JPH08141503A

JPH08141503A - 無機塗料塗膜の形成方法

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Publication number: JPH08141503A
Application number: JP6293185A
Authority: JP
Inventors: Toshiji Sako; 利治佐古; Naoharu Nakagawa; 尚治中川; Koichi Takahama; 孝一高濱
Original assignee: Matsushita Electric Works Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 1994-11-28
Filing date: 1994-11-28
Publication date: 1996-06-04
Anticipated expiration: 2015-06-12
Also published as: JP3052230B2

Abstract

(57)【要約】【目的】光触媒を表面に担持し、高い光触媒性能を有
する無機塗料塗膜の形成方法を提供する。【構成】下記組成（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を原料と
し、これらの原料から調整される重量平均分子量がポリ
スチレン換算で９００以上である第一の無機塗料を基材
に塗布後、溶媒に分散した光触媒を塗布して、光触媒含
有塗膜を形成する。（Ａ）一般式Ｓｉ（ＯＲ¹）₄で表されるケイ素化合物
及び／又はコロイド状シリカを２０〜２００重量部、
（Ｂ）一般式Ｒ²Ｓｉ（ＯＲ¹）₃で表されるケイ素化
合物を１００重量部、（Ｃ）一般式Ｒ² ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）
₂で表されるケイ素化合物を０〜６０重量部〔上記の一般式中、Ｒ¹、Ｒ²は１価の炭化水素基を示
す。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は無機塗料塗膜の形成方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機の樹脂に抗菌剤を含有した抗菌性有
機塗料にあっては、長期間使用すると樹脂が劣化し、特
に屋外で使用した場合には、表面に汚れが付着したり、
紫外線による劣化から、塗膜の抗菌性能が低下し易い欠
点があった。そこで、ケイ酸塩系、リン酸塩系、ジルコ
ニウム系の無機組成物に抗菌剤を含有した無機塗料が知
られているが、上記無機塗料は有機塗料より耐久性は良
好となるが、いずれも２００℃以上の高温で焼き付けを
する必要があるため使用できる範囲が限られ、建材やプ
ラスチックへに直接塗布するのに不適切であった。な
お、ケイ酸塩系の無機塗料は長期間使用するとアルカリ
が表面に溶出して白華現象を起こしやすい欠点があっ
た。また、特開昭６２−５７４７０号公報に、金属アル
コキシドを含有した無機塗料が開示されているが、この
無機塗料は２００℃以下で硬化するものの、塗膜に柔軟
性がなく、クラックが入りやすい問題があった。近年、
多種多様な材料に塗料を用いる必要性から、長期間使用
しても抗菌性能を持続し、且つ、クラックがない、２０
０℃以下の温度で焼き付けできる塗料が求められてい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者等
は、特願平６−２０５８３５で抗菌剤として、光触媒機
能を有する成分である光触媒を含有した抗菌性無機塗料
を提案した。ところが、光触媒を基材に担持する場合、
基材の制約や密着性に難点があり、塗料を用いて、光触
媒を塗膜化した場合、有機系塗料では、光触媒の持つ酸
化作用で塗膜自身が劣化してしまい性能が低下し易く、
無機塗料を用いた場合、無機塗料中に光触媒が、沈降し
てしまい、光触媒の性能が発揮され難いという傾向があ
った。

【０００４】本発明は上述の事実に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、光触媒を表面に担持し、
高い光触媒性能を有する無機塗料塗膜の形成方法を提供
することにある。

【０００５】

〔上記の一般式〜一般式中、Ｒ¹、Ｒ²は１価の炭化水素基を示す。〕

本発明の請求項２に係る無機塗料塗膜の形成方法は、前
記光触媒含有塗膜に、さらに、第二の塗料を塗布するこ
とを特徴とする。

【０００６】本発明の請求項３に係る無機塗料塗膜の形
成方法は、請求項１又は請求項２で得られた無機塗料塗
膜を酸又はアルカリでエッチングすることを特徴とす
る。

【０００７】本発明の請求項４に係る無機塗料塗膜の形
成方法は、前記溶媒に界面活性剤及び／又は沸点が１０
０〜２５０℃の溶剤（乾燥制御剤）を含有することを特
徴とする。

