JPH08127568A - 新規(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法および殺菌剤 - Google Patents
新規(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法および殺菌剤Info
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Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 殺菌剤の有効成分として利用できる、(アゾ
リルメチル)シクロペンタノール誘導体を提供する。 【構成】 下記式(I) (式中、Xは、ハロゲン原子、C1〜C5アルキル基、
C1〜C4ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基また
はニトロ基を示し、同一または相異なっていてもよい、
nは、0〜5の整数を示し、Aは、CHまたは、Nを示
す)で表されるアゾリルメチルシクロペンタノール誘導
体。
リルメチル)シクロペンタノール誘導体を提供する。 【構成】 下記式(I) (式中、Xは、ハロゲン原子、C1〜C5アルキル基、
C1〜C4ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基また
はニトロ基を示し、同一または相異なっていてもよい、
nは、0〜5の整数を示し、Aは、CHまたは、Nを示
す)で表されるアゾリルメチルシクロペンタノール誘導
体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、殺菌剤の有効成分とし
て利用できる、(アゾリルメチル)シクロペンタノール
誘導体に関するものである。
て利用できる、(アゾリルメチル)シクロペンタノール
誘導体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】(アゾリルメチル)シクロペンタノール
誘導体には、例えば、特開昭62-149667 号公報には、殺
菌剤の有効成分として利用できる、化3の式(A )の化
合物が記載されている(式中、 Y1 は、ハロゲン原子、
アルキル基、ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基ま
たはニトロ基を示し、同一または相異なっていてもよ
い、t は、0 〜 5の整数を示し、 Aは、CHまたは、 Nを
示す)。
誘導体には、例えば、特開昭62-149667 号公報には、殺
菌剤の有効成分として利用できる、化3の式(A )の化
合物が記載されている(式中、 Y1 は、ハロゲン原子、
アルキル基、ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基ま
たはニトロ基を示し、同一または相異なっていてもよ
い、t は、0 〜 5の整数を示し、 Aは、CHまたは、 Nを
示す)。
【化3】 また、特開平1-93574 号公報には、化4の式(B )の化
合物が記載されている(式中、 R2 と R3 は、それぞれ
独立に水素原子または C1 〜 C5 のアルキル基を示し、
Y2 は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、
フェニル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一また
は相異なっていてもよい、m は、0 〜 2の整数を示し、
Aは、CHまたは、 Nを示す)。
合物が記載されている(式中、 R2 と R3 は、それぞれ
独立に水素原子または C1 〜 C5 のアルキル基を示し、
Y2 は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、
フェニル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一また
は相異なっていてもよい、m は、0 〜 2の整数を示し、
Aは、CHまたは、 Nを示す)。
【化4】 さらに、特開平6-65208 号公報には、化5の式(C )の
(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体が記載さ
れている(式中、 Y3 は、ハロゲン原子、C1〜C5アルキ
ル基、ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基またはニ
トロ基を示し、同一または相異なっていてもよい、p
は、0 〜 5の整数を示し、 Aは、CHまたは、 Nを示
す)。
(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体が記載さ
れている(式中、 Y3 は、ハロゲン原子、C1〜C5アルキ
ル基、ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基またはニ
トロ基を示し、同一または相異なっていてもよい、p
は、0 〜 5の整数を示し、 Aは、CHまたは、 Nを示
す)。
【化5】
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、化6の
式(I )の(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導
体は未だ知られておらず、その有用性についても検討さ
れていなかった。本発明は、式(I )の(アゾリルメチ
ル)シクロペンタノール誘導体の製造方法を確立し、そ
の有用性を明らかにすることを課題としてなされたもの
である。したがって、本発明の目的は、新規な(アゾリ
ルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法お
よび殺菌剤を提供することにある。(式中、X は、ハロ
ゲン原子、C1〜C5アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、
フェニル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一また
は相異なっていてもよい、nは、0 〜 5の整数を示し、
Aは、CHまたは、 Nを示す)。
式(I )の(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導
体は未だ知られておらず、その有用性についても検討さ
れていなかった。本発明は、式(I )の(アゾリルメチ
ル)シクロペンタノール誘導体の製造方法を確立し、そ
の有用性を明らかにすることを課題としてなされたもの
である。したがって、本発明の目的は、新規な(アゾリ
ルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法お
よび殺菌剤を提供することにある。(式中、X は、ハロ
ゲン原子、C1〜C5アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、
フェニル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一また
は相異なっていてもよい、nは、0 〜 5の整数を示し、
Aは、CHまたは、 Nを示す)。
【化6】
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、シクロペ
ンタン環に置換している 2個のメチル基の結合位置に注
目した。すなわち、特開平1-93574 号公報に記載の式
(B )の化合物では、水酸基の結合している炭素原子の
2位(α位)の炭素原子に結合している。特開平6-6520
8 号公報に記載の式(C )の化合物では、もう一つとな
り 3位(β位)の炭素原子に結合している。これら、化
合物(B )や化合物(C )とは異なる位置に 2個のメチ
ル基が結合している式(I )の化合物が殺菌剤の有効成
分として有用であることを見いだし本発明を完成するに
至った。
ンタン環に置換している 2個のメチル基の結合位置に注
目した。すなわち、特開平1-93574 号公報に記載の式
(B )の化合物では、水酸基の結合している炭素原子の
2位(α位)の炭素原子に結合している。特開平6-6520
8 号公報に記載の式(C )の化合物では、もう一つとな
り 3位(β位)の炭素原子に結合している。これら、化
合物(B )や化合物(C )とは異なる位置に 2個のメチ
ル基が結合している式(I )の化合物が殺菌剤の有効成
分として有用であることを見いだし本発明を完成するに
至った。
【0005】本発明は次の構成上の特徴を有する。第一
の発明は、化7の式(I )の(アゾリルメチル)シクロ
ペンタノール誘導体に関する。(式中、X は、ハロゲン
原子、C1〜C5アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、フェ
ニル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一または相
異なっていてもよい、nは、0 〜 5の整数を示し、 A
は、CHまたは、 Nを示す)。
の発明は、化7の式(I )の(アゾリルメチル)シクロ
ペンタノール誘導体に関する。(式中、X は、ハロゲン
原子、C1〜C5アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、フェ
ニル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一または相
異なっていてもよい、nは、0 〜 5の整数を示し、 A
は、CHまたは、 Nを示す)。
【化7】
【0006】第二の発明は、上記式(I )の(アゾリル
メチル)シクロペンタノール誘導体を有効成分とする殺
菌剤に関する。
メチル)シクロペンタノール誘導体を有効成分とする殺
菌剤に関する。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。なお、以
下に示す化8から化12までの反応式において、X 、n
、A は各々上記と同じ内容を示す。X の定義中、ハロ
ゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子を包含
し、C1〜C5アルキル基は、メチル基、エチル基、i−プ
ロピル基、t−ブチル基を包含し、C1〜C4ハロアルキル
基は、トリフルオロメチル基を包含する。M は、アルカ
リ金属原子、2分の1のアルカリ土類金属原子または、
2価カチオンの内の1価をアニオンとの結合で電気的に
中性化しているアルカリ土類金属原子(例えば、MgBr)
を示す。M2は、ハロゲン原子を示す。式(I )の(アゾ
リルメチル)シクロペンタノール誘導体は、次のように
して製造することができる。すなわち、化8の反応式に
示すように、式(IV)の2−(無置換または置換ベンジ
ル)−3,3−ジメチルシクロペンタノンを、ジメチル
オキソスルホニウムメチリドまたはジメチルスルホニウ
ムメチリドと反応させて、式(II)のオキサスピロヘプ
タンを得る。(以下、この工程をエポキシ化工程と記載
する)ついで、化合物(II)を式(III )のアゾール化
合物と反応させて、目的物である、式(I )の(アゾリ
ルメチル)シクロペンタノール誘導体を得ることができ
る。(以下、この工程をアゾール化工程と記載する)
下に示す化8から化12までの反応式において、X 、n
、A は各々上記と同じ内容を示す。X の定義中、ハロ
ゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子を包含
し、C1〜C5アルキル基は、メチル基、エチル基、i−プ
ロピル基、t−ブチル基を包含し、C1〜C4ハロアルキル
基は、トリフルオロメチル基を包含する。M は、アルカ
リ金属原子、2分の1のアルカリ土類金属原子または、
2価カチオンの内の1価をアニオンとの結合で電気的に
中性化しているアルカリ土類金属原子(例えば、MgBr)
を示す。M2は、ハロゲン原子を示す。式(I )の(アゾ
リルメチル)シクロペンタノール誘導体は、次のように
して製造することができる。すなわち、化8の反応式に
示すように、式(IV)の2−(無置換または置換ベンジ
ル)−3,3−ジメチルシクロペンタノンを、ジメチル
オキソスルホニウムメチリドまたはジメチルスルホニウ
ムメチリドと反応させて、式(II)のオキサスピロヘプ
タンを得る。(以下、この工程をエポキシ化工程と記載
する)ついで、化合物(II)を式(III )のアゾール化
合物と反応させて、目的物である、式(I )の(アゾリ
ルメチル)シクロペンタノール誘導体を得ることができ
る。(以下、この工程をアゾール化工程と記載する)
【化8】
【0008】本発明では、化合物(IV)を、以下に記載
する2通りの方法で合成できる。式(X )の2−(無置
換または置換ベンジル)シクロペンタノンを原料化合物
にして、6工程で合成する方法(以下、6工程法と記載
