JPH08134364A - 水溶性樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物 - Google Patents

水溶性樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物

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JPH08134364A
JPH08134364A JP27783794A JP27783794A JPH08134364A JP H08134364 A JPH08134364 A JP H08134364A JP 27783794 A JP27783794 A JP 27783794A JP 27783794 A JP27783794 A JP 27783794A JP H08134364 A JPH08134364 A JP H08134364A
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molecule
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JP27783794A
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Inventor
Shigeo Nakamura
茂雄 中村
Tadahiko Yokota
忠彦 横田
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Ajinomoto Co Inc
Original Assignee
Ajinomoto Co Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子材料分野において耐熱性、耐薬品性、電
気絶縁性などが必要とされるソルダーレジストにおい
て、水で希釈および現像ができ、その硬化物特性に優れ
るインキ組成物を提供する。 【構成】(A)分子内に少なくとも2つ以上のカルボキ
シル基を有するポリカルボン酸化合物(分子量500〜
500,000)の、カルボキシル基1.0当量に対し
て0.2〜1.5当量の分子内に少なくとも1つの水酸
基を有するスルフィド化合物と0.8〜1.2当量の単
官能エポキシ化合物を同時に反応させてなる水溶性樹脂
及び/または(A’)分子内に少なくとも1つ以上の重
合可能な二重結合及び2つ以上のカルボキシル基を有す
るポリカルボン酸化合物(分子量500〜500,00
0)の、カルボキシル基1.0当量に対して0.2〜
1.5当量の分子内に少なくとも1つの水酸基を有する
スルフィド化合物と0.8〜1.2当量の単官能エポキ
シ化合物を同時に反応させてなる水溶性樹脂 (B)光重合開始剤を必須成分とする感光性樹脂組成物
である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水現像型フォトソルダー
レジストとして有用な新規な水溶性樹脂及び該樹脂組成
物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板への部品の半田付け時の
トラブルを防止し、また部品搭載後の回路板を長期に渡
って保護するためにソルダーレジストが使用されている
が、近年の電子機器の小型化に伴い、プリント配線板の
高密度化、部品の表面実装化が進みつつある。このよう
なプリント配線板の高密度化に対応するため、従来のス
クリーン印刷型のレジストから写真現像型のものへ移行
してきた。写真現像型の中でも取分け、作業環境の改
善、環境保護の観点から現像にアルカリ水溶液を用いる
ものが主流となっている。このようなアルカリ現像型の
フォトソルダーレジストとしては、特公平1−5439
0にノボラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン
酸との反応物と、飽和または不飽和多塩基酸無水物とを
反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂、光重
合開始剤、希釈剤、エポキシ化合物から成る光硬化性及
び熱硬化性の液状レジストインキ組成物が開示されてい
る。この場合、ソルダーレジストとしての特性は満足す
ることができるが、スプレーコートやカーテンコートに
よる方法で塗布する場合等においては、多量の有機溶剤
で希釈しなければならず、環境汚染や引火等の問題があ
り、改善がのぞまれている。さらに、希アルカリ水溶液
で現像するため、現像液の調製、濃度の管理等が必要で
あるばかりか、疲労した現像液の処理には中和が必要で
あった。また、レジスト塗膜中に現像液のアルカリイオ
ン成分が残り、その後の電気特性に問題が生じる可能性
があるため、現像工程後、水洗工程を設けることが必須
であった。
【0003】かかる問題点を解決するために水希釈型及
び/または水現像型の液状フォトソルダーレジストがい
くつか考案されている。例えば、特開平4−29435
2には、芳香族系エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸
を反応させた後、不飽和多塩基酸無水物を反応させて得
られる反応生成物をアミンで中和した感光性オリゴマ
ー、熱硬化性化合物、光重合開始剤および、反応性希釈
剤よりなる感光性水性樹脂組成物が、特開平4−294
354には(メタ)アクリル酸エステルと(メタ)アク
リル酸の共重合物とエポキシ基含有の(メタ)アクリル
酸エステルの反応生成物をアミンで中和した感光性オリ
ゴマー、光重合開始剤、反応性希釈剤よりなる感光性水
性樹脂組成物が開示されているが、これらはタックフリ
ーの膜を得るための乾燥工程において中和に用いたアミ
ンが揮発したり、またこの工程時に現像性の低下する現
象(熱かぶり)が生じやすいという問題があった。また
