JPH0816780B2

JPH0816780B2 - 感光性キノンジアジド化合物、並びに該化合物を含むポジ型感光性組成物と感光性電着塗料組成物

Info

Publication number: JPH0816780B2
Application number: JP13593991A
Authority: JP
Inventors: 顕光林; 錦全謝
Original assignee: Industrial Technology Research Institute ITRI
Current assignee: Industrial Technology Research Institute ITRI
Priority date: 1991-05-11
Filing date: 1991-05-11
Publication date: 1996-02-21
Anticipated expiration: 2011-02-21
Also published as: JPH04345164A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、感光性キノンジアジ
ド化合物と、この感光性キノンジアジド化合物から製造
するポジ型感光性組成物および感光性電着塗料組成物に
関し、特に、プリント配線基板の製造等におけるフォト
レジストパターンの形成に際して、良好な柔軟性を備え
てピンホールの発生を有効に防止するとともに、アクリ
ル樹脂との相溶性に優れ、さらに金属基材への良好な付
着力を有する感光性電着塗料組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＩＢＭ社のアメリカパテント第 3,738,8
35号は、電着塗装法によりフォトレジストを銅張積層板
に塗布する方法を早い時期に開示したものであり、フォ
トレジストとしてネガ型感光性組成物を採用し、この組
成物中に多量の溶媒を使用することにより各成分の安定
化を図るものであった。しかしながら、ネガ型フォトレ
ジストには、光照射部分が縮小し現像時に膨潤するとい
う欠点などがあり、ポジ型の方がネガ型よりも解像度の
良いレジストパターンが得られるので、現在ではポジ型
フォトレジストが多く採用されるようになっている。

【０００３】ポジ型フォトレジストは、感光性化合物と
してキノンジアジド類を採用するものが一般的である
が、電着塗料組成物として使用されるエマルション状態
においては、感光性部分がイオン化した重合体と同一分
子である単一成分系のものと、イオン化した重合体とは
異なる分子である多成分系のものとに分けられる。単一
成分系としては、感光性成分をイオン化した重合体にグ
ラフトして得られるものとして、特開昭63−297473号公
報に開示されたマレイン酸系共重合体、特開昭64− 467
32号公報、特開昭64− 90270号公報およびアメリカパテ
ント第 4,673,458号に開示されたアクリル系共重合体、
アメリカパテント第 4,681,923号公報のフェノールノボ
ラック樹脂等があった。

【０００４】しかし、この単一成分系には柔軟性に欠け
るため電着塗装の過程において容易にピンホールが発生
しており、さらに感光性成分がイオン化した重合体にグ
ラフトされるとその感光性が劣化してしまうという問題
があった。そこで、感光性成分をイオン化した重合体と
分離して、感光性の向上をはかるという２成分系の方法
が検討されるようになり、例えば、アメリカパテント第
4,673,458号およびヨーロッパパテント第 0265387号
（対応する日本特許；特開昭61−218616号公報）に開示
されたように、感光性成分を２，４−ジヒドロキシベン
ゾフェノンあるいは２，３，４−トリヒドロキシベンゾ
フェノンにグラフトすると同時に、アクリル樹脂または
フェノール樹脂と混合してエマルションを形成する方法
が採用されていた。

【０００５】ところが、この方法で製造された感光性化
合物は溶媒に対する溶解度が極めて小さいという欠点が
あったとともに、電着樹脂に対する相溶性に劣り、電着
液に沈殿現象が見られた。そして、感光性は向上した
が、電着塗装の過程でピンホールがやはり容易に発生し
ていた。

【０００６】また、公知のポジ型フォトレジストに使用
されているキノンジアジド化合物は、アクリル樹脂との
相溶性に劣り、しかも水と混合すると容易に沈殿するの
で、良好な電着液が製造できないという不都合があっ
た。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アク
リル樹脂との相溶性に優れ、良好な感光性を有するキノ
ンジアジド化合物を提供することと、該化合物を用い
て、ピンホール等の発生がなく、基材に密着した塗膜が
得られる安定な電着液を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、ポリイソ
シアネート（ポリウレタンの原料）とアミンフェノール
類と１，２−キノンジアジドスルホン酸ハロゲン化物と
を用いることによって、感光性キノンジアジド化合物を
合成するとともに、感光性キノンジアジド化合物に含ま
れる感光性成分をポリイソシアネート類にグラフトする
ことで、アクリル樹脂に対する良好な相溶性を獲得させ
ると同時に、少なくとも２成分以上の多成分系のポジ型
感光性組成物とすることで感光性を向上させ、かつ金属
基材に対する付着率を向上させる感光性電着塗料組成物
について鋭意検討した結果本発明に到達したものであ
る。

