JPH08138230A - 磁気カード用ポリエステルフィルム - Google Patents
磁気カード用ポリエステルフィルムInfo
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高度な隠蔽性と白色度を有する磁気カード用
フィルムを提供する。 【構成】 平均粒径(dA )が0.20〜0.50μm
の二酸化チタン粒子を3〜20重量%と、モース硬度が
4以下でかつ平均粒径(dB )が1.0〜5.0μmの
不活性粒子を0.1〜0.9重量%含有し、かつdB /
dA が3以上であることを特徴とする磁気カード用ポリ
エステルフィルム。
フィルムを提供する。 【構成】 平均粒径(dA )が0.20〜0.50μm
の二酸化チタン粒子を3〜20重量%と、モース硬度が
4以下でかつ平均粒径(dB )が1.0〜5.0μmの
不活性粒子を0.1〜0.9重量%含有し、かつdB /
dA が3以上であることを特徴とする磁気カード用ポリ
エステルフィルム。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気カード用ポリエス
テルフィルムに関する。さらに詳しくは、本発明は、二
酸化チタンと特定のモース硬度および粒径を有する不活
性粒子とを特定量含有する、磁気カード用のポリエステ
ルフィルムに関するものである。
テルフィルムに関する。さらに詳しくは、本発明は、二
酸化チタンと特定のモース硬度および粒径を有する不活
性粒子とを特定量含有する、磁気カード用のポリエステ
ルフィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】磁気
カードは、いわゆるキャッシュレスの便利さからクレジ
ットカードとして広く利用され、金融機関では現金の自
動入金、引き出し等、公共の通信、運輸機関ではテレホ
ンカード、オレンジカード等として使用されている。最
近、パチンコ業界で、特定の機種に対して磁気カードを
使用することが求められ、普及しつつある。ところで、
基材となるプラスチックフィルムとしては、耐水性、耐
薬品性、機械的強度、寸法安定性に優れたポリエステル
フィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが
用いられているが、磁気カードとしては光線透過率を少
なくし、表裏の印刷層の表示を確認可能にするため高度
な隠蔽性と白色度が要求されている。しかしながら、隠
蔽性と白色度を付与するそのために二酸化チタンを多量
に含有するポリエステルが用いると、フィルム製膜時に
フィルムと接触するロールの摩耗、またフィルムのイン
キとの接着性および帯電防止性を付与するため製膜工程
中に塗布層を設ける、いわゆるインラインコート(IL
C)工程においてバーコーターの摩耗が大きな問題とな
っている。
カードは、いわゆるキャッシュレスの便利さからクレジ
ットカードとして広く利用され、金融機関では現金の自
動入金、引き出し等、公共の通信、運輸機関ではテレホ
ンカード、オレンジカード等として使用されている。最
近、パチンコ業界で、特定の機種に対して磁気カードを
使用することが求められ、普及しつつある。ところで、
基材となるプラスチックフィルムとしては、耐水性、耐
薬品性、機械的強度、寸法安定性に優れたポリエステル
フィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが
用いられているが、磁気カードとしては光線透過率を少
なくし、表裏の印刷層の表示を確認可能にするため高度
な隠蔽性と白色度が要求されている。しかしながら、隠
蔽性と白色度を付与するそのために二酸化チタンを多量
に含有するポリエステルが用いると、フィルム製膜時に
フィルムと接触するロールの摩耗、またフィルムのイン
キとの接着性および帯電防止性を付与するため製膜工程
中に塗布層を設ける、いわゆるインラインコート(IL
C)工程においてバーコーターの摩耗が大きな問題とな
っている。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
鑑み鋭意検討した結果、二酸化チタンと特定のモース硬
度および粒径を有する不活性粒子とを特定量含有するポ
リエステルフィルムが磁気カード用として適しているこ
とを見いだし、本発明を完成するに至った。
鑑み鋭意検討した結果、二酸化チタンと特定のモース硬
度および粒径を有する不活性粒子とを特定量含有するポ
リエステルフィルムが磁気カード用として適しているこ
とを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0004】すなわち、本発明の要旨は、平均粒径(d
A )が0.20〜0.50μmの二酸化チタン粒子を3
〜20重量%と、モース硬度が4以下でかつ平均粒径
(dB)が1.0〜5.0μmの不活性粒子を0.1〜
0.9重量%含有し、かつdB/dA が3以上であるこ
とを特徴とする磁気カード用ポリエステルフィルムに存
する。
A )が0.20〜0.50μmの二酸化チタン粒子を3
〜20重量%と、モース硬度が4以下でかつ平均粒径
(dB)が1.0〜5.0μmの不活性粒子を0.1〜
0.9重量%含有し、かつdB/dA が3以上であるこ
とを特徴とする磁気カード用ポリエステルフィルムに存
する。
【0005】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
いうポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸またはその
エステルとグリコールとを主たる出発原料として得られ
るポリエステルであり、繰り返し構造単位の80%以上
がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−2,6
−ナフタレート単位を有するポリエステルを指す。そし
て、上記の範囲を逸脱しない条件下に他の第三成分を含
有していてもよい。芳香族ジカルボン酸成分としては、
テレフタル酸および2,6−ナフタレンジカルボン酸以
外に、例えばイソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セ
バシン酸、オキシカルボン酸(例えば、p−オキシエト
キシ安息香酸等)等を用いることができる。またグリコ
ール成分としては、エチレングリコール以外に、例えば
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタン
ジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオ
ペンチルグリコール等の一種または二種以上を用いるこ
とができる。
いうポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸またはその
エステルとグリコールとを主たる出発原料として得られ
るポリエステルであり、繰り返し構造単位の80%以上
がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−2,6
−ナフタレート単位を有するポリエステルを指す。そし
て、上記の範囲を逸脱しない条件下に他の第三成分を含
有していてもよい。芳香族ジカルボン酸成分としては、
テレフタル酸および2,6−ナフタレンジカルボン酸以
外に、例えばイソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セ
バシン酸、オキシカルボン酸(例えば、p−オキシエト
キシ安息香酸等)等を用いることができる。またグリコ
ール成分としては、エチレングリコール以外に、例えば
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタン
ジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオ
ペンチルグリコール等の一種または二種以上を用いるこ
とができる。
【0006】本発明の重要な構成要件は、二酸化チタン
と特定のモース硬度および粒径を有する不活性粒子とを
特定量含有することにある。本発明においてポリエステ
ル中に含有される二酸化チタン粒子の結晶形態はアナタ
ーゼ型、ルチル型のいずれでもよいが、白色度および耐
候性の点からアナターゼ型の二酸化チタン粒子の方が好
ましい。さらに二酸化チタン粒子のポリエステルへの分
散性および耐候性の向上を目的に、二酸化チタン粒子の
表面をアルミニウム、けい素、亜鉛等の酸化物および/
または有機化合物で処理したものも用いることができ
る。本発明において用いる二酸化チタン粒子の平均粒径
(dA )は、0.20〜0.50μm、好ましくは0.
