JPH08157666A - ポリスチレン系樹脂組成物及びポリスチレン系延伸フィルム - Google Patents

ポリスチレン系樹脂組成物及びポリスチレン系延伸フィルム

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JPH08157666A
JPH08157666A JP6303650A JP30365094A JPH08157666A JP H08157666 A JPH08157666 A JP H08157666A JP 6303650 A JP6303650 A JP 6303650A JP 30365094 A JP30365094 A JP 30365094A JP H08157666 A JPH08157666 A JP H08157666A
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JP
Japan
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polystyrene
resin composition
weight
film
stretched film
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Pending
Application number
JP6303650A
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English (en)
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Keisuke Funaki
圭介 舟木
Takaaki Uchida
隆明 内田
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to PCT/JP1995/002420 priority patent/WO1996017889A1/ja
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  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 溶融熱安定性に優れ、連続製膜時の白粉発生
量が少なく、且つ、滑り性や絶縁破壊電圧(交流)に良
好な延伸フィルムを提供できるスチレン系樹脂組成物を
提供すること、及び、各種のフィルム基材として有用な
ポリスチレン系延伸フィルムを提供することである。 【構成】 高度のシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体を90〜99.99重量%及びpH5〜11
の球状アルミノシリケートを0.01〜10重量%含有す
ることを特徴とするポリスチレン系樹脂組成物、及び該
ポリスチレン系樹脂組成物を成形してなるポリスチレン
系延伸フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリスチレン系樹脂組成
物及びポリスチレン系延伸フィルムに関し、更に詳しく
は、延伸フィルムの材料として有用なポリスチレン系樹
脂組成物、及び各種のフィルム基材、例えばコンデンサ
ーフィルム,粘着テープ用フィルム,電気絶縁用フィル
ム,包装用フィルムなどの基材として有用なポリスチレ
ン系延伸フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】シンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体(以下、
「SPS」と略記することがある。)は、機械的強度,
耐熱性,外観,耐溶剤性等に優れていることから、種々
の用途が期待され、特に各種のフィルム,シートあるい
は繊維などの押出技術,成形品,用途等が提案されてい
る。一方、一般に押出成形品の物性は、材料や成形方法
により様々に変化するものであり、また成形条件は材料
特性に依存することから、優れた成形品を開発するには
成形品の材料開発が極めて重要である。特に、極薄フィ
ルムの開発においては、フィルムの滑り性が最も重要な
特性の1つであることから、滑り性を改良するためにS
PSフィルムにアンチブロッキング剤として種々の無機
粒子を添加する方法が提案されている。このようなSP
Sフィルムについては、特開平1−182346号公
報,特開平3−74437号公報,特開平6−5701
3号公報,特開平6−57014号公報,特開平6−5
7015号公報,特開平6−57016号公報,特開平
6−57017号公報,特開平6−64036号公報,
特開平6−64037号公報,特開平6−65399号
公報,特開平6−65400号公報,特開平6−654
01号公報,特開平6−65402号公報,特開平6−
80793号公報,特開平6−91748号公報,特開
平6−91749号公報,特開平6−114924号公
報,特開平6−114925号公報に開示されている。
しかしながら、従来の無機粒子をSPSに任意に添加す
ると、溶融熱安定性が低下する問題やフィルムの連続製
造時に白粉が発生する問題が生じていた。また、滑り性
と交流絶縁破壊特性との両方に優れたフィルムを得るこ
とは困難であった。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解消し、成形性が良好であり滑り性にも優れたフィ
ルムの製造を可能とすべく鋭意検討を行った。その結
果、滑剤として特定のpH値を有する無機粒子を用いる
ことにより、溶融熱劣化が抑制できることを見出した。
