JPH08188625A - 硬化性樹脂 - Google Patents
硬化性樹脂Info
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- JPH08188625A JPH08188625A JP237195A JP237195A JPH08188625A JP H08188625 A JPH08188625 A JP H08188625A JP 237195 A JP237195 A JP 237195A JP 237195 A JP237195 A JP 237195A JP H08188625 A JPH08188625 A JP H08188625A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐吸水性、低複
屈折性、成形性、柔軟性等に優れ、光学用材料、高屈折
率コーティング等に適した硬化性樹脂を提供する。 【構成】 次の一般式（Ｉ）で表されるモノマー、及
び、分子内にラジカル重合可能である官能基を少なくと
も２個有し前記モノマーと共重合可能であるコモノマー
からなる共重合体からなることを特徴とする硬化性樹
脂。 式中、Ｒ1 は、水素、置換若しくは無置換のアルキル
基、又は、置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｒ
2 は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能で
ある官能基を表す。
屈折性、成形性、柔軟性等に優れ、光学用材料、高屈折
率コーティング等に適した硬化性樹脂を提供する。 【構成】 次の一般式（Ｉ）で表されるモノマー、及
び、分子内にラジカル重合可能である官能基を少なくと
も２個有し前記モノマーと共重合可能であるコモノマー
からなる共重合体からなることを特徴とする硬化性樹
脂。 式中、Ｒ1 は、水素、置換若しくは無置換のアルキル
基、又は、置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｒ
2 は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能で
ある官能基を表す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学用材料、高屈折率
コーティング等に適した硬化性樹脂に関する。
コーティング等に適した硬化性樹脂に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、軽量性、耐衝撃性、成形加工性等
の利点から、無機ガラスに代わり透明樹脂材料が広く使
われるようになっている。このような透明樹脂として
は、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（以
下「ＤＡＣ」という）や、ポリメチルメタクリレート
（以下「ＰＭＭＡ」という）等が挙げられる。
の利点から、無機ガラスに代わり透明樹脂材料が広く使
われるようになっている。このような透明樹脂として
は、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（以
下「ＤＡＣ」という）や、ポリメチルメタクリレート
（以下「ＰＭＭＡ」という）等が挙げられる。
【０００３】しかし、ＤＡＣやＰＭＭＡは、軽量性、耐
衝撃性等に優れているものの、屈折率が１．４９程度と
低いので、光学レンズとして用いる場合には、中心厚や
コバ厚が大きくなり、軽量化できない等の問題がある。
衝撃性等に優れているものの、屈折率が１．４９程度と
低いので、光学レンズとして用いる場合には、中心厚や
コバ厚が大きくなり、軽量化できない等の問題がある。
【０００４】特開平１−１１８８０２号公報、特開平３
−６７２０１号公報には、最高屈折率が、それぞれ、
１．６６３、１．６４０である芳香族基を有するビニル
ポリマーに関する技術が開示されている。しかしなが
ら、例えば、反射防止多層膜等への利用が可能となる高
い屈折率を得るには至っておらず、透明樹脂材料には、
より高い屈折率と更なる軽量化が求められているのが現
状である。
−６７２０１号公報には、最高屈折率が、それぞれ、
１．６６３、１．６４０である芳香族基を有するビニル
ポリマーに関する技術が開示されている。しかしなが
ら、例えば、反射防止多層膜等への利用が可能となる高
い屈折率を得るには至っておらず、透明樹脂材料には、
より高い屈折率と更なる軽量化が求められているのが現
状である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐吸水性、低複屈折
性、成形性、柔軟性等に優れ、光学用材料、高屈折率コ
ーティング等に適した硬化性樹脂を提供することを目的
とする。
み、透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐吸水性、低複屈折
性、成形性、柔軟性等に優れ、光学用材料、高屈折率コ
ーティング等に適した硬化性樹脂を提供することを目的
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、硬化性
樹脂を、次の一般式（Ｉ）で表されるモノマー、及び、
分子内にラジカル重合可能である官能基を少なくとも２
個有し前記モノマーと共重合可能であるコモノマーから
なる共重合体により構成するか、又は、次の一般式（Ｉ
ｂ）で表されるモノマーからなる単独重合体、又は、前
記モノマー及び前記モノマーと共重合可能であるコモノ
マーからなる共重合体により構成するところに存する。
樹脂を、次の一般式（Ｉ）で表されるモノマー、及び、
分子内にラジカル重合可能である官能基を少なくとも２
個有し前記モノマーと共重合可能であるコモノマーから
なる共重合体により構成するか、又は、次の一般式（Ｉ
ｂ）で表されるモノマーからなる単独重合体、又は、前
記モノマー及び前記モノマーと共重合可能であるコモノ
マーからなる共重合体により構成するところに存する。
【０００７】
【化４】
【０００８】式中、Ｒ1 は、水素、置換若しくは無置換
のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアリール基
を表す。Ｒ2 は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル
重合可能である官能基を表す。Ｒ1b、Ｒ2bは、独立し
て、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能であ
る官能基を表す。
のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアリール基
を表す。Ｒ2 は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル
重合可能である官能基を表す。Ｒ1b、Ｒ2bは、独立し
て、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能であ
る官能基を表す。
【０００９】上記Ｒ1 として挙げられるアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アリール基
としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、ナフチル
基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アルキル基、置換
アリール基としては、例えば、これらの基の１ヵ所以上
が、塩素原子、臭素原子、よう素原子の中から選ばれた
原子で置換されたもの等が挙げられる。
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アリール基
としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、ナフチル
基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アルキル基、置換
アリール基としては、例えば、これらの基の１ヵ所以上
が、塩素原子、臭素原子、よう素原子の中から選ばれた
原子で置換されたもの等が挙げられる。
【００１０】上記Ｒ2 、Ｒ1b、Ｒ2bとして挙げられる炭
素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能である官能
基としては、次の一般式（ＩＩ）で表される官能基、次
の一般式（ＩＩＩ）で表される官能基、次の一般式（Ｉ
Ｖ）で表される官能基、次の一般式（Ｖ）で表される官
能基、次の一般式（ＶＩ）で表される官能基、次の一般
式（ＶＩＩ）で表される官能基等が挙げられる。
素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能である官能
基としては、次の一般式（ＩＩ）で表される官能基、次
の一般式（ＩＩＩ）で表される官能基、次の一般式（Ｉ
Ｖ）で表される官能基、次の一般式（Ｖ）で表される官
能基、次の一般式（ＶＩ）で表される官能基、次の一般
式（ＶＩＩ）で表される官能基等が挙げられる。
【００１１】
【化５】
【００１２】式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 、Ａ5 、Ａ8 は、
独立して、炭素数１〜９のアルキレン基、又は、炭素数
１〜９のアルキレンカルボニル基を表す。Ａ4 は、炭素
数１〜９のアルキレン基を表す。Ａ6 は、共有結合又は
炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ａ7 は、炭素数１
〜６のアルキレン基を表す。Ａｒは、炭素数１〜１５の
置換又は無置換の芳香族基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、
ｅ、ｆは、独立して、０〜１０の整数を表す。ｇ、ｈ、
ｊは、独立して、０又は１を表す。
独立して、炭素数１〜９のアルキレン基、又は、炭素数
１〜９のアルキレンカルボニル基を表す。Ａ4 は、炭素
数１〜９のアルキレン基を表す。Ａ6 は、共有結合又は
炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ａ7 は、炭素数１
〜６のアルキレン基を表す。Ａｒは、炭素数１〜１５の
置換又は無置換の芳香族基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、
ｅ、ｆは、独立して、０〜１０の整数を表す。ｇ、ｈ、
ｊは、独立して、０又は１を表す。
【００１３】上記一般式（Ｉ）又は上記一般式（Ｉｂ）
で表されるモノマーのうち、好ましくは、次の一般式
（ＶＩＩＩ）で表されるモノマー、次の一般式（ＩＸ）
で表されるモノマー、次の一般式（Ｘ）で表されるモノ
マー、次の一般式（ＸＩ）で表されるモノマー、次の一
般式（ＸＩＩ）で表されるモノマー等が挙げられる。
で表されるモノマーのうち、好ましくは、次の一般式
（ＶＩＩＩ）で表されるモノマー、次の一般式（ＩＸ）
で表されるモノマー、次の一般式（Ｘ）で表されるモノ
マー、次の一般式（ＸＩ）で表されるモノマー、次の一
般式（ＸＩＩ）で表されるモノマー等が挙げられる。
【００１４】
【化６】
【００１５】式中、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｗ、ｘ
は、独立して、０〜１０の整数を表す。ｓ、ｔは、独立
して、１〜１０の整数を表す。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｒ7、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10は、独立して、水素原子
又はメチル基を表す。
は、独立して、０〜１０の整数を表す。ｓ、ｔは、独立
して、１〜１０の整数を表す。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｒ7、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10は、独立して、水素原子
又はメチル基を表す。
【００１６】更に、上記一般式（Ｉ）又は上記一般式
（Ｉｂ）で表されるモノマーとして、より好ましくは以
下のものが挙げられる。 ３，３′−ジフェニルビフェニル−４，４′−ビスアク
リレート ３，３′−ジフェニルビフェニル−４，４′−ビスメタ
クリレート ４，４′−ジ（２−アクリロイルオキシエトキシ）−
３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−アクリロイルオキシプロピルオキ
シ）−３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−メタクリロイルオキシエトキシ）−
３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−メタクリロイルオキシプロピルオキ
シ）−３，３′−ジフェニルビフェニル
（Ｉｂ）で表されるモノマーとして、より好ましくは以
下のものが挙げられる。 ３，３′−ジフェニルビフェニル−４，４′−ビスアク
