JPH08197860A - 光熱変換型ヒートモード記録用画像形成材料の作成方法 - Google Patents

光熱変換型ヒートモード記録用画像形成材料の作成方法

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JPH08197860A
JPH08197860A JP7008994A JP899495A JPH08197860A JP H08197860 A JPH08197860 A JP H08197860A JP 7008994 A JP7008994 A JP 7008994A JP 899495 A JP899495 A JP 899495A JP H08197860 A JPH08197860 A JP H08197860A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 感度低下、カブリ、転色残りがなく、画像形
成層又は受像層が良好な剥離性を有し、画像形成層を均
一な濃度で転写できる光熱変換型ヒートモード記録用画
像形成材料を提供する。 【構成】 支持体上にクッション層、中間層、画像形成
層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光熱
変換型ヒートモード記録材料を、架橋された離型面を有
する仮支持体又は支持体上に形成した画像形成層を、該
仮支持体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を画像形
成面となして作成することを特徴とする光熱変換型ヒー
トモード記録材料の作成方法。支持体上にクッション
層、中間層、受像層をこの順で有し、ヒートモード記録
に用いられる光熱変換型ヒートモード受像材料を、架橋
された離型面を有する仮支持体又は支持体上に形成した
受像層を、該仮支持体又は支持体との界面で剥離し、剥
離面を受像面となして作成することを特徴とする光熱変
換型ヒートモード受像材料の作成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は転写型高精細画像、カラ
ープルーフ等の作成に好適な光熱変換型ヒートモード記
録方法に用いられる、柔軟なクッション層を有する光熱
変換型ヒートモード記録用画像形成材料の作成方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光熱変換型ヒートモード転写において
は、記録材料から受像材料へ画像形成層を転写し、又、
受像材料から最終被記録媒体へ画像形成層を転写するこ
とにより画像を得るが、記録材料と受像材料の密着は極
めて重要である。特に、画像が高精細な場合はシートの
平滑性が大きく影響を及ぼす。網点を再現するカラープ
ルーフでも、少なくとも数μmから十数μmの解像度が必
要であり、各シートや紙面の凹凸が無視できない領域と
なる。
【０００３】記録材料と受像材料の密着を向上させる手
段として、柔軟な或いは熱により軟化可能なクッション
層を支持体と画像形成層又は受像層間に設けることが特
開平6-22080号等に開示されている。
【０００４】この場合、記録材料は少なくとも支持体／
クッション層／光熱変換層／画像形成層から成り、受像
材料は少なくとも支持体／クッション層／剥離層／受像
層から成る。光照射時に、画像形成層が光熱変換層から
界面剥離し受像材料の受像層へ転写する。転写された画
像は、次のプロセスで最終支持体へラミネートされ、剥
離層と受像層が界面剥離して最終画像となる。
【０００５】ここでクッション層の柔軟性が充分であれ
ば、記録材料と受像材料との密着性が充分に得られるの
で画像欠陥を解消でき、又、最終支持体への転写もスム
ーズに行える。
【０００６】そこで、特開平6-127685号には、支持体上
に柔軟な素材のクッション層を溶剤塗布により設け、巻
き取る前に中間層と貼り合わせ、その上に画像形成層又
は受像層を塗布する方法が開示されている。
【０００７】しかしながら、上記の方法では、画像形成
層又は受像層を塗布する際に、塗布溶剤がクッション層
まで浸透し、溶剤の残留により画像形成材料の保存性が
劣化したり、画像形成層の表面性が損なわれ易いという
問題があった。
【０００８】特願平6-127685号には、残留溶剤の問題を
解決するため、乾燥速度の大きい溶剤を用いて溶剤量を
或る一定値未満に抑える方法が記載されている。この方
法では残留溶剤を確かに減らすことができるが、使用溶
剤の選択幅が狭まることになる。又、柔らかいクッショ
ン層を下地とする塗布であるから、どうしても搬送途中
で傷が付き易い難点があった。
【０００９】特開平6-234278号には、昇華型熱転写受像
材料の作成方法として、仮支持体へ受像層及び染料バリ
ヤー層及びクッション層を積層したものと支持体を貼り
合わせ、その後、仮支持体を剥離する方法が開示されて