また、特定の化学組成を有する無機粒子を用いることに
よりフィルム連続製膜時の白粉発生を低減できることを
見出した。さらに、特定の粒径,粒径分布及び形状の無
機粒子を特定量添加することにより、力学物性や電気特
性を保持したまま良好な滑り性を有する薄物フィルムが
できることを見出した。本発明は、このような知見に基
いて、特定材料及び組成比からなる樹脂組成物が溶融熱
安定性に優れ、連続製膜時の白粉発生量が少なく、且
つ、滑り性や絶縁破壊電圧(交流)に良好な延伸フィル
ムを提供できることを見出し、完成されたものである。
【0004】すなわち、本発明は、高度のシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体90〜99.99重
量%、及びpH5〜11の球状アルミノシリケート0.0
1〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量%からなる
ことを特徴とするポリスチレン系樹脂組成物を提供する
ものである。また、本発明は、上記球状アルミノシリケ
ートの平均粒径Dが0.1〜3.0μm、好ましくは0.3〜
2.0μmであり、且つ、平均粒径Dの3倍の粒径を有す
る成分が3重量%以下、好ましくは2重量%以下である
ことを特徴とする上記ポリスチレン系樹脂組成物を提供
するものである。さらに、本発明は、上記球状アルミノ
シリケートのAl2O3成分が0.2〜50重量%であるこ
とを特徴とするポリスチレン系樹脂組成物を提供するも
のである。また、本発明は、上記ポリスチレン系樹脂組
成物を成形してなるポリスチレン系延伸フィルムをも提
供するものである。以下に、本発明を更に詳細に説明す
る。
【0005】先ず、本発明のポリスチレン系樹脂組成物
の材料について説明する。本発明におけるシンジオタク
チック構造のスチレン系重合体とは、立体化学構造がシ
ンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から形成さ
れる主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル
基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するもので
あり、そのタクティシティーは同位体炭素による核磁気
共鳴法(13C−NMR法)により定量される。13C−N
MR法により測定されるタクティシティーは、連続する
複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダイ
アッド,3個の場合はトリアッド,5個の場合はペンタ
ッドによって示すことができるが、本発明にいう高度の
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体と
は、通常はラセミダイアッドで75%以上、好ましくは
85%以上、若しくはラセミペンタッドで30%以上、
好ましくは50%以上のシンジオタクティシティーを有
するポリスチレン,ポリ( アルキルスチレン),ポリ( ハ
ロゲン化スチレン),ポリ( アルコキシスチレン),ポリ(
ビニル安息香酸エステル),これらの水素化重合体およ
びこれらの混合物、あるいはこれらの構造単位を含む共
重合体を指称する。なお、ここでポリ( アルキルスチレ
ン) としては、ポリ( メチルスチレン),ポリ( エチルス
チレン),ポリ( プロピルスチレン),ポリ( ブチルスチレ
ン),ポリ( フェニルスチレン),ポリ( ビニルナフタレ
ン),ポリ( ビニルスチレン),ポリ( アセナフチレン) な
どがあり、ポリ( ハロゲン化スチレン) としては、ポリ
( クロロスチレン),ポリ( ブロモスチレン),ポリ( フル
オロスチレン) などがある。また、ポリ( アルコキシス
チレン) としては、ポリ( メトキシスチレン),ポリ( エ
トキシスチレン) などがある。これらのうち特に好まし
いスチレン系重合体としては、ポリスチレン,ポリ( p
−メチルスチレン),ポリ( m−メチルスチレン),ポリ(
p−ターシャリーブチルスチレン),ポリ( p−クロロス
チレン),ポリ( m−クロロスチレン),ポリ( p−フルオ
ロスチレン) 、またスチレンとp−メチルスチレンとの
共重合体をあげることができる(特開昭62−1877
08号公報)。
【0006】更に、スチレン系共重合体におけるコモノ
マーとしては、上述の如きスチレン系重合体のモノマー
のほか、エチレン,プロピレン,ブテン,ヘキセン,オ
クテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン,イソプレ
ン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリ
ル酸メチル,無水マレイン酸,アクリロニトリル等の極
性ビニルモノマー等をあげることができる。またこのス
チレン系重合体は、分子量について特に制限はないが、
重量平均分子量が10,000以上3,000,000 以下のものが好
ましく、とりわけ50,000以上 1,500,000以下のものが更
に好ましい。ここで重量平均分子量が 10,000 未満であ
ると、延伸が充分にできない場合がある。さらに、分子
量分布についてはその広狭は制約がなく、 様々なものを
充当することが可能であるが、重量平均分子量(Mw)/
数平均分子量(Mn)が 1. 5以上8以下のものが好まし
い。なお、このシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体は、従来のアタクチック構造のスチレン系重
