JPH05303003A - 光学材料用組成物及び光学材料 - Google Patents
光学材料用組成物及び光学材料Info
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- JPH05303003A JPH05303003A JP11001092A JP11001092A JPH05303003A JP H05303003 A JPH05303003 A JP H05303003A JP 11001092 A JP11001092 A JP 11001092A JP 11001092 A JP11001092 A JP 11001092A JP H05303003 A JPH05303003 A JP H05303003A
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- formula
- chemical
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 主成分として式I及びIIの有機硫黄化合物を
含む光学用材料組成物及び該光学材料用組成物を重合硬
化させてなる屈曲率が1.55以上の光学材料。 (Xは、ハロゲン原子又はメチル基を示す。またlは、
1又は2を示し、m及びnは、0又は1を示す) (R1、R2は同一若しくは異なる基であって、H又は
メチル基を示す。p、qは0〜5の整数を示す) 【効果】 低臭性で、ハンドリング性に優れ、硬化重合
の反応制御・成型が容易で、高い屈折率・アッベ数、小
さい色収差・光学歪、優れた光学的透明性、耐熱性、耐
溶剤性及び耐衝撃性等を有し、軽量化が可能である。メ
ガネ、カメラ、光学用素材等のプラスチックレンズ用等
の光学材料として有用である。
含む光学用材料組成物及び該光学材料用組成物を重合硬
化させてなる屈曲率が1.55以上の光学材料。 (Xは、ハロゲン原子又はメチル基を示す。またlは、
1又は2を示し、m及びnは、0又は1を示す) (R1、R2は同一若しくは異なる基であって、H又は
メチル基を示す。p、qは0〜5の整数を示す) 【効果】 低臭性で、ハンドリング性に優れ、硬化重合
の反応制御・成型が容易で、高い屈折率・アッベ数、小
さい色収差・光学歪、優れた光学的透明性、耐熱性、耐
溶剤性及び耐衝撃性等を有し、軽量化が可能である。メ
ガネ、カメラ、光学用素材等のプラスチックレンズ用等
の光学材料として有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光学材料用組成物及び光
学材料に関し、更に詳しくは、屈折率、色収差、透明度
等の光学特性および種々の機械的特性に優れた光学材料
用組成物及び光学材料に関する。
学材料に関し、更に詳しくは、屈折率、色収差、透明度
等の光学特性および種々の機械的特性に優れた光学材料
用組成物及び光学材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、軽量性、成形容易性、耐衝撃性お
よび染色性などに優れた合成樹脂材料が、無機ガラスに
代わってレンズ材料として使用されている。該合成樹脂
材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポ
リジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリ
スチレン、ポリカーボネートが知られている。前記ポリ
メチルメタクリレート、ポリジエチレングリコールビス
アリルカーボネートは、軽量性、耐衝撃性に優れている
ものの、屈折率が1.49程度と低いためレンズとして
用いる場合、無機ガラスに比べて厚いレンズが要求さ
れ、高倍率化、軽量化には適さないという欠点がある。
また、前記ポリスチレン、ポリカーボネートにおいては
屈折率が、1.58〜1.59程度と高いものの、熱可
塑性樹脂であるため、射出成形時に複屈折による光学歪
を生じやすいという問題があり、ほかにも耐溶剤性、耐
摩擦性に欠けるなどの欠点がある。
よび染色性などに優れた合成樹脂材料が、無機ガラスに
代わってレンズ材料として使用されている。該合成樹脂
材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポ
リジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリ
スチレン、ポリカーボネートが知られている。前記ポリ
メチルメタクリレート、ポリジエチレングリコールビス
アリルカーボネートは、軽量性、耐衝撃性に優れている
ものの、屈折率が1.49程度と低いためレンズとして
用いる場合、無機ガラスに比べて厚いレンズが要求さ
れ、高倍率化、軽量化には適さないという欠点がある。
また、前記ポリスチレン、ポリカーボネートにおいては
屈折率が、1.58〜1.59程度と高いものの、熱可
塑性樹脂であるため、射出成形時に複屈折による光学歪
を生じやすいという問題があり、ほかにも耐溶剤性、耐
摩擦性に欠けるなどの欠点がある。
【0003】そこで最近になって、高屈折率であってこ
れら従来の欠点を改善するためのいくつかの技術提案が
なされている。例えば、特開平1−309002号公報
