JPH0924335A - 抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法 - Google Patents
抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0924335A JPH0924335A JP17567595A JP17567595A JPH0924335A JP H0924335 A JPH0924335 A JP H0924335A JP 17567595 A JP17567595 A JP 17567595A JP 17567595 A JP17567595 A JP 17567595A JP H0924335 A JPH0924335 A JP H0924335A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- antibacterial
- silica
- inorganic
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 181
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 175
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 title claims abstract description 80
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 79
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims description 30
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 19
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010828 elution Methods 0.000 claims description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 4
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 4
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 62
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- -1 γ -Chloropropyl group Chemical group 0.000 description 24
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012445 acidic reagent Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIJMUCVCCQKMPZ-UHFFFAOYSA-N methoxy-dimethyl-(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)CC(C)C UIJMUCVCCQKMPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLPAMPVXAPWKG-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1-methylethoxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(C)C NNLPAMPVXAPWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl-trifluoromethansulfonate Natural products C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVLAIYIMMFWRFW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.NCCO VVLAIYIMMFWRFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N O-silylhydroxylamine Chemical class NO[SiH3] YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHNXEVRKFKHMRL-UHFFFAOYSA-N dimethylazanium;acetate Chemical compound CNC.CC(O)=O QHNXEVRKFKHMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNEDOMBPJDUQPS-BFIADXHOSA-L dioctyltin(2+);(z)-4-hydroxy-4-oxobut-2-enoate Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC(=O)\C=C/C(O)=O)(OC(=O)\C=C/C(O)=O)CCCCCCCC WNEDOMBPJDUQPS-BFIADXHOSA-L 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000006253 efflorescence Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 206010037844 rash Diseases 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical class CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.C[N+](C)(C)C MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 長期間高い抗菌性能を持続し、200℃以下
の温度で焼き付けでき、且つ、硬化乾燥後の処理を不要
にすることができる抗菌性無機塗料塗装物およびその製
造方法を提供することにある。 【解決手段】 基体の表面に下記組成からなる無機塗料
に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成してなる抗菌性無機
塗料塗装物において、上記塗膜の表面に上記抗菌剤が暴
露してなる。上記無機塗料は、R2 n Si(OR1 )
4-n で表されるケイ素化合物を含有し、且つ、重量平均
分子量がポリスチレン換算で900以上である。他の無
機塗料は、シリカ分散オリゴマー溶液、シラノール基を
含有するポリオルガノシロキサン、及び、触媒とからな
り、さらに、上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダ
ルシリカはシリカを固形分として5〜95重量%含有
し、加水分解性オルガノシランの少なくとも50モル%
が、nが1のオルガノシランである。
の温度で焼き付けでき、且つ、硬化乾燥後の処理を不要
にすることができる抗菌性無機塗料塗装物およびその製
造方法を提供することにある。 【解決手段】 基体の表面に下記組成からなる無機塗料
に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成してなる抗菌性無機
塗料塗装物において、上記塗膜の表面に上記抗菌剤が暴
露してなる。上記無機塗料は、R2 n Si(OR1 )
4-n で表されるケイ素化合物を含有し、且つ、重量平均
分子量がポリスチレン換算で900以上である。他の無
機塗料は、シリカ分散オリゴマー溶液、シラノール基を
含有するポリオルガノシロキサン、及び、触媒とからな
り、さらに、上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダ
ルシリカはシリカを固形分として5〜95重量%含有
し、加水分解性オルガノシランの少なくとも50モル%
が、nが1のオルガノシランである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗菌性無機塗料塗
装物およびその製造方法に関するものである。
装物およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】有機の樹脂に抗菌剤を含有した抗菌性有
機塗料にあっては、長期間使用すると樹脂が劣化し、特
に屋外で使用した場合には、表面に汚れが付着したり、
紫外線による劣化から、塗膜の抗菌性能が低下し易い欠
点がある。そこで、ケイ酸塩系、リン酸塩系、ジルコニ
ウム系の無機組成物に抗菌剤を含有した無機塗料が知ら
れているが、上記無機塗料は有機塗料より耐久性は良好
となるが、いずれも200℃以上の高温で焼き付けをす
る必要があるため使用できる範囲が限られ、建材やプラ
スチックへに直接塗布するのに不適切である。なお、ケ
イ酸塩系の無機塗料は長期間使用するとアルカリが表面
に溶出して白華現象を起こしやすい欠点がある。
機塗料にあっては、長期間使用すると樹脂が劣化し、特
に屋外で使用した場合には、表面に汚れが付着したり、
紫外線による劣化から、塗膜の抗菌性能が低下し易い欠
点がある。そこで、ケイ酸塩系、リン酸塩系、ジルコニ
ウム系の無機組成物に抗菌剤を含有した無機塗料が知ら
れているが、上記無機塗料は有機塗料より耐久性は良好
となるが、いずれも200℃以上の高温で焼き付けをす
る必要があるため使用できる範囲が限られ、建材やプラ
スチックへに直接塗布するのに不適切である。なお、ケ
イ酸塩系の無機塗料は長期間使用するとアルカリが表面
に溶出して白華現象を起こしやすい欠点がある。
【0003】また、特開昭62−57470号公報に、
金属アルコキシドを含有した無機塗料が開示されている
が、この無機塗料は200℃以下で硬化するものの、塗
膜に柔軟性がなく、クラックが入りやすい問題がある。
近年、多種多様な材料に塗料を用いる必要性から、長期
間使用しても抗菌性能を持続し、且つ、クラックがな
い、200℃以下の温度で焼き付けでき、しかも、硬化
乾燥後の処理を不要にすることができる塗料、および、
この塗料を塗布して形成された塗装物が求められてい
る。
金属アルコキシドを含有した無機塗料が開示されている
が、この無機塗料は200℃以下で硬化するものの、塗
膜に柔軟性がなく、クラックが入りやすい問題がある。
近年、多種多様な材料に塗料を用いる必要性から、長期
間使用しても抗菌性能を持続し、且つ、クラックがな
い、200℃以下の温度で焼き付けでき、しかも、硬化
乾燥後の処理を不要にすることができる塗料、および、
この塗料を塗布して形成された塗装物が求められてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の事実
に鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、長期間高い抗菌性能を持続し、200℃以下の温度
で焼き付けでき、且つ、硬化乾燥後の処理を不要にする
ことができる抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法
を提供するところにある。
に鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、長期間高い抗菌性能を持続し、200℃以下の温度
で焼き付けでき、且つ、硬化乾燥後の処理を不要にする
ことができる抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法
を提供するところにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
抗菌性無機塗料塗装物は、基体の表面に下記組成からな
る無機塗料に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成してなる
抗菌性無機塗料塗装物において、上記塗膜の表面に上記
抗菌剤が暴露してなることを特徴とする。
抗菌性無機塗料塗装物は、基体の表面に下記組成からな
る無機塗料に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成してなる
抗菌性無機塗料塗装物において、上記塗膜の表面に上記
抗菌剤が暴露してなることを特徴とする。
【0006】上記無機塗料は、(イ)一般式:Si(O
R1 )4 で表されるケイ素化合物、および/または、コ
ロイド状シリカを20〜200重量部、(ロ)一般式:
R2 Si(OR1 )3 で表されるケイ素化合物を100
重量部、および、(ハ)一般式:R2 2Si(OR1 )2
で表されるケイ素化合物を0〜60重量部の割合で含有
し、且つ、(ニ)これらを含有した無機塗料の重量平均
分子量がポリスチレン換算で900以上である。〔上記
R1 、R2 は1価の炭化水素基を示す。〕 本発明の請求項2に係る抗菌性無機塗料塗装物は、基体
の表面に下記組成からなる無機塗料に、抗菌剤を含有さ
せて塗膜を形成してなる抗菌性無機塗料塗装物におい
て、上記塗膜の表面に上記抗菌剤が暴露してなることを
特徴とする。
R1 )4 で表されるケイ素化合物、および/または、コ
ロイド状シリカを20〜200重量部、(ロ)一般式:
R2 Si(OR1 )3 で表されるケイ素化合物を100
重量部、および、(ハ)一般式:R2 2Si(OR1 )2
で表されるケイ素化合物を0〜60重量部の割合で含有
し、且つ、(ニ)これらを含有した無機塗料の重量平均
分子量がポリスチレン換算で900以上である。〔上記
R1 、R2 は1価の炭化水素基を示す。〕 本発明の請求項2に係る抗菌性無機塗料塗装物は、基体
の表面に下記組成からなる無機塗料に、抗菌剤を含有さ
せて塗膜を形成してなる抗菌性無機塗料塗装物におい
て、上記塗膜の表面に上記抗菌剤が暴露してなることを
特徴とする。
【0007】上記無機塗料は、 (イ)一般式が下式〔1〕で表される加水分解性オルガ
ノシランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリ
カ中で、X1モルに対し水0.001〜0.5モルを使
用する条件下で部分加水分解したオルガノシランのシリ
カ分散オリゴマー溶液と、 R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕 (ロ)平均組成式が下式〔2〕で表される分子中にシラ
ノール基を含有するポリオルガノシロキサン、及び、 R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕 (ハ)触媒とからなり、さらに、 (ニ)上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダルシリ
カはシリカを固形分として5〜95重量%含有し、加水
分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、前記
〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、 (ホ)上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部
に対して、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量
部で含有する。
ノシランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリ
カ中で、X1モルに対し水0.001〜0.5モルを使
用する条件下で部分加水分解したオルガノシランのシリ
カ分散オリゴマー溶液と、 R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕 (ロ)平均組成式が下式〔2〕で表される分子中にシラ
ノール基を含有するポリオルガノシロキサン、及び、 R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕 (ハ)触媒とからなり、さらに、 (ニ)上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダルシリ
カはシリカを固形分として5〜95重量%含有し、加水
分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、前記
〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、 (ホ)上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部
に対して、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量
部で含有する。
【0008】本発明の請求項3に係る抗菌性無機塗料塗
装物は、上記抗菌剤として、溶出型の抗菌性能を有する
成分を含有することを特徴とする。
装物は、上記抗菌剤として、溶出型の抗菌性能を有する
成分を含有することを特徴とする。
【0009】本発明の請求項4に係る抗菌性無機塗料塗
装物は、請求項3の溶出型の抗菌性能を有する成分が、