合体に比べて耐熱性が格段に優れている。本発明のポリ
スチレン系樹脂組成物は、該組成物中に上記高度のシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を90〜
99.99重量%、好ましくは95〜99.99重量%含有
する。
【0007】また、本発明のポリスチレン系樹脂組成物
は、球状アルミノシリケートをアンチブロッキング剤と
して0.01〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量%
含有する。球状アルミノシリケートが0.01重量%未満
の場合には、フィルムの滑り性が不充分であり、10重
量%を超える場合には、フィルムを延伸するときに破断
が頻発するため好ましくない。このアルミノシリケート
は無定形であり、珪酸アルミナ,カオリン,カオリナイ
トを主成分とし、より具体的にはAl2O3,SiO2等
の無機成分が含まれている。また、球状とは、真球状で
ある場合の他、実質的に球状を有している場合も含まれ
る。球状アルミノシリケートでない場合には、樹脂組成
物をフィルムに加工した後の滑り性等が不充分であり、
滑り性等に良好な延伸フィルムを提供することができな
い。球状アルミノシリケートのpHは5〜11の範囲で
あることが好ましく、pHが5より小さい場合、あるい
はpHが11より大きい場合には溶融熱劣化が起こるの
で好ましくない。
【0008】また、本発明では、上記球状アルミノシリ
ケートの平均粒径Dが好ましくは0.1〜3.0μm、より
好ましくは0.3〜2.0μmである。平均粒径Dが0.1μ
mより小さい場合には、フィルムの滑り性が不充分とな
り、平均粒径Dが3.0μmより大きい場合には、フィル
ムの製膜工程で白粉が発生するので好ましくない。さら
に、上記球状アルミノシリケートの平均粒径Dの3倍の
粒径を有する成分が3重量%以下であることが好まし
く、2重量%以下であることがより好ましい。平均粒径
Dの3倍の粒径を有する成分が3重量%を超える場合に
は、フィルムの製膜工程で白粉が発生するので好ましく
ない。さらに、本発明では、上記球状アルミノシリケー
トのAl2O3成分が0.2〜50重量%である。Al2O3
成分が50重量%を超える場合には、フィルムの製膜工
程で白粉が発生するので好ましくない。
【0009】また、本発明のポリスチレン系樹脂組成物
中には、必要に応じて、−NH−基を有しかつ10,00
0未満の分子量を有する有機化合物が含有する。このよ
うな有機化合物としては、−NH−基に電子吸引基が隣
接しているものが好ましく、このような電子吸引基とし
ては、ベンゼン環,ナフタレン環,アントラセン環,ピ
リジン環,トリアジン環,インデニル環及びこれらの誘
導体等の芳香族環又はカルボニル構造を含むことが好ま
しい。また、上記有機化合物としては熱分解温度が26
0℃以上のものが特に好ましい。具体的には以下の化合
物、例えば、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリ
ノ)−1,3,5−トリアジン、N,N’−ヘキサメチ
レンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
ヒドロシンナミド)、N,N’−ビス〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕
ヒドラジン、3−(N−サリチロイル)アミノ−1,
2,4−トリアゾール、デカメチレンジカルボン酸ジサ
リチロイルヒドラジド、イソフタル酸(2−フェノキシ
プロピオニルヒドラジド)、2,2−オギザミド−ビス
〔エチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート〕、オギザリル−ビス
(ベンジリデン−ヒドラジド)、N−ホルミル−N’−
サリシロイルヒドラジン、2−メルカプトベンツイミダ
ゾール、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレン
ジアミン、4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジ
ル)ジフェニルアミン、2−メルカプトメチルベンツイ
ミダゾール,スチレン化ジフェニルアミン、オクチル化
ジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミ
ン、ポリ(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロ
キノリン)、6−エトキシ−1,2−ジヒドロ−2,
2,4−トリメチルキノリン、N,N’−ジフェニル−
p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(1,
3−ジメチルブチル)−p−フェニレンジアミン、N−
フェニル−N’−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロ
キシプロピル)−p−フェニレンジアミン、チオジフェ
ニルアミン、p−アミノジフェニルアミン、N−サリシ
ロイル−N’−アルデヒドヒドラジン、N−サリシロイ
ル−N’−アセチルヒドラジン、N,N’−ジフェニル
−オキサミド、N,N’−ジ(2−ヒドロキシフェニ
ル)オキサミド、6−エトキシ−2,2,4−トリメチ
ル−1,2−ジヒドロキノリン、N−フェニル−N’−
イソプロピル−p−フェニレンジアミン等が挙げられ
る。上記−NH−基を有しかつ10,000未満の分子量
を有する有機化合物は、本発明のポリスチレン系延伸フ