【０００８】本発明の請求項５に係る無機塗料塗膜の形
成方法は、前記乾燥制御剤が、ホルムアミド、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル、ジオキサン及びノルマ
ルヘプタンからなる群より選ばれる少なくとも１種であ
ることを特徴とする。

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
係る無機塗料塗膜の形成方法は、第一の無機塗料を基材
に塗布した後、溶媒に光触媒を分散し、塗布する塗膜の
形成方法で、溶媒は、メタノール、アセトン、エタノー
ル、プロパノール、イソプロピルアルコール等いずれで
もよいが、使用する無機塗料中のアルコキシドの炭化水
素基（Ｒ）の交換反応を考えると無機塗料中のＲに合わ
せることが望ましい。

【００１０】上記ケイ素化合物は下記の一般式で表さ
れる。Ｒ² _nＳｉ（ＯＲ¹）_4-n −−−−−− 〔上記の一般式中、ｎは０〜３の整数、Ｒ¹、Ｒ²は
１価の炭化水素基を示す。〕上記の一般式中のＲ¹、Ｒ²は１価の炭化水素基を示
す限り限定はされないが、Ｒ²として炭素数１〜８の置
換または非置換の炭化水素基を示す、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル
基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基等
のアラルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール
基、ビニル基、アリル基等のアニケニル基、クロロメチ
ル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロ
ピル基等のハロゲン置換炭化水素基、及び、γ−メタク
リロキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、
３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基、γ−メルカ
プトプロピル基等の置換炭化水素基が挙げられる。なか
でも合成の容易さ、または、入手の容易さから炭素数１
〜４のアルキル基、及び、フェニル基が好ましい。

【００１１】上記の一般式中のＲ¹には炭素数１〜４
のアルキル基を主原料にするものが用いられる。特に、
ｎ＝０のテトラアルコキシシランとしては、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン等が例示され、ｎ＝
１のオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチル
トリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロ
プロピルトリメトキシシラン等が例示される。さらに、
ｎ＝２のジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラ
ン、メチルフェニルジメトキシシラン等が例示され、ｎ
＝３のトリオルガノアルコキシシランとしては、トリメ
チルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリ
メチルイソプロポキシシラン、ジメチルイソブチルメト
キシシラン等が例示される。

【００１２】上記の一般式〜一般式中のＲ¹、Ｒ²
は、同一の炭化水素基でもよいし、異なっていてもよ
い。上記無機塗料の作製は、例えば、上記の一般式、
上記の一般式、上記の一般式で表されるケイ素化合
物を溶剤で希釈し、硬化剤として水または触媒を添加
し、加水分解、及び、重縮合反応を行い調製される。こ
れらケイ素化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチ
レン換算で算出される。この調製の際に、無機塗料の重
量平均分子量（Ｍｗ）をポリスチレン換算で９００以上
にする。重量平均分子量（Ｍｗ）がポリスチレン換算で
９００未満であると、重縮合反応の際に硬化収縮が大き
くなり、焼き付けした無機塗料の塗膜にクラックが発生
し易くなる。

【００１３】上記無機塗料は、上記の一般式で表され
るケイ素化合物と併用、または、代わりにコロイド状シ
リカを成分とすることができる。上記コロイド状シリカ
は、水に分散した水分散性のコロイダルシリカ、又は、
アルコール等の非水系の有機溶媒に分散した有機溶媒分
散性のコロイダルシリカである。上記コロイダルシリカ
は固形分としてのシリカを２０〜５０重量％含有してい
る。無機塗料の調製の際に、上記水分散性のコロイダル
シリカは、固形分外の成分として存在する水を硬化剤と
して用いることができる。また、有機溶媒分散性のコロ
イダルシリカは有機溶媒を水と置換することで容易に調
製できる。上記コロイダルシリカが分散している有機溶
媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級
脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレング
リコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコール
モノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジ
エチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル等のジエチレングリコールの誘導体、及び、ジ
アセトンアルコール等が挙げられ、これらの１種、もし
くは２種以上が用いられる。さらに、親水性の有機溶媒
と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトオキシム等も用いることができる。な
お、上記コロイダルシリカの上記配合量は、分散媒も含
んだ重量である。

