040】上記ユニット本体9xの上下方向の略中央
部には、外部から軸孔91内に連通した吸気ポート9
2′が穿設されている。この吸気ポート92′の外方内
周面には雌ネジが螺設された雌ネジ部が形成されてお
り、この雌ネジ部に吸気管82の接続されたユニオン9
3が螺着され、図2に示すように、真空ポンプ81とユ
ニット本体9xの軸孔91内とが連通状態になってい
る。
【0041】本実施例においては、上記環状シール材9
aは吸気ポート92′の上方に2個、下方に2個の合計
4個が装着され、上方の環状シール材9aのさらに上部
に上方のベアリング9bが配設されているとともに、下
方の環状シール材9aのさらに下部に下方のベアリング
9bが配設されている。従って、上方の環状シール材9
aと下方の環状シール材9aとの間に空間(環状吸気ポ
ート92)が形成された状態になっている。
【0042】そして、本実施例においては、上記環状吸
気ポート92に、図3〜図5に示すような環状のスペー
サー95が嵌め込まれ、このスペーサー95の存在によ
って環状吸気ポート92が形成され、真空の吸引力によ
って環状シール材9aが吸引され、環状吸気ポート92
を閉塞してしまうのが阻止されるようになっている。こ
のスペーサー95はリング体から構成され、その外周に
は円環状の通気溝95cが形成されている。この通気溝
95cの内奥の環状壁95aの適所には上記環状吸気ポ
ート92に連通する複数の通気孔95bが設けられてい
る。従って、スペーサー95は、どのような位相で装着
されても、スペーサー95の外周面に形成されるの通気
溝95cの開口は必ずユニット本体9xの吸気ポート9
2′に対向する状態になる。
【0043】なお、ユニット本体9xの内周面に、上記
環状壁95aに相当する環状突起を突設しておけば、上
記スペーサー95を用いることなく環状吸気ポート92
を形成させることが可能である。
【0044】また、ベアリング9bと、それに隣接した
環状シール材9aとの間には、ベアリング9bの内輪と
環状シール材9aが接触するのを阻止すべく単なるリン
グ体からなるスペーサー96が設けられている。
【0045】このようなユニット本体9xの上部には鍔
部9yが設けられており、この鍔部9yがボルト94に
よって昇降ブロック73の上部軸受73bに取り付けら
れることによってシールユニット9が昇降ブロック73
に固定されるようになっている。
【0046】一方、回転軸23の環状吸気ポート92に
対応した部分には、放射状に吸引通路23aから外部に
連通する複数の連絡孔23bが穿設されている。従っ
て、上記真空ポンプ81と回転軸23の吸引通路23a
とは、吸気管82、ユニオン93、吸気ポート92′、
スペーサー95の通気孔95b、スペーサー95の内側
の吸気ポート92、および回転軸23の連絡孔23bを
介して互いに連通状態になっている。
【0047】なお、本実施例においては、環状シール材
9aはスペーサー95の上下に2個づつが配設されてい
るが、2個づつに限定されるものではなく、シール効果
が充分に確保されるのであれば1個づつでもよいし、よ
り良好なシール効果を期待するのであれば3個以上づつ
にしてもよい。また、上下の環状シール材9aの数を同
じにそろえる必要はない。また、本実施例においては、
環状シール材9aの上下に一対のベアリング9bが配設
されているが、ベアリング9bは上下一対に限定される
ものではなく、上方または下方のいずれか一方にのみ設
けるようにしてもよい。
【0048】本発明のバキュームシール構造が適用され
た回転式薬液処理装置は以上のように構成されているの
で、基板Bの表面に塗膜を形成させるには、まず、図2
の二点鎖線で示すように、シリンダ53を作動させてシ
リンダロッド54、L字アーム52および伏せ椀部51
aを介して蓋体51を上昇させる。そうすると、伏せ椀
部51aが把持部32の鍔部32bを摘んだ状態でフー
ド3を上方に持ち上げ、回転カップ2の基板載置空間S
が外部に露出した状態になる。
【0049】この状態でさらに第二シリンダ71を作動
させて昇降ブロック73を上昇させれば、この上昇によ
って回転軸23を介して中径軸部21は上昇し、その上
面部が基板載置空間Sから外部に突出した状態になる。
この状態で中径軸部21の上面に図略のロボットアーム
あるいはマニュアル操作で基板Bを正確に載置し、さら