これらは水希釈は可能であるが、現像には希アルカリ水
溶液が必要であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
はソルダ−レジストとしての諸特性に優れた水希釈、水
現像可能なフォトソルダ−レジスト組成物を提供するこ
とにある。
【0005】
【問題を解決するための手段】本発明者らはアミン類で
中和することなくアルカリ可溶性であるポリカルボン酸
化合物を水溶化させることに鋭意研究した結果、カルボ
キシル基をチオジエタノールの如きスルフィド化合物と
単官能エポキシ化合物でオニウム塩にすることによって
水現像型フォトソルダーレジストとして有用な水溶性樹
脂になることを見いだした。すなわち本発明は、(A)
分子内に重合可能な二重結合を有することもある少なく
とも2つ以上のカルボキシル基を有するポリカルボン酸
化合物(分子量500〜500,000)の、カルボキ
シル基1.0当量に対して0.2〜1.5当量の分子内
に少なくとも1つの水酸基を有するスルフィド化合物と
0.8〜1.2当量の単官能エポキシ化合物を同時に反
応させてなる水溶性樹脂及びこの(A)成分、(B)光
重合開始剤及び(C)分子内に少なくとも重合可能な二
重結合を有する化合物を必須成分とする感光性樹脂組成
物である。以下各成分について具体的に説明する。
【0006】本発明における分子内に少なくとも2つ以
上のカルボキシル基を有するポリカルボン酸化合物とし
ては、公知慣用のものが使用される。代表的なものとし
ては、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、イタ
コン酸等のカルボキシル基を有するラジカル重合性モノ
マーの単独重合体あるいは、該モノマーと異種モノマー
例えばスチレン、α−メチルスチレン、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリロ
ニトリル等の共重合体が挙げられる。
【0007】かかる重合体に1つ以上の重合可能な二重
結合を導入するには、重合体中のカルボキシル基及び/
または水酸基の一部に、グリシジル(メタ)アクリレー
ト、アリルグリシジルエーテルの如きエポキシ基と重合
可能な二重結合を有する化合物を反応させる、あるいは
(メタ)アクリロイルイソシアネート、イソシアネート
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートとトリレンジイソシアネートとの
等モル付加物の如きイソシアネート基と重合可能な二重
結合を有する化合物を反応させることによって得られ
る。また、カルボキシル基の一部に2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレートの如き水酸基と重合可能な二重
結合を有する化合物を脱水縮合させることによっても得
られる。
【0008】また、無水マレイン酸と他のラジカル重合
性モノマー例えばスチレン、メチルビニルエーテル等と
の共重合体に、モノアルコールを反応させて得られるポ
リカルボン酸化合物も使用できる。ここで、反応させる
モノアルコールの一部あるいは全部に2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、アリルアルコール、N−メチロ
ール(メタ)アクリルアミド、グリセロールアクリレー
トメタクリレートの如き化合物を使用すれば、重合可能
な二重結合を導入することが出来る。
【0009】さらに、ポリカルボン酸化合物として多官
能エポキシ化合物とモノカルボン酸との反応物の有する
水酸基に多塩基酸無水物を反応させたものが使用でき
る。多官能エポキシ化合物としては公知慣用のエポキシ
樹脂類、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ナフタレンノボラック型エポキシ樹
脂、ポリビニルフェノールのグリシジル化物、フェノー
ル類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドと
の縮合物のエポキシ化物、グリシジルメタクリレートの
単独あるいは共重合体、脂環式エポキシ樹脂等が挙げら
れる。反応させるモノカルボン酸も公知慣用のもので、
アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、桂皮酸等を
使用すれば化合物中に重合可能な二重結合を導入でき
る。水酸基に付加反応させる多塩基酸無水物としては、
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水テトラヒドロフタ
ル酸、無水イタコン酸、無水フタル酸の如き二塩基酸無
水物、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸の如き
芳香族多価カルボン酸無水物が使用される。また、同様
にしてフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラッ
ク樹脂、ポリビニルフェノールに代表されるフェノール
性水酸基を有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレ
ートの如き単官能エポキシ化合物の反応物の有する水酸
基に多塩基酸無水物を反応させたポリカルボン酸化合物
も使用できる。
【0010】上記のポリカルボン酸化合物は、単独ある
いは二種以上組み合わせても使用でき、分子量の好適な
範囲は500〜500,000である。分子量が500
未満の場合には指触乾燥性が不十分であるし、500,
000を超えると水溶性が著しく低下してしまう。ま
た、ポリカルボン酸化合物の固形分酸価は50mgKO
H/g以上であるのが望ましく、それを下回ると後に導
入するオニウム構造が制限され水溶化が困難となる。
【0011】ポリカルボン酸化合物を水溶化させるため
には、カルボキシル基1.0当量に対して0.2〜1.