おり、この方法を応用すれば残留溶剤や搬送時の傷の発
生という問題は解決できる。
【００１０】しかし、上記特許の内容は昇華型転写受像
材料の作成方法であり、剥離面である受像層は熱融着性
を必要とせず、従って、仮支持体は一般的に知られてい
る離型性に優れたシリコン化合物などを離型層として用
いても何ら不都合を生じないが、本発明のように溶融型
転写の画像形成材料では、転写面へ離型剤のシリコン化
合物が移行し、著しく転写感度を低下させてしまう。
【００１１】更に、本発明に係る光熱変換型ヒートモー
ド記録用画像形成材料は、中間層と画像形成層又は中間
層と受像層がそれぞれ工程上、界面での剥離を必要とす
るため、貼合方法による作成では中間層だけが転写して
しまうといった別の問題も生じてくる。
【００１２】即ち、中間層と画像形成層又は中間層と受
像層が層間剥離することなく転写でき、しかも溶融転写
感度を低下させないような離型性層を利用した作成方法
が要求されている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題を
解消するために為されたものであり、本発明の目的は、
受像層や画像形成層の下に柔軟なクッション層を有して
も塗布ムラや搬送ロールによる傷の発生がなく、又、最
上層面のヒビやシワの原因となる残留溶剤がなく、かつ
感度低下がなく、画像形成層を均一な濃度で転写できる
光熱変換型ヒートモード記録材料、又は光熱変換型ヒー
トモード受像材料を提供することにある。
【００１４】又、別の目的は、カブリや転色残りがな
く、画像形成層又は受像層が良好な剥離性を有し、溶融
転写に優れている光熱変換型ヒートモード記録材料、又
は光熱変換型ヒートモード受像材料を提供することにあ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、仮
支持体又は支持体上に画像形成層又は受像層を塗布し、
その後、画像形成層又は受像層と、仮支持体又は支持体
との界面で剥離することによって達成される。即ち、 １．支持体上にクッション層、中間層、画像形成層をこ
の順で有し、ヒートモード記録に用いられる光熱変換型
ヒートモード記録材料を、架橋された離型面を有する仮
支持体又は支持体上に形成した画像形成層を、該仮支持
体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を画像形成面と
なして作成する光熱変換型ヒートモード記録材料の作成
方法。
【００１６】２．支持体上にクッション層、中間層、画
像形成層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられ
る光熱変換型ヒートモード記録材料を、実質的に中間層
と画像形成層の双方の塗布溶剤に対して非溶解性の離型
面を有する仮支持体又は支持体上に形成した画像形成層
を、該仮支持体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を
画像形成面となして作成する光熱変換型ヒートモード記
録材料の作成方法。
【００１７】３．支持体上にクッション層、中間層、画
像形成層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられ
る光熱変換型ヒートモード記録材料を、弗素又は長鎖ア
ルキルを含有する離型面を有する仮支持体又は支持体上
に形成した画像形成層を、該仮支持体又は支持体との界
面で剥離し、剥離面を画像形成面となして作成する光熱
変換型ヒートモード記録材料の作成方法。
【００１８】４．仮支持体上に画像形成層、中間層、ク
ッション層、支持体をこの順になるように形成し、その
後、該画像形成層と該仮支持体との界面で剥離し、剥離
面を画像形成面となす(１)，(２)又は(３)記載の光熱変
換型ヒートモード記録材料の作成方法。
【００１９】５．支持体上に画像形成層、中間層、クッ
ション層をこの順になるように形成し、その後、該画像
形成層と該支持体との界面で剥離して該支持体の他方の
面にクッション層及び中間層と共に転写し、剥離面を画
像形成面となす(１)，(２)又は(３)記載の光熱変換型ヒ
ートモード記録材料の作成方法。
【００２０】６．支持体上にクッション層、中間層、受
像層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光
熱変換型ヒートモード受像材料を、架橋された離型面を
有する仮支持体又は支持体上に形成した受像層を、該仮
支持体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を受像面と
なして作成する光熱変換型ヒートモード受像材料の作成
方法。
【００２１】７．支持体上にクッション層、中間層、受
像層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光