に基板Bの表面に所定量の薬液を滴下する。
【0050】そして、真空ポンプ81を稼働させると、
回転軸23の吸引通路23a内の空気は、回転軸23に
放射状に穿設された連絡孔23b、スペーサー95の内
側に形成された環状吸気ポート92、ユニット本体9x
の側壁に設けられた吸気ポート92′、ユニオン93お
よび吸気管82を介して真空ポンプ81によって吸引さ
れ、吸引通路23aの内部は真空状態になるため、吸引
通路23aの上部開口を塞ぐように回転カップ2の中径
軸部21の表面に載置された基板Bは、吸引通路23a
の方向に吸引され、この吸引力によって中径軸部21の
表面に吸着固定された状態になる。
【0051】その後第二シリンダ71を上記と逆に作動
させて中径軸部21を下降させ、再度環状皿部22と面
一状態にする。そして、シリンダ53を上記と逆に作動
させてフード3を下降させ、基板載置空間Sを閉止す
る。なお、基板Bの吸引はフード3の閉止後すなわち回
転カップ2の回転開始までに行うようにしてもよい。
【0052】上記真空ポンプ81の運転を継続させた状
態で、カップ回転機構6の駆動モータ61を駆動させれ
ば、その回転駆動は駆動プーリ62、ベルト64、従動
プーリ63およびボールスプライン63aを介して回転
軸23および大径軸部24に伝達され、これにらに接続
された回転カップ2は所定の速度で回転するが、回転カ
ップ2上に載置された基板Bは上記真空ポンプ81の稼
働によって吸着固定されているため、位置ずれを起した
り、回転カップ2の表面から飛び出したりすることはな
い。
【0053】上記回転カップ2の回転による遠心力で基
板B上に滴下された薬液は径方向に薄く拡散し、基板B
の表面に塗膜が形成される。基板B上から振り切られた
余分な薬液は、回転カップ2の環状堰部22aに穿設さ
れた排出孔201から排出され、ケーシング4の排出用
帯孔41を介して回収通路401内に導入され、垂直孔
42から外部に導出される。
【0054】所定時間経過後、駆動モータ61の回転駆
動を停止し、シリンダ53を駆動させてシリンダロッド
54を上方に移動させることによってフード3は持ち上
げられ、回転カップ2上の塗膜が形成された直後の基板
Bが露出した状態になる。この状態で、第二シリンダ7
1の作動によってシリンダロッド72が上昇し、このシ
リンダロッド72に結合された回転軸23を介して回転
カップ2の中径軸部21は上昇し、その上に載置された
基板Bは基板載置空間Sから外部に押し出される。そし
て、基板Bは同様にロボットアーム等によって回転カッ
プ2から取り出され、つぎの工程に移送されることにな
る。以上の操作を繰り返すことによって順次基板Bの表
面に薬液の均一な塗膜が形成されることになる。
【0055】そして、本発明においては、シールユニッ
ト9の軸孔91の内周面と、回転軸23の外周面との間
にベアリング9bが挟持されているため、たとえ上部で
回転軸23の軸心が軸孔91の中心に対して偏心してい
たとしても、このベアリング9bに規制されて軸孔91
の上下方向に延びる中心と回転軸23の軸心とが一致し
た状態に強制される。従って、環状シール材9aの内周
面と、回転軸23の外周面との当接状態は常に一定して
おり、従来のような回転軸23の偏心回転による環状シ
ール材9aの内周面の偏摩耗が有効に抑止され、その結
果環状シール材9aの寿命が飛躍的に向上し、メンテナ
ンスコストを低減する上で極めて有効である。
【0056】また、回転軸23の偏心が起らないため、
環状シール材9aの内周面が回転軸23の外周面を押圧
する圧力は環状シール材9aの周方向で不変であり、従
って、従来のような周方向で部分的に押圧力が異なるこ
とによるシール効果の不均一が生じることはなく、常に
安定したシール効果を実現することが可能になる。
【0057】
【発明の効果】本発明の請求項1記載の回転式薬液処理
装置のバキュームシール構造によれば、シールユニット
の内周面と垂直回転軸の外周面との間にベアリングが介
在されているため、垂直回転軸の少なくともシールユニ
ットに対向した部分においては、上記ベアリングによっ
て垂直回転軸の軸心とシールユニットの中心とが一致し
た状態になり、それ以外の部分ではたとえ垂直回転軸が
偏心状態であっても、シールユニットに包囲された部分
は偏心しておらず、従って、垂直回転軸の軸心回りの偏
心回転による環状シール材の偏摩耗や、シール性の悪化