には、ジスチリル型の有機硫黄化合物と、3価又は4価
のチオール化合物とを硬化させてなるプラスチックレン
ズが、また特開平1−315701号公報には、分子内
にビニル基をモル平均で1.3個以上有する化合物と、
チオール基をモル平均で1.1個以上有する化合物とを
特定の割合で混合し硬化させてなる含硫黄プラスチック
レンズが、更に、特開平2−58001号公報には、ジ
メルカプトベンゼン核置換物と1分子あたり少なくとも
2個の反応性不飽和基を有する化合物とを反応させて得
られる高屈折率光学用樹脂がそれぞれ提案されている。
れら従来の欠点を改善するためのいくつかの技術提案が
なされている。例えば、特開平1−309002号公報
には、ジスチリル型の有機硫黄化合物と、3価又は4価
のチオール化合物とを硬化させてなるプラスチックレン
ズが、また特開平1−315701号公報には、分子内
にビニル基をモル平均で1.3個以上有する化合物と、
チオール基をモル平均で1.1個以上有する化合物とを
特定の割合で混合し硬化させてなる含硫黄プラスチック
レンズが、更に、特開平2−58001号公報には、ジ
メルカプトベンゼン核置換物と1分子あたり少なくとも
2個の反応性不飽和基を有する化合物とを反応させて得
られる高屈折率光学用樹脂がそれぞれ提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前述の光
学用樹脂は、高屈折率を有しているものの色収差の点で
問題があり、さらに原料に用いるチオール化合物の悪臭
が強く、作業環境的にも問題があり、また原料モノマー
の粘度が高いためにハンドリング性に劣るという問題が
ある。
学用樹脂は、高屈折率を有しているものの色収差の点で
問題があり、さらに原料に用いるチオール化合物の悪臭
が強く、作業環境的にも問題があり、また原料モノマー
の粘度が高いためにハンドリング性に劣るという問題が
ある。
【0005】更にまた、重付加及び重縮合により得られ
る光学用樹脂においては、重合反応の制御が困難である
ため、歩留まりが悪いなどの欠点がある。
る光学用樹脂においては、重合反応の制御が困難である
ため、歩留まりが悪いなどの欠点がある。
【0006】したがって本発明の目的は、低臭性で硬化
させる際のハンドリング性に優れた光学材料用組成物を
提供することにある。
させる際のハンドリング性に優れた光学材料用組成物を
提供することにある。
【0007】本発明の別の目的は、プラスチックレンズ
用あるいはその他の光学用樹脂として望ましい屈折率、
色収差、透明度等を有し、種々の機械的特性に優れた光
学材料を提供することにある。
用あるいはその他の光学用樹脂として望ましい屈折率、
色収差、透明度等を有し、種々の機械的特性に優れた光
学材料を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、主成分
として下記一般式化3及び化4で表わされる有機硫黄化
合物(以下、化3で表わされる化合物を有機硫黄化合物
1と、化4で表わされる化合物を有機硫黄化合物2と称
す)を含むことを特徴とする光学材料用組成物が提供さ
れる。
として下記一般式化3及び化4で表わされる有機硫黄化
合物(以下、化3で表わされる化合物を有機硫黄化合物
1と、化4で表わされる化合物を有機硫黄化合物2と称
す)を含むことを特徴とする光学材料用組成物が提供さ
れる。
【0009】
【化3】
【0010】
【化4】
【0011】また本発明によれば、前記光学材料用組成
物を重合硬化させてなることを特徴とする、屈折率が
1.55以上の光学材料が提供される。
物を重合硬化させてなることを特徴とする、屈折率が
1.55以上の光学材料が提供される。
【0012】以下本発明を更に詳細に説明する。
【0013】本発明の光学材料用組成物は、主成分とし
て、前記一般式化3及び化4で表わされる有機硫黄化合
物1及び有機硫黄化合物2を含むことを特徴とする。
て、前記一般式化3及び化4で表わされる有機硫黄化合
物1及び有機硫黄化合物2を含むことを特徴とする。
【0014】本発明の光学材料用組成物において用いる
有機硫黄化合物1としては、具体的には例えば、下記化
学式化5〜化28等を好ましく挙げることができ、使用
に際しては単独又は混合物として使用できる。
有機硫黄化合物1としては、具体的には例えば、下記化
学式化5〜化28等を好ましく挙げることができ、使用
に際しては単独又は混合物として使用できる。
【0015】
【化5】
【0016】
【化6】
【0017】
【化7】
【0018】
【化8】
【0019】
【化9】
【0020】
【化10】
【0021】
【化11】
【0022】
【化12】
【0023】
【化13】
【0024】
【化14】
【0025】
【化15】
【0026】
【化16】
【0027】
【化17】
【0028】
【化18】
【0029】
【化19】
【0030】
【化20】
【0031】
【化21】
【0032】
【化22】
【0033】
【化23】
【0034】
【化24】
【0035】
【化25】
【0036】
【化26】
【0037】
【化27】
【0038】
【化28】
【0039】前記有機硫黄化合物1の配合割合は、組成
物全体に対して、5〜95重量%、好ましくは30〜9