銀、銅、亜鉛、ニッケル、パラジウム、白金、金、カド
ミウム、水銀、コバルト、ロジウムからなる群より選ば
れる少なくとも1種であることを特徴とする。
装物は、請求項3の溶出型の抗菌性能を有する成分が、
銀、銅、亜鉛、ニッケル、パラジウム、白金、金、カド
ミウム、水銀、コバルト、ロジウムからなる群より選ば
れる少なくとも1種であることを特徴とする。
【0010】本発明の請求項5に係る抗菌性無機塗料塗
装物は、上記抗菌剤として、光触媒機能を有する成分を
含有することを特徴とする。
装物は、上記抗菌剤として、光触媒機能を有する成分を
含有することを特徴とする。
【0011】本発明の請求項6に係る抗菌性無機塗料塗
装物は、請求項5の光触媒機能を有する成分が、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウム、
酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化
ルテニウム、酸化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化カドミウ
ム、酸化銅、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタ
ル、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化ロジウム、酸化
レニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種である
ことを特徴とする。
装物は、請求項5の光触媒機能を有する成分が、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウム、
酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化
ルテニウム、酸化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化カドミウ
ム、酸化銅、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタ
ル、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化ロジウム、酸化
レニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種である
ことを特徴とする。
【0012】本発明の請求項7に係る抗菌性無機塗料塗
装物の製造方法は、基体の表面に下記組成からなる無機
塗料に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成する抗菌性無機
塗料塗装物の製造方法において、上記無機塗料を上記基
体の表面に塗布してから、同無機塗料が半硬化状態であ
るうちに、上記抗菌剤を塗布して、完全硬化させると、
上記塗膜の表面に同抗菌剤が暴露することを特徴とす
る。
装物の製造方法は、基体の表面に下記組成からなる無機
塗料に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成する抗菌性無機
塗料塗装物の製造方法において、上記無機塗料を上記基
体の表面に塗布してから、同無機塗料が半硬化状態であ
るうちに、上記抗菌剤を塗布して、完全硬化させると、
上記塗膜の表面に同抗菌剤が暴露することを特徴とす
る。
【0013】上記無機塗料は、(イ)一般式:Si(O
R1 )4 で表されるケイ素化合物、および/または、コ
ロイド状シリカを20〜200重量部、(ロ)一般式:
R2 Si(OR1 )3 で表されるケイ素化合物を100
重量部、および、(ハ)一般式:R2 2Si(OR1 )2
で表されるケイ素化合物を0〜60重量部の割合で含有
し、且つ、(ニ)これらを含有した無機塗料の重量平均
分子量がポリスチレン換算で900以上である。〔上記
R1 、R2 は1価の炭化水素基を示す。〕 本発明の請求項8に係る抗菌性無機塗料塗装物の製造方
法は、基体の表面に下記組成からなる無機塗料に、抗菌
剤を含有させて塗膜を形成する抗菌性無機塗料塗装物の
製造方法において、上記無機塗料を上記基体の表面に塗
布してから、同無機塗料が半硬化状態であるうちに、上
記抗菌剤を塗布して、完全硬化させると、上記塗膜の表
面に同抗菌剤が暴露することを特徴とする。
R1 )4 で表されるケイ素化合物、および/または、コ
ロイド状シリカを20〜200重量部、(ロ)一般式:
R2 Si(OR1 )3 で表されるケイ素化合物を100
重量部、および、(ハ)一般式:R2 2Si(OR1 )2
で表されるケイ素化合物を0〜60重量部の割合で含有
し、且つ、(ニ)これらを含有した無機塗料の重量平均
分子量がポリスチレン換算で900以上である。〔上記
R1 、R2 は1価の炭化水素基を示す。〕 本発明の請求項8に係る抗菌性無機塗料塗装物の製造方
法は、基体の表面に下記組成からなる無機塗料に、抗菌
剤を含有させて塗膜を形成する抗菌性無機塗料塗装物の
製造方法において、上記無機塗料を上記基体の表面に塗
布してから、同無機塗料が半硬化状態であるうちに、上
記抗菌剤を塗布して、完全硬化させると、上記塗膜の表
面に同抗菌剤が暴露することを特徴とする。
【0014】上記無機塗料は、 (イ)一般式が下式〔1〕で表される加水分解性オルガ
ノシランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリ
カ中で、X1モルに対し水0.001〜0.5モルを使
用する条件下で部分加水分解したオルガノシランのシリ
カ分散オリゴマー溶液と、 R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕 (ロ)平均組成式が下式〔2〕で表される分子中にシラ
ノール基を含有するポリオルガノシロキサン、及び、 R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕 (ハ)触媒とからなり、さらに、 (ニ)上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダルシリ
カはシリカを固形分として5〜95重量%含有し、加水
分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、前記
〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、 (ホ)上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部
に対して、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量
部で含有する。
ノシランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリ
カ中で、X1モルに対し水0.001〜0.5モルを使
用する条件下で部分加水分解したオルガノシランのシリ
カ分散オリゴマー溶液と、 R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕 (ロ)平均組成式が下式〔2〕で表される分子中にシラ
ノール基を含有するポリオルガノシロキサン、及び、 R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕 (ハ)触媒とからなり、さらに、 (ニ)上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダルシリ
カはシリカを固形分として5〜95重量%含有し、加水
分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、前記
〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、 (ホ)上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部
に対して、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量
部で含有する。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
【0016】図1は、本発明の一実施形態に係る抗菌性
無機塗料塗装物の概略を示す断面図である。
無機塗料塗装物の概略を示す断面図である。
【0017】本発明の抗菌性無機塗料塗装物は、図1に
示すごとく、基体(1)の表面に下記組成からなる無機
塗料(2)に、抗菌剤(4)を含有させて塗膜(3)を
形成してなる抗菌性無機塗料塗装物において、上記塗膜
(3)の表面に上記抗菌剤(4)が暴露してなっている
ものである。
示すごとく、基体(1)の表面に下記組成からなる無機
塗料(2)に、抗菌剤(4)を含有させて塗膜(3)を
形成してなる抗菌性無機塗料塗装物において、上記塗膜
(3)の表面に上記抗菌剤(4)が暴露してなっている
ものである。
【0018】上記基体(1)としては、窯業系、ガラ
ス、セラミックス、プラスチック、金属などの一般に市
販されているものでよく、特に、限定されるものではな
いが、基体(1)の性状に応じて、脱脂処理などのプラ
イマー処理を行うことが好ましいものである。
ス、セラミックス、プラスチック、金属などの一般に市
販されているものでよく、特に、限定されるものではな
いが、基体(1)の性状に応じて、脱脂処理などのプラ
イマー処理を行うことが好ましいものである。
【0019】上記無機塗料(2)について説明する。本
発明の請求項1に係る抗菌性無機塗料塗装物の無機塗料
(2)は、一般式が下式〔3〕で表されるケイ素化合
物、および/または、コロイド状シリカを20〜200
重量部、 一般式:Si(OR1 )4 〔3〕 一般式が下式〔4〕で表されるケイ素化合物を100重
量部、および、 一般式:R2 Si(OR1 )3 〔4〕 一般式が下式〔5〕で表されるケイ素化合物を0〜60
重量部の割合で含有する。 一般式:R2 2Si(OR1 )2 〔5〕 なお、上記R1 、R2 は1価の炭化水素基を示す。
発明の請求項1に係る抗菌性無機塗料塗装物の無機塗料
(2)は、一般式が下式〔3〕で表されるケイ素化合
物、および/または、コロイド状シリカを20〜200
重量部、 一般式:Si(OR1 )4 〔3〕 一般式が下式〔4〕で表されるケイ素化合物を100重
量部、および、 一般式:R2 Si(OR1 )3 〔4〕 一般式が下式〔5〕で表されるケイ素化合物を0〜60
重量部の割合で含有する。 一般式:R2 2Si(OR1 )2 〔5〕 なお、上記R1 、R2 は1価の炭化水素基を示す。
【0020】上記ケイ素化合物は一般式が下式〔6〕で
表されるものである。 R2 n Si(OR1 )4-n 〔6〕 〔n=0〜3を示し、R1 、R2 は1価の炭化水素基を
示す。〕 前式〔6〕のR1 、R2 は1価の炭化水素基を示す限り
限定はされないが、R 2 として炭素数1〜8の置換また
は非置換の炭化水素基を示す、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、2
−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基等のアラ
ルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ビニ
ル基、アリル基等のアニケニル基、クロロメチル基、γ
−クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等
のハロゲン置換炭化水素基、及び、γ−メタクリロキシ
プロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピ
ル基等の置換炭化水素基が挙げられる。なかでも合成の
容易さ、または、入手の容易さから炭素数1〜4のアル
キル基、及び、フェニル基が好ましい。
表されるものである。 R2 n Si(OR1 )4-n 〔6〕 〔n=0〜3を示し、R1 、R2 は1価の炭化水素基を
示す。〕 前式〔6〕のR1 、R2 は1価の炭化水素基を示す限り
限定はされないが、R 2 として炭素数1〜8の置換また
は非置換の炭化水素基を示す、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、2
−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基等のアラ
ルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ビニ
ル基、アリル基等のアニケニル基、クロロメチル基、γ
−クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等
のハロゲン置換炭化水素基、及び、γ−メタクリロキシ
プロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピ
ル基等の置換炭化水素基が挙げられる。なかでも合成の
容易さ、または、入手の容易さから炭素数1〜4のアル
キル基、及び、フェニル基が好ましい。
【0021】前式〔6〕のR1 には炭素数1〜4のアル
キル基を主原料にするものが用いられる。特に、n=0
のテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン等が例示され、n=1のオ
ルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイ
ソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピ
ルトリメトキシシラン等が例示される。さらに、n=2
のジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニ
ルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メ
チルフェニルジメトキシシラン等が例示され、n=3の
トリオルガノアルコキシシランとしては、トリメチルメ
トキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル
イソプロポキシシラン、ジメチルイソブチルメトキシシ
ラン等が例示される。
キル基を主原料にするものが用いられる。特に、n=0
のテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン等が例示され、n=1のオ
ルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイ
ソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピ
ルトリメトキシシラン等が例示される。さらに、n=2
のジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニ
ルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メ
チルフェニルジメトキシシラン等が例示され、n=3の
トリオルガノアルコキシシランとしては、トリメチルメ
トキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル
イソプロポキシシラン、ジメチルイソブチルメトキシシ
ラン等が例示される。
【0022】上記R1 、R2 は前式〔3〕、〔4〕、
〔5〕において、同一の炭化水素基出もよいし、異なっ
ていてもよい。
〔5〕において、同一の炭化水素基出もよいし、異なっ
ていてもよい。
【0023】上記無機塗料(2)の作製は、例えば、前
式〔3〕、〔4〕、〔5〕で表されるケイ素化合物を溶
剤で希釈し、硬化剤として水または触媒を添加し、加水
分解、及び、重縮合反応を行い調製される。これらケイ
素化合物の重量平均分子量(Mw)はポリスチレン換算
で算出される。この調製の際に、無機塗料(2)の重量
平均分子量(Mw)をポリスチレン換算で900以上に
する。重量平均分子量(Mw)がポリスチレン換算で9
00未満であると、重縮合反応の際に硬化収縮が大きく
なり、焼き付けした無機塗料(2)の塗膜(3)にクラ
ックが発生し易くなる。
式〔3〕、〔4〕、〔5〕で表されるケイ素化合物を溶
剤で希釈し、硬化剤として水または触媒を添加し、加水
分解、及び、重縮合反応を行い調製される。これらケイ
素化合物の重量平均分子量(Mw)はポリスチレン換算
で算出される。この調製の際に、無機塗料(2)の重量
平均分子量(Mw)をポリスチレン換算で900以上に
する。重量平均分子量(Mw)がポリスチレン換算で9
00未満であると、重縮合反応の際に硬化収縮が大きく
なり、焼き付けした無機塗料(2)の塗膜(3)にクラ
ックが発生し易くなる。
【0024】上記無機塗料(2)は、前式〔3〕で表さ
れるケイ素化合物と併用、または、代わりにコロイド状
シリカを成分とすることができる。上記コロイド状シリ
カは、水に分散した水分散性のコロイダルシリカ、又
は、アルコール等の非水系の有機溶媒に分散した有機溶
媒分散性のコロイダルシリカである。上記コロイダルシ
リカは固形分としてのシリカを20〜50重量%含有し
ている。無機塗料(2)の調製の際に、上記水分散性の
コロイダルシリカは、固形分外の成分として存在する水