ィルム中に、必要に応じて、30重量%未満の量で含有
される。
【0010】本発明のポリスチレン系樹脂組成物には、
その目的を阻害しない範囲で他の滑剤、他の熱可塑性樹
脂、酸化防止剤、無機充填剤、ゴム、相溶化剤、着色
剤、架橋剤、架橋助剤、核剤、可塑剤などを添加するこ
ともできる。本発明の球状アルミノシリケートと併用可
能な他の無機微粒子としては、IA族,IIA族,IVA
族,VIA族,VII A族,VIII族,IB族,IIB族,III
B族,IVB族元素の酸化物,水酸化物,硫化物,窒素化
物,ハロゲン化物,炭酸塩,硫酸塩,酢酸塩,燐酸塩,
亜燐酸塩,有機カルボン酸塩,珪酸塩,チタン酸塩,硼
酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中心とする複合
化合物,天然鉱物粒子が挙げられる。
【0011】具体的には、弗化リチウム,硼砂( 硼酸ナ
トリウム含水塩) 等のIA族元素化合物、炭酸マグネシ
ウム,燐酸マグネシウム,酸化マグネシウム( マグネシ
ア),塩化マグネシウム,酢酸マグネシウム,弗化マグネ
シウム,チタン酸マグネシウム,珪酸マグネシウム,珪
酸マグネシウム含水塩( タルク),炭酸カルシウム,燐酸
カルシウム,亜燐酸カルシウム,硫酸カルシウム( 石
膏),酢酸カルシウム,テレフタル酸カルシウム,水酸化
カルシウム,珪酸カルシウム,弗化カルシウム,チタン
酸カルシウム,チタン酸ストロンチウム,炭酸バリウ
ム,燐酸バリウム,硫酸バリウム,亜燐酸バリウム等の
IIA族元素化合物、二酸化チタン(チタニア),一酸化チ
タン,窒化チタン,二酸化ジルコニウム( ジルコニア),
一酸化ジルコニウム等のIVA族元素化合物、二酸化モリ
ブデン,三酸化モリブデン,硫化モリブデン等のVIA族
元素化合物、塩化マンガン,酢酸マンガン等のVII A族
元素化合物、塩化コバルト,酢酸コバルト等のVIII族元
素化合物、沃化第一銅等のIB族元素化合物、酸化亜
鉛,酢酸亜鉛等のIIB族元素化合物、酸化アルミニウム
(アルミナ),水酸化アルミニウム,弗化アルミニウム等
のIII B族元素化合物、酸化珪素( シリカ,シリカゲ
ル),石墨, カーボン,グラファイト,ガラス等のIVB族
元素化合物、カーナル石,カイナイト,雲母( マイカ,
キンウンモ),バイロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げら
れる。ここで用いるアルミノシリケート以外の無機微粒
子の平均粒径は、特に制限はないが、好ましくは 0. 0
1〜3μm、成形品中の含量は 0. 001〜3重量%、
好ましくは 0. 005〜2重量%である。この無機微粒
子は最終的な成形品に含有されるが、含有される方法に
限定はない。例えば、重合中の任意の過程で添加あるい
は析出させる方法、溶融押出する任意の過程で添加する
方法が挙げられる。
【0012】本発明において上記のスチレン系重合体
に、添加できる他の熱可塑性樹脂としては各種のものが
あるが、例えば、アタクチック構造のスチレン系重合
体,アイソタクチック構造のスチレン系重合体,ポリフ
ェニレンエーテル等が、挙げられる。これらの樹脂は前
述のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体と相溶
しやすく、延伸用予備成形体を作成するときの結晶化の
制御に有効で、その後の延伸性が向上し、延伸条件の制
御が容易で、且つ力学物性に優れたフィルムを得ること
ができる。このうち、アタクチック構造および/または
アイソタクチック構造のスチレン系重合体を含有させる
場合は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と
同様の単量体からなるものが好ましい。また、これら相
溶性樹脂成分の含有割合は1〜70重量%、特に2〜5
0重量%とすればよい。ここで相溶性樹脂成分の含有割
合が70重量%を超えると、シンジオタクチック構造の
スチレン系重合体の長所である耐熱性等が損なわれるこ
とがあるため好ましくない。
【0013】また、本発明で用いられる上記のスチレン
系重合体に添加し得る他の樹脂であって、非相溶性樹脂
としては、例えば、ポリエチレン,ポリプロピレン,ポ
リブテン,ポリペンテン等のポリオレフィン、ポリエチ
レンテレフタレート,ポリブチレンテレフタレート,ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−
6やナイロン6,6等のポリアミド、ポリフェニレンス
ルフィド等のポリチオエーテル、ポリカーボネート,ポ
リアリレート,ポリスルホン,ポリエーテルエーテルケ
トン,ポリエーテルスルホン,ポリイミド,テフロン等
のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上記
相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶性
の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、
本発明に用いられるシンジオタクチック構造のスチレン
系重合体と非相溶であるため、少量含有する場合、シン
ジオタクチック構造のスチレン系重合体中に島のように
分散させることができ、延伸後に程良い光沢を与えた
り、表面のすべり性を改良するのに有効である。これら
非相溶性樹脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合
は2〜50重量%、表面性の制御を目的とする場合は0.