5重量%、特に好ましくは35〜70重量%の範囲とな
るように配合すればよい。前記配合割合が95重量%を
超える場合には、十分な機械的強度及び耐熱性が得られ
ず、5重量%未満の場合には、十分な屈折率が得られな
いので好ましくない。
物全体に対して、5〜95重量%、好ましくは30〜9
5重量%、特に好ましくは35〜70重量%の範囲とな
るように配合すればよい。前記配合割合が95重量%を
超える場合には、十分な機械的強度及び耐熱性が得られ
ず、5重量%未満の場合には、十分な屈折率が得られな
いので好ましくない。
【0040】また前記有機硫黄化合物1を調製するに
は、具体的には例えば、4−クロロチオフェノール 1
モルとクロロメチルスチレン 1モルとを、水酸化ナト
リウム等の塩基の存在下にて、好ましくは反応温度0〜
50℃にて、5〜48時間反応させる方法等により得る
ことができる。
は、具体的には例えば、4−クロロチオフェノール 1
モルとクロロメチルスチレン 1モルとを、水酸化ナト
リウム等の塩基の存在下にて、好ましくは反応温度0〜
50℃にて、5〜48時間反応させる方法等により得る
ことができる。
【0041】本発明の光学材料用組成物において用いる
有機硫黄化合物2としては、具体的には例えば、下記化
学式化29〜化40等を好ましく挙げることができ、使
用に際しては単独又は混合物として使用できる。
有機硫黄化合物2としては、具体的には例えば、下記化
学式化29〜化40等を好ましく挙げることができ、使
用に際しては単独又は混合物として使用できる。
【0042】
【化29】
【0043】
【化30】
【0044】
【化31】
【0045】
【化32】
【0046】
【化33】
【0047】
【化34】
【0048】
【化35】
【0049】
【化36】
【0050】
【化37】
【0051】
【化38】
【0052】
【化39】
【0053】
【化40】
【0054】前記有機硫黄化合物2の配合割合は、組成
物全体に対して、5〜95重量%、好ましくは10〜7
0重量%、特に好ましくは20〜50重量%の範囲とな
るように配合すればよい。前記配合割合が95重量%を
超える場合には、十分な耐衝撃性及び高いアッベ数が得
られず、5重量%未満の場合には、十分な耐熱性が得ら
れないので好ましくない。
物全体に対して、5〜95重量%、好ましくは10〜7
0重量%、特に好ましくは20〜50重量%の範囲とな
るように配合すればよい。前記配合割合が95重量%を
超える場合には、十分な耐衝撃性及び高いアッベ数が得
られず、5重量%未満の場合には、十分な耐熱性が得ら
れないので好ましくない。
【0055】また前記有機硫黄化合物2を調製するに
は、具体的には例えば、下記一般式化41で表わされる
2価アルコール又は2価チオール 1モルと、(メタ)ア
クリル酸クロリド 1〜4モルとを、脱塩酸剤としてト
リエチルアミン、ピリジン等の塩基の存在下にて、好ま
しくは反応温度0〜50℃にて、1〜48時間反応させ
る方法等により得ることができる。
は、具体的には例えば、下記一般式化41で表わされる
2価アルコール又は2価チオール 1モルと、(メタ)ア
クリル酸クロリド 1〜4モルとを、脱塩酸剤としてト
リエチルアミン、ピリジン等の塩基の存在下にて、好ま
しくは反応温度0〜50℃にて、1〜48時間反応させ
る方法等により得ることができる。
【0056】
【化41】
【0057】本発明の光学材料用組成物は、他の原料モ
ノマー成分として重合性モノマーを含むことができる。
前記重合性モノマーとしては、例えば、スチレン;α−
メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロロスチ
レン等のα−置換スチレン、ハロゲン核置換スチレン、
アルキル核置換スチレン;ジビニルベンゼン、クロロメ
チルスチレン、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボ
ネ−ト、(メタ)アクリル酸、酢酸アリル、ジアリルイ
ソフタレート、(メタ)アクリロニトリル、安息香酸ビ
ニル、アルキル(メタ)アクリレート、アルケニル(メ
タ)アクリレート、アルコキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、ジアルキルアミノエチル(メタ)アクリレート、
エチレングリコールビス(メタ)アクリレート、ポリエ
チレングリコールビス(メタ)アクリレート、プロプレ
ングリコールビス(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールビス(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ルAビス(メタ)アクリレート、1,ω-アルカンジオール
ジ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレー
ト、グリセロール(メタ)アクリレート、ジブロモネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ベンジルビニルベンジル