を硬化剤として用いることができる。また、有機溶媒分
散性のコロイダルシリカは有機溶媒を水と置換すること
で容易に調製できる。上記コロイダルシリカが分散して
いる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、
エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレン
グリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール
誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル等のジエチレングリコールの誘導
体、及び、ジアセトンアルコール等が挙げられ、これら
の1種、もしくは2種以上が用いられる。さらに、親水
性の有機溶媒と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトオキシム等も用いることが
できる。なお、上記コロイダルシリカの上記配合量は、
分散媒も含んだ重量である。
れるケイ素化合物と併用、または、代わりにコロイド状
シリカを成分とすることができる。上記コロイド状シリ
カは、水に分散した水分散性のコロイダルシリカ、又
は、アルコール等の非水系の有機溶媒に分散した有機溶
媒分散性のコロイダルシリカである。上記コロイダルシ
リカは固形分としてのシリカを20〜50重量%含有し
ている。無機塗料(2)の調製の際に、上記水分散性の
コロイダルシリカは、固形分外の成分として存在する水
を硬化剤として用いることができる。また、有機溶媒分
散性のコロイダルシリカは有機溶媒を水と置換すること
で容易に調製できる。上記コロイダルシリカが分散して
いる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、
エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレン
グリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール
誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル等のジエチレングリコールの誘導
体、及び、ジアセトンアルコール等が挙げられ、これら
の1種、もしくは2種以上が用いられる。さらに、親水
性の有機溶媒と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトオキシム等も用いることが
できる。なお、上記コロイダルシリカの上記配合量は、
分散媒も含んだ重量である。
【0025】無機塗料(2)を作製する際に硬化剤とし
て水が汎用されるが、この水の量は、無機塗料(2)中
に45%以下が好ましく、25%以下がより好ましい。
て水が汎用されるが、この水の量は、無機塗料(2)中
に45%以下が好ましく、25%以下がより好ましい。
【0026】無機塗料(2)を作製する際に用いられる
有機溶剤は、例えば、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級
脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレング
リコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコール
モノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジ
エチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル等のジエチレングリコールの誘導体、及び、ジ
アセトンアルコール等が挙げられ、これらの1種、もし
くは2種以上が用いられる。さらに、親水性の有機溶媒
と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトオキシム等も用いることができる。
有機溶剤は、例えば、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級
脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレング
リコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコール
モノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジ
エチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル等のジエチレングリコールの誘導体、及び、ジ
アセトンアルコール等が挙げられ、これらの1種、もし
くは2種以上が用いられる。さらに、親水性の有機溶媒
と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトオキシム等も用いることができる。
【0027】上記無機塗料(2)の調製の際は、無機塗
料(2)のpHを3.8〜6とすることが望ましい。こ
のpH範囲であると無機塗料(2)の保存性が良く、こ
のpH範囲外であると調製期間から塗布できる期間が限
られてしまう。このpHの調整方法は限定しないが、例
えば、材料を混合した際にpHが3.8未満となった場
合、アンモニア等の塩基性試薬を添加して調整すればよ
く、pHが6を超えた場合、塩酸等の酸性試薬を添加し
て調整すればよい。また、pHによっては分子量が小さ
い状態で反応の進行が遅くなった場合、加熱して反応を
促進してもよいし、酸性試薬でpHを下げて反応を進め
た後に、塩基性試薬を添加して所定のpHとしてもよ
い。
料(2)のpHを3.8〜6とすることが望ましい。こ
のpH範囲であると無機塗料(2)の保存性が良く、こ
のpH範囲外であると調製期間から塗布できる期間が限
られてしまう。このpHの調整方法は限定しないが、例
えば、材料を混合した際にpHが3.8未満となった場
合、アンモニア等の塩基性試薬を添加して調整すればよ
く、pHが6を超えた場合、塩酸等の酸性試薬を添加し
て調整すればよい。また、pHによっては分子量が小さ
い状態で反応の進行が遅くなった場合、加熱して反応を
促進してもよいし、酸性試薬でpHを下げて反応を進め
た後に、塩基性試薬を添加して所定のpHとしてもよ
い。
【0028】次に、本発明の請求項2に係る抗菌性無機
塗料塗装物の無機塗料(2)について説明する。この無
機塗料(2)は、一般式が下式〔1〕で表される加水分
解性オルガノシランを有機溶媒または水分散されたコロ
イダルシリカ中で、X1モルに対し水0.001〜0.
5モルを使用する条件下で部分加水分解したオルガノシ
ランのシリカ分散オリゴマー溶液と、 一般式:R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕平均組成式が下式
〔2〕で表される分子中にシラノール基を含有するポリ
オルガノシロキサン、及び、 平均組成式:R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕触媒とからなる。さ
らに、上記無機塗料(2)は、上記シリカ分散オリゴマ
ー溶液はシリカを固形分として5〜95重量%含有し、
加水分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、
前記〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、
上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部に対し
て、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量部で含
有する。
塗料塗装物の無機塗料(2)について説明する。この無
機塗料(2)は、一般式が下式〔1〕で表される加水分
解性オルガノシランを有機溶媒または水分散されたコロ
イダルシリカ中で、X1モルに対し水0.001〜0.
5モルを使用する条件下で部分加水分解したオルガノシ
ランのシリカ分散オリゴマー溶液と、 一般式:R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕平均組成式が下式
〔2〕で表される分子中にシラノール基を含有するポリ
オルガノシロキサン、及び、 平均組成式:R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕触媒とからなる。さ
らに、上記無機塗料(2)は、上記シリカ分散オリゴマ
ー溶液はシリカを固形分として5〜95重量%含有し、
加水分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、
前記〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、
上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部に対し
て、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量部で含
有する。
【0029】上記シリカ分散オリゴマー溶液のシリカ分
散オリゴマーは塗膜(3)形成に際して、硬化反応に預
かる官能性基としての加水分解性基を有するベースポリ
マーの主成分である。このシリカ分散オリゴマーは有機
溶媒、又は、水に分散されたコロイダルシリカに、前式
〔1〕で表される加水分解性オルガノシランの1種又は
2種以上を加え、コロイダルシリカ中の水あるいは別途
添加した水により、この加水分解性オルガノシランを部
分加水分解することで得られる。
散オリゴマーは塗膜(3)形成に際して、硬化反応に預
かる官能性基としての加水分解性基を有するベースポリ
マーの主成分である。このシリカ分散オリゴマーは有機
溶媒、又は、水に分散されたコロイダルシリカに、前式
〔1〕で表される加水分解性オルガノシランの1種又は
2種以上を加え、コロイダルシリカ中の水あるいは別途
添加した水により、この加水分解性オルガノシランを部
分加水分解することで得られる。
【0030】前式〔1〕で表される加水分解性オルガノ
シランのR3 は炭素数1〜8の置換もしくは非置換の1
価の炭化水素基を示し、具体的には上述のR2 と同様の
炭化水素基が例示される。
シランのR3 は炭素数1〜8の置換もしくは非置換の1
価の炭化水素基を示し、具体的には上述のR2 と同様の
炭化水素基が例示される。
【0031】上記加水分解性基を示すXとしては、アル
コキシ基、アセトキシ基、オキシム基、エノキシ基、ア
ミノ基、アミノキシ基、アミド基が挙げられる。これら
の中でも、入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマー溶液
の調製のしやすいことからアルコキシ基が好ましい。
コキシ基、アセトキシ基、オキシム基、エノキシ基、ア
ミノ基、アミノキシ基、アミド基が挙げられる。これら
の中でも、入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマー溶液
の調製のしやすいことからアルコキシ基が好ましい。
【0032】このような加水分解性オルガノシランは、
前式〔1〕で表される化学式中のnが0〜3の整数であ
るモノ−、ジ−、トリ−、テトラ−の各官能性のアルコ
キシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン
類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシ
ラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中で
も、入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマー溶液の調製
のしやすいことからアルコキシシラン類が好ましい。ま
た、n=0のテトラアルコキシシランとしては、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン等が例示され、
n=1のオルガノトリアルコキシシランとしては、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフル
オロプロピルトリメトキシシラン等が例示される。さら
に、n=2のジオルガノジアルコキシシランとしては、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキ
シシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が例示さ
れ、n=3のトリオルガノアルコキシシランとしては、
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラ
ン、トリメチルイソプロポキシシラン、ジメチルイソブ
チルメトキシシラン等が例示される。さらに、一般にシ
ランカップリング剤と呼称されるオルガノシラン化合物
も上記アルコキシシラン類に含まれる。
前式〔1〕で表される化学式中のnが0〜3の整数であ
るモノ−、ジ−、トリ−、テトラ−の各官能性のアルコ
キシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン
類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシ
ラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中で
も、入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマー溶液の調製
のしやすいことからアルコキシシラン類が好ましい。ま
た、n=0のテトラアルコキシシランとしては、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン等が例示され、
n=1のオルガノトリアルコキシシランとしては、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフル
オロプロピルトリメトキシシラン等が例示される。さら
に、n=2のジオルガノジアルコキシシランとしては、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキ
シシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が例示さ
れ、n=3のトリオルガノアルコキシシランとしては、
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラ
ン、トリメチルイソプロポキシシラン、ジメチルイソブ
チルメトキシシラン等が例示される。さらに、一般にシ
ランカップリング剤と呼称されるオルガノシラン化合物
も上記アルコキシシラン類に含まれる。
【0033】上記加水分解性オルガノシランは、少なく
とも50モル%が、前記〔1〕式のnが1で表される三
官能性のオルガノシランであることが必要である。この
三官能性のオルガノシランの割合は60モル%以上が好
ましく、より好ましくは70モル%以上である。これが
50モル%未満では十分な塗膜(3)硬度が得られない
と共に、乾燥硬化性が劣り易い。
とも50モル%が、前記〔1〕式のnが1で表される三
官能性のオルガノシランであることが必要である。この
三官能性のオルガノシランの割合は60モル%以上が好
ましく、より好ましくは70モル%以上である。これが
50モル%未満では十分な塗膜(3)硬度が得られない
と共に、乾燥硬化性が劣り易い。
【0034】上記加水分解性オルガノシランを有機溶媒
または水分散されたコロイダルシリカは、無機塗料
(2)の硬化した塗膜(3)の硬度を高くするものであ
る。上記コロイダルシリカとしては、請求項1に係る無
機塗料(2)で上述した水分散性のコロイダルシリカ、
又は、有機溶媒分散性のコロイダルシリカが例示され
る。
または水分散されたコロイダルシリカは、無機塗料
(2)の硬化した塗膜(3)の硬度を高くするものであ
る。上記コロイダルシリカとしては、請求項1に係る無
機塗料(2)で上述した水分散性のコロイダルシリカ、
又は、有機溶媒分散性のコロイダルシリカが例示され
る。
【0035】上記コロイダルシリカはシリカを固形分と
して5〜95重量%の範囲で含有する。この含有量は1
0〜90重量%が好ましく、より好ましくは20〜85
重量%である。上記含有量が5重量%未満であると、無
機塗料(2)の塗膜(3)の硬度が得られず、含有量が
95重量%を超えるとシリカの均一な分散が困難とな
り、ゲル化し易い等の問題が起きやすい。
して5〜95重量%の範囲で含有する。この含有量は1
0〜90重量%が好ましく、より好ましくは20〜85
重量%である。上記含有量が5重量%未満であると、無
機塗料(2)の塗膜(3)の硬度が得られず、含有量が
95重量%を超えるとシリカの均一な分散が困難とな
り、ゲル化し易い等の問題が起きやすい。
【0036】前式〔1〕で表される加水分解性オルガノ
シランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリカ
中で部分加水分解し、オルガノシランのシリカ分散オリ
ゴマー溶液が得られる。加水分解性オルガノシランに対
する水の量は、加水分解性基(X)1モルに対し水0.