【０００９】すなわち、本発明は下記の化学式

【００１０】

【化７】

【００１１】（式中、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ¹、ｎ、Ｚは前と同じ
意味）で示される感光性キノンジアジド化合物、および
該化合物を主体とするポジ型感光性組成物と感光性電着
塗料組成物を提供するところに要旨を有するものであ
る。

【００１２】

【作用】本発明における感光性組成物は、電着塗装法に
使用する２成分系の感光性電着塗料を製造するのに適し
ており、該電着塗料は、本発明の感光性組成物つまり感
光性キノンジアジド化合物とアクリル系樹脂を主要な成
分として、水系エマルション状態で製造される。

【００１３】本発明において使用されるアクリル樹脂
は、カルボキシル基含有アクリル系単量体と他の不飽和
単量体を共重合させて得られるもので、カルボキシル基
を含むアクリル系単量体としては、メタクリル酸，アク
リル酸，ケイ皮酸，クロトン酸，２−メタクリロイルオ
キシエチルフタル酸，２−メタクリロイルオキシエチル
コハク酸，２−カルボキシエチルメタクリレートなどの
モノカルボン酸、イタコン酸，マレイン酸，フマル酸な
どの不飽和ジカルボン酸またはそのモノエステル類など
が挙げられる。

【００１４】上記カルボキシル基を含むアクリル系単量
体と共重合させる他の不飽和単量体としては、メタクリ
ル酸ヒドロキシエチルのようなヒドロキシル基含有単量
体，メタクリル酸メチルおよびメタクリル酸ブチル等の
ようなメタクリル酸アルキルエステル，（メチル）アク
リルアミドのようなアミド基含有単量体，アクリロニト
リルのようなニトリル基含有単量体，Ｎ，Ｎ′−ジメチ
ルアミノメタクリル酸エチルおよびＮ，Ｎ′−ジエチル
アミノメタクリル酸メチルのようなアミノ基含有単量
体，アクリル酸ベンジルおよびアクリル酸フェノキシ等
のような芳香族含有単量体などが挙げられ、単独または
混合して用いることができる。

【００１５】本発明におけるアクリル樹脂の合成方法と
しては、公知の溶液重合法、懸濁重合法および乳化重合
法を採用することができるが、重合体の数平均分子量を
２５００〜２００，０００の間にコントロールすること
が望ましい。生成共重合体中のカルボキシル基は低分子
アミン類で中和され、陰イオン性のエマルション型重合
体となる。電着塗料組成物におけるエマルション状態を
安定させるために、カルボキシル基含有アクリル系単量
体は共重合体中３〜３０重量％を占めることが望まし
い。

【００１６】本発明における感光性化合物としては、紫
外線光に対して感光性を有するキノンジアジド基をポリ
ウレタンの原料となるポリイソシアネートにグラフトし
たものを採用し、紫外線光の照射によりキノンジアジド
基に化学反応を起こさせることで、窒素分子を分離して
カルボキシル基を生成するが、このカルボキシル基が感
光部分のアルカリ性現像液に対する溶解度を高める作用
を有するため、フォトレジストパターンを形成すること
ができる。

【００１７】本発明における感光性キノンジアジド化合
物（Ｉ）は、具体的にいうと、ポリイソシアネートとア
ミノフェノール類(II)と１，２−キノンジアジドスルホ
ン酸ハロゲン化物とを反応させて生成するものである。
この反応において、まずポリイソシアネートがアミノフ
ェノール類に作用する。そして、ポリイソシアネートは
アミノ基に対する反応選択性がフェノール類のヒドロキ
シル基に対する反応選択性よりはるかに強いので、アミ
ノフェノール類のヒドロキシル基は、スルホン酸ハロゲ
ン化物が反応に加わるまで保留された後、スルホン酸ハ
ロゲン基に対する作用によりキノンジアジドをポリイソ
シアネートにグラフトする。

【００１８】ポリイソシアネートは、ポリヒドロキシル
基化合物とジイソシアートとを反応させることにより得
られ、本発明におけるポリヒドロキシル基化合物は、ヒ
ドロキシル当量が５０〜５００ｇのものが適当である。
例えば、トリエチレングリコール，テトラエチレングリ
コール，ポリエチレングリコール，ポリプロピレングリ
コール，ポリエステルグリコール，ポリテトラヒドロフ
ラン，ポリカプロラクトン，エトキシ化トリメチレンシ
クロペンタジエンまたはプロポキシ化トリメチレンシク
ロペンタジエンから選択できる。