スルフィド、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタン(メタ)アクリレート、2,2−ビ
ス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキ
シジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシプロポキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)ア
クリロキシポリプロポキシフェニル)プロパン等の(メ
タ)アクリル酸エステル;リン酸−2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル等を好ましく挙げることができ、使
用に際しては単独若しくは混合物として用いることがで
きる。
ノマー成分として重合性モノマーを含むことができる。
前記重合性モノマーとしては、例えば、スチレン;α−
メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロロスチ
レン等のα−置換スチレン、ハロゲン核置換スチレン、
アルキル核置換スチレン;ジビニルベンゼン、クロロメ
チルスチレン、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボ
ネ−ト、(メタ)アクリル酸、酢酸アリル、ジアリルイ
ソフタレート、(メタ)アクリロニトリル、安息香酸ビ
ニル、アルキル(メタ)アクリレート、アルケニル(メ
タ)アクリレート、アルコキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、ジアルキルアミノエチル(メタ)アクリレート、
エチレングリコールビス(メタ)アクリレート、ポリエ
チレングリコールビス(メタ)アクリレート、プロプレ
ングリコールビス(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールビス(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ルAビス(メタ)アクリレート、1,ω-アルカンジオール
ジ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレー
ト、グリセロール(メタ)アクリレート、ジブロモネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ベンジルビニルベンジル
スルフィド、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタン(メタ)アクリレート、2,2−ビ
ス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキ
シジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシプロポキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)ア
クリロキシポリプロポキシフェニル)プロパン等の(メ
タ)アクリル酸エステル;リン酸−2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル等を好ましく挙げることができ、使
用に際しては単独若しくは混合物として用いることがで
きる。
【0058】また、本発明の光学材料用組成物には、更
に必要に応じて、UV吸収剤、着色防止剤、連鎖移動
剤、酸化防止剤、香料、有機染料、無機顔料等の添加物
を添加することもできる。
に必要に応じて、UV吸収剤、着色防止剤、連鎖移動
剤、酸化防止剤、香料、有機染料、無機顔料等の添加物
を添加することもできる。
【0059】本発明の光学材料は、前記光学材料用組成
物を重合硬化させて得られる屈折率1.55以上の材料
である。該光学材料を調製するには、例えば、前記光学
材料用組成物をラジカル重合開始剤の存在下、加熱重合
させることにより得ることができる。前記ラジカル重合
開始剤は、10時間半減期温度が160℃以下の有機過
酸化物またはアゾ化合物等を用いることができ、具体的
には例えば、クミルペルオキシネオデカノエート、ジイ
ソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリブチ
ルペルオキシピバレート、過酸化ラウロイル、ターシャ
リブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、過酸
化ベンゾイル、1,1−ビス(ターシャリブチルペルオ
キシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、アゾビ
スイソブチロニトリル等が挙げられ、使用に際しては単
独又は混合物として用いることができる。前記ラジカル
重合開始剤の使用量は、光学材料用組成物の全原料モノ
マー成分100重量部に対し10重量部以下、特に好ま
しくは5重量部以下である。
物を重合硬化させて得られる屈折率1.55以上の材料
である。該光学材料を調製するには、例えば、前記光学
材料用組成物をラジカル重合開始剤の存在下、加熱重合
させることにより得ることができる。前記ラジカル重合