5当量の分子内に少なくとも1つの水酸基を有するスル
フィド化合物と0.8〜1.2当量の単官能エポキシ化
合物を同時に反応させ、オニウム構造を導入する。該反
応は、40〜90℃の加熱下2〜24時間で完結する。
オニウム構造の最適な導入率は使用するポリカルボン酸
化合物、スルフィド化合物及び単官能エポキシ化合物の
親水性の度合によりそれぞれ決定されるものであるが、
一般にカルボキシル基1.0当量に対して反応させるス
ルフィド化合物が0.2当量以下の場合には水溶化が困
難となる。また、1.5当量を超えると過剰の残存スル
フィド化合物により指触乾燥性が低下してしまい好まし
くない。同時に反応させる単官能エポキシ化合物につい
ては、上記範囲の如くカルボキシル基当量付近にあるの
が好ましく、当量を超えるとエポキシ基同志で開環重合
が進行するため、1.2当量を超えたところで樹脂の水
溶性が著しく低下してしまう。
【0012】分子内に水酸基を有するスルフィド化合物
としては、チオジエタノール、チオジプロパノール、あ
るいは2−メルカプトエタノールと単官能エポキシ化合
物の当量反応物等が挙げられ、水溶性で悪臭の少ないも
のが好ましい。本発明では、上記スルフィド化合物に限
定してオニウム構造の導入を行なったが、スルフィド化
合物の代わりに3級アミンを使用して第4級アンモニウ
ム構造としポリカルボン酸化合物を水溶化することもで
きる。しかし、この場合ソルダーレジストとての耐湿性
に著しく劣るという欠点を有しており、本研究目的の水
溶性樹脂として使用できるものではなかった。
【0013】スルフィド化合物と同時に反応させる単官
能エポキシ化合物としては、特に制限はなく、エチレン
オキサイド、プロピレンオキサイド、グリシドール、メ
チルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、
グリシジル(メタ)アクリレート、ブチルグリシジルエ
ーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェ
ニルグリシジルエーテル、N−[4−(2,3−エポキ
シプロポキシ)−3,5−ジメチルベンジル]アクリル
アミド、CYCLOMER A−200、M−200
(ダイセル化学工業製)等が挙げられる。これらの単官
能エポキシ化合物は単独あるいは2種以上組み合わせて
も使用できる。
【0014】水溶性樹脂の合成反応時には、溶剤を使用
するのが好ましい。溶剤としては、メチルエチルケトン
等のケトン類、トルエン、テトラメチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、メチルセロソルブ、メチルカルビトー
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグ
リコールエーテル類、酢酸エチル及び上記グリコールエ
ーテル類の酢酸エステル化物等のエステル類、エチレン
グリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、
オクタン等の脂肪族炭化水素、石油ナフサ、ソルベント
ナフサ等の石油系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は
単独あるいは2種以上混合して用いられ、使用量の好適
な範囲はポリカルボン酸化合物100重量部に対して5
〜400重量部である。
【0015】上記のようにして得た水溶性樹脂を感光性
樹脂とするには、重合可能な二重結合を前述の何れかの
方法によりポリカルボン酸化合物中に導入しておく、及
び/または水溶性樹脂とともに分子内に少なくとも2つ
以上の重合可能な二重結合を有する化合物を併用するこ
とが必須となる。但し、水溶性樹脂中に重合可能な二重
結合を有する場合にはこれとは別に分子内に少なくとも
2つ以上の重合可能な二重結合を有する化合物を併用す
ることは必須ではない。
【0016】分子内に少なくとも2つ以上の重合可能な
二重結合を有する化合物としては公知慣用のものが使用
され例えば、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール、ジペンタエリスリトールなどの多価アルコール
または、これらのエチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、ε−カプロラクトンの付加物の多価アクリレー
ト類、あるいは水溶性樹脂の説明項で既述したような多
官能エポキシ化合物から誘導されるエポキシアクリレー
ト類、さらにはメラミンアクリレート類、ウレタンアク
リレート類等の多価アクリレート及び/または上記アク
リレートに対応するメタクリレート類などがある。これ
らは単独あるいは2種以上混合して使用される。使用量