熱変換型ヒートモード受像材料を、実質的に中間層と受
像層の双方の塗布溶剤に対して非溶解性の離型面を有す
る仮支持体又は支持体上に形成した受像層を、該仮支持
体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を受像面となし
て作成する光熱変換型ヒートモード受像材料の作成方
法。
【００２２】８．支持体上にクッション層、中間層、受
像層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光
熱変換型ヒートモード記録材料を、弗素又は長鎖アルキ
ルを含有する離型面を有する仮支持体又は支持体上に形
成した受像層を、該仮支持体又は支持体との界面で剥離
し、剥離面を受像面となして作成する光熱変換型ヒート
モード受像材料の作成方法。
【００２３】９．仮支持体上に受像層、中間層、クッシ
ョン層、支持体をこの順になるように形成し、その後、
該受像層と該仮支持体との界面で剥離し、剥離面を受像
面となして作成する(６)，(７)又は(８)記載の光熱変換
型ヒートモード受像材料の作成方法。
【００２４】10．支持体上に受像層、中間層、クッショ
ン層をこの順になるように形成し、その後、該受像層と
該支持体との界面で剥離して該支持体の他方の面にクッ
ション層及び中間層と共に転写し、剥離面を受像面とな
す(６)，(７)又は(８)記載の光熱変換型ヒートモード受
像材料の作成方法。
【００２５】以下、本発明を詳細に説明する。
【００２６】本発明に係る画像形成材料による光熱変換
型ヒートモード記録方法とは、記録材料の画像形成層側
の面と受像材料の受像層側の面が対面するように重ね合
わせ、像様に露光加熱することにより画像形成層を受像
層面に転写するものである。使用される画像形成材料の
最終層構成としては、以下のようなバリエーションが考
えられる（〔 〕はクッション層上に形成されるべき中
間層を示す）。
【００２７】（記録材料） 支持体／クッション層／〔光熱変換層〕／画像形成層 支持体／クッション層／〔剥離層〕／画像形成層←イン
ク剥離性を得る 支持体／クッション層／〔接着層〕／〔光熱変換層〕／
画像形成層←光熱変換層の膜剥がれを防ぐ （受像材料） 支持体／クッション層／〔剥離層〕／受像層←一次転写
画像を受像層ごと再転写支持体／クッション層／〔接着
層〕／受像層←一次転写画像のみを再転写 本発明により作成される材料における最終構成は、クッ
ション層と画像形成層又は受像層との間に少なくとも１
層以上の中間層を有する。
【００２８】ここで中間層とは、支持体上に設けられた
クッション層と受像層又は画像形成層の間の層を言う。
具体的には、上記の如き層構成中に設けられ、受像材料
では、剥離層、接着層など、記録材料では光熱変換層、
剥離層、接着層などが中間層となり得る。
【００２９】光熱変換層は、光熱変換物質とバインダー
により構成され、特開平5-286257号、同5-338358号に記
載される物質が使用できる。
【００３０】光熱変換物質としては、カーボンブラッ
ク、グラファイト、粒径400〜1000nmのコロイド銀など
の無機化合物；シアニン系、ポリメチン系、アズレニウ
ム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフトキノ
ン系、アントラキノン系色素等の有機化合物；フタロシ
アニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体などが
適宜用いられる。
【００３１】バインダーとしては、ガラス転移点(Ｔｇ)
が画像形成層に用いられるバインダーのそれよりも高く
て熱伝導率の高い樹脂、例えばポリメタクリル酸メチ
ル、ポリカーボネート、ポリスチレン、エチルセルロー
ス、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩
化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アラミド等
の一般的な耐熱性樹脂が用いられる。中でも、水溶性バ
インダーは、比較的耐熱性も高く過度の加熱に対しても
光熱変換層の飛散やアブレーションが少なく、画像形成
層との剥離性も良く、しかも耐熱性のエンジニァリング
プラスチックス等に比べ溶解性が良いので好ましい。
【００３２】水溶性バインダーの中でも、不純物が少な
く、重合度が1000以上で鹸化度が８０％以上のポリビニ
ルアルコールや、その他のポリビニルアセタール、ヒド
ロキシエチルセルロース等は耐熱性が高く好ましい。
【００３３】なお、水溶性バインダーを用いる場合、光
熱変換剤を水溶性にするか水に分散することが好まし
い。水溶性にする為にはスルホ基、カルボキシル基、ホ
スホノ基等の酸基、スルホンアミド、カルボンアミド等
の結合を含むものが好ましく、特にスルホ基を有するも
のが良い。