リレート ３，３′−ジフェニルビフェニル−４，４′−ビスメタ
クリレート ４，４′−ジ（２−アクリロイルオキシエトキシ）−
３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−アクリロイルオキシプロピルオキ
シ）−３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−メタクリロイルオキシエトキシ）−
３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−メタクリロイルオキシプロピルオキ
シ）−３，３′−ジフェニルビフェニル
【００１７】４，４′−ジ（２−（２−アクリロイルオ
キシエトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニルビフ
ェニル ４，４′−ジ（２−（２−メタクリロイルオキシエトキ
シ）エトキシ）−３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−（２−アクリロイルオキシエ
トキシ）エトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニル
ビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−（２−メタクリロイルオキシ
エトキシ）エトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニ
ルビフェニル
キシエトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニルビフ
ェニル ４，４′−ジ（２−（２−メタクリロイルオキシエトキ
シ）エトキシ）−３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−（２−アクリロイルオキシエ
トキシ）エトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニル
ビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−（２−メタクリロイルオキシ
エトキシ）エトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニ
ルビフェニル
【００１８】４，４′−ジ（アリルオキシ）−３，３′
−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−アリルオキシエトキシ）−３，３′
−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−アリルオキシエトキシ）エト
キシ）−３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−（２−アリルオキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニルビフ
ェニル
−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−アリルオキシエトキシ）−３，３′
−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−アリルオキシエトキシ）エト
キシ）−３，３′−ジフェニルビフェニル ４，４′−ジ（２−（２−（２−アリルオキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシ）−３，３′−ジフェニルビフ
ェニル
【００１９】上記一般式（Ｉ）又は上記一般式（Ｉｂ）
で表される化合物の製造方法としては、例えば、次のよ
うな方法が挙げられる。例えば、上記一般式（Ｉ）で表
される化合物又は上記一般式（Ｉｂ）で表される化合物
として、ジアクリル酸エステル又はジメタクリル酸エス
テルを得る場合には、まず、２−フェニル−４−ブロモ
フェノールを、メタノール中でアルカリ及びパラジウム
触媒の存在下、脱ブロム化二量化反応をさせ、３，３′
−ジフェニル−４，４′−ジヒドロキシビフェニル（以
下「ＤＨＱ−Ｏ」という）を得る。次に、上記ＤＨＱ−
Ｏを直接、又は、上記ＤＨＱ−Ｏを３，３′−ジフェニ
ル−４，４′−ジヒドロキシアルキルオキシビフェニル
（以下「ＤＨＱ−Ｏ−ＡＯ」という）に変換してから、
これらが有する水酸基と、アクリル酸又はメタクリル酸
とを縮合させればよい。
で表される化合物の製造方法としては、例えば、次のよ
うな方法が挙げられる。例えば、上記一般式（Ｉ）で表
される化合物又は上記一般式（Ｉｂ）で表される化合物
として、ジアクリル酸エステル又はジメタクリル酸エス
テルを得る場合には、まず、２−フェニル−４−ブロモ
フェノールを、メタノール中でアルカリ及びパラジウム
触媒の存在下、脱ブロム化二量化反応をさせ、３，３′
−ジフェニル−４，４′−ジヒドロキシビフェニル（以
下「ＤＨＱ−Ｏ」という）を得る。次に、上記ＤＨＱ−
Ｏを直接、又は、上記ＤＨＱ−Ｏを３，３′−ジフェニ
ル−４，４′−ジヒドロキシアルキルオキシビフェニル
（以下「ＤＨＱ−Ｏ−ＡＯ」という）に変換してから、
これらが有する水酸基と、アクリル酸又はメタクリル酸
とを縮合させればよい。
【００２０】上記ＤＨＱ−Ｏ−ＡＯは、例えば、上記Ｄ
ＨＱ−Ｏと、例えば、エチレンカーボネート、エチレン
オキシド、プロピレンカーボネート、プロピレンオキシ
ド等とを適当な触媒の存在下で反応させる方法；上記Ｄ
ＨＱ−Ｏと、例えば、２−クロロエタノール、３−クロ
ロ−２−プロパノール、２−（２−クロロエトキシ）エ
タノール、２−（２−（２−クロロエトキシ）エトキ
シ）エタノール等のハロゲノアルカノールとを、例え
ば、トリエチルアミンやピリジン等の酸補足剤の存在下
で反応させる方法等により得ることができる。
ＨＱ−Ｏと、例えば、エチレンカーボネート、エチレン
オキシド、プロピレンカーボネート、プロピレンオキシ
ド等とを適当な触媒の存在下で反応させる方法；上記Ｄ
ＨＱ−Ｏと、例えば、２−クロロエタノール、３−クロ
ロ−２−プロパノール、２−（２−クロロエトキシ）エ
タノール、２−（２−（２−クロロエトキシ）エトキ
シ）エタノール等のハロゲノアルカノールとを、例え
ば、トリエチルアミンやピリジン等の酸補足剤の存在下
で反応させる方法等により得ることができる。
【００２１】好ましくは、エチレンカーボネート又はプ
ロピレンカーボネートを用いる方法である。この場合に
は、反応が速く、副反応が制御しやすく、付加モル数の
制御が容易になる。