としては、水溶性樹脂の分子量、重合可能な二重結合基
量等の条件によりそれぞれ最適範囲が決定されるもので
あるが、組成物の1〜50重量%の範囲にあるのが望ま
しい。
【0017】本発明の感光性樹脂組成物に必須である光
重合開始剤としては、ベンゾインのベンゾイン類及びベ
ンゾインアルキルエ−テル類、アセトフェノン、2、2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2、2−
ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1、1−ジ
クロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチ
オ)フェニル」−2−モルフォノ−プロパン−1−オ
ン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセト
フェノン類、2−メチルアントラキノン、2−エチルア
ントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、
1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノ
ン、2−アミノアントラキノン等のアントラキノン類、
2、4−ジメチルチオキサンソン、2、4−ジエチルチ
オキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2、4−ジ
イソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン類、ア
セトフェノンジメチルケタ−ル、ベンジルジメチルケタ
−ル等のケタ−ル類、ベンゾフェノン、メチルベンゾフ
ェノン、4、4’−ジクロロベンゾフェノン、4、4’
−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラ−ズケト
ン等のベンゾフェノン類およびキサントン類等があり、
単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることが出来
る。さらに、係る光重合開始剤はエチル−4−ジメチル
アミノベンゾエ−ト、2−(ジメチルアミノ)エチルベ
ンゾエ−ト等の安息香酸エステル類あるいはトリエチル
アミン、トリエタノ−ルアミン等の三級アミン類のよう
な公知慣用の光増感剤を単独あるいは2種以上を組み合
わせて用いることが出来る。
【0018】光重合開始剤の使用量の好適な範囲は、重
合可能な二重結合を有する化合物100重量部に対し
て、0.2〜40重量部、好ましくは2〜25重量部で
ある。これより少ないと感度が不良となり、一方これよ
り多く加えても感度の向上は望めず好ましくない。ま
た、さらに過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾビスイ
ソブチロニトリル等のアゾ化合物のような公知慣用の熱
ラジカル発生剤を併用することもできる。
【0019】本発明の感光性樹脂組成物の調製には上記
必須成分の他に希釈剤を使用することができる。このよ
うな希釈剤としては、有機溶剤及び/または水及び/ま
たは光重合性ビニル系モノマーが使用できる。有機溶剤
としては、水溶性樹脂合成の説明項で既述した溶剤と同
じものが使用される。また、光重合性ビニル系モノマー
としては、アクリルアミド類、アクリレート類、メタク
リレート類などが挙げられる。これらの反応性希釈剤、
特に多感能アクリレートは組成物の粘度調整と感度を向
上させる目的で使用されるものである。
【0020】本発明の組成物にさらに熱硬化性樹脂を加
えて使用できる。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、ブロックイソシアネート等が用いら
れる。これらの使用量は組成物の0〜50重量%が好ま
しく、またこのときこれらの硬化剤を併用することもで
きる。
【0021】さらに本発明においては、他に公知慣用の
添加剤を加えて用いることが出来る。例えば無機充填剤
として、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素
粉、微粉状酸化ケイ素、無定形シリカ、タルク、クレ
−、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニ
ウム、水酸化アルミニウム、雲母粉などの公知慣用のも
のが使用でき、その配合比率は樹脂組成物の0〜100
重量%であり、好ましくは5〜60重量%である。更に
必要に応じてフタロシアニン・ブル−、フタロシアニン
・グリ−ン、アイオジン・グリ−ン、ジスアゾイエロ
−、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カ−ボンブ