001〜0.5モルがよい。水の量が0.001モル未
満であると、十分な部分加水分解が得られず、0.5モ
ルを超えると部分加水分解物の安定性が悪くなる。上記
部分加水分解する方法は特に限定されず、加水分解性オ
ルガノシランとコロイダルシリカとを混合し、所定の水
を添加すればよく、このとき部分加水分解反応は常温で
進行する。なお、上記部分加水分解反応を促進するため
に60〜100℃に加温してもよい。さらに、部分加水
分解反応を促進する目的で、塩酸、酢酸、ハロゲン化シ
ラン、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロ
ン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタル酸、グリコール
酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュ
ウ酸等の有機酸及び無機酸を触媒に用いてよい。
シランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリカ
中で部分加水分解し、オルガノシランのシリカ分散オリ
ゴマー溶液が得られる。加水分解性オルガノシランに対
する水の量は、加水分解性基(X)1モルに対し水0.
001〜0.5モルがよい。水の量が0.001モル未
満であると、十分な部分加水分解が得られず、0.5モ
ルを超えると部分加水分解物の安定性が悪くなる。上記
部分加水分解する方法は特に限定されず、加水分解性オ
ルガノシランとコロイダルシリカとを混合し、所定の水
を添加すればよく、このとき部分加水分解反応は常温で
進行する。なお、上記部分加水分解反応を促進するため
に60〜100℃に加温してもよい。さらに、部分加水
分解反応を促進する目的で、塩酸、酢酸、ハロゲン化シ
ラン、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロ
ン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタル酸、グリコール
酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュ
ウ酸等の有機酸及び無機酸を触媒に用いてよい。
【0037】上記シリカ分散オリゴマー溶液を長期的に
安定して性能を得るには、液のpHを2.0〜7.0、
好ましくはpHを2.5〜6.5、より好ましくはpH
を3.0〜6.0にするとよい。pHがこの範囲を外れ
ると、特に水の量が加水分解性基(X)1モルに対し
0.3モル以上で上記シリカ分散オリゴマー溶液の長期
的な性能低下が著しい。このpHの調整方法は限定しな
いが、液のpHが上記範囲より酸性側に外れる場合、ア
ンモニア、エチレンジアミン等の塩基性試薬を添加して
調整すればよく、pHが塩基性側に外れる場合、塩酸、
硝酸、酢酸等の酸性試薬を添加して調整すればよい。
安定して性能を得るには、液のpHを2.0〜7.0、
好ましくはpHを2.5〜6.5、より好ましくはpH
を3.0〜6.0にするとよい。pHがこの範囲を外れ
ると、特に水の量が加水分解性基(X)1モルに対し
0.3モル以上で上記シリカ分散オリゴマー溶液の長期
的な性能低下が著しい。このpHの調整方法は限定しな
いが、液のpHが上記範囲より酸性側に外れる場合、ア
ンモニア、エチレンジアミン等の塩基性試薬を添加して
調整すればよく、pHが塩基性側に外れる場合、塩酸、
硝酸、酢酸等の酸性試薬を添加して調整すればよい。
【0038】上記無機塗料(2)のシラノール基を含有
するポリオルガノシロキサンは平均組成式が前記〔2〕
式で表される。
するポリオルガノシロキサンは平均組成式が前記〔2〕
式で表される。
【0039】前記〔2〕式中のR4 は炭素数1〜8の置
換もしくは非置換の1価の炭化水素基を示し、具体的に
は上述のR2 と同様の炭化水素基が例示されるが、好ま
しくは、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ビニ
ル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリロキ
シプロピル基、γ−アミノプロピル基、3,3,3-トリフル
オロプロピル基等の置換炭化水素基、より好ましくはメ
チル基、及び、フェニル基である。また、前記〔2〕式
中のa及びbはそれぞれ0.2≦a≦2、0.0001
≦b≦3、a+b<4の関係を満たす数である。aが
0.2未満またはbが3を超えると硬化塗膜(3)にク
ラックを生じる等の不都合があり、また、aが2.0超
え4以下の場合またはbが0.0001未満では硬化が
うまく進行しない。
換もしくは非置換の1価の炭化水素基を示し、具体的に
は上述のR2 と同様の炭化水素基が例示されるが、好ま
しくは、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ビニ
ル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリロキ
シプロピル基、γ−アミノプロピル基、3,3,3-トリフル
オロプロピル基等の置換炭化水素基、より好ましくはメ
チル基、及び、フェニル基である。また、前記〔2〕式
中のa及びbはそれぞれ0.2≦a≦2、0.0001
≦b≦3、a+b<4の関係を満たす数である。aが
0.2未満またはbが3を超えると硬化塗膜(3)にク
ラックを生じる等の不都合があり、また、aが2.0超
え4以下の場合またはbが0.0001未満では硬化が
うまく進行しない。
【0040】上記シラノール基を含有するポリオルガノ
シロキサンは、メチルトリクロロシラン、ジメチルジク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジ
クロロシラン、もしくはこれらに対応するアルコキシシ
ランの1種、もしくは2種以上の混合物を公知の方法に
より大量の水で加水分解することで得ることができる。
上記シラノール基を含有するポリオルガノシロキサンを
得るに、アルコキシシランを用いて加水分解した場合、
加水分解されないアルコキシ基が微量に残る場合があ
る。つまりシラノール基と極微量のアルコキシ基が共存
するようなポリオルガノシロキサンが得られることもあ
るが、このようなポリオルガノシロキサンを用いても差
し支えない。
シロキサンは、メチルトリクロロシラン、ジメチルジク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジ
クロロシラン、もしくはこれらに対応するアルコキシシ
ランの1種、もしくは2種以上の混合物を公知の方法に
より大量の水で加水分解することで得ることができる。
上記シラノール基を含有するポリオルガノシロキサンを
得るに、アルコキシシランを用いて加水分解した場合、
加水分解されないアルコキシ基が微量に残る場合があ
る。つまりシラノール基と極微量のアルコキシ基が共存
するようなポリオルガノシロキサンが得られることもあ
るが、このようなポリオルガノシロキサンを用いても差
し支えない。
【0041】上記触媒は、前述のシリカ分散オリゴマー
溶液とポリオルガノシロキサンとの縮合反応を促進し、
塗膜(3)を硬化させるものである。上記触媒として
は、例えば、アルキルチタン酸塩、オクチル酸錫および
ジプチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジマレート等の
カルボン酸の金属塩、ジブチルアミン−2−ヘキソエー
ト、ジメチルアミンアセテート、エタノールアミンアセ
テート等のアミン塩、酢酸テトラメチルアンモニウム等
のカルボン酸第4級アンモニウム塩、テトラエチルペン
タミン等のアミン類、N−β−アミノエチル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β−アミノエチル
−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミ
ン系シランカップリング剤、p−トルエンスルホン酸、
フタル酸、塩酸等の酸類、アルミニウムアルコキシド、
アルミニウムキレート等のアルミニウム化合物、水酸化
ナトリウム等のアルカリ触媒、テトライソプロピルチタ
ネート、テトラブチルチタネート、チタニウムテトラア
セチルアセトネート等のチタニウム化合物、メチルトリ
クロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルモ
ノクロロシラン等のハロゲン化シラン等が挙げられる。
溶液とポリオルガノシロキサンとの縮合反応を促進し、
塗膜(3)を硬化させるものである。上記触媒として
は、例えば、アルキルチタン酸塩、オクチル酸錫および
ジプチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジマレート等の
カルボン酸の金属塩、ジブチルアミン−2−ヘキソエー
ト、ジメチルアミンアセテート、エタノールアミンアセ
テート等のアミン塩、酢酸テトラメチルアンモニウム等
のカルボン酸第4級アンモニウム塩、テトラエチルペン
タミン等のアミン類、N−β−アミノエチル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β−アミノエチル
−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミ
ン系シランカップリング剤、p−トルエンスルホン酸、
フタル酸、塩酸等の酸類、アルミニウムアルコキシド、
アルミニウムキレート等のアルミニウム化合物、水酸化
ナトリウム等のアルカリ触媒、テトライソプロピルチタ
ネート、テトラブチルチタネート、チタニウムテトラア
セチルアセトネート等のチタニウム化合物、メチルトリ
クロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルモ
ノクロロシラン等のハロゲン化シラン等が挙げられる。
【0042】上記シリカ分散オリゴマー溶液とポリオル
ガノシロキサンとの配合割合は、上記シリカ分散オリゴ
マー溶液を1〜99重量部に対して上記ポリオルガノシ
ロキサンを99〜1重量部であり、好ましくは、上記シ
リカ分散オリゴマー溶液を5〜95重量部に対して上記
ポリオルガノシロキサンを95〜5重量部であり、より
好ましくは、上記シリカ分散オリゴマー溶液を10〜9
0重量部に対して上記ポリオルガノシロキサンを90〜
10重量部である。上記シリカ分散オリゴマー溶液の割
合が上記範囲より少ないと、常温で硬化しにくく、充分
な塗膜(3)の硬度が得られない。上記シリカ分散オリ
ゴマー溶液の割合が上記範囲より多いと硬化性が不安定
となる。
ガノシロキサンとの配合割合は、上記シリカ分散オリゴ
マー溶液を1〜99重量部に対して上記ポリオルガノシ
ロキサンを99〜1重量部であり、好ましくは、上記シ
リカ分散オリゴマー溶液を5〜95重量部に対して上記
ポリオルガノシロキサンを95〜5重量部であり、より
好ましくは、上記シリカ分散オリゴマー溶液を10〜9
0重量部に対して上記ポリオルガノシロキサンを90〜
10重量部である。上記シリカ分散オリゴマー溶液の割
合が上記範囲より少ないと、常温で硬化しにくく、充分
な塗膜(3)の硬度が得られない。上記シリカ分散オリ
ゴマー溶液の割合が上記範囲より多いと硬化性が不安定
となる。
【0043】また、触媒の含有量は、上記シリカ分散オ
リゴマー溶液とポリオルガノシロキサンの合計100重
量部に対し、0.0001〜10重量部が好ましい。よ
り好ましくは0.0005〜8重量部であり、最も好ま
しくは0.0007〜5重量部である。触媒が0.00
01重量部未満であると常温で硬化せず、10重量部を
超えると耐熱性、耐候性が悪くなる。
リゴマー溶液とポリオルガノシロキサンの合計100重
量部に対し、0.0001〜10重量部が好ましい。よ
り好ましくは0.0005〜8重量部であり、最も好ま
しくは0.0007〜5重量部である。触媒が0.00
01重量部未満であると常温で硬化せず、10重量部を
超えると耐熱性、耐候性が悪くなる。
【0044】上記シリカ分散オリゴマーに含有される加
水分解性基と、ポリオルガノシロキサン中のシラノール
基とは、触媒の存在下で、常温もしくは200℃以下の
低温加熱で縮合反応し、塗膜(3)を形成する。従っ
て、上記無機塗料(2)は、湿度の影響をほとんど受け
ずに常温で硬化する。また、上記低温加熱で縮合反応を
促進することができる。
水分解性基と、ポリオルガノシロキサン中のシラノール
基とは、触媒の存在下で、常温もしくは200℃以下の
低温加熱で縮合反応し、塗膜(3)を形成する。従っ
て、上記無機塗料(2)は、湿度の影響をほとんど受け
ずに常温で硬化する。また、上記低温加熱で縮合反応を
促進することができる。
【0045】上記無機塗料(2)は、取扱いの容易さか
ら各種有機溶媒に希釈して使用できる。この有機溶媒の
種類は、上記シリカ分散オリゴマー溶液とポリオルガノ
シロキサン中の1価の炭化水素基の種類や分子量により
適宜選択される。上記有機溶媒としては、上記請求項1
に係る無機塗料(2)で記載したと同様の有機溶媒が例