ロピレンカーボネートを用いる方法である。この場合に
は、反応が速く、副反応が制御しやすく、付加モル数の
制御が容易になる。
【００２２】上記ＤＨＱ−Ｏが有する水酸基又は上記Ｄ
ＨＱ−Ｏ−ＡＯが有する水酸基と、アクリル酸又はメタ
クリル酸とを縮合させる方法としては、例えば、硫酸、
塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、強酸性イオン交換樹脂
等の存在下で行う直接エステル化反応；酢酸ナトリウ
ム、酢酸カルシウム等の金属塩、酸化アンチモン等の金
属酸化物、チタンテトラブトキシド等の金属アルコキシ
ド等の触媒の存在下又は非存在下で行うＤＨＱ−Ｏ又は
ＤＨＱ−Ｏ−ＡＯと、アクリル酸のメチルエステル又は
メタクリル酸のメチルエステルとのエステル交換反応；
トリエチルアミン、ピリジン等の酸補足剤の存在下で行
うＤＨＱ−Ｏ又はＤＨＱ−Ｏ−ＡＯと、アクリル酸クロ
リド又はメタクリル酸クロリドとの反応；ＤＨＱ−Ｏの
ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩と、アク
リル酸、メタクリル酸、又は、これらの酸クロリドとの
反応等が挙げられる。
ＨＱ−Ｏ−ＡＯが有する水酸基と、アクリル酸又はメタ
クリル酸とを縮合させる方法としては、例えば、硫酸、
塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、強酸性イオン交換樹脂
等の存在下で行う直接エステル化反応；酢酸ナトリウ
ム、酢酸カルシウム等の金属塩、酸化アンチモン等の金
属酸化物、チタンテトラブトキシド等の金属アルコキシ
ド等の触媒の存在下又は非存在下で行うＤＨＱ−Ｏ又は
ＤＨＱ−Ｏ−ＡＯと、アクリル酸のメチルエステル又は
メタクリル酸のメチルエステルとのエステル交換反応；
トリエチルアミン、ピリジン等の酸補足剤の存在下で行
うＤＨＱ−Ｏ又はＤＨＱ−Ｏ−ＡＯと、アクリル酸クロ
リド又はメタクリル酸クロリドとの反応；ＤＨＱ−Ｏの
ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩と、アク
リル酸、メタクリル酸、又は、これらの酸クロリドとの
反応等が挙げられる。
【００２３】上記エステル化反応では、例えば、ヒドロ
キノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール等の重合禁止剤を用
いてもよい。上記重合禁止剤の添加量は、アクリル酸、
メタクリル酸、又は、これらの誘導体に対し１〜２０重
量％が好ましい。
キノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール等の重合禁止剤を用
いてもよい。上記重合禁止剤の添加量は、アクリル酸、
メタクリル酸、又は、これらの誘導体に対し１〜２０重
量％が好ましい。
【００２４】上記一般式（Ｉ）又は上記一般式（Ｉｂ）
で表されるモノマーと共重合可能であるコモノマーとし
ては、スチレン誘導体、ビニルエステル、（メタ）アク
リル酸誘導体、アリル化合物、ジメルカプト化合物等が
挙げられる。
で表されるモノマーと共重合可能であるコモノマーとし
ては、スチレン誘導体、ビニルエステル、（メタ）アク
リル酸誘導体、アリル化合物、ジメルカプト化合物等が
挙げられる。
【００２５】上記スチレン誘導体としては、例えば、ス
チレン、ｐ−メチル−α−メチルスチレン、ｐ−メチル
スチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−クロロスチレン、
ｐ−ブロモスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｐ−ヨード
スチレン、ｐ−シアノスチレン、ジビニルベンゼン等が
挙げられる。上記ビニルエステルとしては、例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げられる。
チレン、ｐ−メチル−α−メチルスチレン、ｐ−メチル
スチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−クロロスチレン、
ｐ−ブロモスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｐ−ヨード
スチレン、ｐ−シアノスチレン、ジビニルベンゼン等が
挙げられる。上記ビニルエステルとしては、例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げられる。
【００２６】上記（メタ）アクリル酸誘導体としては、
例えば、以下のものが挙げられる。 メチルアクリレート メチルメタクリレート エチルアクリレート エチルメタクリレート ブチルアクリレート ブチルメタクリレート フェニルアクリレート フェニルメタクリレート クロロフェニルアクリレート クロロフェニルメタクリレート ブロモフェニルアクリレート ブロモフェニルメタクリレート
例えば、以下のものが挙げられる。 メチルアクリレート メチルメタクリレート エチルアクリレート エチルメタクリレート ブチルアクリレート ブチルメタクリレート フェニルアクリレート フェニルメタクリレート クロロフェニルアクリレート クロロフェニルメタクリレート ブロモフェニルアクリレート ブロモフェニルメタクリレート
【００２７】アクリロニトリル メタクリロニトリル ベンジルアクリレート ベンジルメタクリレート ビフェニルアクリレート ビフェニルメタクリレート ナフチルアクリレート ナフチルメタクリレート ２−ヒドロキシエチルアクリレート ２−ヒドロキシエチルメタクリレート
【００２８】グリシジルアクリレート グリシジルメタクリレート エポキシアクリレート エポキシメタクリレート エチレングリコールビスアクリレート エチレングリコールビスメタクリレート ジエチレングリコールビスアクリレート ジエチレングリコールビスメタクリレート トリエチレングリコールビスアクリレート トリエチレングリコールビスメタクリレート
【００２９】１，６−ヘキサンジオールビスアクリレー
ト １，６−ヘキサンジオールビスメタクリレート ビスフェノールＡのビスアクリレート ビスフェノールＡのビスメタクリレート ビスフェノールＡエチレンオキシド付加物のビスアクリ
レート ビスフェノールＡエチレンオキシド付加物のビスメタク
リレート ビスフェノールＡプロピレンオキシド付加物のビスアク
リレート ビスフェノールＡプロピレンオキシド付加物のビスメタ
クリレート テトラブロモビスフェノールＡエチレンオキシド付加物
のビスアクリレート テトラブロモビスフェノールＡエチレンオキシド付加物