開始剤は、10時間半減期温度が160℃以下の有機過
酸化物またはアゾ化合物等を用いることができ、具体的
には例えば、クミルペルオキシネオデカノエート、ジイ
ソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリブチ
ルペルオキシピバレート、過酸化ラウロイル、ターシャ
リブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、過酸
化ベンゾイル、1,1−ビス(ターシャリブチルペルオ
キシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、アゾビ
スイソブチロニトリル等が挙げられ、使用に際しては単
独又は混合物として用いることができる。前記ラジカル
重合開始剤の使用量は、光学材料用組成物の全原料モノ
マー成分100重量部に対し10重量部以下、特に好ま
しくは5重量部以下である。
【0060】前記加熱重合を行うには、例えば前記光学
材料用組成物とラジカル重合開始剤とを直接所望の型枠
内に仕込み、好ましくは0〜200℃、1〜48時間加
熱することにより重合させることができる。この際重合
系は、例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウムなどの不活性
ガス雰囲気下で行なうのが望ましい。また、前記加熱重
合させる前に、光学材料用組成物を例えば0〜200
℃、0.5〜48時間予備重合させたのち、所望の型枠
内に仕込み、後重合させることもできる。
材料用組成物とラジカル重合開始剤とを直接所望の型枠
内に仕込み、好ましくは0〜200℃、1〜48時間加
熱することにより重合させることができる。この際重合
系は、例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウムなどの不活性
ガス雰囲気下で行なうのが望ましい。また、前記加熱重
合させる前に、光学材料用組成物を例えば0〜200
℃、0.5〜48時間予備重合させたのち、所望の型枠
内に仕込み、後重合させることもできる。
【0061】更に、得られる光学材料の表面物性を向上
させる目的で、硬化後に例えばハードコート、マルチコ
ート、反射防止コート、UV吸収コート、後染色等の種
々の表面処理を施すこともできる。
させる目的で、硬化後に例えばハードコート、マルチコ
ート、反射防止コート、UV吸収コート、後染色等の種
々の表面処理を施すこともできる。
【0062】
【発明の効果】本発明の光学材料用組成物は、硫黄化合
物特有の悪臭が無く、低粘度であるため、ハンドリング
性に優れ、硬化重合の際の反応制御及び成型が容易であ
る。また本発明の光学材料は、1.55以上の屈折率及
び高いアッベ数を有し、しかも色収差および光学歪が小
さく、光学的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性に
も優れており、更には比重が小さく軽量化が可能である
ので、メガネ用レンズ、カメラレンズ、光学用素材など
のプラスチックレンズ用あるいはその他の光学用樹脂材
料として有用である。
物特有の悪臭が無く、低粘度であるため、ハンドリング
性に優れ、硬化重合の際の反応制御及び成型が容易であ
る。また本発明の光学材料は、1.55以上の屈折率及
び高いアッベ数を有し、しかも色収差および光学歪が小
さく、光学的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性に
も優れており、更には比重が小さく軽量化が可能である
ので、メガネ用レンズ、カメラレンズ、光学用素材など
のプラスチックレンズ用あるいはその他の光学用樹脂材
料として有用である。
【0063】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をさら
に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
【0064】
【実施例1】クロロフェニルビニルベンジルスルフィド
6g(メタ体:パラ体=2:3、重量比)及び4,4’
−ジメルカプトジフェニルスルフィドジメタクリレート
4gからなる光学材料用組成物に、ターシャリブチルペ
ルオキシ−2−エチルヘキサノエート0.05gを添加
混合した。次いで2枚のガラス型中に仕込んだ後、40
℃の恒温槽中に入れ、12時間で70℃まで昇温し、次
いで4時間で110℃まで昇温して、最終に100℃で
2時間加熱した。続いて100℃で2時間アニーリング
処理を行い硬化樹脂を得た。得られた硬化樹脂を前記型
枠から取り出し、屈折率、アッベ数、b*値および耐熱
性を下記方法に従って測定した。その結果を表1に示
す。 ・屈折率及びアッベ数:アッベ屈折率計(アタゴ株式会
社製)を用い、また中間液にヨウ化メチレンを用いて測
定を行った。 ・b*値(黄色度):日本電色工業株式会社製フォトメ
ーターモデル1001を用いて測定した。なおこの値が
小さいほど黄色度が小さく良好である。 ・耐熱性:130℃のオイルバス中にて変形及び変色の
ないものを○、変形あるいは変色の有るものを×とし
た。
6g(メタ体:パラ体=2:3、重量比)及び4,4’