【００３４】この他、塗布性を向上させる為に界面活性
剤等を添加してもよく、更に、光熱変換層と下層との接
着を増すような物質、上層のインク層との剥離性を良く
するような物質を含有してもよい。又、水溶性色材、バ
インダーの溶解に際しては、溶解を助ける加熱、シェア
を加えてもよい。
【００３５】光熱変換層中の光熱変換物質は、通常２〜
８０重量％、好ましくは20〜70重量％添加される。な
お、この光熱変換物質は他の層にも添加できる。
【００３６】光熱変換層の好ましい膜厚は、光熱変換層
と画像形成層とで光を殆ど熱に変換し得る限り、薄い方
が熱の拡散が少ないので好ましく、通常0.1〜３μm、好
ましくは0.2〜１μmの範囲から適当な厚さが決められ
る。又、記録波長での吸収濃度は0.3〜3.0、好ましくは
0.3〜1.0の範囲で決められる。
【００３７】剥離層としては、上記光熱変換層素材の他
に、シリコーン樹脂、ワックス類、イソシアナート硬化
樹脂等の樹脂が、又、接着層としては、アクリル系樹脂
等が、又、受像層としては、塩化ビニル系樹脂、ポリビ
ニルアセタール系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹
脂、エチレン-酢酸ビニル系樹脂、アイオノマー樹脂等
が挙げられる。
【００３８】これらの中間層は、ハンドリング性、搬送
適性に優れることが好ましく、この層（具体的には、記
録材料の場合には光熱変換層、剥離層又は接着層、受像
材料の場合には剥離層又は接着層など）はタックのない
ものが選ばれる。例えばＴｇが50℃以上の素材が挙げら
れる。中間層の膜厚は特に限定されないが、0.1〜３μm
であることが好ましい。
【００３９】本発明において、画像形成層と中間層が充
分に剥離性を持つための条件は、特開平5-286257号及び
同5-338358号に詳述されている。即ち、中間層として水
溶性バインダーを用いた場合、画像形成層には非水溶性
バインダーを用い、中間層に非水溶性バインダーを用い
た場合は、画像形成層に水溶性又は水分散性のバインダ
ーを用いることが好ましい。
【００４０】本発明において、クッション層は以下のよ
うな性質を有するものが好ましい。
【００４１】具体的には、極めて柔軟（例えば20℃にお
ける弾性率が100kg／cm2以下、針入度が20以上）で、室
温では粘着性を持つ素材が挙げられる。室温で粘着性を
持つ素材として、一般にＴｇが20℃以下の素材が好まし
く、例えばＳＢＲ，ＥＶＡ，ＳＩＳ，ＳＥＢＳ，ポリブ
タジエン等が挙げられる。又、低弾性率を有する材料、
ゴム弾性を有する材料又は加熱により容易に軟化し密着
性が向上する熱可塑性材料を使用することもでき、具体
的に天然ゴム、アクリレートゴム、ブチルゴム、ニトリ
ルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン-
ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シ
リコーンゴム、アクリルゴム、弗素ゴム、ネオプレンゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリ
ン、ＥＰＤＭ（エチレン・プロピレン・ジエンゴム）、
ウレタンエラストマー等のエラストマー、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリブテン、耐
衝撃性ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂、アセテ
ート、セルロースアセテート、アミド樹脂、ポリテトラ
フルオロエチレン、ニトロセルロース、ポリスチレン、
エポキシ樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポ
リエステル、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン-ブタジ
エン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、アクリ
ロニトリル-ブタジエン共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン等の内、弾性率の小さな樹脂等が挙げられる。
【００４２】又、十分な密着性を確保するため、クッシ
ョン層の厚みは２μm以上が好ましく、５μm以上がより
好ましい。クッション層の厚みの上限は特にないが、過
度の膜厚は製造上の負荷やコストアップに繋がるので、
40〜50μmが上限である。
【００４３】更に、記録材料のクッション層と受像材料
のクッション層の双方を足した厚みが30μm以上である
ことがより好ましい。
【００４４】本発明の記録材料の好ましい作成方法の態
様を、以下の作成法１〜４に示す。
【００４５】《作成法１》仮支持体上に画像形成層と中