25〜0.45μmである。dA が0.20μm未満で
あったり、0.50μmを超えると、フィルムとした際
の隠蔽度が低下し、磁気カードとした際に光線透過の防
止が不十分となるので好ましくない。また当該粒子の添
加量は3〜20重量%、好ましくは5〜17重量%であ
る。当該粒子の添加量が3重量%未満では、フィルムと
した際の隠蔽度が低下し、磁気カードとした際に光線透
過の防止が不十分となるので好ましくない。当該粒子の
添加量が20重量%を超えると、フィルム製膜時に破断
が生じやすくなったり、フィルムとした際の機械的強度
が劣るので好ましくない。
と特定のモース硬度および粒径を有する不活性粒子とを
特定量含有することにある。本発明においてポリエステ
ル中に含有される二酸化チタン粒子の結晶形態はアナタ
ーゼ型、ルチル型のいずれでもよいが、白色度および耐
候性の点からアナターゼ型の二酸化チタン粒子の方が好
ましい。さらに二酸化チタン粒子のポリエステルへの分
散性および耐候性の向上を目的に、二酸化チタン粒子の
表面をアルミニウム、けい素、亜鉛等の酸化物および/
または有機化合物で処理したものも用いることができ
る。本発明において用いる二酸化チタン粒子の平均粒径
(dA )は、0.20〜0.50μm、好ましくは0.
25〜0.45μmである。dA が0.20μm未満で
あったり、0.50μmを超えると、フィルムとした際
の隠蔽度が低下し、磁気カードとした際に光線透過の防
止が不十分となるので好ましくない。また当該粒子の添
加量は3〜20重量%、好ましくは5〜17重量%であ
る。当該粒子の添加量が3重量%未満では、フィルムと
した際の隠蔽度が低下し、磁気カードとした際に光線透
過の防止が不十分となるので好ましくない。当該粒子の
添加量が20重量%を超えると、フィルム製膜時に破断
が生じやすくなったり、フィルムとした際の機械的強度
が劣るので好ましくない。
【0007】本発明で用いる不活性粒子のモース硬度は
4以下、好ましくは3.5以下である。当該粒子のモー
ス硬度が4を超えると、フィルム製膜時にフィルムと接
触するロールの摩耗、またフィルムのインキとの接着性
および帯電防止性を付与するため製膜工程中に塗布層を
設ける、いわゆるインラインコート(ILC)工程にお
いて、バーコーターの摩耗が著しくなるので好ましくな
い。本発明で用いる不活性粒子の例としては、硫酸バリ
ウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、有機粒子等
を挙げることができ、その中でもフィルムの隠蔽性改良
効果の大きい硫酸バリウム、炭酸カルシウムが好ましい
が、これらに限定されるものではない。本発明で用いる
不活性粒子の平均粒径(dB )は1.0〜5.0μm、
好ましくは1.5〜4.0μmである。dB が1.0μ
m未満では、フィルムとした際、フィルム表面が平坦と
なり、表面の艶消し効果が小さくなるので好ましくな
い。dB が5.0μmを超えると、フィルムとした際、
フィルム表面が粗面化し過ぎ、磁気カードとした際の磁
気記録変換特性が悪化したり、フィルム生産時のフィル
ターライフが劣る等の問題が生ずるので好ましくない。
また当該粒子の添加量は0.1〜0.9重量%、好まし
くは0.2〜0.8重量%である。当該粒子の添加量が
0.1重量%未満では、フィルムとした際、フィルム表
面が平坦となり、表面の艶消し効果が小さくなるので好
ましくない。当該粒子の添加量が0.9重量%を超える
と、フィルムとした際、フィルム表面が粗面化し過ぎ、
磁気カードとした際の磁気記録変換特性が悪化したり、
フィルム生産時のフィルターライフが劣る等の問題が生
ずるので好ましくない。
4以下、好ましくは3.5以下である。当該粒子のモー
ス硬度が4を超えると、フィルム製膜時にフィルムと接
触するロールの摩耗、またフィルムのインキとの接着性
および帯電防止性を付与するため製膜工程中に塗布層を
設ける、いわゆるインラインコート(ILC)工程にお
いて、バーコーターの摩耗が著しくなるので好ましくな
い。本発明で用いる不活性粒子の例としては、硫酸バリ
ウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、有機粒子等
を挙げることができ、その中でもフィルムの隠蔽性改良
効果の大きい硫酸バリウム、炭酸カルシウムが好ましい
が、これらに限定されるものではない。本発明で用いる
不活性粒子の平均粒径(dB )は1.0〜5.0μm、
好ましくは1.5〜4.0μmである。dB が1.0μ
m未満では、フィルムとした際、フィルム表面が平坦と
なり、表面の艶消し効果が小さくなるので好ましくな
い。dB が5.0μmを超えると、フィルムとした際、
フィルム表面が粗面化し過ぎ、磁気カードとした際の磁
気記録変換特性が悪化したり、フィルム生産時のフィル
ターライフが劣る等の問題が生ずるので好ましくない。
また当該粒子の添加量は0.1〜0.9重量%、好まし
くは0.2〜0.8重量%である。当該粒子の添加量が
0.1重量%未満では、フィルムとした際、フィルム表
面が平坦となり、表面の艶消し効果が小さくなるので好
ましくない。当該粒子の添加量が0.9重量%を超える
と、フィルムとした際、フィルム表面が粗面化し過ぎ、
磁気カードとした際の磁気記録変換特性が悪化したり、
フィルム生産時のフィルターライフが劣る等の問題が生
ずるので好ましくない。
【0008】また、dB/dA の値は3以上、好ましくは
5以上である。dB/dA が3未満ではフィルム製膜時に
フィルムのインキとの接着性および帯電防止性を付与す
るため、インラインコート(ILC)工程においてバー
コーターの摩耗が著しくなるので好ましくない。本発明
においては、上記したような方法により表面を適度に粗
面化したフィルムを得るが、作業性や表面の艶消し効果
をさらに高度に満足させるためには、フィルム表面の中
心線平均粗さ(Ra)が0.05〜0.3μm、さらに
は0.08〜0.2μmの範囲とすることが好ましい。
Raが0.3μmを超えると、フィルム表面の粗面化の
度合いが大きくなり過ぎ、磁気カードとした際の磁気記
録変換特性が劣るので好ましくない。Raが0.05μ
m未満では、フィルム表面の艶消し効果が小さくなるの
で好ましくない。
5以上である。dB/dA が3未満ではフィルム製膜時に
フィルムのインキとの接着性および帯電防止性を付与す
るため、インラインコート(ILC)工程においてバー
コーターの摩耗が著しくなるので好ましくない。本発明
においては、上記したような方法により表面を適度に粗
面化したフィルムを得るが、作業性や表面の艶消し効果
をさらに高度に満足させるためには、フィルム表面の中
心線平均粗さ(Ra)が0.05〜0.3μm、さらに
は0.08〜0.2μmの範囲とすることが好ましい。
Raが0.3μmを超えると、フィルム表面の粗面化の
度合いが大きくなり過ぎ、磁気カードとした際の磁気記
録変換特性が劣るので好ましくない。Raが0.05μ
m未満では、フィルム表面の艶消し効果が小さくなるの
で好ましくない。
【0009】本発明においてポリエステルに二酸化チタ
ンおよび不活性粒子を含有させる方法は特に限定されな
いが、これらの粒子をポリエステルへ含有させる前に、
精製プロセスを用いて粒径調整および粗大粒子の除去を
行うことが好ましい。精製プロセスの工業的手段として
は、粉砕手段には、例えばロッドミル、ボールミル、振
動ミル、振動ボールミル、ローラーミル、インパクトミ
ル、攪拌破砕ミル、流体エネルギーミル等を採用するこ
とができる。分級処理には、例えば反自動うず式、強制
うず式、ハイドロサイクロン式、遠心分離法等を採用す
ることができる。また該粒子をポリエステルへ含有させ
る手段としては、重合工程に添加する方法、押出機を用
いて粒子をあらかじめ練込みマスターバッチとする方法
等が採用されるが、特に好ましい方法は、フィルム製造