のビスメタクリレート テトラブロモビスフェノールＡプロピレンオキシド付加
物のビスアクリレート テトラブロモビスフェノールＡプロピレンオキシド付加
物のビスメタクリレート ｐ−キシリレンビス（２−アクリロイルオキシエチルス
ルフィド） ｐ−キシリレンビス（２−メタクリロイルオキシエチル
スルフィド）
ト １，６−ヘキサンジオールビスメタクリレート ビスフェノールＡのビスアクリレート ビスフェノールＡのビスメタクリレート ビスフェノールＡエチレンオキシド付加物のビスアクリ
レート ビスフェノールＡエチレンオキシド付加物のビスメタク
リレート ビスフェノールＡプロピレンオキシド付加物のビスアク
リレート ビスフェノールＡプロピレンオキシド付加物のビスメタ
クリレート テトラブロモビスフェノールＡエチレンオキシド付加物
のビスアクリレート テトラブロモビスフェノールＡエチレンオキシド付加物
のビスメタクリレート テトラブロモビスフェノールＡプロピレンオキシド付加
物のビスアクリレート テトラブロモビスフェノールＡプロピレンオキシド付加
物のビスメタクリレート ｐ−キシリレンビス（２−アクリロイルオキシエチルス
ルフィド） ｐ−キシリレンビス（２−メタクリロイルオキシエチル
スルフィド）
【００３０】上記アリル化合物としては、例えば、ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート、ジアリルフ
タレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタ
レート、エポキシコハク酸ジアリル、アリルフェニルシ
ラン、ジアリルジメチルシラン、テトラクロロフタル酸
ジアリル、アリルメタクリレート等が挙げられる。
チレングリコールビスアリルカーボネート、ジアリルフ
タレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタ
レート、エポキシコハク酸ジアリル、アリルフェニルシ
ラン、ジアリルジメチルシラン、テトラクロロフタル酸
ジアリル、アリルメタクリレート等が挙げられる。
【００３１】上記ジメルカプト化合物としては、例え
ば、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカ
プトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、４，
４′−ジメルカプトジフェニルスルフィド等が挙げられ
る。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用し
てもよい。
ば、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカ
プトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、４，
４′−ジメルカプトジフェニルスルフィド等が挙げられ
る。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用し
てもよい。
【００３２】上記一般式（Ｉ）で表されるモノマー又は
上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーと、ジメルカプ
ト化合物以外の上記一般式（Ｉ）で表されるモノマー又
は上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーと共重合可能
であるコモノマーとの共重合には、公知の方法が用いら
れる。上記共重合での上記一般式（Ｉ）で表されるモノ
マー又は上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーの添加
量は、全仕込モノマー１００重量部に対して２５〜９９
重量部が好ましい。より好ましくは、３０〜９０重量部
である。
上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーと、ジメルカプ
ト化合物以外の上記一般式（Ｉ）で表されるモノマー又
は上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーと共重合可能
であるコモノマーとの共重合には、公知の方法が用いら
れる。上記共重合での上記一般式（Ｉ）で表されるモノ
マー又は上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーの添加
量は、全仕込モノマー１００重量部に対して２５〜９９
重量部が好ましい。より好ましくは、３０〜９０重量部
である。
【００３３】上記一般式（Ｉ）で表されるモノマー又は
上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーと共重合可能で
あるコモノマーとしてジメルカプト化合物を用いる場
合、上記一般式（Ｉ）で表されるモノマー又は上記一般
式（Ｉｂ）で表されるモノマーの添加量は、上記ジメル
カプト化合物以外のコモノマーを用いる場合と同様であ
り、かつ全仕込モノマー中でラジカル重合可能である炭
素−炭素二重結合に対する上記ジメルカプト化合物が有
するメルカプト基のモル比が、１．１を超えないことが
好ましい。上記モル比が１．１を超えると、硬化反応が
充分進行しない。
上記一般式（Ｉｂ）で表されるモノマーと共重合可能で
あるコモノマーとしてジメルカプト化合物を用いる場
合、上記一般式（Ｉ）で表されるモノマー又は上記一般
式（Ｉｂ）で表されるモノマーの添加量は、上記ジメル
カプト化合物以外のコモノマーを用いる場合と同様であ
り、かつ全仕込モノマー中でラジカル重合可能である炭
素−炭素二重結合に対する上記ジメルカプト化合物が有
するメルカプト基のモル比が、１．１を超えないことが
好ましい。上記モル比が１．１を超えると、硬化反応が
充分進行しない。
【００３４】上記共重合は、一般的なラジカル重合開始
剤を用いて、例えば、塊状重合、溶液重合、乳化重合、
懸濁重合等の公知の方法により行うことができる。上記
溶液重合で用いられる溶媒としては、上記モノマーを溶
解するものであれば特に限定されず、例えば、トルエ
ン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトン等の一般的なラ
ジカル重合溶媒が挙げられる。
剤を用いて、例えば、塊状重合、溶液重合、乳化重合、
懸濁重合等の公知の方法により行うことができる。上記
溶液重合で用いられる溶媒としては、上記モノマーを溶
解するものであれば特に限定されず、例えば、トルエ
ン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトン等の一般的なラ