001〜5重量%が好ましい。また、製品として使用す
る温度が高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂
を用いることが好ましい。
【0014】酸化防止剤としてはリン系酸化防止剤,フ
ェノール系酸化防止剤,硫黄系酸化防止剤を用いること
ができる。このような酸化防止剤を用いることにより、
極めて熱安定性のよいポリスチレン系樹脂組成物が得ら
れる。ここでリン系酸化防止剤としては種々のものが挙
げられ、モノホスファイトやジホスファイト等であるこ
とを問わない。モノホスファイトとしてはトリス(2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト;トリス
(モノおよびジ−ノニルフェニル)ホスファイト等が挙
げられる。またジホスファイトとしては、一般式
【0015】
【化1】
【0016】〔式中、R1 及びR2 は同一でも異なって
いてもよく、それぞれ炭素数1〜20のアルキル基,炭
素数3〜20のシクロアルキル基あるいは炭素数6〜2
0のアリール基を示す。〕で表わされるホスファイトが
用いられ、具体例としては、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスファイト;ジオクチルペンタエリスリト
ールジホスファイト;ジフェニルペンタエリスリトール
ジホスファイト;ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジホスファイト;ビス(2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリ
スリトールジホスファイト;ジシクロヘキシルペンタエ
リスリトールジホスファイト;トリス(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)ホスファイト;テトラキス(2,4
−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン
ホスフォナイトなどが挙げられる。これらの中でもビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリト
ールジホスファイト;ビス(2,6−ジ−t−ブチル−
4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファ
イト;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホス
ファイト;テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−4,4’−ビフェニレンホスフォナイトが好まし
く用いられる。
【0017】また、フェノール系酸化防止剤としては種
々のものを使用することができるが、具体的には、ジア
ルキルフェノール,トリアルキルフェノール,ジフェニ
ルモノアルコキシフェノール,テトラアルキルフェノー
ル等が用いられる。ジアルキルフェノールとしては、
2,2' −メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチル
フェノール);1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン;2,2' −メ
チレンビス( 4−メチル−6−シクロヘキシルフェノー
ル);4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチ
ルフェノール);2,2−ビス(5−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシル
メルカプト−ブタンなどが挙げられる。トリアルキルフ
ェノールとしては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール;2,2'−メチレンビス(6−t−ブチ
ル−4−エチルフェノール);2,2' −メチレンビス
〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール〕;2,2' −メチレンビス(4−メチル−6−
ノニルフェノール);1,1,3−トリス−(5−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタ
ン;エチレングリコール−ビス〔3,3−ビス(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕;1
−1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−3−(n−ドデシルチオ)−ブタン;1,3,5
−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン;2,2−
ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)マロン酸ジオクタデシルエステル;n−オクタデシ
ル−3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフ
ェニル)プロピオネート;テトラキス〔メチレン(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシハイドロシンナメ
ート)〕メタン;3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2