【００１９】ジイソシアネートは、エチルメチレンジイ
ソシアネート，イソホロンジイソシアネート，トリレン
ジイソシアネート（ＴＤＩともいう）またはジフェニル
メタンジイソシアネート，キシレンジイソシアネートの
うちから選択されるのが適当であるが、同一分子内で２
個のイソシアネートが異なる活性を備えたトリレンジイ
ソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートが最適
である。

【００２０】ポリヒドロキシ化合物とジイソシアネート
との反応において、ヒドロキシル基とジイソシアネート
との当量比は１．２５〜１：１の間にコントロールされ
ることが望ましいとともに、ポリヒドロキシ化合物をジ
イソシアネートの中に徐々に滴下させる方式で投入する
ことが好ましい。

【００２１】本発明におけるアミノフェノール類化合物
（II）としては、、４−アミノ−ｍ−クレゾール，６−
アミノ−ｍ−クレゾール，５−アミノ−ｏ−クレゾー
ル，２−アミノ−ｐ−クレゾール，２−アミノ−４−ｔ
−ブチルフェノール，２−アミノ−４−クロルフェノー
ル，４−アミノ−２，６−ジクロルフェノール，３−ア
ミノ−４−オトキシ安息香酸，４−アミノ−３−オトキ
シ安息香酸，２−アミノ−４−ニトロフェノール，２−
アミノ−５−ニトロフェノール，４−アミノ−２−ニト
ロフェノール，ｏ−アミノフェノール，ｍ−アミノフェ
ノール，ｐ−アミノフェノール，２−アミノフェノール
−４−スルホン酸，３−アミノ−サリチル酸，５−アミ
ノ−サリチル酸，ｐ−アミノ−サリチル酸，４−アミノ
−２，３−ジメチルフェノール，６−アミノ−２，４−
ジメチルフェノールのうちから選択することができる。
そして、ポリイソシアネートとアミノフェノールとの反
応において、イソシアネートとアミノ基との当量比は
１：０．９５〜１であることが望ましい。

【００２２】キノンジアジドスルホン酸ハロゲン化物と
しては、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホニルクロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−４−スルホニルクロリド、１，２−ベンゾキノン−
ジアジド−４−スルホニルクロリドのうちから選択で
き、アミノフェノール類化合物と、スルホン酸ハロゲン
化物との反応において、アミノフェノール類のヒドロキ
シル基とスルホン酸ハロゲン化物との当量比が１：０．
２〜１の間にあることが好ましい。

【００２３】本発明における電着塗料組成物において、
エマルション粒子の電荷はアクリル樹脂のカルボキシル
基と低分子アミン類とがイオンを発生することにより形
成されるが、ここで用いられる適当な低分子アミン類(I
II) としては、例えば、アンモニア水，エチルアミン，
メチルエチルアミン，ジエチルアミン，メチルエタノー
ルアミン，ジエタノールアミン，メチルジエチルアミ
ン，トリエチルアミンまたはトリエタノールアミンが適
当であるが、沸騰点の高いものを選択して有毒なアミン
類ガスが電着塗装浴槽から蒸発しないようにすることが
望ましい。

【００２４】前述したアクリル樹脂と感光性キノンジア
ジド化合物とを混合して均一に混ぜ合せると同時に、適
当な溶媒を添加してかき混ぜ、低分子アミン類および脱
イオン水を徐々に滴下しながら、ｐＨ値を７．０〜８．
０の間に保つとともに、固体含有量を８〜１２％に維持
し、アクリル樹脂と感光性キノンジアジド化合物との重
量比を１：０．２〜０．８３の間にコントロールする
と、柔軟性に優れた電着塗料組成物が得られ、電着塗装
ならびに加熱乾燥した後に平滑でピンホールの見られな
いフォシレジスト膜が形成できる。

【００２５】本発明の電着塗料組成物を使用する時、電
着塗装浴の温度を２８〜３０℃に、形成したい膜厚によ
り印加電圧を５〜１００Ｖの間にコントロールすること
が望ましい。そして、エマルション粒子はマイナスの電
荷を帯びているので、被電着塗装物はプラス極となり、
陰極はステンレス板に設けられ、通電時間の長さは３０
秒から３分間とする。プリント配線基板の製造工程にお
いて、被電着塗装物は銅張積層基板であり、電着塗装さ
れた後、銅メッキ層の表面にフォトレジスト層を生成
し、加熱乾燥した後、従来技術の通り、フォトレジスト
転写技術により回路パターンを形成することができる。