ジカル重合溶媒が挙げられる。
【００３５】上記ラジカル重合開始剤としては、１０時
間半減期温度が１２０℃以下である有機過酸化物又はア
ゾ化合物等が好ましい。上記ラジカル重合開始剤として
は特に限定されず、例えば、ジイソプロピルペルオキシ
ジカーボネート、ターシャリブチルペルオキシ−２−エ
チルヘキサノエート、ターシャリブチルペルオキシピバ
レート、ターシャリブチルぺルオキシジイソブチレー
ト、過酸化ラウロイル、アゾビスイソブチロニトリル、
これらの混合物等が挙げられる。
間半減期温度が１２０℃以下である有機過酸化物又はア
ゾ化合物等が好ましい。上記ラジカル重合開始剤として
は特に限定されず、例えば、ジイソプロピルペルオキシ
ジカーボネート、ターシャリブチルペルオキシ−２−エ
チルヘキサノエート、ターシャリブチルペルオキシピバ
レート、ターシャリブチルぺルオキシジイソブチレー
ト、過酸化ラウロイル、アゾビスイソブチロニトリル、
これらの混合物等が挙げられる。
【００３６】上記ラジカル重合開始剤の添加量は、全モ
ノマーに対して０．０１〜１０重量％が好ましい。より
好ましくは、０．１〜５重量％である。上記共重合は、
２０〜２００℃で１〜７０時間行うのが好ましい。
ノマーに対して０．０１〜１０重量％が好ましい。より
好ましくは、０．１〜５重量％である。上記共重合は、
２０〜２００℃で１〜７０時間行うのが好ましい。
【００３７】上記共重合は、一般的な光重合によって行
うこともできる。上記光重合で用いられる光重合開始剤
としては特に限定されず、例えば、アセトフェノン、ジ
エトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系；ベ
ンゾイン、ベンジルメチルケタール等のベンゾイン系；
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェ
ニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；チオキサン
ソン系等が挙げられる。上記光重合開始剤の添加量は、
全モノマーに対して０．０１〜１０重量％が好ましい。
より好ましくは０．０５〜５重量％である。上記光重合
での照射光量は、０．０１〜１００Ｊ／ｃｍ2 が好まし
い。より好ましくは０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2 である。
うこともできる。上記光重合で用いられる光重合開始剤
としては特に限定されず、例えば、アセトフェノン、ジ
エトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系；ベ
ンゾイン、ベンジルメチルケタール等のベンゾイン系；
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェ
ニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；チオキサン
ソン系等が挙げられる。上記光重合開始剤の添加量は、
全モノマーに対して０．０１〜１０重量％が好ましい。
より好ましくは０．０５〜５重量％である。上記光重合
での照射光量は、０．０１〜１００Ｊ／ｃｍ2 が好まし
い。より好ましくは０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2 である。
【００３８】本発明では、上記ラジカル重合と上記光重
合とを組み合わせて使用してもよい。本発明では、上記
共重合は、系を、例えば、窒素、二酸化炭素、アルゴン
等の不活性ガス雰囲気にして行うことが好ましい。
合とを組み合わせて使用してもよい。本発明では、上記
共重合は、系を、例えば、窒素、二酸化炭素、アルゴン
等の不活性ガス雰囲気にして行うことが好ましい。
【００３９】本発明では、上記共重合を行う際に、例え
ば、染料、顔料、添加物等を添加してもよい。上記添加
物としては特に限定されず、例えば、ヘキサブロモシク
ロドデカン、トリス−（２，３−ジクロロプロピル）ホ
スフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等の
難燃剤；トリフェニルホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、２−ｔ−ブチル−α−（３−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）−ｐ−クメニルビス（ｐ−ノニ
ルフェニル）ホスファイト等の熱安定剤；ｐ−ｔ−ブチ
ルフェニルサリシレート、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
２′−カルボキシベンゾフェノン、２，４，５−トリヒ
ドロキシブチロフェノン等の紫外線吸収剤；ブチルヒド
ロキシアニソール、ブチルヒドロキシトルエン、ジステ
アリルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピ
オネート等の酸化防止剤；Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエ
チル）アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、
アルキルスルファネート等の帯電防止剤等が挙げられ
る。
ば、染料、顔料、添加物等を添加してもよい。上記添加
物としては特に限定されず、例えば、ヘキサブロモシク
ロドデカン、トリス−（２，３−ジクロロプロピル）ホ
スフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等の
難燃剤；トリフェニルホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、２−ｔ−ブチル−α−（３−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）−ｐ−クメニルビス（ｐ−ノニ
ルフェニル）ホスファイト等の熱安定剤；ｐ−ｔ−ブチ
ルフェニルサリシレート、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
２′−カルボキシベンゾフェノン、２，４，５−トリヒ
ドロキシブチロフェノン等の紫外線吸収剤；ブチルヒド
ロキシアニソール、ブチルヒドロキシトルエン、ジステ
アリルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピ
オネート等の酸化防止剤；Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエ
チル）アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、
アルキルスルファネート等の帯電防止剤等が挙げられ
る。
【００４０】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例１ ３，３′−ジフェニルビフェニル−４，４′−ビスアク
リレート８０重量部、メチルメタクリレート２０重量部
からなる原料混合モノマーに、ジイソプロピルペルオキ
シジカーボネート２重量部を混合し、モノマー組成物を
得た。このモノマー組成物を真空下におくことにより脱
気し、窒素により常圧に戻した。この操作を３回繰り返
した。
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例１ ３，３′−ジフェニルビフェニル−４，４′−ビスアク
リレート８０重量部、メチルメタクリレート２０重量部
からなる原料混合モノマーに、ジイソプロピルペルオキ
シジカーボネート２重量部を混合し、モノマー組成物を
得た。このモノマー組成物を真空下におくことにより脱
気し、窒素により常圧に戻した。この操作を３回繰り返
した。
【００４１】次いで２枚のガラス板でシリコンゴムガス
ケットを挟んで作成した型枠の中にこのモノマー組成物
を注入した。この型枠を４０℃の恒温槽に入れ、１２時
間さらに１２０℃で２時間加熱した。この型枠より取り
出した樹脂をさらに１００℃で１時間熱処理した後アッ
ベ屈折計により屈折率を測定した。
ケットを挟んで作成した型枠の中にこのモノマー組成物
を注入した。この型枠を４０℃の恒温槽に入れ、１２時
間さらに１２０℃で２時間加熱した。この型枠より取り
出した樹脂をさらに１００℃で１時間熱処理した後アッ
ベ屈折計により屈折率を測定した。
【００４２】耐熱性および耐溶剤性を以下のようにして
評価した。 耐熱性）得られた樹脂を１４０℃のオーブンの中に２時
間放置した後の変形着色のないものを合格として○と
し、不合格を×とした。 耐溶剤性）得られた樹脂をアセトン及びトルエン中に２
３℃で２４時間浸漬し、溶剤に膨潤及び溶解しないもの
を合格として○とし、不合格を×とした。結果を表１に
示した。
評価した。 耐熱性）得られた樹脂を１４０℃のオーブンの中に２時
間放置した後の変形着色のないものを合格として○と
し、不合格を×とした。 耐溶剤性）得られた樹脂をアセトン及びトルエン中に２
３℃で２４時間浸漬し、溶剤に膨潤及び溶解しないもの
を合格として○とし、不合格を×とした。結果を表１に
示した。
【００４３】実施例２〜７ 表１に示すモノマー組成物を用いたこと以外は、実施例
１と同様にして行った。結果を表１に示した。
１と同様にして行った。結果を表１に示した。
【００４４】比較例１〜３ 表１に示すモノマー組成物を用いたこと以外は、実施例
１と同様にして行った。結果を表１に示した。
１と同様にして行った。結果を表１に示した。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【発明の効果】本発明の硬化性樹脂は上述の構成よりな
るので、透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐吸水性、低複屈
折性、成形性、柔軟性等に優れており、プラスチックレ
ンズ、光ファイバー、光学素子等の光学用樹脂や高屈折
率コーティング等として広範な工業的用途に好適に利用
できる。
るので、透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐吸水性、低複屈
折性、成形性、柔軟性等に優れており、プラスチックレ
ンズ、光ファイバー、光学素子等の光学用樹脂や高屈折
率コーティング等として広範な工業的用途に好適に利用
できる。
フロントページの続き (72)発明者 斉藤 寅之助 大阪府茨木市山手台５丁目17番21号 (72)発明者 角町 博記 大阪府茨木市南春日丘１丁目11番３号
Claims (3)
- 【請求項１】 次の一般式（Ｉ）で表されるモノマー、
及び、分子内にラジカル重合可能である官能基を少なく
とも２個有し前記モノマーと共重合可能であるコモノマ
ーからなる共重合体からなることを特徴とする硬化性樹
脂。 【化１】 式中、Ｒ1 は、水素、置換若しくは無置換のアルキル
基、又は、置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｒ
2 は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能で
ある官能基を表す。 - 【請求項２】 次の一般式（Ｉｂ）で表されるモノマー
からなる単独重合体、又は、前記モノマー及び前記モノ
マーと共重合可能であるコモノマーからなる共重合体か
らなることを特徴とする硬化性樹脂。 【化２】 式中、Ｒ1b、Ｒ2bは、独立して、炭素−炭素二重結合を
有するラジカル重合可能である官能基を表す。 - 【請求項３】 炭素−炭素二重結合を有するラジカル重
合可能である官能基が、次の一般式（ＩＩ）で表される
官能基、次の一般式（ＩＩＩ）で表される官能基、次の
一般式（ＩＶ）で表される官能基、次の一般式（Ｖ）で
表される官能基、次の一般式（ＶＩ）で表される官能
基、及び、次の一般式（ＶＩＩ）で表される官能基より
なる群から選択された少なくとも１種である請求項１又
は２記載の硬化性樹脂。 【化３】 式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 、Ａ5 、Ａ8 は、独立して、炭
素数１〜９のアルキレン基、又は、炭素数１〜９のアル
キレンカルボニル基を表す。Ａ4 は、炭素数１〜９のア
ルキレン基を表す。Ａ6 は、共有結合又は炭素数１〜６
のアルキレン基を表す。Ａ7 は、炭素数１〜６のアルキ
レン基を表す。Ａｒは、炭素数１〜１５の置換又は無置
換の芳香族基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆは、独立
して、０〜１０の整数を表す。ｇ、ｈ、ｊは、独立し
て、０又は１を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00237195A JP3604754B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 硬化性樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00237195A JP3604754B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 硬化性樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08188625A true JPH08188625A (ja) | 1996-07-23 |