示される。
ら各種有機溶媒に希釈して使用できる。この有機溶媒の
種類は、上記シリカ分散オリゴマー溶液とポリオルガノ
シロキサン中の1価の炭化水素基の種類や分子量により
適宜選択される。上記有機溶媒としては、上記請求項1
に係る無機塗料(2)で記載したと同様の有機溶媒が例
示される。
【0046】さらに、本発明の抗菌性無機塗料塗装物の
無機塗料(2)には、超微粒子シリカ、超微粒子酸化ア
ルミニウムのうち、少なくとも1種を含有させていても
かまわないものである。
無機塗料(2)には、超微粒子シリカ、超微粒子酸化ア
ルミニウムのうち、少なくとも1種を含有させていても
かまわないものである。
【0047】上記超微粒子シリカの一次粒子の平均径と
しては、3nm〜50nmであって、特に、3nm〜1
2nmであることが好ましいものである。また、超微粒
子酸化アルミニウムの一次粒子の平均径としては、3n
m〜50nmであって、特に、5nm〜20nmである
ことが好ましいものである。この超微粒子シリカと超微
粒子酸化アルミニウムとは、単独で用いられてもかまわ
ないし、併用されてもかまわないものである。
しては、3nm〜50nmであって、特に、3nm〜1
2nmであることが好ましいものである。また、超微粒
子酸化アルミニウムの一次粒子の平均径としては、3n
m〜50nmであって、特に、5nm〜20nmである
ことが好ましいものである。この超微粒子シリカと超微
粒子酸化アルミニウムとは、単独で用いられてもかまわ
ないし、併用されてもかまわないものである。
【0048】この超微粒子シリカ、超微粒子酸化アルミ
ニウムのうち、少なくとも1種を含有させることで、無
機塗料(2)の中では、大きな粒子である抗菌剤(4)
の回りに吸着されて、この吸着状態によって、粘度の高
い鎖状の形状を呈するものである。そして、抗菌剤
(4)どうしの凝集が防がれ、粘度の高い鎖状の形状に
よって、抗菌剤(4)は沈降を防止させられるものであ
る。すなわち、安定なマトリックスとなり、無機塗料
(2)中、および、塗膜(3)塗装の際に、抗菌剤
(4)は沈降を抑えられ、抗菌剤(4)の表面暴露率が
上昇して、耐候性、塗膜(3)の透明性をそこなうこと
なく、高い抗菌作用を有する塗膜(3)を形成すること
ができる。
ニウムのうち、少なくとも1種を含有させることで、無
機塗料(2)の中では、大きな粒子である抗菌剤(4)
の回りに吸着されて、この吸着状態によって、粘度の高
い鎖状の形状を呈するものである。そして、抗菌剤
(4)どうしの凝集が防がれ、粘度の高い鎖状の形状に
よって、抗菌剤(4)は沈降を防止させられるものであ
る。すなわち、安定なマトリックスとなり、無機塗料
(2)中、および、塗膜(3)塗装の際に、抗菌剤
(4)は沈降を抑えられ、抗菌剤(4)の表面暴露率が
上昇して、耐候性、塗膜(3)の透明性をそこなうこと
なく、高い抗菌作用を有する塗膜(3)を形成すること
ができる。
【0049】超微粒子シリカ、超微粒子酸化アルミニウ
ムのいずれも、上記一次粒子の平均径が3nm未満の場
合であると、超微粒子酸化物の凝集が激しくなり、作成
される塗膜(3)に不透明さが発生するようになり良く
ない。一方、超微粒子シリカ、超微粒子酸化アルミニウ
ムのいずれも、上記一次粒子の平均径が50nmを超え
る場合であると、粒子の存在による濁りにより、作成さ
れる塗膜(3)にこの場合も不透明さが発生するように
なり良くない。
ムのいずれも、上記一次粒子の平均径が3nm未満の場
合であると、超微粒子酸化物の凝集が激しくなり、作成
される塗膜(3)に不透明さが発生するようになり良く
ない。一方、超微粒子シリカ、超微粒子酸化アルミニウ
ムのいずれも、上記一次粒子の平均径が50nmを超え
る場合であると、粒子の存在による濁りにより、作成さ
れる塗膜(3)にこの場合も不透明さが発生するように
なり良くない。
【0050】なお、超微粒子シリカと超微粒子酸化アル
ミニウムとは、単独、または、併用されるが、超微粒子
酸化物として、最終調製液全量に対して、5wt%以
上、好ましくは、10wt%以上配合する必要がある。
そして、超微粒子酸化物は、その製造方法や表面処理方
法について、特に限定されるものではない。
ミニウムとは、単独、または、併用されるが、超微粒子
酸化物として、最終調製液全量に対して、5wt%以
上、好ましくは、10wt%以上配合する必要がある。
そして、超微粒子酸化物は、その製造方法や表面処理方
法について、特に限定されるものではない。
【0051】また、超微粒子シリカと超微粒子酸化アル
ミニウムは、いずれも粉末の状態であってもよいし、溶
媒に分散された状態であってもよく、特に限定されるも
のではない。超微粒子シリカと超微粒子酸化アルミニウ
ムの添加方法としては、抗菌性無機塗料と混合の後、デ
ィゾルバー、ビーズミル、ロールミル、ボールミルなど
の各種の分散機を用いることができるものである。
ミニウムは、いずれも粉末の状態であってもよいし、溶
媒に分散された状態であってもよく、特に限定されるも
のではない。超微粒子シリカと超微粒子酸化アルミニウ
ムの添加方法としては、抗菌性無機塗料と混合の後、デ
ィゾルバー、ビーズミル、ロールミル、ボールミルなど
の各種の分散機を用いることができるものである。
【0052】次に、本発明の抗菌性無機塗料塗装物およ
びその製造方法に含有する抗菌剤(4)について説明す
る。
びその製造方法に含有する抗菌剤(4)について説明す
る。
【0053】上記抗菌剤(4)として、溶出型の抗菌性
能を有する成分を含有するもの、及び、光触媒機能を有
する成分を含有するもの等、各種の抗菌剤(4)が適宜
選択される。上記抗菌剤(4)に含有する溶出型の抗菌
性能を有する成分としては、例えば、銀、銅、亜鉛、ニ
ッケル、パラジウム、白金、金、カドミウム、水銀、コ
バルト、ロジウム等が挙げられる。さらに、抗菌剤
(4)として、例えば、第4級アンモニウム塩、有機ハ
ロゲン含有化合物、塩素含有化合物、ヨード化合物等が
挙げられる。上記無機塗料(2)中に、これらの単独、
または、2種以上を含有する。また、上記成分がゼオラ
イトや活性アルミナ、シリカゲル等の多孔体に分散し、
担持された状態のものでも、無機塗料(2)の機能、耐
候性を損なわないものであればよい。
能を有する成分を含有するもの、及び、光触媒機能を有
する成分を含有するもの等、各種の抗菌剤(4)が適宜
選択される。上記抗菌剤(4)に含有する溶出型の抗菌
性能を有する成分としては、例えば、銀、銅、亜鉛、ニ
ッケル、パラジウム、白金、金、カドミウム、水銀、コ
バルト、ロジウム等が挙げられる。さらに、抗菌剤
(4)として、例えば、第4級アンモニウム塩、有機ハ
ロゲン含有化合物、塩素含有化合物、ヨード化合物等が
挙げられる。上記無機塗料(2)中に、これらの単独、
または、2種以上を含有する。また、上記成分がゼオラ
イトや活性アルミナ、シリカゲル等の多孔体に分散し、
担持された状態のものでも、無機塗料(2)の機能、耐
候性を損なわないものであればよい。
【0054】上記抗菌剤(4)に含有する光触媒機能を
有する成分としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化タングステ
ン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸
化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化カドミウム、酸化銅、酸
化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マンガ
ン、酸化コバルト、酸化ロジウム、酸化レニウム、及
び、これらの単独、または、2種以上の混合物が挙げら
れる。上記光触媒機能を有する成分は、無機塗料(2)
の機能、耐候性を損なわない範囲で無機塗料(2)中に
混入させる。
有する成分としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化タングステ
ン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸
化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化カドミウム、酸化銅、酸
化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マンガ
ン、酸化コバルト、酸化ロジウム、酸化レニウム、及
び、これらの単独、または、2種以上の混合物が挙げら
れる。上記光触媒機能を有する成分は、無機塗料(2)
の機能、耐候性を損なわない範囲で無機塗料(2)中に
混入させる。
【0055】さらに、本発明の抗菌性無機塗料塗装物
は、抗菌剤(4)を上記光触媒機能を有する成分に金属
を担持した状態で含有してもよい。上記金属としては、
例えば、銀、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、白金、金、パラ
ジウム、カドミウム、コバルト、ロジウム、ルテニウム
の単独、又は、2種以上の混合物が挙げられる。光触媒
機能を有する成分に金属を担持した場合、電荷分離が推
進され、光触媒の触媒が活性化されるため、抗菌性が向
上し好ましい。担持した金属が抗菌性を有するものであ
れば、より抗菌性が向上し好ましい。さらに、本発明の
抗菌性無機塗料塗装物は、抗菌剤(4)として、光触媒
機能を有する酸化物を層間に挿入した粘土鉱物を含有し
てもよい。上記粘土鉱物は、膨潤性を有するスメクトイ
ト型鉱物が適する。上記スメクトイト型鉱物は天然また
は合成のどちらでもよい。上記粘土鉱物に挿入される酸
化物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化
ジルコニウム、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モ
リブデン、酸化ルテニウム、酸化ゲルマニウム、酸化
鉛、酸化カドミウム、酸化銅、酸化バナジウム、酸化ニ
オブ、酸化タンタル、酸化マンガン、酸化コバルト、酸
化ロジウム、酸化レニウム等の1種以上が挙げられる。
粘土鉱物の層間に酸化物を挿入すると、酸化物は微粒子
に保持され、高い光触媒活性を示し、抗菌性が向上す
る。さらに、層間に挿入した光触媒機能を有する酸化物
に金属を担持してもよい。上記金属としては、例えば、
銀、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、白金、金、パラジウム、
カドミウム、コバルト、ロジウム、ルテニウムの単独、
又は、2種以上の混合物が挙げられる。光触媒機能を有
する酸化物に金属を担持した場合、電荷分離が推進さ
れ、光触媒の触媒が活性化されるため、抗菌性が向上し
好ましい。担持した金属が抗菌性を有するものであれ
ば、より抗菌性が向上し好ましい。
は、抗菌剤(4)を上記光触媒機能を有する成分に金属
を担持した状態で含有してもよい。上記金属としては、
例えば、銀、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、白金、金、パラ
ジウム、カドミウム、コバルト、ロジウム、ルテニウム
の単独、又は、2種以上の混合物が挙げられる。光触媒
機能を有する成分に金属を担持した場合、電荷分離が推
進され、光触媒の触媒が活性化されるため、抗菌性が向
上し好ましい。担持した金属が抗菌性を有するものであ
れば、より抗菌性が向上し好ましい。さらに、本発明の
抗菌性無機塗料塗装物は、抗菌剤(4)として、光触媒
機能を有する酸化物を層間に挿入した粘土鉱物を含有し
てもよい。上記粘土鉱物は、膨潤性を有するスメクトイ
ト型鉱物が適する。上記スメクトイト型鉱物は天然また
は合成のどちらでもよい。上記粘土鉱物に挿入される酸
化物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化
ジルコニウム、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モ
リブデン、酸化ルテニウム、酸化ゲルマニウム、酸化
鉛、酸化カドミウム、酸化銅、酸化バナジウム、酸化ニ
オブ、酸化タンタル、酸化マンガン、酸化コバルト、酸
化ロジウム、酸化レニウム等の1種以上が挙げられる。
粘土鉱物の層間に酸化物を挿入すると、酸化物は微粒子
に保持され、高い光触媒活性を示し、抗菌性が向上す
る。さらに、層間に挿入した光触媒機能を有する酸化物
に金属を担持してもよい。上記金属としては、例えば、
銀、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、白金、金、パラジウム、
カドミウム、コバルト、ロジウム、ルテニウムの単独、
又は、2種以上の混合物が挙げられる。光触媒機能を有
する酸化物に金属を担持した場合、電荷分離が推進さ
れ、光触媒の触媒が活性化されるため、抗菌性が向上し
好ましい。担持した金属が抗菌性を有するものであれ
ば、より抗菌性が向上し好ましい。
【0056】抗菌性の無機塗料(2)を作製する場合、
上記光触媒機能を有する成分、及び、酸化物を含有した
抗菌剤(4)は、光触媒機能を有する成分、及び、酸化