【００１４】無機塗料を作製する際に硬化剤として水が
汎用されるが、この水の量は、無機塗料中に４５％以下
が好ましく、２５％以下がより好ましい。

【００１５】無機塗料を作製する際に用いられる有機溶
剤は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族
アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエ
チルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のジエチレングリコールの誘導体、及び、ジアセト
ンアルコール等が挙げられ、これらの１種、もしくは２
種以上が用いられる。さらに、親水性の有機溶媒と併用
してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエ
チルケトオキシム等も用いることができる。

【００１６】上記無機塗料の調製の際は、無機塗料のｐ
Ｈを３．８〜６とすることが望ましい。このｐＨ範囲で
あると無機塗料の保存性が良く、このｐＨ範囲外である
と調製期間から塗布できる期間が限られてしまう。この
ｐＨの調整方法は限定しないが、例えば、材料を混合し
た際にｐＨが３．８未満となった場合、アンモニア等の
塩基性試薬を添加して調整すればよく、ｐＨが６を超え
た場合、塩酸等の酸性試薬を添加して調整すればよい。
また、ｐＨによっては分子量が小さい状態で反応の進行
が遅くなった場合、加熱して反応を促進してもよいし、
酸性試薬でｐＨを下げて反応を進めた後に、塩基性試薬
を添加して所定のｐＨとしてもよい。

【００１７】上記の光触媒としては、例えば、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化タング
ステン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化鉄、酸化ニ
ッケル、酸化ルテニウム、酸化コバルト、酸化銅及び酸
化マンガンからなる群から選択される少なくとも１種を
用いる。上記の光触媒を、無機塗料の機能耐候性を損な
わない範囲で無機塗料に添加する。またこれらの光触媒
に金属を担持してもよい。この金属として、例えば、
金、銀、銅、鉄、亜鉛、ニッケル、コバルト、白金、ル
テニウム、パラジウム、ロジウムからなる群から選択さ
れる少なくとも１種を用いる。これらの金属の担持によ
り、光触媒の電荷分離が促進され、光触媒作用が発揮さ
れる。すなわち、光の存在下で酸化性能を有し、この酸
化性能によって脱臭、抗菌等の効果を奏する。さらに、
光触媒を層間に担持した粘土架橋体を用いてもよい。こ
れらの光触媒を層間に導入することで、酸化物が微粒子
に担持され光触媒性能が向上する。

【００１８】上記無機塗料塗膜に、さらに第二の塗料を
塗布することが好ましい。すなわち、例えば、第二の無
機塗料を薄く塗布するため、光触媒が無機塗料塗膜に固
着されるので、脱落せず、無機塗料塗膜の表面性状が向
上する。なお、第一の無機塗料と第二の無機塗料とは、
同一の無機塗料、異なる無機塗料、有機塗料のいずれで
あってもよいが、本発明で用いる第一の無機塗料の濃度
を薄めて第二の無機塗料とし、より薄い塗膜を形成する
ことが、より好ましい。

【００１９】前記無機塗料塗膜を酸又はアルカリでエッ
チングすることにより、無機塗料のみを溶かし、光触媒
が無機塗料塗膜の表面に出てくるので、光触媒の触媒効
果が向上する。前記酸又はアルカリは光触媒を溶かした
り、光触媒と反応したりするものでなければよく、例え
ば、０．１〜１重量％程度の水酸化ナトリウム等が挙げ
られる。

【００２０】界面活性剤及び／又は沸点が１００〜２５
０℃の溶剤である乾燥制御剤（ＤＣＣＡ）を溶媒に添加
することで、光触媒の分散性を高めるとともに、乾燥の
工程で多孔質な塗膜が得られる。すなわち、無機塗料塗
膜を例えば、１００℃以上で乾燥することにより、界面
活性剤、乾燥制御剤等の添加剤が分解し、多孔質な無機
塗料塗膜が得られる。前記乾燥制御剤としては、例え
ば、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、アセトニト
リル、ジオキサン及びノルマルヘプタンからなる群より
選ばれる少なくとも１種が挙げられる。また、界面活性
剤としては、例えば、オクタデシルアミン塩等のアミン
系、オクタデシルトリメチルアンモニウム塩、ドデシル
トリメチルアンモニウム塩等のメチル系、ドデシルベン
ゼンスルホン酸塩等が挙げられる。これらの乾燥制御剤
及び／又は界面活性剤を例えば、メタノール等の溶媒に
均一に混合する。前記乾燥制御剤、界面活性剤等の添加
剤は無機塗料と親和性がよく、高分散化ができ、均質な
多孔質な無機塗料塗膜が得られ、塗膜性が向上する。