ラック、ナフタレンブラック等の公知慣用の着色剤、ハ
イドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ−テル、フ
ェノチアジン等の公知慣用の熱重合禁止剤、アスベス
ト、オルベン、ベントン等の公知慣用の増粘剤、シリコ
−ン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤および/または
レベリング剤、イミダゾ−ル系、チアゾ−ル系、トリア
ゾ−ル系、シランカップリング剤等の密着性付与剤のよ
うな公知慣用の添加剤類を用いることが出来る。
【0022】本発明の感光性樹脂組成物をフォトソルダ
ーレジスト組成物として使用する場合、各必須成分と必
要に応じ希釈剤、熱硬化性樹脂、充填剤、顔料、チキソ
剤等の添加剤を加えて三本ロールミル、ボールミル等の
適当な装置により十分混合することにより調製される。
このようなフォトソルダーレジスト組成物を、例えば回
路形成されたプリント配線板に、スクリ−ン印刷、カ−
テンコ−タ−、スピンコ−タ−、スプレ−等により全面
に塗布するなどの方法で塗膜が形成できる。その後、レ
−ザ−光の直接照射あるいはパタ−ンを形成したフォト
マスクを通し選択的に高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ等の活性光線により露光し、未露光部分を水で現像し
パタ−ンを形成することが出来る。そして、現像後に1
00〜200℃での加熱処理、必要に応じて後露光を行
うことにより、ソルダーレジストとしての諸特性を満足
する永久保護膜が得られる。現像液として水を使用する
ことができるため前述のように管理上及び環境上非常に
有効である。また、レジストインキ塗布に用いた治具を
水道水で洗浄できるため作業環境上非常に好ましい。
【0023】本発明の感光性樹脂組成物は、特にフォト
ソルダーレジスト組成物として有用であるが、その他に
もめっきレジスト、各種絶縁材料、表面被覆剤、塗料、
接着剤等としても使用できる。
【0024】
【実施例】以下に製造例、実施例及び比較例を示して本
発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。なお、「部」および「%」とあるのは、
特に断りのないかぎりすべて重量基準である。
【0025】
【製造例1】冷却管、撹拌装置、温度計を取り付けた反
応装置にポリアクリル酸(重量平均分子量2,000、
酸価580mgKOH/g)100部とメチルカルビト
ール154部を入れ、80℃で加熱撹拌し溶解させた。
次に、反応温度を60℃に下げ、この溶液にチオジエタ
ノール50部、グリシジルメタクリレート(純度95
%)116部、グリシドール(純度97%)20部を添
加して20時間加熱撹拌することにより不揮発分65%
の樹脂溶液440部を得た。
【0026】
【製造例2】冷却管、撹拌装置、温度計を取り付けた反
応装置にスチレン−無水マレイン酸共重合体SMA10
00(ARCO社製、重量平均分子量1,600)10
0部とカルビトールアセテート85部を入れ、110℃
で加熱撹拌し溶解させた。次に、同温度にて空気を吹き
込みながら、2−ヒドロキシエチルアクリレート(純度
97%)30部を滴下し110℃で20時間反応させた
後、80℃まで冷却し、エタノール15部を滴下しさら
に8時間撹拌反応させた。得られたポリカルボン酸化合
物230部は不揮発分60%、酸価104mgKOH/
gであった。次に、この溶液230部にチオジエタノー
ル40部、グリシドール32部、メチルカルビトール2
1部を添加して60℃で15時間加熱撹拌することによ
り不揮発分65%の樹脂溶液323部を得た。
【0027】
【製造例3】冷却管、撹拌装置、温度計を取り付けた反
応装置にスチレン−無水マレイン酸共重合体Scrip
set520(Monsanto社製、重量平均分子量
350,000)100部とカルビトールアセテート2
20部を入れ、110℃で加熱撹拌し溶解させた。次
に、反応温度を80℃に下げ、エタノール16部を滴下
し10時間撹拌反応させた後、メチルカルビトール50
部を添加し110℃に昇温しさらに15時間反応させ
た。得られたポリカルボン酸化合物386部は不揮発分
30%、酸価51mgKOH/gであった。次に、この
溶液386部にチオジエタノール40部、グリシドール
27部、メチルカルビトール70部を添加して60℃で
15時間加熱撹拌することにより不揮発分35%の樹脂
溶液523部を得た。
【0028】
【製造例4】冷却管、撹拌装置、温度計を取り付けた反
応装置にクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキ
シ当量224)100部とカルビトールアセテート10
7部を入れ、100℃で加熱撹拌し溶解させた。次に、
アクリル酸33部、ハイドロキノン0.06部、トリフ
ェニルホスフィン1部を加え、110℃で15時間撹拌
反応させた後、空気を吹き込みながら120℃の加熱下
1時間撹拌した。その後、反応混合物を100℃まで冷
却し、無水コハク酸27部を加え4時間反応させた。得
られたポリカルボン酸化合物268部は不揮発分60
%、酸価55mgKOH/gであった。次に、この溶液
268部にチオジエタノール32部、グリシドール20
部、メチルカルビトール7部を添加して60℃で15時
間加熱撹拌することにより不揮発分65%の樹脂溶液3
27部を得た。
【0029】
【比較製造例1】製造例4と全く同様にして得たポリカ
ルボン酸化合物268部(不揮発分60%、酸価55m
gKOH/g)にN,N−ジメチルアミノエチルアクリ
レート38部を加えて中和し(カルボキシル基:3級ア
ミン=1:1)不揮発分65%の樹脂溶液306部を得
た。
【0030】
【実施例1】 製造例1で得られた樹脂溶液 50部 2-メチル-1-[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモルフォノーフ゜ロハ゜ンー1ーオン 3.2部 ジエチルチオキサンソン 0.5部 硫酸バリウム 18部 アエロジル 1.2部 フタロシアニングリ−ン 0.5部 シリコン系消泡剤 1部 上記配合成分を予備混練後、3本ロ−ルミルで3回混練
し、ソルダーレジスト組成物を調製した。このソルダー
レジスト組成物をスクリ−ン印刷法により20μmの厚
さでプリント基板の全面に塗布し、試験片を作製した。
【0031】
【実施例2】 製造例2で得られた樹脂溶液 50部 2-メチル-1-[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモルフォノーフ゜ロハ゜ンー1ーオン 3.2部 ジエチルチオキサンソン 0.5部 硫酸バリウム 18部 アエロジル 1.2部 フタロシアニングリ−ン 0.5部 シリコン系消泡剤 1部 上記配合成分を実施例1と同様に混練、塗布を行い、試
験片を作製した。
【0032】
【実施例3】 製造例3で得られた樹脂溶液 80部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12部 2-メチル-1-[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモルフォノーフ゜ロハ゜ンー1ーオン 3.0部 ジエチルチオキサンソン 0.4部 硫酸バリウム 14部 タルク 6部 アエロジル 1部 フタロシアニングリ−ン 0.7部 シリコン系消泡剤 1部 上記配合成分を実施例1と同様に混練、塗布を行い、試
験片を作製した。
【0033】
【実施例4】 製造例4で得られた樹脂溶液 50部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 2部 2-メチル-1-[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモルフォノーフ゜ロハ゜ンー1ーオン 3.2部 ジエチルチオキサンソン 0.5部 硫酸バリウム 18部 アエロジル 1.2部 フタロシアニングリ−ン 0.5部 シリコン系消泡剤 1部 上記配合成分を実施例1と同様に混練、塗布を行い、試
験片を作製した。
【0034】
【実施例5】 製造例4で得られた樹脂溶液 50部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 2部 サイメル303(三井サイアナミット゛製メチル化メラミン) 6部 2,2ージメトキシー2ーフェニルアセトフェノン 3.2部 ジエチルチオキサンソン 0.5部 硫酸バリウム 12部 シリカ 6部 アエロジル 1.2部 フタロシアニングリ−ン 0.5部 シリコン系消泡剤 1部 上記配合成分を実施例1と同様に混練、塗布を行い、試
験片を作製した。
【0035】
【比較例1】 比較製造例1で得られた樹脂溶液 50部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 2部 2-メチル-1-[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモルフォノーフ゜ロハ゜ンー1ーオン 3.2部 ジエチルチオキサンソン 0.5部 硫酸バリウム 18部 アエロジル 1.2部 フタロシアニングリ−ン 0.5部 シリコン系消泡剤 1部 上記配合成分を実施例1と同様に混練、塗布を行い、試
験片を作製した。
【0036】上記実施例1〜5及び比較例1において得
られた試験片につき下記の評価を行った。