物を溶媒に分散した状態や粉末の状態で用いられる。上
記粉末は、加熱乾燥、凍結乾燥、超臨界乾燥等の乾燥に
よって、得られる。
上記光触媒機能を有する成分、及び、酸化物を含有した
抗菌剤(4)は、光触媒機能を有する成分、及び、酸化
物を溶媒に分散した状態や粉末の状態で用いられる。上
記粉末は、加熱乾燥、凍結乾燥、超臨界乾燥等の乾燥に
よって、得られる。
【0057】本発明の抗菌性無機塗料塗装物の製造方法
は、基体(1)の表面に無機塗料(2)に、抗菌剤
(4)を含有させて塗膜(3)を形成する抗菌性無機塗
料塗装物の製造方法において、上記無機塗料(2)を上
記基体(1)の表面に塗布してから、同無機塗料(2)
が半硬化状態であるうちに、上記抗菌剤(4)を塗布し
て、完全硬化させると、上記塗膜(3)の表面に同抗菌
剤(4)が暴露するものである。
は、基体(1)の表面に無機塗料(2)に、抗菌剤
(4)を含有させて塗膜(3)を形成する抗菌性無機塗
料塗装物の製造方法において、上記無機塗料(2)を上
記基体(1)の表面に塗布してから、同無機塗料(2)
が半硬化状態であるうちに、上記抗菌剤(4)を塗布し
て、完全硬化させると、上記塗膜(3)の表面に同抗菌
剤(4)が暴露するものである。
【0058】無機塗料(2)の塗布方法は、刷毛塗り、
スプレー塗り、浸漬、カーテン、ナイフコート等各種塗
布方法が採用できる。塗布に際しては、有機溶媒で必要
に応じて、適宜希釈すればよいものである。
スプレー塗り、浸漬、カーテン、ナイフコート等各種塗
布方法が採用できる。塗布に際しては、有機溶媒で必要
に応じて、適宜希釈すればよいものである。
【0059】抗菌剤(4)の塗布方法は、刷毛塗り、ス
プレー塗り、浸漬、カーテン、ナイフコート等各種塗布
方法が採用できる他、いわゆる散布による方法もとるこ
とができる。塗布に際しては、有機溶媒で必要に応じ
て、適宜希釈すればよいものである。
プレー塗り、浸漬、カーテン、ナイフコート等各種塗布
方法が採用できる他、いわゆる散布による方法もとるこ
とができる。塗布に際しては、有機溶媒で必要に応じ
て、適宜希釈すればよいものである。
【0060】また、無機塗料(2)を塗布した塗膜
(3)の処理方法として、無機塗料(2)を基体(1)
の表面に塗布してから、同無機塗料(2)が半硬化状態
前に、上記抗菌剤(4)を塗布すると、この抗菌剤
(4)が塗膜(3)の内に沈んでしまい、抗菌剤(4)
の暴露率が著しく下がるものである。その結果、抗菌効
果はあるものの、その抗菌性能は、著しく下がるもので
ある。一方、無機塗料(2)を基体(1)の表面に塗布
してから、同無機塗料(2)が半硬化状態を過ぎた後
で、上記抗菌剤(4)を塗布すると、塗膜(3)のリフ
ティング減少により、正常な塗膜(3)にならないか、
または、抗菌剤(4)の暴露率が著しく上がり、密着不
良を引き起こす恐れがある。
(3)の処理方法として、無機塗料(2)を基体(1)
の表面に塗布してから、同無機塗料(2)が半硬化状態
前に、上記抗菌剤(4)を塗布すると、この抗菌剤
(4)が塗膜(3)の内に沈んでしまい、抗菌剤(4)
の暴露率が著しく下がるものである。その結果、抗菌効
果はあるものの、その抗菌性能は、著しく下がるもので
ある。一方、無機塗料(2)を基体(1)の表面に塗布
してから、同無機塗料(2)が半硬化状態を過ぎた後
で、上記抗菌剤(4)を塗布すると、塗膜(3)のリフ
ティング減少により、正常な塗膜(3)にならないか、
または、抗菌剤(4)の暴露率が著しく上がり、密着不
良を引き起こす恐れがある。
【0061】
【実施例】次に、本発明の実施例、及び、比較例を挙げ
る。なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー(GPC)により、測定機種HLC8020(東
ソー株式会社製)を用いて測定し、標準ポリスチレンの
検量線から求めた値である。
る。なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー(GPC)により、測定機種HLC8020(東
ソー株式会社製)を用いて測定し、標準ポリスチレンの
検量線から求めた値である。
【0062】先ず、シリカ分散オリゴマー溶液として
(A−1液)、(A−2液)を調製し、ポリオルガノシ
ロキサンとして(B−1液)、(B−2液)を調製し
た。
(A−1液)、(A−2液)を調製し、ポリオルガノシ
ロキサンとして(B−1液)、(B−2液)を調製し
た。
【0063】(A−1液)攪拌機、加温ジャケット、コ
ンデンサー、及び温度計を取り付けたフラスコ中にメタ
ノール分散コロイダルシリカゾルMT−ST(粒子径1
0〜20mμ、固形分30%、水0.5%、日産化学工
業株式会社製)を100部、メチルトリメトキシシラン
を68部、水を10.8部投入し、攪拌しながら65℃
で5時間かけて部分加水分解し、冷却した。その後、室
温で48時間放置したときの固形分は36%であった。
以下、このシリカ分散オリゴマー溶液を(A−1液)と
称す。
ンデンサー、及び温度計を取り付けたフラスコ中にメタ
ノール分散コロイダルシリカゾルMT−ST(粒子径1
0〜20mμ、固形分30%、水0.5%、日産化学工
業株式会社製)を100部、メチルトリメトキシシラン
を68部、水を10.8部投入し、攪拌しながら65℃
で5時間かけて部分加水分解し、冷却した。その後、室
温で48時間放置したときの固形分は36%であった。
以下、このシリカ分散オリゴマー溶液を(A−1液)と
称す。
【0064】なお、加水分解性基1モルに対する水のモ
ル数は0.4モルであり、(A−1液)中のシリカ分の
含有量は47.3%であり、n=1の加水分解性基含有
オルガノシランのモル%は100モル%であった。
ル数は0.4モルであり、(A−1液)中のシリカ分の
含有量は47.3%であり、n=1の加水分解性基含有
オルガノシランのモル%は100モル%であった。
【0065】(A−2液)攪拌機、加温ジャケット、コ
ンデンサー、及び温度計を取り付けたフラスコ中にメタ
ノール分散コロイダルシリカゾルMT−ST(粒子径1
0〜20mμ、固形分30%、水0.5%、日産化学工
業株式会社製)を100部、メチルトリメトキシシラン
を68部、ジメチルジメトキシシランを18部、水を
2.7部、無水酢酸を0.1部投入し、攪拌しながら8
0℃で3時間かけて部分加水分解し、冷却した。その
後、室温で48時間放置したときの固形分は36%であ
った。以下、このシリカ分散オリゴマー溶液を(A−2
液)と称す。
ンデンサー、及び温度計を取り付けたフラスコ中にメタ
ノール分散コロイダルシリカゾルMT−ST(粒子径1
0〜20mμ、固形分30%、水0.5%、日産化学工
業株式会社製)を100部、メチルトリメトキシシラン
を68部、ジメチルジメトキシシランを18部、水を
2.7部、無水酢酸を0.1部投入し、攪拌しながら8
0℃で3時間かけて部分加水分解し、冷却した。その
後、室温で48時間放置したときの固形分は36%であ
った。以下、このシリカ分散オリゴマー溶液を(A−2
液)と称す。
【0066】なお、加水分解性基1モルに対する水のモ
ル数は0.1モルであり、(A−2液)中のシリカ分の
含有量は40.2%であり、n=1の加水分解性基含有
オルガノシランのモル%は77モル%であった。
ル数は0.1モルであり、(A−2液)中のシリカ分の
含有量は40.2%であり、n=1の加水分解性基含有
オルガノシランのモル%は77モル%であった。
【0067】(B−1液)メチルトリイソプロポキシシ
ラン220部(1モル)とトルエン160部との混合液
を作製した。次に、攪拌機、加温ジャケット、コンデン
サー、滴下ロート及び温度計を取り付けたフラスコに上
記混合液を入れ、この中に1%の塩酸水溶液108部を
20分かけ滴下し、メチルトリイソプロポキシシランを
加水分解した。滴下40分後に攪拌を止め、静置すると
二層に分離した。この層のうち、少量の塩酸を含んだ下
層の水・イソプロピルアルコールの混合液を分液除去
し、次に残ったトルエンの樹脂溶液から塩酸を水洗除去
し、さらにトルエンを減圧除去した後、残留分をイソプ
ロピルアルコールで希釈することにより、平均分子量約
2000のシラノール基を含有ポリオルガノシロキサン
のイソプロピルアルコール40%の溶液を得た。以下、
この溶液を(B−1液)と称す。
ラン220部(1モル)とトルエン160部との混合液
を作製した。次に、攪拌機、加温ジャケット、コンデン
サー、滴下ロート及び温度計を取り付けたフラスコに上
記混合液を入れ、この中に1%の塩酸水溶液108部を
20分かけ滴下し、メチルトリイソプロポキシシランを
加水分解した。滴下40分後に攪拌を止め、静置すると
二層に分離した。この層のうち、少量の塩酸を含んだ下
層の水・イソプロピルアルコールの混合液を分液除去
し、次に残ったトルエンの樹脂溶液から塩酸を水洗除去
し、さらにトルエンを減圧除去した後、残留分をイソプ
ロピルアルコールで希釈することにより、平均分子量約
2000のシラノール基を含有ポリオルガノシロキサン
のイソプロピルアルコール40%の溶液を得た。以下、
この溶液を(B−1液)と称す。
【0068】(B−2液)攪拌機、加温ジャケット、コ
ンデンサー、滴下ロート及び温度計を取り付けたフラス
コに水1000部、アセトン50部を入れ、この中にメ
チルトリクロロシラン44.8部(0.3モル)、ジメ
チルジクロロシラン38.7部(0.3モル)、フェニ
ルトリクロロシラン84.6部(0.4モル)をトルエ
ン200部に溶解したものを、攪拌下に滴下し、加水分
解した。滴下40分後に攪拌を止め、反応液を分液ロー
トに移し入れ静置すると二層に分離した。この層のう
ち、下層の塩酸水を分液除去し、次に残ったポリオルガ
ノシロキサンのトルエン溶液を減圧ストリッピングによ
り残存していた水、及び塩酸をトルエンと共に除去する
ことにより、平均分子量約3000のシラノール基を含
有ポリオルガノシロキサンのトルエン60%の溶液を得
た。以下、この溶液を(B−2液)と称す。
ンデンサー、滴下ロート及び温度計を取り付けたフラス
コに水1000部、アセトン50部を入れ、この中にメ
チルトリクロロシラン44.8部(0.3モル)、ジメ
チルジクロロシラン38.7部(0.3モル)、フェニ
ルトリクロロシラン84.6部(0.4モル)をトルエ
ン200部に溶解したものを、攪拌下に滴下し、加水分
解した。滴下40分後に攪拌を止め、反応液を分液ロー
トに移し入れ静置すると二層に分離した。この層のう
ち、下層の塩酸水を分液除去し、次に残ったポリオルガ
ノシロキサンのトルエン溶液を減圧ストリッピングによ
り残存していた水、及び塩酸をトルエンと共に除去する
ことにより、平均分子量約3000のシラノール基を含
有ポリオルガノシロキサンのトルエン60%の溶液を得
た。以下、この溶液を(B−2液)と称す。
【0069】次に、抗菌剤(4)の溶剤分散品の調製例
を示す。 (C−1液)光触媒機能を有する抗菌剤(4)として微
粒子酸化チタン(日本アエロジル株式会社製:商品名P
−25)を40部、メチルアルコールを100部、ガラ
スビーズを100部添加し、簡易密閉式のガラス瓶に入
れて、ペイントシェーカーにより1時間分散の後、ガラ
スビーズを濾過した。
を示す。 (C−1液)光触媒機能を有する抗菌剤(4)として微
粒子酸化チタン(日本アエロジル株式会社製:商品名P
−25)を40部、メチルアルコールを100部、ガラ
スビーズを100部添加し、簡易密閉式のガラス瓶に入
れて、ペイントシェーカーにより1時間分散の後、ガラ
スビーズを濾過した。
【0070】(C−2液)溶出型の抗菌性能を有する抗
菌剤(4)として銀溶出型抗菌剤(近畿パルプ技研株式
会社製:商品名バイオシュア)を20部、メチルアルコ
ールを100部、沈降防止フィラーとして超微粒子シリ
カ(日本アエロジル株式会社製:商品名AEROSIL
380)を15部、ガラスビーズを100部添加し、簡
易密閉式のガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーによ
り1時間分散の後、ガラスビーズを濾過した。
菌剤(4)として銀溶出型抗菌剤(近畿パルプ技研株式
会社製:商品名バイオシュア)を20部、メチルアルコ
ールを100部、沈降防止フィラーとして超微粒子シリ
カ(日本アエロジル株式会社製:商品名AEROSIL
380)を15部、ガラスビーズを100部添加し、簡
易密閉式のガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーによ
り1時間分散の後、ガラスビーズを濾過した。
【0071】(C−3液)光触媒機能を有する抗菌剤
(4)として微粒子酸化チタン(日本アエロジル株式会
社製:商品名P−25)を30部、メチルアルコールを
100部、沈降防止フィラーとして微粒子酸化アルミニ
ウム(日本アエロジル株式会社製:商品名アルミナC)
を10部、ガラスビーズを100部添加し、簡易密閉式
のガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーにより1時間
分散の後、ガラスビーズを濾過した。
(4)として微粒子酸化チタン(日本アエロジル株式会