が有効に抑止される。
【0058】従って、環状シール材の寿命が飛躍的に延
び、メンテナンスコストを低減させることが可能になる
とともに、シール性の悪化に起因した基板の外れも有効
に抑止され、装置運転の安全性が向上する。
【0059】また、垂直回転軸には吸引通路に連通する
一または複数の径方向に延びる連絡孔が穿設され、シー
ルユニットにはこの連絡孔に対応した環状吸気ポートが
形成されており、垂直回転軸の連絡孔は環状吸気ポート
に包囲された状態になっているため、回転軸の回転によ
って連絡孔がどの位相に位置しても、連絡孔は上記環状
吸気ポートに連通しており、常に有効に吸引通路内の空
気を吸引し、真空度に変動がない状態で吸引通路内の真
空状態を維持することが可能になる。
【0060】本発明の請求項2記載の回転式薬液処理装
置のバキュームシール構造によれば、環状吸気ポートに
は横方向に通気孔が穿孔された環状のスペーサーが設け
られ、このスペーサーによって環状吸気ポートを形成し
ているため、真空の吸引力により環状シール材が吸引さ
れ、吸気ポートを閉塞させることが有効に防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るバキュームシール構造が適用され
た回転式薬液処理装置の一例を示す一部切欠き斜視図で
ある。
【図2】図1のA−A線断面図である。
【図3】図2の要部の部分拡大図である。
【図4】本発明に係るバキュームシール構造を例示する
斜視図である。
【図5】図4のB−B線断面図である。
【図6】従来の回転式薬液処理装置のバキュームシール
構造を説明するための断面視の説明図である。
【符号の説明】
1 薬液処理装置 2 回転カップ(装着台) 21 中径軸部 22 環状皿部 22a 環状堰部(外周壁) 201 排出孔 204 Oリング 23 回転軸(垂直回転軸) 23a 吸引通路 23b 連絡孔 24 大径軸部 25 支持筒体 25a フランジ(軸受体) 26 ベアリング 27 内側突起 28 外側突起 29 嵌入溝 3 フード 31 フード本体 32 把持部 33 膨出縁部 4 ケーシング 41 排出用帯孔 401 回収通路 5 フード着脱機構 51 蓋体 52 L字アーム 53 シリンダ 54 シリンダロッド 6 カップ回転機構 61 駆動モータ 62 駆動プーリ 63 従動プーリ 7 昇降機構 71 第二シリンダ 72 シリンダロッド 73 昇降ブロック73 8 吸引機構 81 真空ポンプ 82 吸気管 9 シールユニット 9a 環状シール材 9b ベアリング 91 軸孔 92 吸気ポート 93 ユニオン 94 吸気管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/306 21/68 P

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上部に薬液処理される基板の装着台を支
    持し、軸受体に軸心回りに回転可能に軸支された垂直回
    転軸と、この垂直回転軸に上面から垂直方向途中位置ま
    で穿設された吸引通路と、この吸引通路に連通して同通
    路内の空気を吸引する吸引機構と、上記垂直回転軸に外
    嵌された状態で上記吸引機構と吸引通路との間に連通可
    能に介在され、内周面に環状シール材が嵌装され、か
    つ、上記軸受体に固定される円筒状のシールユニットと
    からなる回転式薬液処理装置において、上記垂直回転軸
    にはこの吸引通路に連通する一または複数の径方向に延
    びた連絡孔が穿設され、上記シールユニットには上記連
    絡孔を囲繞した環状吸気ポートが形成され、この環状吸
    気ポートが上記吸引機構に連通され、上記シールユニッ
    トの内周面と垂直回転軸の外周面との間にベアリングが
    介在されていることを特徴とする回転式薬液処理装置の
    バキュームシール構造。
  2. 【請求項2】 上記環状吸気ポートには横方向に通気孔
    が穿孔された環状のスペーサーが設けられ、このスペー
    サーの上下に上記環状シール材が設けられていることを
    特徴とする請求項1記載の回転式薬液処理装置のバキュ
    ームシール構造。