する)と、式(XIV )の2,2−ジメチルシクロペンタ
ノンを原料化合物にして、4工程で合成する方法(以
下、4工程法と記載する)である。
する2通りの方法で合成できる。式(X )の2−(無置
換または置換ベンジル)シクロペンタノンを原料化合物
にして、6工程で合成する方法(以下、6工程法と記載
する)と、式(XIV )の2,2−ジメチルシクロペンタ
ノンを原料化合物にして、4工程で合成する方法(以
下、4工程法と記載する)である。
【0009】化合物(X )から出発する方法は、まず、
化9の反応式に示すように、化合物(X )を塩素化し、
式(IX)の2−クロロ−2−(無置換または置換ベンジ
ル)シクロペンタノンを合成する。ついで、化合物(I
X)を脱塩酸して、式(VIII)の2−(無置換または置
換ベンジル)−2−シクロペンテン−1−オンに誘導す
る。ついで、化合物(VIII)をメチル化して、式(VII
)の2−(無置換または置換ベンジル)−3−メチル
シクロペンタノンを合成する。(以下、これら 3工程
を、塩素化工程、脱塩酸工程、メチル化工程と記載す
る)
化9の反応式に示すように、化合物(X )を塩素化し、
式(IX)の2−クロロ−2−(無置換または置換ベンジ
ル)シクロペンタノンを合成する。ついで、化合物(I
X)を脱塩酸して、式(VIII)の2−(無置換または置
換ベンジル)−2−シクロペンテン−1−オンに誘導す
る。ついで、化合物(VIII)をメチル化して、式(VII
)の2−(無置換または置換ベンジル)−3−メチル
シクロペンタノンを合成する。(以下、これら 3工程
を、塩素化工程、脱塩酸工程、メチル化工程と記載す
る)
【化9】
【0010】次に、化10の反応式に示すように、化合
物(VII )を塩素化し、式(VI)の2−クロロ−2−
(無置換または置換ベンジル)−3−メチルシクロペン
タノンを合成する。ついで、化合物(VI)を脱塩酸し
て、式(V )の2−(無置換または置換ベンジル)−3
−メチル−2−シクロペンテン−1−オンに誘導する。
ついで、化合物(V )をメチル化して、化合物(IV)を
合成する。(以下、これら3工程を、塩素化工程、脱塩
酸工程、メチル化工程と記載する)
物(VII )を塩素化し、式(VI)の2−クロロ−2−
(無置換または置換ベンジル)−3−メチルシクロペン
タノンを合成する。ついで、化合物(VI)を脱塩酸し
て、式(V )の2−(無置換または置換ベンジル)−3
−メチル−2−シクロペンテン−1−オンに誘導する。
ついで、化合物(V )をメチル化して、化合物(IV)を
合成する。(以下、これら3工程を、塩素化工程、脱塩
酸工程、メチル化工程と記載する)
【化10】
【0011】化合物(XIV )から出発する方法は、ま
ず、化11の反応式に示すように、式(XV)の(無置換
または置換ベンジル)ハライドから有機金属化合物を調
製する。ついで、この(無置換または置換ベンジル)金
属化合物を化合物(XIV )のカルボニル基に求核的に付
加させて、式(XIII)の1−(無置換または置換ベンジ
ル)−2,2−ジメチルシクロペンタノールに誘導す
る。次に、化合物(XIII)を有機溶媒中、酸触媒で脱水
して、式(XII )の2−(無置換または置換ベンジル)
−3,3−ジメチル−1−シクロペンテンを合成する。
(以下、これら 2工程を、ベンジル化工程、脱水工程と
記載する)
ず、化11の反応式に示すように、式(XV)の(無置換
または置換ベンジル)ハライドから有機金属化合物を調
製する。ついで、この(無置換または置換ベンジル)金
属化合物を化合物(XIV )のカルボニル基に求核的に付
加させて、式(XIII)の1−(無置換または置換ベンジ
ル)−2,2−ジメチルシクロペンタノールに誘導す
る。次に、化合物(XIII)を有機溶媒中、酸触媒で脱水
して、式(XII )の2−(無置換または置換ベンジル)
−3,3−ジメチル−1−シクロペンテンを合成する。
(以下、これら 2工程を、ベンジル化工程、脱水工程と
記載する)
【化11】
【0012】次に、化12の反応式に示すように、化合
物(XII )に、ハイドロボレーションをして、得られる
ホウ素化合物を、水酸イオンの存在下で酸化して、式
(XI)の2−(無置換または置換ベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノールに誘導する。ついで、化合
物(XI)を酸化して、化合物(IV)を合成する。(以
下、これら 2工程を、水酸化工程、酸化工程と記載す
る)
物(XII )に、ハイドロボレーションをして、得られる
ホウ素化合物を、水酸イオンの存在下で酸化して、式
(XI)の2−(無置換または置換ベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノールに誘導する。ついで、化合
物(XI)を酸化して、化合物(IV)を合成する。(以
下、これら 2工程を、水酸化工程、酸化工程と記載す
る)
【化12】
【0013】本発明の式(I )の(アゾリルメチル)シ
クロペンタノール誘導体の製造法における一連の反応で
用いられる希釈剤としては、下記のものを例示し得る。
これらは、単独で、もしくは、混合して使用する。水。
ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸。ベンゼン、トル
エン、キシレン、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン等の炭化水素類。塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類。メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、t−ブタノール等のアルコール類。ジエチルエー
テル、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジグリム、ジオキサン等のエーテル
類。その他、二硫化炭素、アセトニトリル、アセトン、
酢酸エチル、無水酢酸、ピリジン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジ
ノン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリッ
クアミド等。
クロペンタノール誘導体の製造法における一連の反応で
用いられる希釈剤としては、下記のものを例示し得る。
これらは、単独で、もしくは、混合して使用する。水。
ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸。ベンゼン、トル
エン、キシレン、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン等の炭化水素類。塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類。メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、t−ブタノール等のアルコール類。ジエチルエー
テル、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジグリム、ジオキサン等のエーテル
類。その他、二硫化炭素、アセトニトリル、アセトン、
酢酸エチル、無水酢酸、ピリジン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジ
ノン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリッ
クアミド等。
【0014】また、上記の希釈剤に加えて、塩基また
は、酸の共存下に反応を行なうこともある。ここで用い
る塩基としては下記のものを例示し得る。炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金
属の炭酸塩。炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカ
リ土類金属の炭酸塩。水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属の水酸化物。酸化マグネシウム、酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属の酸化物。リチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、マグネ
シウムなどのアルカリ土類金属。ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等
のアルカリ金属のアルコキシド。水素化ナトリウム、水
素化カリウム等のアルカリ金属水素化合物。メチルリチ
ウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、フェニルリ
チウム等のアルカリ金属の有機金属化合物。メチルマグ
ネシウムアイオダイド、エチルマグネシウムブロマイ
ド、n-ブチルマグネシウムブロマイド等の有機グリニャ
ール試薬。アルカリ金属の有機金属化合物や、グリニャ
ール試薬と銅(I )塩から調製できる有機銅化合物。リ
チウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド。
アンモニア水、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウ
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水酸化アンモ
ウニウム類。メチルアミン、エチルアミン、n-プロピル
アミン、ベンジルアミン、エタノールアミン、ジメチル
アミン、ベンジルメチルアミン、ジベンジルアミン、ト
リエチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン等の
有機アミン類。また、酸としては、塩酸、臭化水素酸、
ヨウ化水素酸、過塩素酸、硫酸等の無機酸ならびにギ
酸、酢酸、酪酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸、三
フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、三塩化ホウ素、
塩化亜鉛、塩化アルミニウム等のルイス酸を例示し得
る。
は、酸の共存下に反応を行なうこともある。ここで用い
る塩基としては下記のものを例示し得る。炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金
属の炭酸塩。炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカ
リ土類金属の炭酸塩。水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属の水酸化物。酸化マグネシウム、酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属の酸化物。リチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、マグネ
シウムなどのアルカリ土類金属。ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等
のアルカリ金属のアルコキシド。水素化ナトリウム、水
素化カリウム等のアルカリ金属水素化合物。メチルリチ
ウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、フェニルリ
チウム等のアルカリ金属の有機金属化合物。メチルマグ
ネシウムアイオダイド、エチルマグネシウムブロマイ
ド、n-ブチルマグネシウムブロマイド等の有機グリニャ
ール試薬。アルカリ金属の有機金属化合物や、グリニャ
ール試薬と銅(I )塩から調製できる有機銅化合物。リ
チウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド。
アンモニア水、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウ
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水酸化アンモ
ウニウム類。メチルアミン、エチルアミン、n-プロピル
アミン、ベンジルアミン、エタノールアミン、ジメチル
アミン、ベンジルメチルアミン、ジベンジルアミン、ト
リエチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン等の
有機アミン類。また、酸としては、塩酸、臭化水素酸、
ヨウ化水素酸、過塩素酸、硫酸等の無機酸ならびにギ
酸、酢酸、酪酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸、三
フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、三塩化ホウ素、