工程中の押出工程で直接粒子を添加混合する方法であ
る。その際の押出機としてはベント付きの二軸押出機が
好ましい。粒子の分散改良のためには、同方向二軸押出
機よりも異方向二軸押出機の方が好ましい。
ンおよび不活性粒子を含有させる方法は特に限定されな
いが、これらの粒子をポリエステルへ含有させる前に、
精製プロセスを用いて粒径調整および粗大粒子の除去を
行うことが好ましい。精製プロセスの工業的手段として
は、粉砕手段には、例えばロッドミル、ボールミル、振
動ミル、振動ボールミル、ローラーミル、インパクトミ
ル、攪拌破砕ミル、流体エネルギーミル等を採用するこ
とができる。分級処理には、例えば反自動うず式、強制
うず式、ハイドロサイクロン式、遠心分離法等を採用す
ることができる。また該粒子をポリエステルへ含有させ
る手段としては、重合工程に添加する方法、押出機を用
いて粒子をあらかじめ練込みマスターバッチとする方法
等が採用されるが、特に好ましい方法は、フィルム製造
工程中の押出工程で直接粒子を添加混合する方法であ
る。その際の押出機としてはベント付きの二軸押出機が
好ましい。粒子の分散改良のためには、同方向二軸押出
機よりも異方向二軸押出機の方が好ましい。
【0010】本発明のポリエステルフィルムの隠蔽性を
表す指標である隠蔽度(OD)は、通常0.6以上、好
ましくは0.8以上である。ODが0.6未満では磁気
カードとした際に光線透過の防止が不十分となり、表裏
の印刷層の表示が不鮮明となることがある。本発明のポ
リエステルフィルムの黄味を表す指標であるb値は、通
常1.0未満、好ましくは0.5未満である。b値が
1.0を超えると、白色度が不十分となる恐れがある。
なお、b値が1.0未満のポリエステルフィルムを得る
ためには、蛍光増白剤を併用する方法が好ましく用いら
れる。蛍光増白剤は波長が400〜700nmに蛍光ピ
ークを有するものであれば種類を問わないが、好適なも
のとしては、商品名ユビテックスOB(チバガイギー
社)、OB−1(イーストマン社)およびミカホワイト
(日本化薬−三菱化成)等の市販品が挙げられる。蛍光
増白剤のポリエステルフィルム中の含有量は通常50〜
5000ppm、好ましくは100〜3000ppm、
さらに好ましくは200〜2000ppmである。蛍光
増白剤の含有量が50ppm未満では白色度が不十分と
なる恐れがある。また蛍光増白剤の含有量が5000p
pmを超えると、増白剤をポリエステルに配合する際の
押出機等の練込工程で熱劣化を起こすことがある。
表す指標である隠蔽度(OD)は、通常0.6以上、好
ましくは0.8以上である。ODが0.6未満では磁気
カードとした際に光線透過の防止が不十分となり、表裏
の印刷層の表示が不鮮明となることがある。本発明のポ
リエステルフィルムの黄味を表す指標であるb値は、通
常1.0未満、好ましくは0.5未満である。b値が
1.0を超えると、白色度が不十分となる恐れがある。
なお、b値が1.0未満のポリエステルフィルムを得る
ためには、蛍光増白剤を併用する方法が好ましく用いら
れる。蛍光増白剤は波長が400〜700nmに蛍光ピ
ークを有するものであれば種類を問わないが、好適なも
のとしては、商品名ユビテックスOB(チバガイギー
社)、OB−1(イーストマン社)およびミカホワイト
(日本化薬−三菱化成)等の市販品が挙げられる。蛍光
増白剤のポリエステルフィルム中の含有量は通常50〜
5000ppm、好ましくは100〜3000ppm、
さらに好ましくは200〜2000ppmである。蛍光
増白剤の含有量が50ppm未満では白色度が不十分と
なる恐れがある。また蛍光増白剤の含有量が5000p
pmを超えると、増白剤をポリエステルに配合する際の
押出機等の練込工程で熱劣化を起こすことがある。
【0011】本発明のポリエステルフィルムの厚みは通
常100〜250μm、一般的には188μmである。
またフィルムの引張り強さは通常15kg/mm2 以
上、好ましくは18kg/mm2 以上である。フィルム
の引張り強さが15kg/mm 2 未満では、磁気カード
とした際の使用時の衝撃、摩耗、引き裂き等に劣るよう
になる傾向がある。さらに本発明のフィルムの引張り伸
度は通常130%以上、好ましくは150%以上であ
る。フィルムの引張り伸度が130%未満では、磁気カ
ードとする際のカードの打ち抜き工程で、いわゆるバリ
が出やすくなる傾向ある。本発明のフィルムを磁気カー
ド用として用いるためには、磁性層および/または印刷
層との接着性を改良する目的で、少なくともその片面の
表層にポリウレタン、ポリエステル、アクリル−スチレ
ン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体から得られる少なくとも一種以上を含有する
塗布液を塗布後乾燥して得られる塗布層を有することが
通常行われる。塗布層を形成させる方法としては、二軸
延伸フィルムの製造時に形成させる方法(前述のIL
C)と、二軸延伸後に形成させる方法とがあるが、前者
の方が好ましい。前者の具体例としては例えば、一軸延
伸フィルム表面に薄膜形成液を塗布した後、直角方向に
さらに延伸する方法等が挙げられる。
常100〜250μm、一般的には188μmである。
またフィルムの引張り強さは通常15kg/mm2 以
上、好ましくは18kg/mm2 以上である。フィルム
の引張り強さが15kg/mm 2 未満では、磁気カード
とした際の使用時の衝撃、摩耗、引き裂き等に劣るよう
になる傾向がある。さらに本発明のフィルムの引張り伸
度は通常130%以上、好ましくは150%以上であ
る。フィルムの引張り伸度が130%未満では、磁気カ
ードとする際のカードの打ち抜き工程で、いわゆるバリ
が出やすくなる傾向ある。本発明のフィルムを磁気カー
ド用として用いるためには、磁性層および/または印刷
層との接着性を改良する目的で、少なくともその片面の
表層にポリウレタン、ポリエステル、アクリル−スチレ
ン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体から得られる少なくとも一種以上を含有する
塗布液を塗布後乾燥して得られる塗布層を有することが
通常行われる。塗布層を形成させる方法としては、二軸
延伸フィルムの製造時に形成させる方法(前述のIL
C)と、二軸延伸後に形成させる方法とがあるが、前者
の方が好ましい。前者の具体例としては例えば、一軸延
伸フィルム表面に薄膜形成液を塗布した後、直角方向に
さらに延伸する方法等が挙げられる。
【0012】塗布後延伸処理をしない場合、形成される
塗布層とベースフィルムである白色ポリエステルフィル
ムとの密着性が弱くなる傾向があり、実用に適した接着
性が得られないことがある。したがって、二軸延伸工程
が終了する前に塗布することが好ましい。かかる方法の
例として、乾燥または未乾燥の状態で、先の一軸方向と
直角の方向に延伸した後、熱処理を施す方法が製造コス
ト面の点から好ましく採用されるが、これらに限定され
るわけではない。上述した塗布液をポリエステルフィル
ムに塗布する方法としては、原崎勇次著、槙書店、19
79年発行、『コーティング方式』に示されるリバース
ロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、
エアードクターコーター等を用いることができる。本発
明のフィルムに設ける塗布層は、易印刷性の薄膜層を設
けることが好ましい。易印刷性薄膜形成剤としては水溶
性インク、UV硬化インク棟のように印刷性インクとの
接着性が向上するものであれば、特に限定されるもので
はなく、水溶性または水分散性のポリエステル系組成
物、ポリウレタン系組成物、ポリアクリル系組成物、ス
チレン−ブタジエン共重合体およびアクリロニトリル−
ブタジエン共重合体等が好ましく挙げられる。