−(β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオニルオキシ)エチル−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン;
トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレイト等が挙げられる。また、ジフ
ェニルモノアルコキシフェノールとしては2,6−ジフ
ェニル−4−メトキシフェノール等が挙げられ、テトラ
アルキルフェノールとしてはトリス−(4−t−ブチル
−2,6−ジ−メチル−3−ヒドロキシベンジル)−イ
ソシアヌレイト等が挙げられる。
【0018】更に硫黄系酸化防止剤としては、チオエー
テル系のものが好ましく、具体的にはジラウリル−3,
3’−チオジプロピオネート;ジミリスチル−3,3’
−チオジプロピオネート;ジステアリル−3,3’−チ
オジプロピオネート;ペンタエリスリトール−テトラキ
ス−(β−ラウリル−チオプロピオネート);ビス〔2
−メチル−4−(3−n−アルキルチオプロピオニルオ
キシ)−5−t−ブチルフェニル〕スルフィド;2−メ
ルカプトベイゾイミダゾール等が挙げられる。これらの
中でも特にペンタエリスリトール−テトラキス−(β−
ラウリル−チオプロピオネート)が好ましい。
【0019】このような材料からなる本発明に係るポリ
スチレン系樹脂組成物は、任意の方法、即ち従来の熱可
塑性樹脂に用いられている種々の方法で製造することが
でき、例えば、(A)高度のシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体成分と(B)球状アルミノシリ
ケート成分を混合し押出機等で溶融混練する方法、
(A)成分の押出工程のいずれかの段階で(B)成分を
添加する方法、(A)成分の製造工程のいずれかの段階
で(B)成分を添加する方法、(A)成分と(B)成分
を混合した材料と(A)成分を溶融混練する方法、等が
適用可能である。本発明のポリスチレン系樹脂組成物を
用いてなる成形品は、いずれの形状においても優れた効
果を有し、例えばフィルム,シート,繊維,ヤーン,パ
イプ,トレイ,射出成形により得られる三次元成形体等
に適用される。特に、このポリスチレン系樹脂組成物を
用いて延伸フィルムの製造を行えば、溶融熱安定性に優
れ、連続製膜時の白粉発生量が少なく、且つ、滑り性や
絶縁破壊電圧(交流)に良好な延伸フィルムを提供する
ことができる。本発明のポリスチレン系樹脂組成物を用
いてシートを製造する場合は、通常の押出成形等を用い
ればよい。この時、加熱溶融温度は270〜350℃が
適当である。また、得られたシートをガラス転移温度〜
融点の間の温度で熱処理を施してもよい。本発明のポリ
スチレン系樹脂組成物を用いて延伸フィルムを製造する
場合、その方法は特に制限されず、これらの材料を加熱
溶融後、予備成形体とし、加熱延伸して、さらに必要に
応じて熱処理すること等によって得られる。
【0020】次に、本発明に係るポリスチレン系延伸フ
ィルムについて説明する。本発明のポリスチレン系延伸
フィルムは、上記ポリスチレン系樹脂組成物を成形して
なる延伸フィルムである。本発明のポリスチレン系延伸
フィルムを製造する際、加熱溶融から熱固定までの操作
を具体的に説明すれば、次の通りである。まず、上述の
如く得られたポリスチレン系樹脂組成物を成形素材とし
て、これを通常は押出成形して、延伸用予備成形体( フ
ィルム,シートまたはチューブ)とする。この成形にあ
っては、上記成形素材の加熱溶融したものを押出成形機
にて所定形状に成形するのが一般的であるが、成形素材
を加熱溶融させずに、軟化した状態で成形してもよい。
ここで用いる押出成形機は、一軸押出成形機,二軸押出
成形機のいずれでもよく、またベント付き,ベント無し
のいずれでもよい。なお、押出機には適当なフィルター
を使用すれば、夾雑物や異物を除去することができる。
またフィルターの形状は、平板状,円筒状等適当に選定
して使用することができる。またここで押出条件は、特
に制限はなく、種々の状況に応じて適宜選定すればよい
が、好ましくは温度を成形素材の融点〜分解温度より5
0℃高い温度の範囲で選定し、剪断応力を5×106 dy
ne/cm2 以下とする。用いるダイはT−ダイ,円環ダイ
等をあげることができる。
【0021】上記押出成形後、得られた延伸用予備成形
体を冷却固化する。この際の冷媒は、気体,液体,金属
ロール等各種のものを使用することができる。金属ロー
ル等を用いる場合、エアナイフ,エアチャンバー,タッ
チロール,静電印荷等の方法によると、厚みムラや波う
ち防止に効果的である。冷却固化の温度は、通常は0℃
〜延伸用予備成形体のガラス転移温度より30℃高い温
度の範囲、好ましくはガラス転移温度より70℃低い温
度〜ガラス転移温度の範囲である。また冷却速度は20
0〜3℃/秒の範囲で適宜選択する。冷却,固化した予
備成形体は二軸延伸の場合は縦方向及び横方向に同時に
延伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸してもよい。
また延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよい。
この延伸倍率は面積比で2倍以上、好ましくは3倍以上
である。この範囲の延伸倍率であると、フィルムの結晶
化度が25%以上となり、物性の好ましいものが得られ
る。
【0022】ここで延伸方法としては、テンターによる
方法,ロール間で延伸する方法,気体圧力を利用してバ