塩化亜鉛、塩化アルミニウム等のルイス酸を例示し得
る。
【0015】酸化剤としては、クロム酸、クロロクロム
酸ピリジウム(ピリジウム クロロクロメート)、過マ
ンガン酸塩、四酢酸鉛、四酸化オスミウム、四酸化ルテ
ニウム、過酸化水素、二酸化セレン−過酸化水素、有機
過酸化物、オゾン、有機過酸、タリウム(III )塩、パ
ラジウム(II)塩、過酸化水素−タングステン酸を例示
し得る。カルボニル基と共役している二重結合や、カル
ボニル基の不飽和炭素原子に、求核的に付加する有機金
属化合物としては、メチルリチウム、(無置換または置
換ベンジル)リチウム等のアルカリ金属の有機金属化合
物や、メチルマグネシウムアイオダイド(メチルマグネ
シウムヨウ化物に同じ)、(無置換または置換ベンジ
ル)マグネシウムクロリド等のグリニヤール試薬、アル
カリ金属の有機金属化合物や、グリニャール試薬と銅
(I )塩とから調製できる有機銅化合物を例示できる。
アンチマルコニコフ付加により、炭素炭素二重結合に、
水酸基を導入する中間体を得るハイドロボレーションに
使用するボラン錯体として、ボラン−テトラヒドロフラ
ン錯体を例示できる。以下の説明の各反応工程に記載し
た、反応温度や反応時間はいずれも、反応操作の必要か
ら、収率に悪影響を及ぼさない範囲で、反応温度が低温
側または高温側にずれることや、反応時間が長くなって
も差し支えない。
酸ピリジウム(ピリジウム クロロクロメート)、過マ
ンガン酸塩、四酢酸鉛、四酸化オスミウム、四酸化ルテ
ニウム、過酸化水素、二酸化セレン−過酸化水素、有機
過酸化物、オゾン、有機過酸、タリウム(III )塩、パ
ラジウム(II)塩、過酸化水素−タングステン酸を例示
し得る。カルボニル基と共役している二重結合や、カル
ボニル基の不飽和炭素原子に、求核的に付加する有機金
属化合物としては、メチルリチウム、(無置換または置
換ベンジル)リチウム等のアルカリ金属の有機金属化合
物や、メチルマグネシウムアイオダイド(メチルマグネ
シウムヨウ化物に同じ)、(無置換または置換ベンジ
ル)マグネシウムクロリド等のグリニヤール試薬、アル
カリ金属の有機金属化合物や、グリニャール試薬と銅
(I )塩とから調製できる有機銅化合物を例示できる。
アンチマルコニコフ付加により、炭素炭素二重結合に、
水酸基を導入する中間体を得るハイドロボレーションに
使用するボラン錯体として、ボラン−テトラヒドロフラ
ン錯体を例示できる。以下の説明の各反応工程に記載し
た、反応温度や反応時間はいずれも、反応操作の必要か
ら、収率に悪影響を及ぼさない範囲で、反応温度が低温
側または高温側にずれることや、反応時間が長くなって
も差し支えない。
【0016】(エポキシ化工程)式(II)のオキサスピ
ロヘプタン誘導体は、化合物(IV)を、例えば、オルガ
ニック・シンセシス(Org.Syn.)49, 78(1968). ならび
にジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィ(J.Amer.Chem.Soc.)1965, 1353. に記載の方法に準じ
て製造することができる。上記の希釈剤(特にジメチル
スルホキシドが好ましい)中で、塩基(例えば、水素化
ナトリウム)と、トリメチルスルホキソニウムアイオダ
イド、あるいはトリメチルスルホニウムアイオダイドと
から調製した、ジメチルオキソスルホニウムメチリド、
またはジメチルスルホニウムメチリドと、化合物(IV)
とを反応させる。ジメチルオキソスルホニウムメチリド
またはジメチルスルホニウムメチリドの使用量は化合物
(IV)の 1.0〜 2.0倍モルが好ましい。この際の反応温
度は25〜100℃の範囲が好ましい。また、反応時間は 1
〜40時間の範囲が好ましい。上記反応の終了後、反応混
合物を冷却した後、氷水中において、酢酸エチル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、ベンゼン等の有機溶剤により
抽出して有機層を分離し、次いでこの有機層を水洗して
乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し、得られる残渣を精
製処理することにより、目的とする化合物(II)を得る
ことができる。なお、精製処理は、再結晶またはシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー等に付することにより行
なう。
ロヘプタン誘導体は、化合物(IV)を、例えば、オルガ
ニック・シンセシス(Org.Syn.)49, 78(1968). ならび
にジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィ(J.Amer.Chem.Soc.)1965, 1353. に記載の方法に準じ
て製造することができる。上記の希釈剤(特にジメチル
スルホキシドが好ましい)中で、塩基(例えば、水素化
ナトリウム)と、トリメチルスルホキソニウムアイオダ
イド、あるいはトリメチルスルホニウムアイオダイドと
から調製した、ジメチルオキソスルホニウムメチリド、
またはジメチルスルホニウムメチリドと、化合物(IV)
とを反応させる。ジメチルオキソスルホニウムメチリド
またはジメチルスルホニウムメチリドの使用量は化合物
(IV)の 1.0〜 2.0倍モルが好ましい。この際の反応温
度は25〜100℃の範囲が好ましい。また、反応時間は 1
〜40時間の範囲が好ましい。上記反応の終了後、反応混
合物を冷却した後、氷水中において、酢酸エチル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、ベンゼン等の有機溶剤により
抽出して有機層を分離し、次いでこの有機層を水洗して
乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し、得られる残渣を精
製処理することにより、目的とする化合物(II)を得る
ことができる。なお、精製処理は、再結晶またはシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー等に付することにより行
なう。
【0017】このようにして得られる、式(II)のオキ
サスピロヘプタン誘導体は、その1−オキサスピロ
[2.4]ヘプタン環の1位と4位における、酸素原子
と(無置換または置換ベンジル)基との立体配置におい
て、シス型とトランス型との2 種類の立体構造をとる。
これらの立体異性体の分離は、例えば、クロマトグラフ
ィー(薄層、カラム、高速液体クロマトグラフィーな
ど)によって行うことができる。また、これらの立体的
構造の特徴は、例えばNMRスペクトルによって明らか
にすることができる。
サスピロヘプタン誘導体は、その1−オキサスピロ
[2.4]ヘプタン環の1位と4位における、酸素原子
と(無置換または置換ベンジル)基との立体配置におい
て、シス型とトランス型との2 種類の立体構造をとる。
これらの立体異性体の分離は、例えば、クロマトグラフ
ィー(薄層、カラム、高速液体クロマトグラフィーな
ど)によって行うことができる。また、これらの立体的
構造の特徴は、例えばNMRスペクトルによって明らか
にすることができる。
【0018】(アゾール化工程)式(I )の(アゾリル
メチル)シクロペンタノール誘導体を得るには、例え
ば、式(III )のアゾール化合物を上述の希釈剤に溶か
したものに、必要に応じ、上述の塩基の存在下、式(I
I)のオキサスピロヘプタン誘導体を、 0.5〜1.0 倍モ
ル加えるか、もしくは逆に、化合物(II)を希釈剤に溶
かしたものに式(II)のアゾール化合物を、塩基の存在
下、反応させるとよい。この際の反応温度は、溶媒とし
ての上記希釈剤の凝固点から沸点までの任意の温度を適
用し得るが、好ましくは 0〜 140℃、より好ましくは60
〜140 ℃の範囲の温度である。また、反応時間は 1〜10
時間の範囲であって、攪拌下に反応を行うことが好まし
い。式(I )の(アゾリルメチル)シクロペンタノール
誘導体には、化合物(II)の異性体に由来するシス型と
トランス型の 2種類の立体異性体が存在する。さらに、
シクロペンタン環の 1位と 2位に由来する光学異性体が
存在するが、本発明ではすべての単独の異性体並びに各
異性体の任意の比率での混合物をも包含するものであ
る。なお、化合物(I )はアゾール環を有しているの
で、無機酸塩、有機酸塩もしくは、金属錯塩等の形態で
も使用できる。
メチル)シクロペンタノール誘導体を得るには、例え
ば、式(III )のアゾール化合物を上述の希釈剤に溶か
したものに、必要に応じ、上述の塩基の存在下、式(I
I)のオキサスピロヘプタン誘導体を、 0.5〜1.0 倍モ
ル加えるか、もしくは逆に、化合物(II)を希釈剤に溶
かしたものに式(II)のアゾール化合物を、塩基の存在
下、反応させるとよい。この際の反応温度は、溶媒とし
ての上記希釈剤の凝固点から沸点までの任意の温度を適
用し得るが、好ましくは 0〜 140℃、より好ましくは60
〜140 ℃の範囲の温度である。また、反応時間は 1〜10
時間の範囲であって、攪拌下に反応を行うことが好まし
い。式(I )の(アゾリルメチル)シクロペンタノール
誘導体には、化合物(II)の異性体に由来するシス型と
トランス型の 2種類の立体異性体が存在する。さらに、
シクロペンタン環の 1位と 2位に由来する光学異性体が
存在するが、本発明ではすべての単独の異性体並びに各
異性体の任意の比率での混合物をも包含するものであ
る。なお、化合物(I )はアゾール環を有しているの
で、無機酸塩、有機酸塩もしくは、金属錯塩等の形態で
も使用できる。
【0019】(塩素化工程)化合物(X )及び、化合物
(VII )を塩素化して、それぞれ、化合物(IX )及
び、化合物(VI)を合成する工程は、例えば、次のよう
に実施する。炭化水素類あるいは、ハロゲン化炭化水素
類を溶媒にして、化合物(X )または、化合物(VII )
を、 1.1〜1.2 倍モルの塩素化剤(例えば、スルフリル
クロリド)で、反応温度 0〜100 ℃で、反応時間 1〜10
時間反応させる。反応終了後、反応混合物を水に注ぎ、
有機層を分離する。必要に応じて、水層を有機溶媒で抽
出し、先に分離した有機層と合わせて、次の処理をす
る。有機層を水または、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、
溶媒を留去して、塩素化物を得る。必要ならば、再結晶
法や、カラムクロマトグラフィー法等で精製する。
(VII )を塩素化して、それぞれ、化合物(IX )及
び、化合物(VI)を合成する工程は、例えば、次のよう
に実施する。炭化水素類あるいは、ハロゲン化炭化水素
類を溶媒にして、化合物(X )または、化合物(VII )
を、 1.1〜1.2 倍モルの塩素化剤(例えば、スルフリル
クロリド)で、反応温度 0〜100 ℃で、反応時間 1〜10
時間反応させる。反応終了後、反応混合物を水に注ぎ、
有機層を分離する。必要に応じて、水層を有機溶媒で抽
出し、先に分離した有機層と合わせて、次の処理をす
る。有機層を水または、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、
溶媒を留去して、塩素化物を得る。必要ならば、再結晶
法や、カラムクロマトグラフィー法等で精製する。
【0020】(脱塩酸工程)化合物(IX)及び、化合物
(VI)を脱塩酸して、それぞれ、化合物(VIII)及び、
化合物(V )を合成する工程は、例えば、次のように実
施する。好ましくは、アプロティック極性溶媒、より好
ましくは、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、1−メチル−2−ピロリジノン等のアミド系溶媒
中、塩化リチウム存在下、反応温度 1〜150 ℃で、反応
時間 5分〜 3時間反応させる。反応終了後、反応混合物
を、水に注ぎ、有機層を分離する。必要に応じて、水層
を有機溶媒で抽出し、先に分離した有機層と合わせて、
次の処理をする。有機層を水または、飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後、溶媒を留去して、脱塩酸物を得る。必要な
らば、再結晶法や、カラムクロマトグラフィー法等で精
製する。
(VI)を脱塩酸して、それぞれ、化合物(VIII)及び、
化合物(V )を合成する工程は、例えば、次のように実
施する。好ましくは、アプロティック極性溶媒、より好
ましくは、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、1−メチル−2−ピロリジノン等のアミド系溶媒
中、塩化リチウム存在下、反応温度 1〜150 ℃で、反応
時間 5分〜 3時間反応させる。反応終了後、反応混合物
を、水に注ぎ、有機層を分離する。必要に応じて、水層
を有機溶媒で抽出し、先に分離した有機層と合わせて、
次の処理をする。有機層を水または、飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後、溶媒を留去して、脱塩酸物を得る。必要な