塗布層とベースフィルムである白色ポリエステルフィル
ムとの密着性が弱くなる傾向があり、実用に適した接着
性が得られないことがある。したがって、二軸延伸工程
が終了する前に塗布することが好ましい。かかる方法の
例として、乾燥または未乾燥の状態で、先の一軸方向と
直角の方向に延伸した後、熱処理を施す方法が製造コス
ト面の点から好ましく採用されるが、これらに限定され
るわけではない。上述した塗布液をポリエステルフィル
ムに塗布する方法としては、原崎勇次著、槙書店、19
79年発行、『コーティング方式』に示されるリバース
ロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、
エアードクターコーター等を用いることができる。本発
明のフィルムに設ける塗布層は、易印刷性の薄膜層を設
けることが好ましい。易印刷性薄膜形成剤としては水溶
性インク、UV硬化インク棟のように印刷性インクとの
接着性が向上するものであれば、特に限定されるもので
はなく、水溶性または水分散性のポリエステル系組成
物、ポリウレタン系組成物、ポリアクリル系組成物、ス
チレン−ブタジエン共重合体およびアクリロニトリル−
ブタジエン共重合体等が好ましく挙げられる。
【0013】一方、易印刷性薄膜層を形成する層と反対
の面に、磁性層との接着性を強化する薄膜層を形成し
て、両面にコート層を形成させることが好ましい。磁性
層の易接着薄膜形成方法および薄膜形成剤は、前述の易
印刷性薄膜形成方法および薄膜形成剤に準じるが、パチ
ンコカード用とするため、特にウレタン、塩化ビニル、
酢酸ビニルと酸化鉄を含有した磁気記録用組成物との接
着性が向上するものであることが好ましい。さらに本発
明のフィルムに設ける塗布層は、帯電防止能を有するこ
とが好ましい。すなわちフィルムの帯電による張り付き
で作業性を低下させたり、火花放電による発火事故等の
問題を起こす場合があるからである。またゴミの付着を
防止するためにも重要である。帯電防止性を付与する方
法としては、有機スルホン酸金属塩等の低分子量のアニ
オン性界面活性剤、例えばポリスチレンスルホン酸ナト
リウム塩等の帯電防止剤を前述の易印刷性および/また
は易磁性層接着性塗布剤に配合し、インラインで塗布す
ることが好ましい。また、帯電防止剤として高分子量の
カチオン系帯電防止剤を用いたり、リン酸またはリン酸
塩基を有する樹脂を含有するポリマー、主鎖にイオン化
された窒素元素を有するポリマーを配合剤として用いる
ことも好ましい方法である。
の面に、磁性層との接着性を強化する薄膜層を形成し
て、両面にコート層を形成させることが好ましい。磁性
層の易接着薄膜形成方法および薄膜形成剤は、前述の易
印刷性薄膜形成方法および薄膜形成剤に準じるが、パチ
ンコカード用とするため、特にウレタン、塩化ビニル、
酢酸ビニルと酸化鉄を含有した磁気記録用組成物との接
着性が向上するものであることが好ましい。さらに本発
明のフィルムに設ける塗布層は、帯電防止能を有するこ
とが好ましい。すなわちフィルムの帯電による張り付き
で作業性を低下させたり、火花放電による発火事故等の
問題を起こす場合があるからである。またゴミの付着を
防止するためにも重要である。帯電防止性を付与する方
法としては、有機スルホン酸金属塩等の低分子量のアニ
オン性界面活性剤、例えばポリスチレンスルホン酸ナト
リウム塩等の帯電防止剤を前述の易印刷性および/また
は易磁性層接着性塗布剤に配合し、インラインで塗布す
ることが好ましい。また、帯電防止剤として高分子量の
カチオン系帯電防止剤を用いたり、リン酸またはリン酸
塩基を有する樹脂を含有するポリマー、主鎖にイオン化
された窒素元素を有するポリマーを配合剤として用いる
ことも好ましい方法である。
【0014】本発明のフィルムに塗布層を設ける場合、
フィルム同士の貼り付き、いわゆるブロッキングが少な
いことが好ましい。ブロッキングがあると、フィルム製
膜後に巻き取りスリットする際にフィルムが貼り付き、
極端な場合にはフィルムが破れることもある。また磁性
層を塗った後、印刷する際に磁性層が反対面に転着して
磁性層はがれの原因となる恐れもある。本発明の塗布層
を得るための塗布液は、上記の塗布層のブロッキング性
や耐水性、耐溶剤性および機械的強度改良のために架橋
剤を含有してもよい。架橋剤としてはメチロール化ある
いはアルキロール化した尿素系、メラミン、グアナミン
系、アルキルアミド系、ポリアミド系の化合物、エポキ
シ化合物、オキサゾリン化合物、アジリジン化合物、ブ
ロックイソシアネート化合物、シランカップリング剤、
ジアルコールアルミネート系カップリング剤、ジルコア
ルミネート系カップリング剤、過酸化物、熱または光反
応性のビニル化合物や感光性樹脂等が挙げられる。
フィルム同士の貼り付き、いわゆるブロッキングが少な
いことが好ましい。ブロッキングがあると、フィルム製
膜後に巻き取りスリットする際にフィルムが貼り付き、
極端な場合にはフィルムが破れることもある。また磁性
層を塗った後、印刷する際に磁性層が反対面に転着して
磁性層はがれの原因となる恐れもある。本発明の塗布層
を得るための塗布液は、上記の塗布層のブロッキング性
や耐水性、耐溶剤性および機械的強度改良のために架橋
剤を含有してもよい。架橋剤としてはメチロール化ある
いはアルキロール化した尿素系、メラミン、グアナミン
系、アルキルアミド系、ポリアミド系の化合物、エポキ
シ化合物、オキサゾリン化合物、アジリジン化合物、ブ
ロックイソシアネート化合物、シランカップリング剤、
ジアルコールアルミネート系カップリング剤、ジルコア
ルミネート系カップリング剤、過酸化物、熱または光反
応性のビニル化合物や感光性樹脂等が挙げられる。
【0015】塗布層を得るためにの塗布液は、塗布層の
滑り性改良のために粒子を含有していてもよい。粒子と
してはコロイダルシリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、
二酸化チタン等の不活性無機粒子やポリスチレン系樹
脂、ポリアクリル系樹脂、ポリビニル系樹脂から得られ
る微粒子あるいはこれらの架橋粒子に代表される有機粒
子が例示される。また塗布層を得るための塗布液は、必
要に応じ、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、低分子帯電
防止剤、有機系潤滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発
泡剤、染料、顔料等を含有していてもよい。さらに塗布
層を得るための塗布液は、水を主たる媒体とする限りに
おいて、水への分散を改良する目的あるいは造膜性能を
改良する目的で少量の有機溶剤を含有していてもよい。
有機溶剤は主たる媒体である水と混合して使用する場
合、水に溶解する範囲で使用することが望ましい。有機
溶剤としては、例えばn−ブチルアルコール、n−プロ
ピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチルアル
コール、メチルアルコール等の脂肪族または脂環族アル
コール類、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のグリコール類、n−ブチ
ルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセルソルブ、
プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコー
ル誘導体、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類、メチル
エチルケトン、アセトン等のケトン類、N−メチルピロ
リドン等のアミド類が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。これらの有機溶剤は単独で用いてもよ