【0037】1)指触乾燥性試験 各々の試験片を熱風乾燥炉に入れ、75℃で20分間乾
燥後室温まで冷却し、指で触れて塗膜のタックを判定
し、評価した。 ○;全くタックが認められないもの △;指紋がわずかに残るもの ×;指にインキが付着するもの
【0038】2)現像性試験 上記乾燥工程後、パターンを形成したフォトマスクを塗
膜面に接触させ、オーク製作所製メタルハライドランプ
を用いて紫外線を500mJ/cm2照射した。次に3
0℃の水を現像液とし、2kg/cm2の水圧下1分間
現像を行い、未露光部の除去された状態を目視観察し
た。 ○;完全に現像ができたもの △;現像残りがあるもの ×;ほとんど現像されていないもの
【0039】3)密着性試験 上記現像工程後(ただし、比較例1については水現像不
可であったので、1wt%炭酸ナトリウム水溶液で現像
した)、150℃に昇温した熱風乾燥炉に入れ60分間
ポストキュアを行いテストピースとした。密着性試験
は、JIS D0202の試験方法に従って、碁盤目状
にクロスカットを入れ、ついでセロハンテ−プによるピ
−リングテスト後の剥がれた碁盤目の数を観察した。 ○;100/100 △;50/100〜99/100 ×;0/100〜49/100
【0040】4)鉛筆硬度試験 密着性試験と同じテストピースを各々、JIS K 5
400の試験方法に従って、硬度を測定した。
【0041】5)耐ハンダ性試験 密着性試験と同じテストピ−スをそれぞれ、JIS C
6481の試験方法に従って、260℃のハンダ浴に
15秒浸漬を3回行った後の塗膜の状態と密着性とを総
合的に判定評価した。 ○;全く変化が認められないもの △;僅かに変化しているもの ×;塗膜に膨れあるいは膨潤脱落があるもの
【0042】6)耐ニッケルめっき性 密着性試験と同じテストピ−スをそれぞれ、奥野製薬工
業製の無電解ニッケルめっき液ICPニコロンを用い、
85℃の液温で30分間めっきを行った後の塗膜の状態
と密着性とを耐ハンダ性試験と同様に総合的に判定評価
した。
【0043】7)絶縁抵抗試験 JIS Z 3197、2型のG−10型櫛型テストパ
ターンを用い、それぞれ密着性試験と同様の条件でテス
トピースを作製し、100V、1分間印加後の絶縁抵抗
を測定した。
【0044】上記実施例1〜5、比較例1において得ら
れた試験片に、上記1)から7)の各試験を行った結果
を表1に示す。
【0045】
【表1】
【0046】本発明のソルダーレジスト組成物は水で現
像でき、さらにその硬化物特性が優れていることは表よ
り明白である。また、比較例1のようにポリカルボン酸
化合物をアミンで中和した樹脂からなる組成物は、アミ
ン臭がするうえに水現像不可であり、その性能も全くソ
ルダーレジストとして使えるものではなかった。
【0047】
【発明の効果】以上のように、本発明のソルダーレジス
ト組成物を用いれば水で現像でき、しかもその硬化物は
ハンダ耐熱性、耐ニッケルめっき性に優れている。ま
た、本発明のソルダーレジスト組成物を用いれば、水で
希釈できるため環境問題においても非常に有用であると
言える。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 分子内に重合可能な二重結合を有するこ
    ともある少くとも2つ以上のカルボキシル基を有するポ
    リカルボン酸化合物(分子量500〜500,000)
    の、カルボキシル基1.0当量に対して0.2〜1.5
    当量の分子内に水酸基を有するスルフィド化合物と0.
    8〜1.2当量の単官能エポキシ化合物を同時に反応さ
    せてなる水溶性樹脂
  2. 【請求項2】 (A)請求項1記載の水溶性樹脂 (B)光重合開始剤 (C)分子内に少なくとも2つ以上の重合可能な二重結
    合を有する化合物を必須成分とする感光性樹脂組成物
  3. 【請求項3】 フォトソルダーレジスト組成物である請
    求項2記載の感光性樹脂組成物
JP27783794A 1994-11-11 1994-11-11 水溶性樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物 Pending JPH08134364A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100489712B1 (ko) * 2002-10-22 2005-05-16 (주)엑큐리스 수 현상형 감광성 솔더 레지스트 잉크 조성물
JP2023534712A (ja) * 2020-07-23 2023-08-10 アルケマ フランス (メタ)アクリレート官能性分散剤

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