社製:商品名P−25)を30部、メチルアルコールを
100部、沈降防止フィラーとして微粒子酸化アルミニ
ウム(日本アエロジル株式会社製:商品名アルミナC)
を10部、ガラスビーズを100部添加し、簡易密閉式
のガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーにより1時間
分散の後、ガラスビーズを濾過した。
【0072】実施例1 調製したA−1液を100部、B−2液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0073】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で3分間セッティングの後、C−1液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で3分間セッティングの後、C−1液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
【0074】実施例2 調製したA−1液を100部、B−2液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0075】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で4分間セッティングの後、C−2液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で4分間セッティングの後、C−2液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
【0076】実施例3 調製したA−2液を100部、B−1液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0077】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で2分間セッティングの後、C−1液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で2分間セッティングの後、C−1液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
【0078】実施例4 調製したA−2液を100部、B−1液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0079】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で2分間セッティングの後、C−2液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で2分間セッティングの後、C−2液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
【0080】実施例5 調製したA−2液を100部、B−1液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0081】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で3分間セッティングの後、C−3液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で3分間セッティングの後、C−3液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
【0082】比較例1 調製したA−1液を100部に、抗菌剤(4)として銀
溶出型抗菌剤(近畿パルプ技研株式会社製:商品名バイ
オシュア)を20部、B−2液を100部、触媒として
N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチルジメ
トキシシランを4部、ガラスビーズを200部添加し、
簡易密閉式のガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーに
より1時間分散の後、ガラスビーズを濾過して、抗菌性
無機塗料(2)を得た。
溶出型抗菌剤(近畿パルプ技研株式会社製:商品名バイ
オシュア)を20部、B−2液を100部、触媒として
N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチルジメ
トキシシランを4部、ガラスビーズを200部添加し、
簡易密閉式のガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーに
より1時間分散の後、ガラスビーズを濾過して、抗菌性
無機塗料(2)を得た。
【0083】得た抗菌性無機塗料(2)を、アセトンで
洗浄したアルミナ基板に塗布し、温度150℃で1時間
乾燥した。硬化後の塗膜(3)の膜厚は10μmであっ
た。
洗浄したアルミナ基板に塗布し、温度150℃で1時間
乾燥した。硬化後の塗膜(3)の膜厚は10μmであっ
た。
【0084】比較例2 調製したA−2液を100部、B−1液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0085】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で1分間セッティングの後、C−3液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で1分間セッティングの後、C−3液を塗布し
た。この後、120℃で焼き付け、表面に固定化されて
いない抗菌剤(4)を、洗浄なブラシで除去し、抗菌性
無機塗料塗装物とした。硬化後の塗膜(3)の膜厚は1
0μmであった。
【0086】比較例3 調製したA−2液を100部、B−1液を100部、触
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
媒としてN−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランを4部混合して、ケイ素アルコキ
シドコーティング材を得た。
【0087】得た無機塗料(2)を、アセトンで洗浄し
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で10分間セッティングの後、C−1液を塗布
した。この後、120℃で焼き付けを行ったが、塗膜
(3)がリフティングして、密着不良を引き起こした。
たアルミナ基板に塗布し、室温(温度20℃、湿度65
%RH)で10分間セッティングの後、C−1液を塗布
した。この後、120℃で焼き付けを行ったが、塗膜
(3)がリフティングして、密着不良を引き起こした。
【0088】上記実施例1〜5、及び比較例1〜2のア
ルミナ基板に塗布した塗膜(3)の抗菌性の評価を行っ
た。評価はドロップ法により、菌が一定数存在する溶液
を塗膜(3)付きアルミナ基板に滴下し、初期と6時間
後の菌の数の変化を測定した。菌は、大腸菌を用い、測
定は3500ルクスの照度下で行った。結果は、表1に
示すとおりである。なお、表1に示す<10は、菌の数
が「10より少ない。」を表しているものである。そし
て、比較例3については、上述のとおり、密着不良を引
き起こしたので、塗膜(3)の抗菌性の評価を行うに至
らなかったものである。
ルミナ基板に塗布した塗膜(3)の抗菌性の評価を行っ
た。評価はドロップ法により、菌が一定数存在する溶液
を塗膜(3)付きアルミナ基板に滴下し、初期と6時間
後の菌の数の変化を測定した。菌は、大腸菌を用い、測
定は3500ルクスの照度下で行った。結果は、表1に
示すとおりである。なお、表1に示す<10は、菌の数
が「10より少ない。」を表しているものである。そし
て、比較例3については、上述のとおり、密着不良を引
き起こしたので、塗膜(3)の抗菌性の評価を行うに至
らなかったものである。
【0089】この結果から、実施例はいずれも抗菌効果
が良好であった。また、実施例の抗菌性無機塗料はいず
れも、塗布後200℃以下の温度で焼き付けでき、塗膜
(3)にクラックは発生しないものであった。
が良好であった。また、実施例の抗菌性無機塗料はいず
れも、塗布後200℃以下の温度で焼き付けでき、塗膜
(3)にクラックは発生しないものであった。
【0090】
【表1】
【0091】
【発明の効果】本発明の抗菌性無機塗料塗装物およびそ
の製造方法は、長期間高い抗菌性能を持続し、200℃
以下の温度で焼き付けでき、且つ、柔軟性を有するため
塗膜にクラックが生じない。しかも、焼き付け後の後処
理も不要となり、透明なものである。
の製造方法は、長期間高い抗菌性能を持続し、200℃
以下の温度で焼き付けでき、且つ、柔軟性を有するため
塗膜にクラックが生じない。しかも、焼き付け後の後処
理も不要となり、透明なものである。
【0092】さらに、本発明の請求項5または請求項6
記載の抗菌性無機塗料塗装物は、抗菌剤に光触媒機能を
有する成分を含有するので、無機塗料の酸素透過性が抗
菌性を高めるため、より一層高い抗菌性能を有するよう
になる。
記載の抗菌性無機塗料塗装物は、抗菌剤に光触媒機能を
有する成分を含有するので、無機塗料の酸素透過性が抗
菌性を高めるため、より一層高い抗菌性能を有するよう
になる。
【図1】本発明の一実施形態に係る抗菌性無機塗料塗装
物の概略を示す断面図である。
物の概略を示す断面図である。
1 基体 2 無機塗料 3 塗膜 4 抗菌剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 183/04 PMT C09D 183/04 PMT
Claims (8)
- 【請求項1】 基体の表面に下記組成からなる無機塗料
に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成してなる抗菌性無機
塗料塗装物において、上記塗膜の表面に上記抗菌剤が暴
露してなることを特徴とする抗菌性無機塗料塗装物。上
記無機塗料は、(イ)一般式:Si(OR1 )4 で表さ
れるケイ素化合物、および/または、コロイド状シリカ
を20〜200重量部、(ロ)一般式:R2 Si(OR
1 )3 で表されるケイ素化合物を100重量部、およ
び、(ハ)一般式:R2 2Si(OR1 )2 で表されるケ
イ素化合物を0〜60重量部の割合で含有し、且つ、
(ニ)これらを含有した無機塗料の重量平均分子量がポ
リスチレン換算で900以上である。〔上記R1 、R2
は1価の炭化水素基を示す。〕 - 【請求項2】 基体の表面に下記組成からなる無機塗料
に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成してなる抗菌性無機
塗料塗装物において、上記塗膜の表面に上記抗菌剤が暴
露してなることを特徴とする抗菌性無機塗料塗装物。上
記無機塗料は、 (イ)一般式が下式〔1〕で表される加水分解性オルガ
ノシランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリ
カ中で、X1モルに対し水0.001〜0.5モルを使
用する条件下で部分加水分解したオルガノシランのシリ
カ分散オリゴマー溶液と、 R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕 (ロ)平均組成式が下式〔2〕で表される分子中にシラ
ノール基を含有するポリオルガノシロキサン、及び、 R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕 (ハ)触媒とからなり、さらに、 (ニ)上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダルシリ
カはシリカを固形分として5〜95重量%含有し、加水
分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、前記
〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、 (ホ)上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部
に対して、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量
部で含有する。 - 【請求項3】 上記抗菌剤として、溶出型の抗菌性能を
有する成分を含有することを特徴とする請求項1又は請
求項2記載の抗菌性無機塗料塗装物。 - 【請求項4】 請求項3の溶出型の抗菌性能を有する成
分が、銀、銅、亜鉛、ニッケル、パラジウム、白金、
金、カドミウム、水銀、コバルト、ロジウムからなる群
より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請
求項3記載の抗菌性無機塗料塗装物。 - 【請求項5】 上記抗菌剤として、光触媒機能を有する
成分を含有することを特徴とする請求項1乃至請求項4
いずれか記載の抗菌性無機塗料塗装物。 - 【請求項6】 請求項5の光触媒機能を有する成分が、