いが、必要に応じて2種以上を併用してもよい。
滑り性改良のために粒子を含有していてもよい。粒子と
してはコロイダルシリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、
二酸化チタン等の不活性無機粒子やポリスチレン系樹
脂、ポリアクリル系樹脂、ポリビニル系樹脂から得られ
る微粒子あるいはこれらの架橋粒子に代表される有機粒
子が例示される。また塗布層を得るための塗布液は、必
要に応じ、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、低分子帯電
防止剤、有機系潤滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発
泡剤、染料、顔料等を含有していてもよい。さらに塗布
層を得るための塗布液は、水を主たる媒体とする限りに
おいて、水への分散を改良する目的あるいは造膜性能を
改良する目的で少量の有機溶剤を含有していてもよい。
有機溶剤は主たる媒体である水と混合して使用する場
合、水に溶解する範囲で使用することが望ましい。有機
溶剤としては、例えばn−ブチルアルコール、n−プロ
ピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチルアル
コール、メチルアルコール等の脂肪族または脂環族アル
コール類、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のグリコール類、n−ブチ
ルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセルソルブ、
プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコー
ル誘導体、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類、メチル
エチルケトン、アセトン等のケトン類、N−メチルピロ
リドン等のアミド類が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。これらの有機溶剤は単独で用いてもよ
いが、必要に応じて2種以上を併用してもよい。
【0016】塗布層の厚みは、最終的な乾燥後の厚さで
通常0.02〜0.5μm、好ましくは0.01〜0.
3μm、さらに好ましくは0.03〜0.2μmであ
る。塗布層の厚さが0.5μmを超えると、フィルムが
相互にブロッキングしやすくなったり、特にフィルムの
高強度化を目的として塗布延伸フィルムを再延伸する場
合には、工程中でロールに粘着しやすくなる恐れがあ
る。塗布層の厚さが0.02μm未満では、接着性の改
良効果が小さくなる傾向がある。なお塗布剤のフィルム
への塗布性および接着性を改良するため、塗布前にフィ
ルムに化学処理や放電処理を施してもよい。また本発明
の二軸延伸フィルムの塗布層の表面特性を改良するた
め、塗布層形成後に塗布層面に放電処理を施してもよ
い。本発明のフィルムの製造方法を具体的に説明する
が、本発明の構成要件を満足する限り、以下の例示に特
に限定されるものではない。二酸化チタン、硫酸バリウ
ム等の不活性粒子、蛍光増白剤、その他滑剤等を所定量
含有したポリマーをエクストルーダーに代表される周知
の溶融押出装置に供給し、該ポリマーの融点以上の温度
に加熱し溶融する。次いで、溶融したポリマーをスリッ
ト状のダイから押し出し、回転冷却ドラム上でガラス転
移温度以下の温度になるように急冷固化し、実質的に非
晶状態の未配向シートを得る。この場合、シートの平面
性を向上させるため、シートと回転冷却ドラムとの密着
性を高めることが好ましく、本発明においては静電印加
密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用さ
れる。
通常0.02〜0.5μm、好ましくは0.01〜0.
3μm、さらに好ましくは0.03〜0.2μmであ
る。塗布層の厚さが0.5μmを超えると、フィルムが
相互にブロッキングしやすくなったり、特にフィルムの
高強度化を目的として塗布延伸フィルムを再延伸する場
合には、工程中でロールに粘着しやすくなる恐れがあ
る。塗布層の厚さが0.02μm未満では、接着性の改
良効果が小さくなる傾向がある。なお塗布剤のフィルム
への塗布性および接着性を改良するため、塗布前にフィ
ルムに化学処理や放電処理を施してもよい。また本発明
の二軸延伸フィルムの塗布層の表面特性を改良するた
め、塗布層形成後に塗布層面に放電処理を施してもよ
い。本発明のフィルムの製造方法を具体的に説明する
が、本発明の構成要件を満足する限り、以下の例示に特
に限定されるものではない。二酸化チタン、硫酸バリウ
ム等の不活性粒子、蛍光増白剤、その他滑剤等を所定量
含有したポリマーをエクストルーダーに代表される周知
の溶融押出装置に供給し、該ポリマーの融点以上の温度
に加熱し溶融する。次いで、溶融したポリマーをスリッ
ト状のダイから押し出し、回転冷却ドラム上でガラス転
移温度以下の温度になるように急冷固化し、実質的に非
晶状態の未配向シートを得る。この場合、シートの平面
性を向上させるため、シートと回転冷却ドラムとの密着
性を高めることが好ましく、本発明においては静電印加
密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用さ
れる。
【0017】静電印加密着法とは、通常、シートの上面
側にシートの流れと直交する方向に線状電極を張り、該
電極に約5〜10kVの直流電圧を印加することにより
シートに静電荷を与え、ドラムとの密着性を向上させる
方法である。また、液体塗布密着法とは、回転冷却ドラ
ム表面の全体または一部(例えばシート両端部と接触す
る部分のみ)に液体を均一に塗布することにより、ドラ
ムとシートとの密着性を向上させる方法である。本発明
においては必要に応じ両者を併用してもよい。本発明に
おいては、このようにして得られたシートを2軸方向に
延伸してフィルム化する。延伸条件について具体的に述
べると、前記未延伸シートを好ましくは縦方向に70〜
145℃で2〜6倍に延伸し、縦一軸延伸フィルムとし
た後、フィルムの両面に順次塗布液を塗布し、適度な乾
燥を施すか、あるいは未乾燥で、横方向に90〜160
℃で2〜6倍延伸を行い、150〜250℃で1〜60
0秒間熱処理を行うことが好ましい。さらにこの際、熱
処理の最高温度ゾーンおよび/または熱処理出口のクー
リングゾーンにおいて、縦方向および/または横方向に
0.1〜20%弛緩する方法が好ましい。また、必要に
応じて再縦延伸、再横延伸を付加することも可能であ
る。特に、70〜145℃でロール延伸法によりフィル
ムの長手方向に2〜6倍延伸された一軸延伸白色ポリエ
ステルフィルムに塗布液を塗布し、適度な乾燥を施こす
か、あるいは乾燥を施さず、次いで横方向に90〜16
0℃で2〜6倍に延伸し、150〜250℃で1〜60
0秒間熱処理を行う方法が好ましく採用される。本法に
よるならば、延伸と同時に塗布層の乾燥が可能になると
ともに塗布層の厚さを延伸倍率に応じて薄くすることが
でき、磁気カード用基材として好適な白色ポリエステル
フィルムを比較的安価に製造できる。
側にシートの流れと直交する方向に線状電極を張り、該
電極に約5〜10kVの直流電圧を印加することにより
シートに静電荷を与え、ドラムとの密着性を向上させる
方法である。また、液体塗布密着法とは、回転冷却ドラ
ム表面の全体または一部(例えばシート両端部と接触す
る部分のみ)に液体を均一に塗布することにより、ドラ
ムとシートとの密着性を向上させる方法である。本発明
においては必要に応じ両者を併用してもよい。本発明に
おいては、このようにして得られたシートを2軸方向に
延伸してフィルム化する。延伸条件について具体的に述