【００２１】

【作用】本発明の請求項１に係る無機塗料塗膜の形成方
法では、ケイ素化合物及び／又はコロイド状シリカを原
料とし、これらの原料から調整される重量平均分子量が
ポリスチレン換算で９００以上である第一の無機塗料を
基材に塗布後、溶媒に分散した光触媒を塗布して、光触
媒含有塗膜を形成するため、光触媒が無機塗料塗膜の表
面にあるので、露出して空気に触れている状態の光触媒
が多くなる。

【００２２】本発明の請求項２に係る無機塗料塗膜の形
成方法では、無機塗料塗膜に、さらに、第二の塗料を例
えば、薄く塗布するため、光触媒が無機塗料塗膜に固着
されるので、脱落しない。

【００２３】本発明の請求項３に係る無機塗料塗膜の形
成方法では、請求項１又は請求項２で得られた無機塗料
塗膜を酸又はアルカリでエッチングするため、さらに多
くの光触媒が無機塗料塗膜の表面に露出するので、空気
に触れている状態の光触媒がさらに多くなる。

【００２４】本発明の請求項４及び請求項５に係る無機
塗料塗膜の形成方法では、前記溶媒に界面活性剤及び／
又は沸点が１００〜２５０℃の溶剤である乾燥制御剤、
例えば、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル、ジオキサン、ノルマルヘプタン等を含有する
ため、無機塗料と親和性がよく、高分散化ができ、１０
０℃以上で乾燥する際に、界面活性剤及び乾燥制御剤が
分解するので、均質な多孔質な無機塗料塗膜が得られ
る。

【００２５】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例によって、
具体的に説明する。

【００２６】（実施例１）前記の一般式で表されるケ
イ素化合物としてテトラエトキシシラン、コロイド状シ
リカとしてＩＰＡオルガノシリカゾル（触媒化成社製：
商品名ＯＳＣＡＬ１４３２）、前記の一般式で表され
るケイ素化合物としてメチルトリメトキシシラン、前記
の一般式で表されるケイ素化合物としてジメチルジメ
トキシシランを用いた。メチルトリメトキシシラン１０
０重量部（以下部と記す）に、テトラエトキシシランを
１０部、ＩＰＡオルガノシリカゾルを９０部、ジメチル
ジメトキシシランを３０部、イソプロピルアルコール
（以下ＩＰＡと記す）を１００部混合した後に、水９０
部を添加し、撹拌した。これを、６０℃の恒温槽中で重
量平均分子量（以下Ｍｗと記す）を１５００に調製し、
無機塗料を得た。また、光触媒としてＴｉＯ₂（日本ア
エロジル社製：商品名Ｐ−２５）をメタノールに分散さ
せて光触媒溶液を調整した。この光触媒溶液全量に対す
るＴｉＯ₂の含有量を５重量％にした。前記の得られた
無機塗料を、アセトンで洗浄したアルミナ基板に塗布
し、次いで光触媒溶液を塗布した後、温度１００℃で１
時間乾燥して無機塗料塗膜を得た。この無機塗料塗膜の
光触媒作用を評価するために、アセトアルデヒド除去率
を測定し、表１に示した。ここで、アセトアルデヒド除
去率が大きいほど、光触媒作用が大きいことを示してい
る。なお、アセトアルデヒド除去率は、無機塗料塗膜を
形成した容器中に５０ppm のアセトアルデヒドを注入
し、１０W のブラックライトを３０分間照射し、ガスク
ロマトグラフィーを用いて測定した。