| JP3604754B2 JP3604754B2 (ja) | 2004-12-22 |
Family
ID=11527399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00237195A Expired - Fee Related JP3604754B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 硬化性樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3604754B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008247755A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Nippon Kayaku Co Ltd | （メタ）アクリレート化合物及びそれを含有する樹脂組成物並びにその硬化物 |
| JP2011162624A (ja) * | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 低複屈折性の共重合体及び成形体 |
| JP2012229219A (ja) * | 2012-06-12 | 2012-11-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | ウレタン（メタ）アクリレート化合物 |
| US20150141692A1 (en) * | 2007-03-09 | 2015-05-21 | 3M Innovative Properties Company | Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films |
| US9164195B2 (en) | 2007-03-07 | 2015-10-20 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making microstructured optical films comprising biphenyl difunctional monomers |
| WO2022136231A1 (en) * | 2020-12-22 | 2022-06-30 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
| WO2024004962A1 (ja) * | 2022-06-28 | 2024-01-04 | 三光株式会社 | 化合物、屈折率向上剤及び重合体 |
-
1995
- 1995-01-11 JP JP00237195A patent/JP3604754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9164195B2 (en) | 2007-03-07 | 2015-10-20 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making microstructured optical films comprising biphenyl difunctional monomers |
| US9885807B2 (en) | 2007-03-09 | 2018-02-06 | 3M Innovative Properties Company | Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films |
| US20150141692A1 (en) * | 2007-03-09 | 2015-05-21 | 3M Innovative Properties Company | Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films |
| US9221743B2 (en) * | 2007-03-09 | 2015-12-29 | 3M Innovative Properties Company | Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films |
| JP2008247755A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Nippon Kayaku Co Ltd | （メタ）アクリレート化合物及びそれを含有する樹脂組成物並びにその硬化物 |
| JP2011162624A (ja) * | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 低複屈折性の共重合体及び成形体 |
| JP2012229219A (ja) * | 2012-06-12 | 2012-11-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | ウレタン（メタ）アクリレート化合物 |
| WO2022136231A1 (en) * | 2020-12-22 | 2022-06-30 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
| CN116940653A (zh) * | 2020-12-22 | 2023-10-24 | 默克专利股份有限公司 | 可聚合化合物及其在液晶显示器中的用途 |
| CN116940653B (zh) * | 2020-12-22 | 2025-12-12 | 默克专利股份有限公司 | 可聚合化合物及其在液晶显示器中的用途 |
| TWI910295B (zh) * | 2020-12-22 | 2026-01-01 | 德商馬克專利公司 | 可聚合化合物及其在液晶顯示器中之用途 |
| WO2024004962A1 (ja) * | 2022-06-28 | 2024-01-04 | 三光株式会社 | 化合物、屈折率向上剤及び重合体 |
| JPWO2024004962A1 (ja) * | 2022-06-28 | 2024-01-04 |
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