べると、前記未延伸シートを好ましくは縦方向に70〜
145℃で2〜6倍に延伸し、縦一軸延伸フィルムとし
た後、フィルムの両面に順次塗布液を塗布し、適度な乾
燥を施すか、あるいは未乾燥で、横方向に90〜160
℃で2〜6倍延伸を行い、150〜250℃で1〜60
0秒間熱処理を行うことが好ましい。さらにこの際、熱
処理の最高温度ゾーンおよび/または熱処理出口のクー
リングゾーンにおいて、縦方向および/または横方向に
0.1〜20%弛緩する方法が好ましい。また、必要に
応じて再縦延伸、再横延伸を付加することも可能であ
る。特に、70〜145℃でロール延伸法によりフィル
ムの長手方向に2〜6倍延伸された一軸延伸白色ポリエ
ステルフィルムに塗布液を塗布し、適度な乾燥を施こす
か、あるいは乾燥を施さず、次いで横方向に90〜16
0℃で2〜6倍に延伸し、150〜250℃で1〜60
0秒間熱処理を行う方法が好ましく採用される。本法に
よるならば、延伸と同時に塗布層の乾燥が可能になると
ともに塗布層の厚さを延伸倍率に応じて薄くすることが
でき、磁気カード用基材として好適な白色ポリエステル
フィルムを比較的安価に製造できる。
【0018】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。なお、本発明で用い
た物性測定法を以下に示す。 (1)微粒子の平均粒径 (株)島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置SA−
CP3型を用いてストークスの抵抗則に基づく沈降法に
よって粒子の大きさを測定した。測定により得られた粒
子の等価球形分布における積算(体積基準)50%の値
を用いて平均粒径とした。なお粒度分布値(r)は下記
式から算出した。 粒度分布値(r)=d25/d75 (上記式中、d25、d75は粒子群の積算体積を大粒子側
から計測し、それぞれの総体積の25%、75%に相当
する粒径(μm)を示す) (2)中心線平均粗さ(Ra) 日本工業規格JIS B0601に記載されている方法
に従い、(株)小坂研究所製表面粗さ測定機(SE−3
F)を用いて、中心線平均粗さ(Ra)を求めた。な
お、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カ
ットオフ値は0.08mmとした。
明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。なお、本発明で用い
た物性測定法を以下に示す。 (1)微粒子の平均粒径 (株)島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置SA−
CP3型を用いてストークスの抵抗則に基づく沈降法に
よって粒子の大きさを測定した。測定により得られた粒
子の等価球形分布における積算(体積基準)50%の値
を用いて平均粒径とした。なお粒度分布値(r)は下記
式から算出した。 粒度分布値(r)=d25/d75 (上記式中、d25、d75は粒子群の積算体積を大粒子側
から計測し、それぞれの総体積の25%、75%に相当
する粒径(μm)を示す) (2)中心線平均粗さ(Ra) 日本工業規格JIS B0601に記載されている方法
に従い、(株)小坂研究所製表面粗さ測定機(SE−3
F)を用いて、中心線平均粗さ(Ra)を求めた。な
お、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カ
ットオフ値は0.08mmとした。
【0019】(3)隠蔽度(OD) マクベス濃度計TD−904型を使用し、Gフィルター
下の透過光濃度を測定した。 (4)b値 東京電色(株)製カラーアナライザーTC1800MK
II型を用いて、JISZ−8722の方法に準じて、b
値を測定した。 (5)引張り強さ(FB )および引張り伸度(EB ) (株)インテスコ製の引張り試験機インテスコモデル2
001型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節
された室内において、長さ50mm、幅15mmの試料
フィルムを、200mm/分の速度で引張り、下記式よ
りFB およびE B 値を求めた。 FB (kg/mm2 )=F/A (上記式中、Fは破壊時における荷重(kg)、Aは試
験片の元の断面積(mm 2 ) EB (%)=(L−Lo )/Lo (上記式中、Lは破壊時の標点間距離(mm)、Lo は
元の標点間距離(mm)を表す)
下の透過光濃度を測定した。 (4)b値 東京電色(株)製カラーアナライザーTC1800MK
II型を用いて、JISZ−8722の方法に準じて、b
値を測定した。 (5)引張り強さ(FB )および引張り伸度(EB ) (株)インテスコ製の引張り試験機インテスコモデル2
001型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節
された室内において、長さ50mm、幅15mmの試料
フィルムを、200mm/分の速度で引張り、下記式よ
りFB およびE B 値を求めた。 FB (kg/mm2 )=F/A (上記式中、Fは破壊時における荷重(kg)、Aは試
験片の元の断面積(mm 2 ) EB (%)=(L−Lo )/Lo (上記式中、Lは破壊時の標点間距離(mm)、Lo は
元の標点間距離(mm)を表す)
【0020】(6)バーコーター摩耗 クロムメッキ処理した#3のワイヤーバー(線径80μ
m)を用い、塗布液を連続的に塗布し、判定基準は以下
のとおりとした。 24時間以上の連続塗布でバー摩耗は全く認められない:A(良好) 12時間の連続塗布でバー摩耗が認められる :B(普通) 5時間の連続塗布でバー摩耗が認められる :C(不良) (7)表面固有抵抗 横河ヒューレット・バッカード社の同心円型電極「16
008A(商品名)」(内側電極50mm、外側電極7
0mm径)に23℃、50%RHの雰囲気下で試料を設
置し、100Vの電圧を印加し、同社の高抵抗計「43
29A(商品名)」で試料の表面抵抗を測定した。判定
基準は表面固有抵抗値の対数をとり、以下のとおりとし
た。 10未満 :A(良好) 10以上、13未満 :B(普通) 13以上 :C(不良)
m)を用い、塗布液を連続的に塗布し、判定基準は以下
のとおりとした。 24時間以上の連続塗布でバー摩耗は全く認められない:A(良好) 12時間の連続塗布でバー摩耗が認められる :B(普通) 5時間の連続塗布でバー摩耗が認められる :C(不良) (7)表面固有抵抗 横河ヒューレット・バッカード社の同心円型電極「16
008A(商品名)」(内側電極50mm、外側電極7
0mm径)に23℃、50%RHの雰囲気下で試料を設
置し、100Vの電圧を印加し、同社の高抵抗計「43
29A(商品名)」で試料の表面抵抗を測定した。判定
基準は表面固有抵抗値の対数をとり、以下のとおりとし
た。 10未満 :A(良好) 10以上、13未満 :B(普通) 13以上 :C(不良)
【0021】(8)UV硬化型インクとの接着性 東洋インキ製造社製UV硬化型オフセットインク ”F
DOL藍APNロ ”を、明製作所製のオフセット印刷
テスト機である ”RIテスター RI−2”にて2μ
mの厚さとなるように転写させ、これをウシオ電気社製
UV照射装置”UVC−402/1HN:302/1M
H ”に通し、水銀灯出力120W/cm、ラインスピ
ード10m/min、ランプ〜フィルム間隔100mm
の条件にてインクを硬化させ、直ちにセロテープ剥離試
験を行い、剥離面積により評価した。判定基準は以下の
とおりとした。 剥離なし :A 一部剥離箇所あり :B 全面剥離 :C (9)磁性塗料との接着性 試料フィルムに下記評価用塗料をワイヤーバーで乾燥後
の膜厚が5μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾
燥し、その後60℃で24時間エージングした。磁性層
接着力は、試料の磁性層面にニチバン(株)製セロテー
プ(18mm幅)を気泡が入らないように7cmの長さ
に貼り、この上を3kgの手動式荷重ロールで一定の荷
重を与え密着後、フィルムを固定し、セロハンテープの
一端を500gの錘に接続し、錘が45cmの距離を自
然落下後に、180°方向の剥離試験が開始する方法で
評価した。接着性は以下の3段階の基準で評価した。 剥離なし :A 一部剥離箇所あり :B 全面剥離 :C [評価用塗料]磁性微粉末X6000(チタン工業)5
00部、ポリウレタン樹脂ニッポラン2304(日本ポ
リウレタン製)30部、塩酢ビ共重合体1000GKT
(電気化学製)50部、レシチン(キシダ化学試薬)5
部、シクロヘキサノン246部、メチルイソブチルケト
ン246部およびメチルエチルケトン738部をサンド
グラインダーにて1時間混合分散後、架橋剤のコロネー
トL10部を加えて良く攪拌したもの
DOL藍APNロ ”を、明製作所製のオフセット印刷
テスト機である ”RIテスター RI−2”にて2μ
mの厚さとなるように転写させ、これをウシオ電気社製
UV照射装置”UVC−402/1HN:302/1M
H ”に通し、水銀灯出力120W/cm、ラインスピ
ード10m/min、ランプ〜フィルム間隔100mm
の条件にてインクを硬化させ、直ちにセロテープ剥離試
験を行い、剥離面積により評価した。判定基準は以下の
とおりとした。 剥離なし :A 一部剥離箇所あり :B 全面剥離 :C (9)磁性塗料との接着性 試料フィルムに下記評価用塗料をワイヤーバーで乾燥後
の膜厚が5μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾
燥し、その後60℃で24時間エージングした。磁性層
接着力は、試料の磁性層面にニチバン(株)製セロテー
プ(18mm幅)を気泡が入らないように7cmの長さ
に貼り、この上を3kgの手動式荷重ロールで一定の荷
重を与え密着後、フィルムを固定し、セロハンテープの
一端を500gの錘に接続し、錘が45cmの距離を自
然落下後に、180°方向の剥離試験が開始する方法で
評価した。接着性は以下の3段階の基準で評価した。 剥離なし :A 一部剥離箇所あり :B 全面剥離 :C [評価用塗料]磁性微粉末X6000(チタン工業)5
00部、ポリウレタン樹脂ニッポラン2304(日本ポ
リウレタン製)30部、塩酢ビ共重合体1000GKT
(電気化学製)50部、レシチン(キシダ化学試薬)5
部、シクロヘキサノン246部、メチルイソブチルケト
ン246部およびメチルエチルケトン738部をサンド
グラインダーにて1時間混合分散後、架橋剤のコロネー
トL10部を加えて良く攪拌したもの
【0022】実施例1 (ポリエステルAの製造)テレフタル酸ジメチル100
重量部とエチレングリコール60部とを出発原料とし、
触媒として酢酸マグネシウム・4水塩0.09重量部を
反応器にとり、反応開始温度を150℃とし、メタノー
ルの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、3時間後
に230℃とした。4時間後、実質的にエステル交換反
応の終了したこの反応混合物にエチルアシッドフォスフ
ェート0.04部、三酸化アンチモン0.04部を加え
て、4時間30分重縮合反応を行った。すなわち、温度
を230℃から徐々に昇温し280℃とした。一方、圧
力は常圧より徐々に減じ、最終的には0.3mmHgと
した。反応開始後、4時間30分を経た時点で反応を停
止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させた。得られたポリ
エステルの極限粘度は0.65であった。次いで得られ
たポリマーを225℃で0.3mmHgの条件下、10
時間固相重合を行った。得られたポリエステルの極限粘
度は0.81であった。
重量部とエチレングリコール60部とを出発原料とし、
触媒として酢酸マグネシウム・4水塩0.09重量部を
反応器にとり、反応開始温度を150℃とし、メタノー
ルの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、3時間後
に230℃とした。4時間後、実質的にエステル交換反
応の終了したこの反応混合物にエチルアシッドフォスフ
ェート0.04部、三酸化アンチモン0.04部を加え
て、4時間30分重縮合反応を行った。すなわち、温度
を230℃から徐々に昇温し280℃とした。一方、圧
力は常圧より徐々に減じ、最終的には0.3mmHgと
した。反応開始後、4時間30分を経た時点で反応を停
止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させた。得られたポリ
エステルの極限粘度は0.65であった。次いで得られ
たポリマーを225℃で0.3mmHgの条件下、10
時間固相重合を行った。得られたポリエステルの極限粘
度は0.81であった。
【0023】ポリエステルB、C、D、E、F、G、H
の製造 ポリエステルAを乾燥し、ベント式二軸押出機にて下記
の表1の配合でポリエステルB〜Gを得た。
の製造 ポリエステルAを乾燥し、ベント式二軸押出機にて下記
の表1の配合でポリエステルB〜Gを得た。
【0024】
【表1】
【0025】(フィルムの製造)ポリエステルB 3
2.5重量部、ポリエステルC 10重量部、ポリエス
テルG 5重量部およびポリエステルA 52.5重量
部を均一にブレンドし180℃で4時間乾燥後、285
℃に設定した押出機よりシート状に押出し、表面温度を
30℃に設定した回転冷却ドラムで静電印加冷却法を利
用して急冷固化させ、厚み1690μmの実質的に非晶
質のシートを得た。得られた非晶質シートを縦方向に8
3℃で3.0倍延伸した後、下記表2に示す塗布剤組成
の塗布液をフィルムの両面に塗布し、次いで横方向に9
0℃で3.0倍に延伸した後、230℃で10秒間、幅
方向に2%弛緩しながら熱処理を施し、厚み188μm
の二軸配向フィルムを製造した。なお、表2中の塗布液
の配合比は各成分の乾燥固形分での重量比率である。ま
た、塗布層の厚みは最終的に得られた二軸延伸フィルム
における表面での乾燥塗布厚さである。
2.5重量部、ポリエステルC 10重量部、ポリエス
テルG 5重量部およびポリエステルA 52.5重量
部を均一にブレンドし180℃で4時間乾燥後、285
℃に設定した押出機よりシート状に押出し、表面温度を
30℃に設定した回転冷却ドラムで静電印加冷却法を利
用して急冷固化させ、厚み1690μmの実質的に非晶
質のシートを得た。得られた非晶質シートを縦方向に8
3℃で3.0倍延伸した後、下記表2に示す塗布剤組成
の塗布液をフィルムの両面に塗布し、次いで横方向に9
0℃で3.0倍に延伸した後、230℃で10秒間、幅
方向に2%弛緩しながら熱処理を施し、厚み188μm
の二軸配向フィルムを製造した。なお、表2中の塗布液
の配合比は各成分の乾燥固形分での重量比率である。ま
た、塗布層の厚みは最終的に得られた二軸延伸フィルム
における表面での乾燥塗布厚さである。
【0026】
【表2】 表 2 ──────────────────────────────────── 塗布層組成 乾燥塗布厚さ ──────────────────────────────────── 塗布液(A)/(B)/(C)=75/20/5 0.1μm ──────────────────────────────────── (上記表中、塗布液(A)は高分子量帯電防止剤(メタ
クリロイルオキシエチルリン酸カリウム塩−エチルアク
リレート−メチルアクリレ−トからなる樹脂カリウム/
リン比=1/6 リン元素含有率=7%)、塗布液