【００２６】

【実施例】以下に、本発明における具体的な合成例およ
び製造例について実施例として説明するが、もとより本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。

【００２７】（１）アクリル樹脂の合成４つ口フラスコに冷縮管，温度計，フィーダ管，かくは
ん棒をそれぞれ挿入し、窒素ガスを通気させながら温度
を１００℃とした後、７５．９ｇのシクロヘキサノンを
投入して約１０分間を経過した頃から、９００ｇのメタ
クリル酸メチル，１０２．４ｇのアクリル酸ブチル，７
８．５ｇの２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸お
よび１．５ｇの２，２′−アゾビスイソブチロニトリル
を徐々に滴下させながら混合溶液とし、６時間の反応に
より、分子量２２０００のアクリル樹脂を合成した。

【００２８】（２）アクリル樹脂の合成４つ口フラスコに冷縮管，温度計，フィーダ管，かくは
ん棒をそれぞれ挿入し、窒素ガスを通気させながら温度
を１００℃とした後、８５．７ｇのメトキシプロピレン
グコールを投入して約１０分間を経過した頃から、７
３．５ｇのメタクリル酸メチル，１１３．５ｇのアクリ
ル酸ブチル，１８．８ｇのメタクリル酸および２．５０
ｇの２，２′−アゾビスイソブチロニトリルを徐々に滴
下させながら混合溶液とし、６時間の反応により、分子
量１４０００のアクリル樹脂を合成した。

【００２９】（３）感光性樹脂Ａの合成４つ口フラスコに冷縮管，温度計，フィーダ管，かくは
ん棒をそれぞれ挿入し、温度を４０℃とした後、３８．
３ｇのトリレンジイソシアネートおよび５０．０ｇのア
セトンを投入し、かくはん棒で均一に混ぜ合せ、１時間
以内に２３．３ｇのテトラエチレングリコール，５０．
０ｇのアセトンおよび０．３ｇのジブチルスズジラウレ
ートを徐々に滴下させながら混合溶液とし、２時間の反
応の後に室温にまで冷却し、再び２２．０ｇのｏ−アミ
ノフェノールおよび１００．０ｇのアセトンを加えて徐
々に６０℃までに加熱して３時間維持させた後に室温に
まで冷却し、５１．０ｇの１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホニルクロライドを加えて均一に混
合させ、１時間以内に２１．１ｇのトリエチルアミンお
よび１００．０ｇのアセトンを徐々に滴下して、４時間
の反応させた後、この樹脂混合溶液を１％の塩酸溶液中
に投入し、かくはん及び樹脂状沈殿物の分離を行い、脱
イオン水で洗浄して１２５．２ｇの黄褐色の感光性樹脂
Ａを得た。生成率は９３％であった。

【００３０】（４）感光性樹脂Ｂの合成４つ口フラスコに冷縮管，温度計，フィーダ管，かくは
ん棒をそれぞれ挿入し、温度を４０℃とした後、３５．
３ｇの２，２−ヘキシルメチレンジイソシアネートおよ
び５０．０ｇのアセトンを投入し、かくはん棒で均一に
かき混ぜ、１時間以内に４６．８ｇのポリプロピレング
リコール（分子量４２５），１００．０ｇのアセトンお
よび０．３ｇのジブチルスズジラウレートを徐々に滴下
させながら混合溶液とし、２時間の反応を経て室温まで
冷却し、再び２１．８ｇのｏ−アミノフェノールおよび
５０．０ｇのアセトンを加えて徐々に６０℃まで加熱し
て３時間維持させた後に室温にまで冷却し、４５．６ｇ
の１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニ
ルクロライドを加えて均一に混合させ、１時間で１８．
０ｇのトリエチルアミンおよび１００．０ｇのアセトン
を徐々に滴下して４時間の反応を経て後、この樹脂混合
溶液を１％の塩酸溶液中に投入し、かくはん及び樹脂状
沈澱物の分離を行い、脱イオン水で洗浄して１３３．１
ｇの黄褐色の感光性樹脂Ｂを得た。生成率は８９％であ
った。