ブリングによる方法,圧延による方法など種々のものが
使用でき、これらを適当に選定あるいは組み合わせて適
用すればよい。延伸温度は、一般には予備成形体のガラ
ス転移温度と融点の間で設定すればよい。また延伸速度
は、通常は1×10〜1×105 %/分、好ましくは1
×103 〜1×105%/分である。上述の如き条件で
延伸して得られた延伸フィルムに、さらに高温時の寸法
安定性,耐熱性,フィルム面内の強度バランスが要求さ
れる場合などには、さらに熱固定を行うことが好まし
い。熱固定は、通常行われている方法で行うことができ
るが、この延伸フィルムを緊張状態,弛緩状態あるいは
制限収縮状態の下で、該フィルムのガラス転移温度〜融
点、好ましくは融点より100℃低い温度〜融点直前の
温度範囲にて、0.5〜120秒間保持することによって
行えばよい。なお、この熱固定は、上記範囲内で条件を
変えて二回以上行うことも可能である。また、この熱固
定はアルゴンガス,窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下
で行っても良い。このように製造される本発明のポリス
チレン系延伸フィルムは、滑り性や絶縁破壊電圧(交
流)に優れた性能を有する。
【0023】
【実施例】以下に、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定され
るものではない。 参考例1 アルゴン置換した内容積500ミリリットルのガラス製
容器に、硫酸銅5水塩( Cu SO4 ・5H2 O)17g
(71ミリモル),トルエン200ミリリットル及びトリ
メチルアルミニウム24ミリリットル(250ミリモ
ル)を入れ、40℃で8時間反応させた。その後、固体
部分を除去して接触生成物 6. 7gを得た。このものの
凝固点降下法によって測定した分子量は610であっ
た。
【0024】製造例1 〔シンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体の製造〕 内容積2リットルの反応容器に、上記参考例1で得られ
た接触生成物をアルミニウム原子として7.5ミリモル,
トリイソブチルアルミニウムを7.5ミリモル,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシドを
0. 038ミリモル及び精製スチレンを1リットルと
り、90℃で5時間重合反応を行った。反応終了後、水
酸化ナトリウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、
生成物をメタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体
466gを得た。得られた重合体の重量平均分子量を1,
2,4−トリクロロベンゼンを溶媒として、130℃で
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定した
ところ290,000であり、また重量平均分子量/数平
均分子量は2.72であった。更に融点及び13C−NMR
の測定により、得られた重合体はシンジオタクチック構
造のポリスチレンであることが確認された。
【0025】実施例1〜5、比較例2〜5 製造例1の様にして得られたシンジオタクチック構造の
スチレン系重合体に、第1表に記載された種類及び性状
の無機粒子を表中の添加量加えて粉体混合し、300℃
で溶融押出し後、ペレットにした。この材料を用いて、
滞留時間30分間,平均温度290℃で溶融押出し後、
冷却して原反シートを作成した。ここで、材料ペッレッ
トと原反シートの300℃,2.16kg下でのメルトイ
ンデックスを測定した。また、原反シートの色相を目視
で観察した。この原反シートを110℃で3.0倍に縦方
向に延伸し、続いて120℃で3.0倍に横延伸し、23
0℃で熱処理を施した。この様な連続製膜の最後の巻き
取り過程の間にゴム製ロールを通過させ、白粉の発生を
観察した。得られた延伸フィルムの摩擦係数をASTM D-1
984 法、及び絶縁破壊電圧をJISC-2318法に準拠して測
定した。結果を第2表に示す。
【0026】比較例1 実施例1において、無機粒子を添加しなかったこと以外
は実施例1と同様にして実施した。結果を第2表に示
す。
【0027】
【表1】
【0028】
【表2】
【0029】
【発明の効果】以上詳細に述べたように、本発明のポリ
スチレン系樹脂組成物は、溶融熱安定性に優れ、連続製
膜時の白粉発生量が少なく、延伸フィルムの材料として
好適に用いられる。また、本発明のポリスチレン系延伸
フィルムは、滑り性や絶縁破壊電圧(交流)等に優れた
性能を有し、コンデンサー,粘着テープ用フィルム,電
絶フィルムの基材等として、あるいは包装用フィルムの
基材等として好適に用いられ、その工業的利用価値は極
めて大きい。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年11月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】また、本発明のポリスチレン系樹脂組成物
は、球状アルミノシリケートをアンチブロッキング剤と
して0.01〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量%
含有する。球状アルミノシリケートが0.01重量%未満
の場合には、フィルムの滑り性が不充分であり、10重
量%を超える場合には、フィルムを延伸するときに破断
が頻発するため好ましくない。このアルミノシリケート