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニ
ウム、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデ
ン、酸化ルテニウム、酸化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化
カドミウム、酸化銅、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸
化タンタル、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化ロジウ
ム、酸化レニウムからなる群より選ばれる少なくとも1
種であることを特徴とする請求項5記載の抗菌性無機塗
料塗装物。 - 【請求項7】 基体の表面に下記組成からなる無機塗料
に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成する抗菌性無機塗料
塗装物の製造方法において、上記無機塗料を上記基体の
表面に塗布してから、同無機塗料が半硬化状態であるう
ちに、上記抗菌剤を塗布して、完全硬化させると、上記
塗膜の表面に同抗菌剤が暴露することを特徴とする抗菌
性無機塗料塗装物の製造方法。上記無機塗料は、(イ)
一般式:Si(OR1 )4 で表されるケイ素化合物、お
よび/または、コロイド状シリカを20〜200重量
部、(ロ)一般式:R2 Si(OR1 )3 で表されるケ
イ素化合物を100重量部、および、(ハ)一般式:R
2 2Si(OR1 )2 で表されるケイ素化合物を0〜60
重量部の割合で含有し、且つ、(ニ)これらを含有した
無機塗料の重量平均分子量がポリスチレン換算で900
以上である。〔上記R1 、R2 は1価の炭化水素基を示
す。〕 - 【請求項8】 基体の表面に下記組成からなる無機塗料
に、抗菌剤を含有させて塗膜を形成する抗菌性無機塗料
塗装物の製造方法において、上記無機塗料を上記基体の
表面に塗布してから、同無機塗料が半硬化状態であるう
ちに、上記抗菌剤を塗布して、完全硬化させると、上記
塗膜の表面に同抗菌剤が暴露することを特徴とする抗菌
性無機塗料塗装物の製造方法。上記無機塗料は、 (イ)一般式が下式〔1〕で表される加水分解性オルガ
ノシランを有機溶媒または水分散されたコロイダルシリ
カ中で、X1モルに対し水0.001〜0.5モルを使
用する条件下で部分加水分解したオルガノシランのシリ
カ分散オリゴマー溶液と、 R3 n SiX4-n 〔1〕 〔式中、R3 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、nは0〜3の
整数、Xは加水分解性基を示す。〕 (ロ)平均組成式が下式〔2〕で表される分子中にシラ
ノール基を含有するポリオルガノシロキサン、及び、 R4 a Si(OH)b O(4-a-b)/2 〔2〕 〔式中、R4 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数1〜8の1価の炭化水素基を示し、aおよびbは
それぞれ0.2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+
b<4の関係を満たす数である。〕 (ハ)触媒とからなり、さらに、 (ニ)上記シリカ分散オリゴマー溶液のコロイダルシリ
カはシリカを固形分として5〜95重量%含有し、加水
分解性オルガノシランの少なくとも50モル%が、前記
〔1〕式のnが1のオルガノシランであり、且つ、 (ホ)上記シリカ分散オリゴマー溶液を1〜99重量部
に対して、上記ポリオルガノシロキサンを99〜1重量
部で含有する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17567595A JPH0924335A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17567595A JPH0924335A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0924335A true JPH0924335A (ja) | 1997-01-28 |
Family
ID=16000277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17567595A Withdrawn JPH0924335A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0924335A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998003607A1 (en) * | 1996-07-19 | 1998-01-29 | Toto Ltd. | Photocatalytic hydrophilic coating composition |
| JPH11319709A (ja) * | 1998-05-15 | 1999-11-24 | Mitsubishi Materials Corp | 有機系基材への光触媒膜の形成方法とその用途 |
| US6165256A (en) * | 1996-07-19 | 2000-12-26 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifiable coating composition |
| JP2001040287A (ja) * | 1999-07-28 | 2001-02-13 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 抗菌性塗膜および塗膜付基材 |
| JP2001270025A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 無機質塗装板とその製造方法 |
| US6337129B1 (en) | 1997-06-02 | 2002-01-08 | Toto Ltd. | Antifouling member and antifouling coating composition |
| JPWO2005081065A1 (ja) * | 2004-02-20 | 2007-10-25 | 日本曹達株式会社 | 光感応性基体及びパターニング方法 |
| WO2010055678A1 (ja) | 2008-11-14 | 2010-05-20 | 三菱マテリアル株式会社 | 導電性シリカゾル組成物及びそれを用いた成形品 |
| JP2023057961A (ja) * | 2021-10-12 | 2023-04-24 | 王子ホールディングス株式会社 | 段ボールおよび抗菌・抗ウイルス段ボール加工方法 |
| WO2025197500A1 (ja) * | 2024-03-18 | 2025-09-25 | 株式会社スリーボンド | コーティング剤組成物 |
| CN121045896A (zh) * | 2025-11-05 | 2025-12-02 | 浙江大学医学院附属第一医院(浙江省第一医院) | 一种医院病房用抗菌型复合涂料及其制备方法 |
-
1995
- 1995-07-12 JP JP17567595A patent/JPH0924335A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998003607A1 (en) * | 1996-07-19 | 1998-01-29 | Toto Ltd. | Photocatalytic hydrophilic coating composition |
| US6165256A (en) * | 1996-07-19 | 2000-12-26 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifiable coating composition |
| US6337129B1 (en) | 1997-06-02 | 2002-01-08 | Toto Ltd. | Antifouling member and antifouling coating composition |
| JPH11319709A (ja) * | 1998-05-15 | 1999-11-24 | Mitsubishi Materials Corp | 有機系基材への光触媒膜の形成方法とその用途 |
| JP2001040287A (ja) * | 1999-07-28 | 2001-02-13 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 抗菌性塗膜および塗膜付基材 |
| JP2001270025A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 無機質塗装板とその製造方法 |
| JPWO2005081065A1 (ja) * | 2004-02-20 | 2007-10-25 | 日本曹達株式会社 | 光感応性基体及びパターニング方法 |
| JP4602971B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2010-12-22 | 日本曹達株式会社 | 光感応性基体及びパターニング方法 |
| WO2010055678A1 (ja) | 2008-11-14 | 2010-05-20 | 三菱マテリアル株式会社 | 導電性シリカゾル組成物及びそれを用いた成形品 |
| US8936674B2 (en) | 2008-11-14 | 2015-01-20 | Mitsubishi Materials Corporation | Conductive silica sol composition, and molded article produced using the same |
| JP2023057961A (ja) * | 2021-10-12 | 2023-04-24 | 王子ホールディングス株式会社 | 段ボールおよび抗菌・抗ウイルス段ボール加工方法 |
| WO2025197500A1 (ja) * | 2024-03-18 | 2025-09-25 | 株式会社スリーボンド | コーティング剤組成物 |
| CN121045896A (zh) * | 2025-11-05 | 2025-12-02 | 浙江大学医学院附属第一医院(浙江省第一医院) | 一种医院病房用抗菌型复合涂料及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0867835A (ja) | 抗菌性無機塗料 | |
| JP4199490B2 (ja) | コーティング材組成物 | |
| JPH0925437A (ja) | 抗菌性無機塗料 | |
| JPH10168349A (ja) | 抗菌性無機塗料 | |
| JP3444012B2 (ja) | 無機塗料塗膜の形成方法 | |
| JPH0924335A (ja) | 抗菌性無機塗料塗装物およびその製造方法 | |
| JP5108417B2 (ja) | 反射防止膜付き基材 | |
| JP3052230B2 (ja) | 無機塗料塗膜の形成方法 | |
| JPH04321506A (ja) | 窒化アルミニウム粉末 | |
| JPH10324838A (ja) | 顔料分散組成物及び塗料組成物 | |
| JP2013194181A (ja) | コーティング材、及びこのコーティング材から形成されているコーティング層を備える外装材 | |
| JP4820152B2 (ja) | 複合被膜構造及び塗装外装材 | |
| JP4352568B2 (ja) | 無機質塗装品 | |
| JP2002161238A (ja) | コーティング材組成物およびその塗装品 | |
| JPH06220402A (ja) | コーティング用組成物 | |
| JPH05117590A (ja) | 無機塗料 | |
| JPH06240207A (ja) | コーティング用組成物 | |
| JP3193832B2 (ja) | コーティング用組成物及びその製造方法 | |
| JPH0649412A (ja) | コーティング組成物 | |
| JPH08229502A (ja) | ステンレス塗装構成体、及びその製造方法 | |
| JPH08117684A (ja) | 無機塗料塗膜の処理方法 | |
| JP3023392B2 (ja) | 塗装物品およびその製造方法 | |
| JPH07233271A (ja) | 表面被覆成形品 | |
| JP2000144054A (ja) | 防汚性ハードコーティング材組成物およびその塗装品 | |
| JP2000119596A (ja) | 防汚性ハードコーティング材組成物およびその塗装品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021001 |