−ジメルカプトジフェニルスルフィドジメタクリレート
4gからなる光学材料用組成物に、ターシャリブチルペ
ルオキシ−2−エチルヘキサノエート0.05gを添加
混合した。次いで2枚のガラス型中に仕込んだ後、40
℃の恒温槽中に入れ、12時間で70℃まで昇温し、次
いで4時間で110℃まで昇温して、最終に100℃で
2時間加熱した。続いて100℃で2時間アニーリング
処理を行い硬化樹脂を得た。得られた硬化樹脂を前記型
枠から取り出し、屈折率、アッベ数、b*値および耐熱
性を下記方法に従って測定した。その結果を表1に示
す。 ・屈折率及びアッベ数:アッベ屈折率計(アタゴ株式会
社製)を用い、また中間液にヨウ化メチレンを用いて測
定を行った。 ・b*値(黄色度):日本電色工業株式会社製フォトメ
ーターモデル1001を用いて測定した。なおこの値が
小さいほど黄色度が小さく良好である。 ・耐熱性:130℃のオイルバス中にて変形及び変色の
ないものを○、変形あるいは変色の有るものを×とし
た。
【0065】
【実施例2〜14】表1に示す原料モノマーからなる光
学材料用組成物をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同
様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った。その結果を表
1に示す。
学材料用組成物をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同
様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った。その結果を表
1に示す。
【0066】
【表1】
【0067】
【比較例1〜5】表2に示す原料モノマーを用いた以外
は実施例1と同様に硬化樹脂を調製し、各測定を行っ
た。その結果を表2に示す。
は実施例1と同様に硬化樹脂を調製し、各測定を行っ
た。その結果を表2に示す。
【0068】
【表2】
【0069】表1、2より明らかなように、本発明の光
学材料は、比較例と比べて、屈折率、耐熱性、黄色度等
の光学特性において優れていることがわかる。
学材料は、比較例と比べて、屈折率、耐熱性、黄色度等
の光学特性において優れていることがわかる。
Claims (2)
- 【請求項1】 主成分として下記一般式化1及び化2で
表わされる有機硫黄化合物を含むことを特徴とする光学
材料用組成物。 【化1】 【化2】 - 【請求項2】 請求項1記載の光学材料用組成物を重合
硬化させてなることを特徴とする、屈折率が1.55以
上の光学材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11001092A JPH05303003A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11001092A JPH05303003A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05303003A true JPH05303003A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=14524832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11001092A Pending JPH05303003A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05303003A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996011964A1 (en) * | 1994-10-18 | 1996-04-25 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Actinic-radiation-curable composition and lens sheet |
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| US6541591B2 (en) | 2000-12-21 | 2003-04-01 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index microreplication resin from naphthyloxyalkylmethacrylates or naphthyloxyacrylates polymers |
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| WO2023047856A1 (ja) * | 2021-09-22 | 2023-03-30 | 東京応化工業株式会社 | 組成物、及び感光性組成物 |
-
1992
- 1992-04-28 JP JP11001092A patent/JPH05303003A/ja active Pending
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