らば、再結晶法や、カラムクロマトグラフィー法等で精
製する。
【0021】(メチル化工程)化合物(VIII)及び、化
合物(V )をメチル化して、それぞれ、化合物(VII)
及び、化合物(IV)を合成する工程は、例えば、次のよ
うに実施する。好ましくは、ジエチルエーテル等のエー
テル類中、メチルリチウムと銅(I )塩から調製できる
メチル銅化合物(例えば、ジメチル銅リチウムや、メチ
ル銅錯体)を求核的メチル化剤として、反応温度-100〜
35℃で、反応時間 1〜10時間反応させる。反応終了後、
反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。
ついで、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和塩化アン
モニウム水溶液で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去して、メ
チル化物を得ることができる。必要ならば、再結晶法
や、カラムクロマトグラフィー法等で精製する。
合物(V )をメチル化して、それぞれ、化合物(VII)
及び、化合物(IV)を合成する工程は、例えば、次のよ
うに実施する。好ましくは、ジエチルエーテル等のエー
テル類中、メチルリチウムと銅(I )塩から調製できる
メチル銅化合物(例えば、ジメチル銅リチウムや、メチ
ル銅錯体)を求核的メチル化剤として、反応温度-100〜
35℃で、反応時間 1〜10時間反応させる。反応終了後、
反応混合物に、飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。
ついで、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和塩化アン
モニウム水溶液で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去して、メ
チル化物を得ることができる。必要ならば、再結晶法
や、カラムクロマトグラフィー法等で精製する。
【0022】(ベンジル化工程)化合物(XIV )をベン
ジル化して、化合物(XIII)を合成する工程は、例え
ば、次のように実施する。好ましくは、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類中、化合物(XV)から調製した有機金
属化合物(例えば、グリニヤール試薬)を求核的ベンジ
ル化剤として、反応温度 -10〜60℃で、反応時間 1〜10
時間反応させる。反応終了後、反応混合物に、塩酸水溶
液を加え、エーテル層を分離した。水層を酢酸エチルで
抽出し、エーテル層とあわせて、乾燥後、溶媒を留去し
て、化合物(XIII)を得ることができる。必要ならば、
カラムクロマトグラフィー法等で精製する。
ジル化して、化合物(XIII)を合成する工程は、例え
ば、次のように実施する。好ましくは、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類中、化合物(XV)から調製した有機金
属化合物(例えば、グリニヤール試薬)を求核的ベンジ
ル化剤として、反応温度 -10〜60℃で、反応時間 1〜10
時間反応させる。反応終了後、反応混合物に、塩酸水溶
液を加え、エーテル層を分離した。水層を酢酸エチルで
抽出し、エーテル層とあわせて、乾燥後、溶媒を留去し
て、化合物(XIII)を得ることができる。必要ならば、
カラムクロマトグラフィー法等で精製する。
【0023】(脱水工程)化合物(XIII)を脱水して、
化合物(XII )を合成する工程は、例えば、次のように
実施する。炭化水素類を溶媒にして、酸触媒(例えば、
p−トルエンスルホン酸)の存在下、反応温度50℃〜還
流点で、反応時間 5〜25時間反応させる。反応終了後、
反応混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、
乾燥後、溶媒を留去して、化合物(XII )を得ることが
できる。必要ならば、カラムクロマトグラフィー法等で
精製する。
化合物(XII )を合成する工程は、例えば、次のように
実施する。炭化水素類を溶媒にして、酸触媒(例えば、
p−トルエンスルホン酸)の存在下、反応温度50℃〜還
流点で、反応時間 5〜25時間反応させる。反応終了後、
反応混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、
乾燥後、溶媒を留去して、化合物(XII )を得ることが
できる。必要ならば、カラムクロマトグラフィー法等で
精製する。
【0024】(水酸化工程)化合物(XII )の炭素炭素
二重結合を、ハイドロボレーションと酸化反応で水酸化
して、化合物(XI)を合成する工程は、例えば、次のよ
うに実施する。 ハイドロボレーション テトラヒドロフラン等のエーテル類中、反応温度 0〜50
℃で、反応時間 1〜10時間反応させて、水素化ホウ素−
テトラヒドロフラン錯体を化合物(XII )に付加させ
る。 酸化 付加物を含む反応混合物に、水酸イオン(通常は、水酸
化ナトリウム水溶液)を加え、ついで、過酸化水素水を
加えて、反応温度 1〜60℃で、反応時間 1〜10時間反応
させる。反応終了後、反応混合物を氷水に注ぎ、有機溶
媒で抽出し、有機層を分離する。この有機層を、飽和食
塩水、水で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去して、化合
物(XI)を得ることができる。必要ならば、カラムクロ
マトグラフィー法等で精製する。
二重結合を、ハイドロボレーションと酸化反応で水酸化
して、化合物(XI)を合成する工程は、例えば、次のよ
うに実施する。 ハイドロボレーション テトラヒドロフラン等のエーテル類中、反応温度 0〜50
℃で、反応時間 1〜10時間反応させて、水素化ホウ素−
テトラヒドロフラン錯体を化合物(XII )に付加させ
る。 酸化 付加物を含む反応混合物に、水酸イオン(通常は、水酸
化ナトリウム水溶液)を加え、ついで、過酸化水素水を
加えて、反応温度 1〜60℃で、反応時間 1〜10時間反応
させる。反応終了後、反応混合物を氷水に注ぎ、有機溶
媒で抽出し、有機層を分離する。この有機層を、飽和食
塩水、水で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去して、化合
物(XI)を得ることができる。必要ならば、カラムクロ
マトグラフィー法等で精製する。
【0025】(酸化工程)化合物(XI)を酸化して、化
合物(IV)を合成する工程は、例えば、次のように実施
する。炭化水素類、もしくは、ハロゲン化炭化水素類を
溶媒にして、化合物(XI)を、酸化剤(例えば、ピリジ
ウム クロロクロメート)と、反応温度 0〜100 ℃で、
反応時間10〜50時間反応させる。反応終了後、反応混合
物をセライト層を通して、不溶分を除き、溶媒を留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー法で精製し、
化合物(IV)を得ることができる。必要ならば、再結晶
法等で精製する。
合物(IV)を合成する工程は、例えば、次のように実施
する。炭化水素類、もしくは、ハロゲン化炭化水素類を
溶媒にして、化合物(XI)を、酸化剤(例えば、ピリジ
ウム クロロクロメート)と、反応温度 0〜100 ℃で、
反応時間10〜50時間反応させる。反応終了後、反応混合
物をセライト層を通して、不溶分を除き、溶媒を留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー法で精製し、
化合物(IV)を得ることができる。必要ならば、再結晶
法等で精製する。
【0026】本発明の上記式(I )の(アゾリルメチ
ル)シクロペンタノール誘導体は下記に示す広範囲な植
物病害に対して防除効果を示す。イネのイモチ病(Pyric
ularia oryzae)、イネのごま葉枯病(Cochliobolus miya
beanus) 、イネの白葉枯病(Xanthomonas oryzae)、イネ
の紋枯病(Rhizoctonia solani)、イネの小黒菌核病(Hel
minthosporium sigmoideum) 、イネの馬鹿苗病(Gibbere
lla fujikuroi)、リンゴのうどんこ病(Podosphaera leu
cotricha) 、りんごの黒星病(Venturia inaequalis) 、
リンゴのモニリア病(Monilinia mali)、リンゴの斑点落
葉病(Alternaria mali) 、リンゴの腐乱病(Valsa mal
i)、ナシの黒斑病(Alternaria kikuchiana) 、ナシのう
どんこ病(Phyllactinia pyri) 、ナシの赤星病(Gymnosp
orangium asiaticum) 、ナシの黒星病(Venturia nashic
ola)、ブドウのうどんこ病(Uncinula necator)、ブドウ
のさび病(Phakopsora ampelopsidis) 、ブドウの晩腐病
(Glomerella cingulata)、オオムギのうどんこ病(Erysi
phe graminis f.sp.hordei) 、オオムギの雲形病(Phync
hosporium secalis f.sp.hordei)、オオムギの黒さび病
(Puccinia graminis) 、オオムギの黄さび病(Puccinia
striiformis)、コムギの赤さび病(Puccinia recondit
a)、コムギの葉枯病(Septoria tritici)、コムギの黄さ
び病(Puccinia striiformis)、コムギのうどんこ病(Ery
siphe graminis f.sp.tritici)、ウリ類のうどんこ病(S
phaerothecafuliginea)、ウリ類の炭そ病(Colletotrich
um lagenarium) 、スイカのつる割病(Fusarium oxyspor
um f.sp.niveum)、キュウリのつる割病(Fusarium oxysp
orumf.sp.cucumerinum) 、ダイコンの萎黄病(Fusarium
oxysporum f.sp.raphani) 、トマトのうどんこ病(Erysi
phe cichoracearum)、トマトの輪紋病(Alternaria sola
ni) 、ナスのうどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、イ
チゴのうどんこ病(Sphaerotheca humuli) 、タバコのう
どんこ病(Erysiphe cichoracearum)、タバコの赤星病(A
lternaria longipes) 、テンサイの褐斑病(Cercospora
beticola) 、ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)
、ダイズの褐紋病(Septoria glycines)、ダイズの紫斑
病(Cercospora kikuchii) 、核果類果樹の灰星病(Monil
inia fructicola)、種々の作物をおかす灰色カビ病(Bot
rytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)な
どに対して活性を有する。
ル)シクロペンタノール誘導体は下記に示す広範囲な植
物病害に対して防除効果を示す。イネのイモチ病(Pyric
ularia oryzae)、イネのごま葉枯病(Cochliobolus miya
beanus) 、イネの白葉枯病(Xanthomonas oryzae)、イネ
の紋枯病(Rhizoctonia solani)、イネの小黒菌核病(Hel
minthosporium sigmoideum) 、イネの馬鹿苗病(Gibbere
lla fujikuroi)、リンゴのうどんこ病(Podosphaera leu
cotricha) 、りんごの黒星病(Venturia inaequalis) 、
リンゴのモニリア病(Monilinia mali)、リンゴの斑点落
葉病(Alternaria mali) 、リンゴの腐乱病(Valsa mal
i)、ナシの黒斑病(Alternaria kikuchiana) 、ナシのう
どんこ病(Phyllactinia pyri) 、ナシの赤星病(Gymnosp
orangium asiaticum) 、ナシの黒星病(Venturia nashic
ola)、ブドウのうどんこ病(Uncinula necator)、ブドウ
のさび病(Phakopsora ampelopsidis) 、ブドウの晩腐病
(Glomerella cingulata)、オオムギのうどんこ病(Erysi
phe graminis f.sp.hordei) 、オオムギの雲形病(Phync
hosporium secalis f.sp.hordei)、オオムギの黒さび病