【００３１】（５）感光性樹脂Ｃの合成４つ口フラスコに冷縮管，温度計，フィーダ管，かくは
ん棒をそれぞれ挿入し、温度を４０℃とした後、３７．
０ｇの２，４−トリレンジイソシアネートおよび５０．
０ｇのアセトンを投入し、かくはん棒で均一にかき混
ぜ、１時間以内に５２．６ｇの脂肪族ポリエステルジオ
ール（ヒドロキシル当量２３９ｇ），１００．０ｇのア
セトンおよび０．３ｇのジブチルスズジラウレートを徐
々に滴下させながら混合溶液とし、２時間の反応を経て
室温にまで冷却し、再び２１．８ｇのｏ−アミノフェノ
ールおよび５０．０ｇのアセトンを加えて徐々に６０℃
まで加熱して３時間維持させた後に室温にまで冷却し、
５１．０ｇの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４
−スルホニルクロライドを加えて均一に混合させ、１時
間で１９．２ｇのトリエチルアミンおよび１００．０ｇ
のアセトンを徐々に滴下して４時間の反応を経て後、こ
の樹脂混合溶液を１％塩酸溶液中に投入し、かくはん及
び樹脂沈澱物の分離を行い、脱イオン水で洗浄して１３
３．１ｇの黄褐色の感光性樹脂Ｃを得た。生成率は９５
％であった。

【００３２】（６）感光性電着塗料組成物ａの製造１２．６３ｇの感光性樹脂Ａに１７．２４ｇのメトキシ
プロピレングリコールおよび１０．００ｇのブトキシエ
チレングリコールを完全に溶解させた後、３６．１０ｇ
のアクリル樹脂および３．２１ｇのトリエチルアミン
を加えて十分にかき混ぜ、４３５．００ｇの脱イオン水
で固体含有量が８％、ｐＨ値が７．７となるように稀釈
した。そして、このエマルションを電着塗装浴槽に入れ
て、銅張積層板をプラス極として１０Ｖで３０秒の通電
を行った後、銅張積層板を取り出して９０℃で１０分間
加熱乾燥して、膜厚４μｍのフォトレジスト膜を得た。
これに回路パターンマスクを被せて４００ｍＪ／cm²エ
ネルギー量の紫外線で露光し、１％ケイ酸ナトリウム水
溶液で洗いだし現像を行い、銅メッキ層上にフォトレジ
ストパターンを形成した後、過硫酸ナトリウム水溶液で
４０℃の温度条件に銅箔をエッチング処理して除去する
ことでシャープな解析度の高い回路パターンを得た。エ
ッチング処理した後も非露光部のフォトレジスト層に脱
膜現象およびピンホール発生現象は見られなかった。

【００３３】（７）感光性電着塗料組成物ｂの製造１８．５０ｇの感光性樹脂Ｂに２１．００ｇのブトキシ
エチレングリコールを完全に溶解させた後、４１．２０
ｇのアクリル樹脂および４．６１ｇのトリエチルアミ
ンを加えて十分にかき混ぜ、４１３．００ｇの脱イオン
水で固体含有量が１０％、ｐＨ値が７．５５となるよう
に稀釈した。そして、このエマルションを電着塗装浴槽
に入れて、銅張積層板をプラス極として１５Ｖで６０秒
の通電を行った後、銅張積層板を取り出して９０℃で１
０分間加熱乾燥して、膜厚７μｍのフォトレジスト膜を
得た。これに回路パターンマスクを被せて５００ｍＪ／
cm²エネルギー量の紫外線で露光し、１％ケイ酸ナトリ
ウム水溶液で洗いだし現像を行い、銅メッキ層上にフォ
トレジストパターンを形成した後、過硫酸ナトリウム水
溶液で４０℃の温度条件に銅箔をエッチング処理して除
去することでシャープな解析度の高い回路パターンを得
た。エッチング処理した後も非露光部のフォトレジスト
層に脱膜現象およびピンホール発生現象は見られなかっ
た。

【００３４】（８）感光性電着塗料組成物ｃの製造１０．２０ｇの感光性樹脂Ｃに１６．３０ｇのメトキシ
プロピレングリコールを完全に溶解させた後、３７．４
０ｇのアクリル樹脂および２．８５ｇのトリエチルア
ミンを加えて十分にかき混ぜ、４１４．００ｇの脱イオ
ン水で固体含有量が８％、ｐＨ値が７．４３となるよう
に稀釈した。そして、このエマルションを電着塗装浴槽
に入れて、銅張積層板をプラス極として１０Ｖで６０秒
の通電を行った後、銅張積層板を取り出して９０℃で１
０分間加熱乾燥して、膜厚５μｍのフォトレジスト膜を
得た。これに回路パターンマスクを被せて４００ｍＪ／
cm²エネルギー量の紫外線で露光し、１％ケイ酸ナトリ
ウム水溶液で洗いだし現像を行い、銅メッキ層上にフォ
トレジストパターンを形成した後、シャープな解析度の
高い回路パターンを得た。エッチング処理した後も非露
光部のフォトレジスト層に脱膜現象およびピンホール発
生現象は見られなかった。