【００２７】（実施例２）実施例１で得られた無機塗料
塗膜に、さらにＩＰＡで実施例１で得られた第一の無機
塗料を１０倍に希釈した第二の無機塗料を塗布した以外
は、実施例１と同様にして、無機塗料塗膜を得て、アセ
トアルデヒド除去率を測定し、表１に示した。

【００２８】（実施例３）実施例１で得られた無機塗料
塗膜を、さらに１％水酸化ナトリウム水溶液に２４時間
浸漬、エッチングして無機塗料塗膜を得て、アセトアル
デヒド除去率を測定し、表１に示した。

【００２９】（実施例４）実施例２で得られた無機塗料
塗膜を、さらに０．１％水酸化ナトリウム水溶液に２４
時間浸漬、エッチングして無機塗料塗膜を得て、アセト
アルデヒド除去率を測定し、表１に示した。

【００３０】（実施例５）実施例１で使用した光触媒と
して、ＴｉＯ₂の代わりにＺｎＯ（堺化学社製：商品名
ＦＩＮＥＸ５０）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、無機塗料塗膜を得て、アセトアルデヒド除去率を測
定し、表１に示した。

【００３１】（実施例６）光触媒溶液を以下のように調
整した以外は、実施例１と同様にして、無機塗料塗膜を
得て、アセトアルデヒド除去率を測定し、表１に示し
た。２規定（Ｎ）塩酸を１０重量部に対して、チタン酸
イソプロポキシドを１重量部の割合で配合し、チタン酸
イソプロポキシドを塩酸で解こうして溶液を得た。この
溶液を予め水に分散した粘土鉱物（クニミネ社製：商品
名モンモリロナイト）の１重量％水溶液に添加し、６０
℃、１．５時間反応させて、粘土が１重量部に対して、
ＴｉＯ ₂が０．６重量部の粘土層間架橋体（ゾル）を得
た。このゾルをメタノールで洗浄した後、固形分が５重
量％になるようにメタノールで希釈し、光触媒溶液を調
整した。

【００３２】（実施例７）光触媒溶液を以下のように調
整した以外は、実施例６と同様にして、無機塗料塗膜を
得て、アセトアルデヒド除去率を測定し、表１に示し
た。実施例６で得られたゾルを水でｐＨ５以上になるま
で洗浄した。このゾルを固形分が１重量％になるように
水で希釈し、粘土層間架橋体である多孔体の１００重量
部に対して塩化白金酸が２重量部の割合になるように塩
化白金酸を添加し、高圧水銀ランプで４時間照射後、メ
タノールで洗浄し、次いで、固形分が５重量％になるよ
うにメタノールで希釈して光触媒溶液を調整した。

【００３３】（実施例８）実施例１で得られた光触媒溶
液９９重量部に対して、ドデシルトリメチルアンモニウ
ムクロライド（日本油脂社製：商品名ニッサンカチオ
ン）１重量部の割合になるように添加して光触媒溶液を
調整して、無機塗料を、基板に塗布し、次いで光触媒溶
液を塗布した後、温度２００℃で１時間乾燥した以外
は、実施例１と同様にして、無機塗料塗膜を得て、アセ
トアルデヒド除去率を測定し、表１に示した。

【００３４】（実施例９）実施例８で得られた光触媒溶
液を用い、無機塗料を、基板に塗布し、次いで光触媒溶
液を塗布した後、温度２００℃で１時間乾燥した以外
は、実施例２と同様にして、無機塗料塗膜を得て、アセ
トアルデヒド除去率を測定し、表１に示した。

【００３５】（実施例１０）実施例１で得られた光触媒
溶液９５重量部に対して、ジメチルアホルムアミド（ナ
カライレスク社製）５重量部の割合になるように添加し
て光触媒溶液を調整し、無機塗料を、基板に塗布し、次
いで光触媒溶液を塗布した後、温度２００℃で１時間乾
燥した以外は、実施例１と同様にして、無機塗料塗膜を
得て、アセトアルデヒド除去率を測定し、表１に示し
た。