(Puccinia graminis) 、オオムギの黄さび病(Puccinia
striiformis)、コムギの赤さび病(Puccinia recondit
a)、コムギの葉枯病(Septoria tritici)、コムギの黄さ
び病(Puccinia striiformis)、コムギのうどんこ病(Ery
siphe graminis f.sp.tritici)、ウリ類のうどんこ病(S
phaerothecafuliginea)、ウリ類の炭そ病(Colletotrich
um lagenarium) 、スイカのつる割病(Fusarium oxyspor
um f.sp.niveum)、キュウリのつる割病(Fusarium oxysp
orumf.sp.cucumerinum) 、ダイコンの萎黄病(Fusarium
oxysporum f.sp.raphani) 、トマトのうどんこ病(Erysi
phe cichoracearum)、トマトの輪紋病(Alternaria sola
ni) 、ナスのうどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、イ
チゴのうどんこ病(Sphaerotheca humuli) 、タバコのう
どんこ病(Erysiphe cichoracearum)、タバコの赤星病(A
lternaria longipes) 、テンサイの褐斑病(Cercospora
beticola) 、ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)
、ダイズの褐紋病(Septoria glycines)、ダイズの紫斑
病(Cercospora kikuchii) 、核果類果樹の灰星病(Monil
inia fructicola)、種々の作物をおかす灰色カビ病(Bot
rytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)な
どに対して活性を有する。
【0027】本発明化合物(I )を殺菌剤の有効成分と
して使用する場合には、そのまま使用することもできる
が、通常は製剤補助剤とともに、粉剤、水和剤、粒剤、
乳剤などの種々の形態に製剤して使用する。このとき製
剤中に、1 種または2 種以上の本発明化合物が 0.1〜95
重量%、好ましくは 0.5〜90重量%、より好ましくは 2
〜70重量%含まれるように製剤する。製剤補助剤として
使用する担体、希釈剤、界面活性剤を例示すれば、固体
担体として、タルク、カオリン、ベントナイト、珪藻
土、ホワイトカーボン、クレーなど。液体希釈剤とし
て、水、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、アルコールなど。界面活性剤は
その効果により使いわけるのがよく、乳化剤として、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレートなど。分散剤とし
て、リグニンスルホン酸塩、ジブチルナフタリンスルホ
ン酸塩など、湿潤剤として、アルキルスルホン酸塩、ア
ルキルフェニルスルホン酸塩など、をあげることができ
る。
して使用する場合には、そのまま使用することもできる
が、通常は製剤補助剤とともに、粉剤、水和剤、粒剤、
乳剤などの種々の形態に製剤して使用する。このとき製
剤中に、1 種または2 種以上の本発明化合物が 0.1〜95
重量%、好ましくは 0.5〜90重量%、より好ましくは 2
〜70重量%含まれるように製剤する。製剤補助剤として
使用する担体、希釈剤、界面活性剤を例示すれば、固体
担体として、タルク、カオリン、ベントナイト、珪藻
土、ホワイトカーボン、クレーなど。液体希釈剤とし
て、水、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、アルコールなど。界面活性剤は
その効果により使いわけるのがよく、乳化剤として、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレートなど。分散剤とし
て、リグニンスルホン酸塩、ジブチルナフタリンスルホ
ン酸塩など、湿潤剤として、アルキルスルホン酸塩、ア
ルキルフェニルスルホン酸塩など、をあげることができ
る。
【0028】上記製剤には、そのまま使用するものと水
等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用するものとがあ
る。希釈して使用する時の本発明化合物の濃度は 0.001
〜1.0 %の範囲が望ましい。また、本発明化合物の使用
量は畑、田、果樹園、温室などの農園芸用地 1haあた
り、20〜5000g 、より好ましくは50〜1000g である。こ
れらの使用濃度および使用量は剤形、使用時期、使用方
法、使用場所、対象作物等によっても異なるため、上記
の範囲にこだわることなく増減することは勿論可能であ
る。さらに、本発明化合物は他の有効成分、例えば、殺
菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤と組み合わせて使用す
ることもできる。
等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用するものとがあ
る。希釈して使用する時の本発明化合物の濃度は 0.001
〜1.0 %の範囲が望ましい。また、本発明化合物の使用
量は畑、田、果樹園、温室などの農園芸用地 1haあた
り、20〜5000g 、より好ましくは50〜1000g である。こ
れらの使用濃度および使用量は剤形、使用時期、使用方
法、使用場所、対象作物等によっても異なるため、上記
の範囲にこだわることなく増減することは勿論可能であ
る。さらに、本発明化合物は他の有効成分、例えば、殺
菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤と組み合わせて使用す
ることもできる。
【0029】
【実施例】以下、製造例、参考製造例、製剤例、試験例
を示し、本発明を具体的に説明する。なお、本発明はそ
の要旨を越えない限り以下の製造例、製剤例および試験
例に限定されるものではない。 製造例1 2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチル−1−
(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イルメチル)
シクロペンタノール[化合物(I-1 )]の合成 60%油性水素化ナトリウム105mgをn−ヘキサン
で洗浄後、乾燥ジメチルホルムアミド2mlを加え、攪
拌下、1,2,4−トリアゾール185mgを少量ずつ
加えた後、室温で30分間攪拌した。この混合物に、4
−(4−クロロベンジル)−5,5−ジメチル−1−オ
キサスピロ[2.4]ヘプタン[化合物(II-1)]43
0mgを乾燥ジメチルホルムアミド2mlに溶かした溶
液を加え、80℃で2時間攪拌した。放冷後、反応液を
氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、
結晶化させた。その結晶を酢酸エチル:ヘキサン(1:
7)の混合溶媒より再結晶化し、2−(4−クロロベン
ジル)−3,3−ジメチル−1−(1H−1,2,4−
トリアゾール−1−イルメチル)シクロペンタノール
[化合物(I-1 )]を白色結晶として得た。 得量 270mg (収率 49.7%) mp 149〜150℃ IR (neat, cm-1) :3348, 2956, 2880
を示し、本発明を具体的に説明する。なお、本発明はそ
の要旨を越えない限り以下の製造例、製剤例および試験
例に限定されるものではない。 製造例1 2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチル−1−
(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イルメチル)
シクロペンタノール[化合物(I-1 )]の合成 60%油性水素化ナトリウム105mgをn−ヘキサン
で洗浄後、乾燥ジメチルホルムアミド2mlを加え、攪
拌下、1,2,4−トリアゾール185mgを少量ずつ
加えた後、室温で30分間攪拌した。この混合物に、4
−(4−クロロベンジル)−5,5−ジメチル−1−オ
キサスピロ[2.4]ヘプタン[化合物(II-1)]43
0mgを乾燥ジメチルホルムアミド2mlに溶かした溶
液を加え、80℃で2時間攪拌した。放冷後、反応液を
氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、
結晶化させた。その結晶を酢酸エチル:ヘキサン(1:
7)の混合溶媒より再結晶化し、2−(4−クロロベン
ジル)−3,3−ジメチル−1−(1H−1,2,4−
トリアゾール−1−イルメチル)シクロペンタノール
[化合物(I-1 )]を白色結晶として得た。 得量 270mg (収率 49.7%) mp 149〜150℃ IR (neat, cm-1) :3348, 2956, 2880
【0030】60MHz- 1H-NMR ( CDCl3 ,ppm, δ) : 0.97(s, 3H, CH3) 1.03(s, 3H, CH3) 1.27-2.17(m, 5H
) 2.57-2.80(m, 2H) 3.30(s, 1H , OH) 3.60(s, 2H) 7.17(s, 4H) 7.77(s, 1
H ) 7.82(s, 1H)
) 2.57-2.80(m, 2H) 3.30(s, 1H , OH) 3.60(s, 2H) 7.17(s, 4H) 7.77(s, 1
H ) 7.82(s, 1H)
【0031】製造例2 2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチル−1−
(1H−イミダゾール−1−イルメチル)シクロペンタ
ノール[化合物(I-2 )]の合成 60%油性水素化ナトリウム281mg(7.02m
M)をn−ヘキサンで洗浄後、無水ジメチルホルムアミ
ド10mlを加えて攪拌し、続いて1H−イミダゾール
477mg(7.02mM)を少量づつ加え、室温下で
20分間攪拌した。この混合物に、4−(4−クロロベ
ンジル)−5,5−ジメチル−1−オキサスピロ[2・
4]ヘプタン[化合物(II-1)]1.2g(4.68m
M)を加え、100℃で3時間攪拌した。放冷後、反応
液を氷水に注ぎ、反応を終了した。酢酸エチルで抽出
し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥後、溶媒を
減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付して精製し、続いて再結晶を行い、2−(4
−クロロベンジル)−3,3−ジメチル−1−(1H−
イミダゾール−1−イルメチル)シクロペンタノール
[化合物(I-2 )]を得た。 得量 530mg(収率36%) 融点 148.0〜 148.5℃
(1H−イミダゾール−1−イルメチル)シクロペンタ
ノール[化合物(I-2 )]の合成 60%油性水素化ナトリウム281mg(7.02m
M)をn−ヘキサンで洗浄後、無水ジメチルホルムアミ
ド10mlを加えて攪拌し、続いて1H−イミダゾール
477mg(7.02mM)を少量づつ加え、室温下で
20分間攪拌した。この混合物に、4−(4−クロロベ
ンジル)−5,5−ジメチル−1−オキサスピロ[2・
4]ヘプタン[化合物(II-1)]1.2g(4.68m
M)を加え、100℃で3時間攪拌した。放冷後、反応
液を氷水に注ぎ、反応を終了した。酢酸エチルで抽出
し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥後、溶媒を
減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付して精製し、続いて再結晶を行い、2−(4
−クロロベンジル)−3,3−ジメチル−1−(1H−
イミダゾール−1−イルメチル)シクロペンタノール
[化合物(I-2 )]を得た。 得量 530mg(収率36%) 融点 148.0〜 148.5℃
【0032】NMR(CDCl3 +d7 -DMF, δppm): 0.90(s,3H),1.02(s,3H),1.20〜2.00(m,4H),2.50(dd,1H,
J=12Hz,J=4Hz) 2.80(dd,1H,J=12Hz,J=6Hz),3.47(s,2H),6.83(bs,2H) 7.18(s,4H),7.30(bs,1H)
J=12Hz,J=4Hz) 2.80(dd,1H,J=12Hz,J=6Hz),3.47(s,2H),6.83(bs,2H) 7.18(s,4H),7.30(bs,1H)
【0033】製造例3 4−(4−クロロベンジル)−5,5−ジメチル−1−
オキサスピロ[2.4]ヘプタン[化合物(II-1)]の
製造 60%油性水素化ナトリウム510mgをn−ヘキサン
で洗浄後、乾燥ジメチルスルホキシド10mlを加え、
攪拌下、トリメチルスルホキソニウムアイオダイド2.