【００３５】（９）比較例ここで、上述したアメリカパテント第 4,673,458号（以
下、公知例という）について、この発明との比較例をあ
げておくと、公知例に感光性成分として上げられた２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンおよび１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロライ
ドを１．０ｇ取り、５．０ｇのアクリル樹脂として７モ
ル％のメタクリル酸、１５モル％のメタクリル酸メチ
ル、２５モル％のヒドロキシメタクリラート、１０モル
％のアクリル酸ブチル、１８モル％のアクリル酸メチル
および２５モル％のジアセトンアクリルアミドを用意し
て、３．０ｇのブチルセロソルブを加えて反応させると
ともに、トリエタノールアミンを加えてｐＨ値７．５に
コントロールすると、樹脂状沈殿物以外の沈殿物が生成
された。この沈殿物は、公知例の感光性成分とアクリル
樹脂とが、その相溶性において劣るために生成されたと
推測される。

【００３６】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の感光
性キノンジアジド化合物は、ポリイソシアネートとアミ
ノフェノールと１，２−キノンジアジドスルホン酸ハロ
ゲン化物とを反応させて得られ、感光性キノンジアジド
化合物に含まれる感光性成分をポリウレタンの原料とな
る柔軟なポリイソシアネートにグラフトすることで優れ
た柔軟性を備えるとともに、この発明の感光性キノンジ
アジド化合物の分子量が大きいためにアクリル樹脂に対
して良好な相溶性を有する少なくとも２成分以上の多成
分系ポジ型感光性組成物を製造できる。従って、ポジ型
の感光性電着塗料組成物の製造において、柔軟性に富ん
でピンホールを発生させないと同時に、感光性を向上さ
せ、しかも金属基材に対する付着率を向上させたものを
提供できるので、産業上の利用価値が高い。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の化学式【化１】［式中、Ｒ¹は分子量１００〜１０００のポリエステル
またはポリエーテル残基、Ｘは２価の有機基、Ｙ¹は水
素，ヒドロキシル基，カルボキシル基，アルキル基また
はハロゲン、ｎは２または３、Ｚは水素，【化２】【化３】および【化４】よりなる群から選択される基、（ただし、ｎが２または
３である時のＺは少なくとも１つが化２，化３，化４で
示される基のいずれか１つである）をそれぞれ表わす］
で示される感光性キノンジアジド化合物。
【請求項２】上記感光性キノンジアジド化合物（Ｉ）
が、ポリイソシアネートと、化学式【化５】（式中、Ｙ²は水素，ヒドロキシル基，カルボキシル
基，アルキル基，ニトロ基またはハロゲンを表わす）で
示されるアミノフェノール類(II)と、１，２−キノンジ
アジドスルホン酸ハロゲン化物とを反応させて得られる
ものであって、ポリイソシアネート中のイソシアネート
基と、アミノフェノール類が含むアミノ基の当量比が
１：０．９５〜１で、かつアミノフェノール類が含むヒ
ドロキシル基と１，２−キノンジアジドスルホン酸ハロ
ゲン化物との当量比が１：０．２〜１である請求項１記
載の感光性キノンジアジド化合物。
【請求項３】カルボキシル基を含む（メタ）アクリル
系単量体３〜３０％と不飽和単量体７０〜９７％とを重
合させて得られる重量平均分子量が２５００〜２０００
００の（メタ）アクリル樹脂と、請求項１記載の感光性
キノンジアジド化合物（Ｉ）とを主成分とするポジ型感
光性組成物。
【請求項４】請求項３記載のポジ型感光性組成物と、
化学式【化６】（式中、Ｒ²,Ｒ³,Ｒ⁴は同一または異なっていてもよ
く、水素，炭素原子が１〜３個のアルキル基，または炭
素原子が２〜３個のヒドロキシアルキル基から選択され
る）で示される低分子アミン類(III) とからなる感光性
電着塗料組成物。