JP14200794A 1994-06-23 1994-06-23 回転式薬液処理装置のバキュームシール構造 Pending JPH081066A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14200794A JPH081066A (ja) 1994-06-23 1994-06-23 回転式薬液処理装置のバキュームシール構造

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14200794A JPH081066A (ja) 1994-06-23 1994-06-23 回転式薬液処理装置のバキュームシール構造

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH081066A true JPH081066A (ja) 1996-01-09

Family

ID=15305215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14200794A Pending JPH081066A (ja) 1994-06-23 1994-06-23 回転式薬液処理装置のバキュームシール構造

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH081066A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102858421A (zh) * 2010-04-22 2013-01-02 株式会社利富高 过滤装置
JP2016186841A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社メルビル 試料回転用部材、及び試料回転装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102858421A (zh) * 2010-04-22 2013-01-02 株式会社利富高 过滤装置
JP2016186841A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社メルビル 試料回転用部材、及び試料回転装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100230502B1 (ko) 회전식 약액 처리장치
KR100235244B1 (ko) 회전컵식 도포장치
JP2006310697A (ja) 吸着チャック
JP4179593B2 (ja) 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法
JPH081066A (ja) 回転式薬液処理装置のバキュームシール構造
JP2690862B2 (ja) 真空チャック装置からのワークの取り外し方法及びワークの取り外し装置
JP3761415B2 (ja) 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法
JP2995262B2 (ja) 回転カップ式薬液処理装置
JP3133735B2 (ja) 回転式塗布装置
JP2995263B2 (ja) 回転式薬液処理装置のシール構造
JPH07263325A (ja) 吸引チャック式基板回転処理装置
JP3619667B2 (ja) 基板処理装置
JP2002096011A (ja) 基板処理装置
JP3569477B2 (ja) 回転カップ式薬液塗布装置
JP2000223395A (ja) 半導体製造品の回転塗布装置、および半導体製造品の回転塗布方法
JP2000243739A (ja) ウエーハの化学研磨処理方法及び装置
JP2000317353A (ja) 回転カップ式薄膜塗布装置
JPH10414A (ja) 塗布装置
JP3594416B2 (ja) 回転式基板処理装置
JP2001077082A (ja) 処理液回収用チャンバー構造
JP2004039978A (ja) 基板保持装置
JPH0441977Y2 (ja)
JP3352596B2 (ja) 遠心力を利用した薬液塗布装置
JP3873100B2 (ja) 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置
JP3387730B2 (ja) 回転式基板処理装置