8gを徐々に加えた後、室温で1時間攪拌した。この混
合物に、2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチ
ルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]1.5gを乾燥
ジメチルスルホキシド5mlに溶かした溶液を加え、室
温で3時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、n−ヘキサ
ンで抽出した。n−ヘキサン層を水、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=20:1)で精製して、4−(4−ク
ロロベンジル)−5,5−ジメチル−1−オキサスピロ
[2.4]ヘプタン[化合物(II-1)]を得た。 得量 540mg(収率 34.2 %) IR (neat, cm-1):2950, 2880
オキサスピロ[2.4]ヘプタン[化合物(II-1)]の
製造 60%油性水素化ナトリウム510mgをn−ヘキサン
で洗浄後、乾燥ジメチルスルホキシド10mlを加え、
攪拌下、トリメチルスルホキソニウムアイオダイド2.
8gを徐々に加えた後、室温で1時間攪拌した。この混
合物に、2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチ
ルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]1.5gを乾燥
ジメチルスルホキシド5mlに溶かした溶液を加え、室
温で3時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、n−ヘキサ
ンで抽出した。n−ヘキサン層を水、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=20:1)で精製して、4−(4−ク
ロロベンジル)−5,5−ジメチル−1−オキサスピロ
[2.4]ヘプタン[化合物(II-1)]を得た。 得量 540mg(収率 34.2 %) IR (neat, cm-1):2950, 2880
【0034】60MHz- 1H-NMR(CDCl3 ,ppm, δ) 0.97(s, 6H, CH3 ) 1.33-2.23(m, 6H ) 2.33-2.53(m, 3
H) 6.97(d, 2H, J=8Hz ) 7.13(d, 2H, J=8Hz)
H) 6.97(d, 2H, J=8Hz ) 7.13(d, 2H, J=8Hz)
【0035】製造例4 4工程法による2−(4−クロロベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 1−(4−クロロベンジル)−2,2−ジメチルシク
ロペンタノール[化合物(XIII-1)]の合成 窒素気流下、無水ジエチルエーテル50mlの中に、削
り状のマグネシウム2.17g(89.3mM)を加
え、この中に4−クロロベンジルクロリド[化合物(XV
-1)]8.6g(53.6mM)のエ−テル溶液を、攪
拌下、反応温度30℃以下に保ちながら加えた。滴下
後、反応温度25℃下で2時間攪拌し、グリニヤール試
薬を調製した。続いて、2,2−ジメチルシクロペンタ
ノン[化合物(XIV )]5.0g(44.6mM)を、
反応温度20℃に保ちながら滴下した。さらに、20℃
で2時間攪拌後、反応混合物を氷水冷却下し、1N−塩
酸を加えて反応を終了した。エ−テル層を分離後、水層
を酢酸エチルで抽出し、エーテル層と酢酸エチル層をあ
わせて、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥後、溶媒を減圧
下で留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付して精製し、1−(4−クロロベンジル)−2,
2−ジメチルシクロペンタノール[化合物(XIII-1)]
を油状物で得た。 得量9.4g(収率88%) NMR(CDCl3 , δ, ppm): 0.95(s,3H),1.02(s,3H),1.32〜1.98(m,6H),2.65(s,2H),
7.13(s,4H)
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 1−(4−クロロベンジル)−2,2−ジメチルシク
ロペンタノール[化合物(XIII-1)]の合成 窒素気流下、無水ジエチルエーテル50mlの中に、削
り状のマグネシウム2.17g(89.3mM)を加
え、この中に4−クロロベンジルクロリド[化合物(XV
-1)]8.6g(53.6mM)のエ−テル溶液を、攪
拌下、反応温度30℃以下に保ちながら加えた。滴下
後、反応温度25℃下で2時間攪拌し、グリニヤール試
薬を調製した。続いて、2,2−ジメチルシクロペンタ
ノン[化合物(XIV )]5.0g(44.6mM)を、
反応温度20℃に保ちながら滴下した。さらに、20℃
で2時間攪拌後、反応混合物を氷水冷却下し、1N−塩
酸を加えて反応を終了した。エ−テル層を分離後、水層
を酢酸エチルで抽出し、エーテル層と酢酸エチル層をあ
わせて、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥後、溶媒を減圧
下で留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付して精製し、1−(4−クロロベンジル)−2,
2−ジメチルシクロペンタノール[化合物(XIII-1)]
を油状物で得た。 得量9.4g(収率88%) NMR(CDCl3 , δ, ppm): 0.95(s,3H),1.02(s,3H),1.32〜1.98(m,6H),2.65(s,2H),
7.13(s,4H)
【0036】1,1−ジメチル−2−(4−クロロベ
ンジル)−1−シクロペンテン[化合物(XII-1 )]の
合成 水分離器を付けた還流冷却器付き反応釜に、トルエン2
0mlを入れ、この中に、1−(4−クロロベンジル)
−2,2−ジメチルシクロペンタノール[化合物(XIII
-1)]7.1g(29.8mM)を溶かし、さらにp−
トルエンスルホン酸・1水和物100mgを加えた。1
5時間、還流下で攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナト
リウム水で中和洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥
後、溶媒を減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して精製し、1,1−ジメチル−
2−(4−クロロベンジル)−1−シクロペンテン[化
合物(XII-1 )]を油状物で得た。 得量5.3g(収率81%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 1.00(s, 3H×2),1.50〜1.83(m,2H),1.97〜2.27(m,2H) 4.77〜4.93(m,1H),6.87〜7.27(m,4H)
ンジル)−1−シクロペンテン[化合物(XII-1 )]の
合成 水分離器を付けた還流冷却器付き反応釜に、トルエン2
0mlを入れ、この中に、1−(4−クロロベンジル)
−2,2−ジメチルシクロペンタノール[化合物(XIII
-1)]7.1g(29.8mM)を溶かし、さらにp−
トルエンスルホン酸・1水和物100mgを加えた。1
5時間、還流下で攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナト
リウム水で中和洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥
後、溶媒を減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して精製し、1,1−ジメチル−
2−(4−クロロベンジル)−1−シクロペンテン[化
合物(XII-1 )]を油状物で得た。 得量5.3g(収率81%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 1.00(s, 3H×2),1.50〜1.83(m,2H),1.97〜2.27(m,2H) 4.77〜4.93(m,1H),6.87〜7.27(m,4H)
【0037】2−(4−クロロベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノール[化合物(XI-1)]の合成 1,1−ジメチル−2−(4−クロロベンジル)−1−
シクロペンテン[化合物(XII-1 )]4.3g(19.
6mM)を無水テトラヒドロフラン30mlに溶かし、
この中に室温下で1M−水素化ホウ素・テトラヒドロフ
ラン溶液8.6ml(8.2mM)を加えた。室温下で
2時間攪拌した後、3N−水酸化ナトリウム水溶液4.
3mlを加え、続いて、30%過酸化水素水4.3ml
を加えた。室温下で2時間攪拌を続けた。反応液を氷水
に注ぎ反応を終了した。酢酸エチルで抽出し、食塩水、
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付して精製し、2−(4−クロロベンジル)
−3,3−ジメチルシクロペンタノール[化合物(XI-
1)]を油状物で得た。 得量1.3g(収率34%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 0.80(s,3H),0.85(s,3H),1.27〜2.17(m,5H),2.55(d,2H,J
=7Hz) 3.63〜4.03(m,1H),7.10(s,4H)
ジメチルシクロペンタノール[化合物(XI-1)]の合成 1,1−ジメチル−2−(4−クロロベンジル)−1−
シクロペンテン[化合物(XII-1 )]4.3g(19.
6mM)を無水テトラヒドロフラン30mlに溶かし、
この中に室温下で1M−水素化ホウ素・テトラヒドロフ
ラン溶液8.6ml(8.2mM)を加えた。室温下で
2時間攪拌した後、3N−水酸化ナトリウム水溶液4.