【００３６】（比較例１）メチルトリメトキシシラン１
００部に、テトラエトキシシランを１０部、ＩＰＡオル
ガノシリカゾルを９０部、ジメチルジメトキシシランを
３０部、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を１００部
混合した後に、水９０部を添加し、撹拌した。これを、
６０℃の恒温槽中で重量平均分子量（以下Ｍｗと記す）
を１５００に調製し、この溶液に光触媒であるＴｉＯ₂
（日本アエロジル社製：商品名Ｐ−２５）を２０部添加
して無機塗料を得た。この無機塗料を、アセトンで洗浄
したアルミナ基板に塗布し、温度１００℃で１時間乾燥
した。硬化後の無機塗料塗膜をさらに０．１％水酸化ナ
トリウム水溶液に２４時間浸漬、エッチングして無機塗
料塗膜を得て、アセトアルデヒド除去率を測定し、表１
に示した。

【００３７】

【表１】

【００３８】表１に示すように、実施例は、比較例に比
べて無機塗料塗膜のアセトアルデヒド除去率が大きく、
光触媒作用による酸化性能に優れ、脱臭、抗菌等の効果
が大きいことが確認できた。また、実施例２の無機塗料
塗膜については、光沢度が大きく、無機塗料塗膜の表面
性状が良好であった。

【００３９】

【発明の効果】本発明の請求項１に係る無機塗料塗膜の
形成方法によると、光触媒が無機塗料塗膜の表面にある
ので、露出して空気に触れている状態の光触媒が多くな
り、無機塗料塗膜の表面に光触媒が担持されているた
め、高い酸化性能等の光触媒性能を有した無機塗料塗膜
が得られる。

【００４０】本発明の請求項２に係る無機塗料塗膜の形
成方法によると、光触媒が無機塗料塗膜に固着されるの
で、脱落しないため、高い酸化性能等の光触媒性能を有
するとともに、無機塗料塗膜の表面性状に優れた無機塗
料塗膜が得られる。

【００４１】本発明の請求項３に係る無機塗料塗膜の形
成方法によると、さらに多くの光触媒が無機塗料塗膜の
表面に露出するので、空気に触れている状態の光触媒が
さらに多くなるため、さらに高い酸化性能等の光触媒性
能を有した無機塗料塗膜が得られる。

【００４２】本発明の請求項４及び請求項５に係る無機
塗料塗膜の形成方法によると、無機塗料と親和性がよ
く、高分散化ができ、１００℃以上で乾燥する際に、界
面活性剤及び乾燥制御剤が分解するので、均質な多孔質
な無機塗料塗膜が得られるため、より高い酸化性能等の
光触媒性能を有した無機塗料塗膜が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記組成（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を原
料とし、これらの原料から調整される重量平均分子量が
ポリスチレン換算で９００以上である第一の無機塗料を
基材に塗布後、溶媒に分散した光触媒を塗布して、光触
媒含有塗膜を形成することを特徴とする無機塗料塗膜の
形成方法。（Ａ）下記の一般式で表されるケイ素化合物及び／又
はコロイド状シリカを２０〜２００重量部、Ｓｉ（ＯＲ¹）₄ −−−−−− （Ｂ）下記の一般式で表されるケイ素化合物を１００
重量部、Ｒ²Ｓｉ（ＯＲ¹）₃ −−−−−− （Ｃ）下記の一般式で表されるケイ素化合物を０〜６
０重量部、Ｒ² ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）₂ −−−−−− 〔上記の一般式〜一般式中、Ｒ¹、Ｒ²は１価の炭
化水素基を示す。〕
【請求項２】前記光触媒含有塗膜に、さらに、第二の
塗料を塗布することを特徴とする請求項１記載の無機塗
料塗膜の形成方法。
【請求項３】請求項１又は請求項２で得られた無機塗
料塗膜を酸又はアルカリでエッチングすることを特徴と
する無機塗料塗膜の形成方法。
【請求項４】前記溶媒に界面活性剤及び／又は沸点が
１００〜２５０℃の溶剤（乾燥制御剤）を含有すること
を特徴とする請求項１乃至請求項３いずれかに記載の無
機塗料塗膜の形成方法。
【請求項５】前記乾燥制御剤が、ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、アセトニトリル、ジオキサン及びノ
ルマルヘプタンからなる群より選ばれる少なくとも１種
であることを特徴とする請求項１乃至請求項４いずれか
に記載の無機塗料塗膜の形成方法。