は無定形であり、珪酸アルミナ,カオリン,カオリナイ
トを主成分とし、より具体的にはAl2O3,SiO2等
の無機成分が含まれている。また、球状とは、真球状で
ある場合の他、実質的に球状を有している場合も含まれ
る。球状でないアルミノシリケートの場合には、樹脂組
成物をフィルムに加工した後の滑り性等が不充分であ
り、滑り性等に良好な延伸フィルムを提供することがで
きない。球状アルミノシリケートのpHは5〜11の範
囲であることが好ましく、pHが5より小さい場合、あ
るいはpHが11より大きい場合には溶融熱劣化が起こ
るので好ましくない。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】実施例1〜5、比較例2〜5 製造例1の様にして得られたシンジオタクチック構造の
スチレン系重合体に、第1表に記載された種類及び性状
の無機粒子を表中の添加量加えて粉体混合し、300℃
で溶融押出し後、ペレットにした。この材料を用いて、
滞留時間30分間,平均温度290℃で溶融押出し後、
冷却して原反シートを作成した。ここで、材料ペッレッ
トと原反シートの300℃,2.16kg下でのメルトイ
ンデックスを測定した。また、原反シートの色相を目視
で観察した。この原反シートを110℃で3.0倍に縦方
向に延伸し、続いて120℃で3.0倍に横延伸し、23
0℃で熱処理を施した。この様な連続製膜の最後の巻き
取り過程の間にゴム製ロールを通過させ、白粉の発生を
観察した。得られた延伸フィルムの摩擦係数をASTM D-1
984 法、及び絶縁破壊電圧をJISC-2330法に準拠して測
定した。結果を第2表に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 105:16 B29L 7:00

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高度のシンジオタクチック構造を有する
    スチレン系重合体90〜99.99重量%、及びpH5〜
    11の球状アルミノシリケート0.01〜10重量%から
    なることを特徴とするポリスチレン系樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 前記球状アルミノシリケートの平均粒径
    Dが0.1〜3.0μmであり、且つ、平均粒径Dの3倍の
    粒径を有する成分が3重量%以下であることを特徴とす
    る請求項1記載のポリスチレン系樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 前記球状アルミノシリケートのAl2O3
    成分が0.2〜50重量%であることを特徴とする請求項
    1記載のポリスチレン系樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3記載のポリスチレン系樹脂
    組成物を成形してなるポリスチレン系延伸フィルム。
JP6303650A 1994-12-07 1994-12-07 ポリスチレン系樹脂組成物及びポリスチレン系延伸フィルム Pending JPH08157666A (ja)

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CN95191518A CN1140461A (zh) 1994-12-07 1995-11-28 苯乙烯属树脂组合物和聚苯乙烯取向薄膜
KR1019960704293A KR100370450B1 (ko) 1994-12-07 1995-11-28 스티렌계수지조성물및폴리스티렌계연신막
EP95937201A EP0747432B1 (en) 1994-12-07 1995-11-28 Polystyrene resin composition and oriented polystyrene film
PCT/JP1995/002420 WO1996017889A1 (en) 1994-12-07 1995-11-28 Polystyrene resin composition and oriented polystyrene film
DE69529738T DE69529738T2 (de) 1994-12-07 1995-11-28 Polystyrolharzzusammensetzung, sowie orientierter polystyrolfilm
US08/682,570 US5798172A (en) 1994-12-07 1995-11-28 Styrenic resin composition and polystyrene oriented film

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008184540A (ja) * 2007-01-30 2008-08-14 Inoac Corp 射出成形体及びその製造方法
WO2009005168A1 (ja) 2007-07-03 2009-01-08 Takashi Kawasaki セルロース系物質による単糖類並びにエタノールの製造方法
JP2013241626A (ja) * 2013-08-30 2013-12-05 Teijin Ltd 高絶縁性フィルム
JP2018080261A (ja) * 2016-11-16 2018-05-24 倉敷紡績株式会社 ポリスチレン系フィルムおよび多層フィルム

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