3mlを加え、続いて、30%過酸化水素水4.3ml
を加えた。室温下で2時間攪拌を続けた。反応液を氷水
に注ぎ反応を終了した。酢酸エチルで抽出し、食塩水、
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付して精製し、2−(4−クロロベンジル)
−3,3−ジメチルシクロペンタノール[化合物(XI-
1)]を油状物で得た。 得量1.3g(収率34%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 0.80(s,3H),0.85(s,3H),1.27〜2.17(m,5H),2.55(d,2H,J
=7Hz) 3.63〜4.03(m,1H),7.10(s,4H)
【0038】2−(4−クロロベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチルシクロ
ペンタノール[化合物(XI-1)]1.2g(5.17m
M)を塩化メチレン20mlに溶かし、氷水冷却下で攪
拌し、この中にピリジニウム クロロクロメート2.3
g(10.3mM)の塩化メチレン20ml溶液を10
分間で加えた。室温下で、24時間攪拌した。反応液を
セライトを通して濾過し、塩化メチレン層を水で洗浄
後、溶媒を減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して精製し、2−(4−クロロベ
ンジル)−3,3−ジメチルシクロペンタノン[化合物
(IV-1)]を油状物で得た。 得量1.1g(収率90%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 0.87(s,3H),0.97(s,3H),1.57〜3.17(m,7H),7.13(s,4H)
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 2−(4−クロロベンジル)−3,3−ジメチルシクロ
ペンタノール[化合物(XI-1)]1.2g(5.17m
M)を塩化メチレン20mlに溶かし、氷水冷却下で攪
拌し、この中にピリジニウム クロロクロメート2.3
g(10.3mM)の塩化メチレン20ml溶液を10
分間で加えた。室温下で、24時間攪拌した。反応液を
セライトを通して濾過し、塩化メチレン層を水で洗浄
後、溶媒を減圧下で留去し、残分をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して精製し、2−(4−クロロベ
ンジル)−3,3−ジメチルシクロペンタノン[化合物
(IV-1)]を油状物で得た。 得量1.1g(収率90%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 0.87(s,3H),0.97(s,3H),1.57〜3.17(m,7H),7.13(s,4H)
【0039】製造例5 6工程法による2−(4−クロロベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 2−クロロ−2−(4−クロロベンジル)シクロペン
タノン[化合物(IX-1)]の合成 2−(4−クロロベンジル)シクロペンタノン[化合物
(X-1 )]6.6g(31.65mM)を乾燥四塩化炭
素35mlに溶かし、スルフリルクロリド4.7g(3
4.81mM)/乾燥四塩化炭素5ml溶液を加えて、
室温下で2時間攪拌した。反応混合物を水中に注ぎ、四
塩化炭素層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下、溶媒を留去し、固体を得た。この固体をヘキサ
ン−酢酸エチル混合溶媒で再結晶し、2−クロロ−2−
(4−クロロベンジル)シクロペンタノン[化合物(IX
-1)]を得た。 得量5.4g(収率70%) 融点75−76℃
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 2−クロロ−2−(4−クロロベンジル)シクロペン
タノン[化合物(IX-1)]の合成 2−(4−クロロベンジル)シクロペンタノン[化合物
(X-1 )]6.6g(31.65mM)を乾燥四塩化炭
素35mlに溶かし、スルフリルクロリド4.7g(3
4.81mM)/乾燥四塩化炭素5ml溶液を加えて、
室温下で2時間攪拌した。反応混合物を水中に注ぎ、四
塩化炭素層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下、溶媒を留去し、固体を得た。この固体をヘキサ
ン−酢酸エチル混合溶媒で再結晶し、2−クロロ−2−
(4−クロロベンジル)シクロペンタノン[化合物(IX
-1)]を得た。 得量5.4g(収率70%) 融点75−76℃
【0040】2−(4−クロロベンジル)−2−シク
ロペンテン−1−オン[化合物(VIII-1)]の合成 2−クロロ−2−(4−クロロベンジル)シクロペンタ
ノン[化合物(IX-1)]5.2g(21.4mM)を無
水ジメチルホルムアミド7mlに溶かし、塩化リチウム
1.0g(23.5mM)を加えて、95℃下で、15分
攪拌した。放冷後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。減圧下、溶媒を留去し、残分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付して精製し、2−(4−ク
ロロベンジル)−2−シクロペンテン−1−オン[化合
物(VIII-1)]を油状物で得た。 得量3.0g(収率68%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 2.28〜2.67(m,4H),3.37〜3.53(m,2H),7.00〜7.37(m,5H)
ロペンテン−1−オン[化合物(VIII-1)]の合成 2−クロロ−2−(4−クロロベンジル)シクロペンタ
ノン[化合物(IX-1)]5.2g(21.4mM)を無
水ジメチルホルムアミド7mlに溶かし、塩化リチウム
1.0g(23.5mM)を加えて、95℃下で、15分
攪拌した。放冷後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。減圧下、溶媒を留去し、残分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付して精製し、2−(4−ク
ロロベンジル)−2−シクロペンテン−1−オン[化合
物(VIII-1)]を油状物で得た。 得量3.0g(収率68%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 2.28〜2.67(m,4H),3.37〜3.53(m,2H),7.00〜7.37(m,5H)
【0041】2−(4−クロロベンジル)−3−メチ
ルシクロペンタノン[化合物(VII-1 )]の合成 ヨウ化第一銅11.07g(58.1mmol)を乾燥
ジエチルエーテル120mlに懸濁させ、アルゴン雰囲
気下、氷−食塩浴で冷却し、攪拌しながらメチルリチウ
ムの1.4Mジエチルエーテル溶液83ml(116.
2mmol)を滴下した。さらに、20分間攪拌した後、
同温度にて2−(4−クロロベンジル)−2−シクロペ
ンテン−1−オン[化合物(VIII-1)]11.8g(6
5mM)のジエチルエーテル溶液を滴下した。 滴下
後、 1時間攪拌し、化合物(VIII-1)の消失を確認し
た。反応混合物に塩化アンモニウム飽和水溶液を注いだ
後、ジエチルエーテルで 2回抽出した。エーテル層を塩
化アンモニウム飽和水溶液で 2回洗浄し、青色分を除
き、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減
圧留去し、2−(4−クロロベンジル)−3−メチルシ
クロペンタノン[化合物(VII-1 )]を淡黄色液体で得
た。 得量 10.3g(収率80%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 1.02(d,3H,J=6Hz),1.32〜1.42(m,1H),1.70〜2.10(m,4H) 2.30〜2.40(m,1H),2.90(bs),7.08(d,2H,J=8Hz) 7.20(d,2H,J=8Hz)
ルシクロペンタノン[化合物(VII-1 )]の合成 ヨウ化第一銅11.07g(58.1mmol)を乾燥
ジエチルエーテル120mlに懸濁させ、アルゴン雰囲
気下、氷−食塩浴で冷却し、攪拌しながらメチルリチウ
ムの1.4Mジエチルエーテル溶液83ml(116.
2mmol)を滴下した。さらに、20分間攪拌した後、
同温度にて2−(4−クロロベンジル)−2−シクロペ
ンテン−1−オン[化合物(VIII-1)]11.8g(6
5mM)のジエチルエーテル溶液を滴下した。 滴下
後、 1時間攪拌し、化合物(VIII-1)の消失を確認し
た。反応混合物に塩化アンモニウム飽和水溶液を注いだ
後、ジエチルエーテルで 2回抽出した。エーテル層を塩
化アンモニウム飽和水溶液で 2回洗浄し、青色分を除
き、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減
圧留去し、2−(4−クロロベンジル)−3−メチルシ
クロペンタノン[化合物(VII-1 )]を淡黄色液体で得
た。 得量 10.3g(収率80%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 1.02(d,3H,J=6Hz),1.32〜1.42(m,1H),1.70〜2.10(m,4H) 2.30〜2.40(m,1H),2.90(bs),7.08(d,2H,J=8Hz) 7.20(d,2H,J=8Hz)
【0042】2−クロロ−2−(4−クロロベンジ
ル)−3−メチルシクロペンタノン[化合物(VI-1)]
の合成 2−(4−クロロベンジル)−3−メチルシクロペンタ
ノン[化合物(VII-1)]6.08g(27.3mmo
l)を乾燥ベンゼン30mlに溶かし、スルフリルクロ
リド2.43ml(30.3mmol)の乾燥2.5m
lベンゼン溶液を加えて、室温下で1.5時間攪拌し
た。ついで、反応混合物を氷水に注いで、酢酸エチルで
2回抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去し、
2−クロロ−2−(4−クロロベンジル)−3−メチル
シクロペンタノン[化合物(VI-1)]を淡黄色液体で得
た。
ル)−3−メチルシクロペンタノン[化合物(VI-1)]
の合成 2−(4−クロロベンジル)−3−メチルシクロペンタ
ノン[化合物(VII-1)]6.08g(27.3mmo
l)を乾燥ベンゼン30mlに溶かし、スルフリルクロ
リド2.43ml(30.3mmol)の乾燥2.5m
lベンゼン溶液を加えて、室温下で1.5時間攪拌し
た。ついで、反応混合物を氷水に注いで、酢酸エチルで
2回抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去し、
2−クロロ−2−(4−クロロベンジル)−3−メチル
シクロペンタノン[化合物(VI-1)]を淡黄色液体で得
た。
【0043】2−(4−クロロベンジル)−3−メチ
ル−2−シクロペンテノン[化合物(V-1 )]の合成 上記製造例5ので得られた、2−クロロ−2−(4−
クロロベンジル)−3−メチルシクロペンタノン[化合
物(VI-1)]と塩化リチウム1.15g(27.3mm
ol)を乾燥ジメチルホルムアミド5mlに溶かし、9
0−100℃で、10分間加熱攪拌した。ついで、反応
混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで 2回抽出し、飽和食
塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶
媒を留去し、淡黄色液体の残分を得た。この残分をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチ
ル)で精製し、2−(4−クロロベンジル)−3−メチ
ル−2−シクロペンテノン[化合物(V-1 )]を無色液
体で得た。 得量 3.59g(収率60%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 2.08(s,3H),2.35〜2.60(m,4H),3.48(s,2H) 7.13(d,2H,J=8Hz),7.20(d,2H,J=8Hz)
ル−2−シクロペンテノン[化合物(V-1 )]の合成 上記製造例5ので得られた、2−クロロ−2−(4−
クロロベンジル)−3−メチルシクロペンタノン[化合
物(VI-1)]と塩化リチウム1.15g(27.3mm
ol)を乾燥ジメチルホルムアミド5mlに溶かし、9
0−100℃で、10分間加熱攪拌した。ついで、反応
混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで 2回抽出し、飽和食
塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶
媒を留去し、淡黄色液体の残分を得た。この残分をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチ
ル)で精製し、2−(4−クロロベンジル)−3−メチ
ル−2−シクロペンテノン[化合物(V-1 )]を無色液
体で得た。 得量 3.59g(収率60%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 2.08(s,3H),2.35〜2.60(m,4H),3.48(s,2H) 7.13(d,2H,J=8Hz),7.20(d,2H,J=8Hz)
【0044】2−(4−クロロベンジル)−3,3−