(B)はポリエステル樹脂(テレフタル酸−イソフタル
酸−5−ソジウムスルホイソフタル酸−エチレングリコ
ール−ジエチレングリコール−1、4−ブタンジオール
からなるポリエステル樹脂)、塗布液(C)はコロイダ
ルシリカ(スノーテックスZL[日産化学製])を表
す)
クリロイルオキシエチルリン酸カリウム塩−エチルアク
リレート−メチルアクリレ−トからなる樹脂カリウム/
リン比=1/6 リン元素含有率=7%)、塗布液
(B)はポリエステル樹脂(テレフタル酸−イソフタル
酸−5−ソジウムスルホイソフタル酸−エチレングリコ
ール−ジエチレングリコール−1、4−ブタンジオール
からなるポリエステル樹脂)、塗布液(C)はコロイダ
ルシリカ(スノーテックスZL[日産化学製])を表
す)
【0027】実施例2 実施例1において、ポリエステルC 10重量部の替り
にポリエステルD 10重量部とする以外は実施例1と
同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。 実施例3 実施例1において、ポリエステルCを6重量部、ポリエ
ステルAを56.5重量部とする以外は実施例1と同様
の方法で二軸延伸フィルムを製造した。 実施例4 実施例1において、ポリエステル原料をポリエステルB
32.5重量部、ポリエステルH 5重量部、ポリエ
ステルG 5重量部、ポリエステルA 57.5重量部
とすること以外は実施例1と同様の方法で二軸延伸フィ
ルムを製造した。
にポリエステルD 10重量部とする以外は実施例1と
同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。 実施例3 実施例1において、ポリエステルCを6重量部、ポリエ
ステルAを56.5重量部とする以外は実施例1と同様
の方法で二軸延伸フィルムを製造した。 実施例4 実施例1において、ポリエステル原料をポリエステルB
32.5重量部、ポリエステルH 5重量部、ポリエ
ステルG 5重量部、ポリエステルA 57.5重量部
とすること以外は実施例1と同様の方法で二軸延伸フィ
ルムを製造した。
【0028】比較例1 実施例1において、ポリエステルC 10重量部の替り
にポリエステルFを10重量部とする以外は実施例1と
同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。 比較例2 実施例1において、ポリエステル原料レジンの配合比を
ポリエステルB 32.5重量部、ポリエステルG 5
重量部およびポリエステルA 62.5重量部とする以
外は実施例1と同様の方法で二軸延伸フィルムを製造し
た。 比較例3 実施例1において、ポリエステルBを5重量部、ポリエ
ステルAを80重量部とする以外は実施例1と同様の方
法で二軸延伸フィルムを製造した。 比較例4 実施例1において、ポリエステルC 10重量部の替り
にポリエステルEを10重量部とする以外は実施例1と
同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。
にポリエステルFを10重量部とする以外は実施例1と
同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。 比較例2 実施例1において、ポリエステル原料レジンの配合比を
ポリエステルB 32.5重量部、ポリエステルG 5
重量部およびポリエステルA 62.5重量部とする以
外は実施例1と同様の方法で二軸延伸フィルムを製造し
た。 比較例3 実施例1において、ポリエステルBを5重量部、ポリエ
ステルAを80重量部とする以外は実施例1と同様の方
法で二軸延伸フィルムを製造した。 比較例4 実施例1において、ポリエステルC 10重量部の替り
にポリエステルEを10重量部とする以外は実施例1と
同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。
【0029】比較例5 実施例1において、ポリエステルBを32.5重量部、
ポリエステルCを24重量部、ポリエステルA 43.
5重量部とし、縦延伸後に塗布をしないこと以外は実施
例1と同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。以
上、得られた結果をまとめて下記表3および4に示す。
ポリエステルCを24重量部、ポリエステルA 43.
5重量部とし、縦延伸後に塗布をしないこと以外は実施
例1と同様の方法で二軸延伸フィルムを製造した。以
上、得られた結果をまとめて下記表3および4に示す。
【0030】
【表3】
【0031】
【表4】
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、高度な隠蔽性と白色度
を有する磁気カード用フィルムが提供でき、本発明の工
業的価値は高い。
を有する磁気カード用フィルムが提供でき、本発明の工
業的価値は高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 67/00 G11B 5/80 // B29K 7:00 67:00 105:16
Claims (1)
- 【請求項1】 平均粒径(dA )が0.20〜0.50
μmの二酸化チタン粒子を3〜20重量%と、モース硬
度が4以下でかつ平均粒径(dB )が1.0〜5.0μ
mの不活性粒子を0.1〜0.9重量%含有し、かつd
B /dA が3以上であることを特徴とする磁気カード用
ポリエステルフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27272694A JPH08138230A (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | 磁気カード用ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27272694A JPH08138230A (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | 磁気カード用ポリエステルフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08138230A true JPH08138230A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=17517929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27272694A Pending JPH08138230A (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | 磁気カード用ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08138230A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11293006A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-26 | Toray Ind Inc | 白色ポリエステルフィルム |
-
1994
- 1994-11-07 JP JP27272694A patent/JPH08138230A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11293006A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-26 | Toray Ind Inc | 白色ポリエステルフィルム |
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