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 ヨウ化第一銅6.58g(34.5mmol)の乾燥ジ
エチルエーテル(50mlを使用)懸濁液を、アルゴン
雰囲気下、氷−食塩浴で冷却しながら、メチルリチウム
の1.03Mジエチルエーテル溶液(34.54mmo
l)を徐々に滴下し、しばらく攪拌後 -78℃に冷却し
て、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体(34.5
4mmol)を滴下し、メチル銅−三フッ化ホウ素錯体
を調製した。この調製混合物に、2−(4−クロロベン
ジル)−3−メチル−2−シクロペンテノン[化合物
(V-1 )]2.87g(13.0mmol)のジエチル
エーテル(10mlを使用)溶液を滴下し、 2時間かけ
て、徐々に室温まで昇温させた。ついで、反応混合物に
塩化アンモニウム飽和水溶液を注いだ後、ジエチルエー
テルで 2回抽出した。エーテル層を塩化アンモニウム飽
和水溶液で 2回洗浄し、青色分を除き、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去し、淡黄色液
体を得た。この液体をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、2−(4−ク
ロロベンジル)−3,3−ジメチルシクロペンタノン
[化合物(IV-1)]を無色液体で得た。 得量 2.78g(90%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 0.87(s,3H),0.97(s,3H),1.57〜3.17(m,7H),7.13(s,4H)
ジメチルシクロペンタノン[化合物(IV-1)]の合成 ヨウ化第一銅6.58g(34.5mmol)の乾燥ジ
エチルエーテル(50mlを使用)懸濁液を、アルゴン
雰囲気下、氷−食塩浴で冷却しながら、メチルリチウム
の1.03Mジエチルエーテル溶液(34.54mmo
l)を徐々に滴下し、しばらく攪拌後 -78℃に冷却し
て、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体(34.5
4mmol)を滴下し、メチル銅−三フッ化ホウ素錯体
を調製した。この調製混合物に、2−(4−クロロベン
ジル)−3−メチル−2−シクロペンテノン[化合物
(V-1 )]2.87g(13.0mmol)のジエチル
エーテル(10mlを使用)溶液を滴下し、 2時間かけ
て、徐々に室温まで昇温させた。ついで、反応混合物に
塩化アンモニウム飽和水溶液を注いだ後、ジエチルエー
テルで 2回抽出した。エーテル層を塩化アンモニウム飽
和水溶液で 2回洗浄し、青色分を除き、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧留去し、淡黄色液
体を得た。この液体をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、2−(4−ク
ロロベンジル)−3,3−ジメチルシクロペンタノン
[化合物(IV-1)]を無色液体で得た。 得量 2.78g(90%) NMR ( CDCl3 ,δ, ppm ): 0.87(s,3H),0.97(s,3H),1.57〜3.17(m,7H),7.13(s,4H)
【0045】 製剤例1 :粉剤 重量部 化合物(I-1 ) 3 クレ− 40 タルク 57 を粉砕混合し、散粉として使用する。
【0046】 製剤例2 :水和剤 重量部 化合物(I-2 ) 50 リグニンスルホン酸塩 5 アルキルスルホン酸塩 3 珪藻土 42 を粉砕混合して水和剤とし、水で希釈して使用する。
【0047】 製剤例3 :粒剤 重量部 化合物(I-1 ) 5 ベントナイト 43 クレ− 45 リグニンスルホン酸塩 7 を均一に混合し更に水を加えて練り合わせ、押し出し式
造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とする。
造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とする。
【0048】 製剤例4 :乳剤 重量部 化合物(I-2 ) 20 ポリオキシエチレンアルキルアリルエ−テル 10 ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレ−ト 3 キシレン 67 を均一に混合溶解して乳剤とする。
【0049】試験例1 キュウリ灰色かび病防除効果試験 径10cmの素焼鉢を用いて栽培した第1本葉時のキュウリ
葉(品種:相模半白)に製剤例2のような水和剤形態の
ものを、水で所定濃度に希釈懸濁し、1鉢あたり5ml 散
布した。散布葉を風乾した後、予めポテトシュ−クロ−
ス寒天培地を用いて20℃で3 日間培養した灰色かび病菌
の含菌寒天の円形切片(径 4mm)を葉の中央部に直接付
着させ、20〜22℃高湿度条件下に保った。接種後、3 日
目にキュウリ灰色かび病の病斑面積率を調査し、式1に
より防除価を算出した。結果を表1に示す。
葉(品種:相模半白)に製剤例2のような水和剤形態の
ものを、水で所定濃度に希釈懸濁し、1鉢あたり5ml 散
布した。散布葉を風乾した後、予めポテトシュ−クロ−
ス寒天培地を用いて20℃で3 日間培養した灰色かび病菌
の含菌寒天の円形切片(径 4mm)を葉の中央部に直接付
着させ、20〜22℃高湿度条件下に保った。接種後、3 日
目にキュウリ灰色かび病の病斑面積率を調査し、式1に
より防除価を算出した。結果を表1に示す。
【式1】防除価(%)=(1−散布区の病斑面積率÷無
散布区の病斑面積率)×100
散布区の病斑面積率)×100
【表1】
【0050】試験例2 コムギ赤さび病防除試験 径10cmの素焼鉢を用いて栽培した第2葉期の幼苗コムギ
(品種:農林64号、16本/鉢)に、製剤例2のような水
和剤形態のものを、水で所定濃度に希釈懸濁し、 5ml/
鉢の割合で散布した。散布葉を風乾した後、り病葉より
採取したコムギ赤さび病菌夏胞子の懸濁液を噴霧接種
し、20〜23℃高湿度条件下に24時間保った。その後、ガ
ラス温室内で管理し、接種から7 〜10日後にコムギ赤さ
び病の病斑面積率を調査して、防除価を式1により算出
し、結果を表1に記載した。
(品種:農林64号、16本/鉢)に、製剤例2のような水
和剤形態のものを、水で所定濃度に希釈懸濁し、 5ml/
鉢の割合で散布した。散布葉を風乾した後、り病葉より
採取したコムギ赤さび病菌夏胞子の懸濁液を噴霧接種
し、20〜23℃高湿度条件下に24時間保った。その後、ガ
ラス温室内で管理し、接種から7 〜10日後にコムギ赤さ
び病の病斑面積率を調査して、防除価を式1により算出
し、結果を表1に記載した。
【0051】試験例3 コムギうどんこ病防除効果試験 径10cmの素焼鉢を用いて栽培した第2葉期の幼苗コムギ
(品種:農林64号、16本/鉢)に、製剤例2のような水
和剤形態のものを、水で所定濃度に希釈懸濁し、 5ml/
鉢の割合で散布した。散布葉を風乾した後、り病葉から
採取したコムギうどんこ病菌胞子を払い落として、その
後は温室内で、24時間管理した。接種後、9 〜11日目に
コムギうどんこ病の病斑面積率を調査して、防除価を式
1により算出し、結果を表1に記載した。
(品種:農林64号、16本/鉢)に、製剤例2のような水
和剤形態のものを、水で所定濃度に希釈懸濁し、 5ml/
鉢の割合で散布した。散布葉を風乾した後、り病葉から
採取したコムギうどんこ病菌胞子を払い落として、その
後は温室内で、24時間管理した。接種後、9 〜11日目に
コムギうどんこ病の病斑面積率を調査して、防除価を式
1により算出し、結果を表1に記載した。
【0052】試験例4 各種病原菌に対する抗菌性試験 本例は、本発明による化合物(I-1 )と化合物(I-2 )
の各種植物病原菌に対する抗菌性を試験した結果を示し
たものである。 試験方法:本発明化合物を、それぞれ所定濃度(100pp
m)となるように、ジメチルスルホキシドに溶解し、そ
の0.6ml と、60℃前後のPAS培地60mlを100ml 三角フ
ラスコ内でよく混合し、シャーレ内に流し固化させた。
一方、予め平板培地上で培養した供試菌を直径4mm のコ
ルクボーラーで打ち抜き、上記の薬剤含有平板培地上に
接種した。接種後、各菌の生育適温にて1〜3日間培養
し、菌の生育を菌そう直径で測定し、薬剤無添加区にお
ける菌の成育と比較して、式2により、菌糸伸長抑制率
を求めた。
の各種植物病原菌に対する抗菌性を試験した結果を示し
たものである。 試験方法:本発明化合物を、それぞれ所定濃度(100pp
m)となるように、ジメチルスルホキシドに溶解し、そ
の0.6ml と、60℃前後のPAS培地60mlを100ml 三角フ
ラスコ内でよく混合し、シャーレ内に流し固化させた。
一方、予め平板培地上で培養した供試菌を直径4mm のコ
ルクボーラーで打ち抜き、上記の薬剤含有平板培地上に
接種した。接種後、各菌の生育適温にて1〜3日間培養
し、菌の生育を菌そう直径で測定し、薬剤無添加区にお
ける菌の成育と比較して、式2により、菌糸伸長抑制率
を求めた。
【式2】R=100(dc−dt)/dc (式中、 R=菌糸伸長抑制率(%) dc=無処理平板上菌そう直径 dt=薬剤処理平板上菌そう直径 をそれぞれ示す) 結果を次の基準にしたがって5段階評価とし、表2に示
した。 生育阻害度 5 菌糸伸長抑制率が 100〜90%以上のもの 4 菌糸伸長抑制率が 90未満〜70%以上のもの 3 菌糸伸長抑制率が 70未満〜40%以上のもの 2 菌糸伸長抑制率が 40未満〜20%以上のもの 1 菌糸伸長抑制率が 20%未満のもの
した。 生育阻害度 5 菌糸伸長抑制率が 100〜90%以上のもの 4 菌糸伸長抑制率が 90未満〜70%以上のもの 3 菌糸伸長抑制率が 70未満〜40%以上のもの 2 菌糸伸長抑制率が 40未満〜20%以上のもの 1 菌糸伸長抑制率が 20%未満のもの
【0053】
【表2】
【0054】表2中の略号は下記のものを示す。 P.o.; Pyricularia oryzae イネいもち病菌 C.m.; Cochliobolus miyabeanusイネごま葉枯病菌 G.f.; Gibberella fujikuroiイネ馬鹿苗病菌 B.c.; Botrytis cinerea 灰色かび病菌 S.s.; Sclerotinia sclerotiorum菌核病菌 M.f.; Monilinia fructicolaモモ灰星病菌
【0055】
【発明の効果】本発明の式(I )の(アゾリルメチル)
シクロペンタノール誘導体は新規化合物であって、殺菌
剤の有効成分として利用できる。
シクロペンタノール誘導体は新規化合物であって、殺菌
剤の有効成分として利用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新関 孝高 福島県いわき市錦町堰下55−1
Claims (2)
- 【請求項1】 化1の式(I )の(アゾリルメチル)シ
クロペンタノール誘導体。(式中、X は、ハロゲン原
子、C1〜C5アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、フェニ
ル基、シアノ基またはニトロ基を示し、同一または相異
なっていてもよい、nは、0 〜 5の整数を示し、 Aは、C
Hまたは、 Nを示す)。 【化1】 - 【請求項2】 化2の式(I )の(アゾリルメチル)シ
クロペンタノール誘導体を有効成分として含有する殺菌
剤。(式中、X は、ハロゲン原子、C1〜C5アルキル基、
C1〜C4ハロアルキル基、フェニル基、シアノ基またはニ
トロ基を示し、同一または相異なっていてもよい、n
は、0 〜 5の整数を示し、 Aは、CHまたは、 Nを示
す)。 【化2】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6290557A JPH08127568A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 新規(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法および殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6290557A JPH08127568A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 新規(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法および殺菌剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08127568A true JPH08127568A (ja) | 1996-05-21 |
Family
ID=17757575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6290557A Pending JPH08127568A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 新規(アゾリルメチル)シクロペンタノール誘導体、その製造方法および殺菌剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08127568A (ja) |
-
1994
- 1994-10-31 JP JP6290557A patent/JPH08127568A/ja active Pending
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