間層をこの順で積層する第一の工程、支持体上にクッシ
ョン層を形成し、該仮支持体上に画像形成層と中間層を
この順で積層したものの中間層と、該支持体上にクッシ
ョン層を形成したもののクッション層とを対面させて貼
り合わせる第２の工程、該仮支持体を該画像形成層との
界面で剥離する第３の工程から成る作成方法。
【００４６】《作成法２》仮支持体上に画像形成層と中
間層をこの順で積層する第１の工程、該中間層上にクッ
ション層を形成し、更に該クッション層と支持体とを貼
り合わせる第２の工程、該仮支持体を該画像形成層との
界面で剥離する第３の工程から成る作成方法。
【００４７】《作成法３》支持体の一方の面上に画像形
成層と中間層をこの順で積層する第１の工程、支持体の
もう一方の面上にクッション層を形成し、ロール状に巻
き取る第２の工程、巻出しの際に支持体と画像形成層と
の界面で剥離し、該画像形成層と該中間層を該支持体の
もう一方の面上のクッション層上に転移する第３の工程
から成る作成法。
【００４８】《作成法４》支持体の一方の面上に画像形
成層と中間層をこの順で積層する第１の工程、該中間層
上にクッション層を形成し、ロール状に巻き取る第２の
工程、巻出しの際に支持体の一方の面と画像形成層との
界面で剥離し、該画像形成層、該中間層及び該クッショ
ン層を該支持体のもう一方の面上に転移する第３の工程
からなる作成法。
【００４９】上記本発明の好ましい作成方法の実施態様
を図１〜図４に示す。
【００５０】図１〜４において、１は支持体、２はクッ
ション層、３は中間層、４は仮支持体、５は画像形成層
を示す。
【００５１】次に、本発明の受像材料の好ましい作成方
法の態様を、以下の作成法５〜８に示す。
【００５２】《作成法５》仮支持体上に受像層と中間層
をこの順で積層する第一の工程、支持体上にクッション
層を形成し、該仮支持体上に受像層と中間層をこの順で
積層したものの中間層と、該支持体上にクッション層を
形成したもののクッション層とを対面させて貼り合わせ
る第２の工程、該仮支持体を該受像層との界面で剥離す
る第３の工程から成る作成方法。
【００５３】《作成法６》仮支持体上に受像層と中間層
をこの順で積層する第１の工程、前記中間層上にクッシ
ョン層を形成し、更に該クッション層と支持体とを貼り
合わせる第２の工程、該仮支持体を該受像層との界面で
剥離する第３の工程から成る作成方法。
【００５４】《作成法７》支持体の一方の面上に受像層
と中間層をこの順で積層する第１の工程、支持体のもう
一方の面上にクッション層を形成し、ロール状に巻き取
る第２の工程、巻出しの際に支持体と受像層との界面で
剥離し、該受像層と該中間層を該支持体のもう一方の面
上のクッション層上に転移する第３の工程から成る作成
法。
【００５５】《作成法８》支持体の一方の面上に受像層
と中間層をこの順で積層する第１の工程、該中間層上に
クッション層を形成し、ロール状に巻き取る第２の工
程、巻出しの際に支持体の一方の面と受像層との界面で
剥離し、該受像層、該中間層及び該クッション層を該支
持体のもう一方の面上に転移する第３の工程からなる作
成法。
【００５６】上記本発明の好ましい作成方法の実施態様
を図５〜図８に示す。
【００５７】図５〜８において、11は支持体、２はクッ
ション層、３は中間層、14は仮支持体、６は受像層を示
す。
【００５８】本発明により形成する材料の層構成におい
て、各層の剥離力はクッション層と画像形成層との間が
１層の場合、又はクッション層と受像層との間が剥離層
の場合においては、本発明の作成方法を用いた際に、仮
支持体又は支持体と、受像層又は画像形成層との界面の
剥離力Ｆ１が、受像層又は画像形成層と中間層との界面
の剥離力Ｆ２より弱く、かつ該Ｆ２が中間層とクッショ
ン層との界面の剥離力Ｆ３より弱いような関係であるこ
とが好ましい。特に、仮支持体と受像層又は画像形成層
との界面の剥離力は10ｇ／cm以下であることが好まし
い。
【００５９】しかしながら、受像層又は画像形成層と中
間層との界面の剥離力Ｆ２は、その転写性の観点から小
さく設定する必要がある。なお、画像形成層と中間層と
のＦ２は受像層と中間層とのＦ２より小さいことが好ま
しい。
【００６０】Ｆ２は300ｇ／cm以下であることが好まし
い。即ち、受像層又は画像形成層と中間層は、剥離力が
元々小さい訳であり、仮支持体又は支持体の裏面側を剥
離する際、受像層又は画像形成層が仮支持体又は支持体
の裏面側に残ってしまうことがある。
【００６１】この様な現象を避けるため、仮支持体を用
いる場合には剥離ロール上で剥離することが好ましい。
剥離ロール上での剥離は、仮支持体が内側になるように
し、更に、剥離ロール上で支持体にも曲率を付けること
が好ましい。仮支持体の曲率θ1は180°以下が好まし
く、110°以下がより好ましい。支持体の曲率θ2はθ1
より小さいことが好ましい（図９参照）。
【００６２】剥離ロールの直径は50mmφ以下が好まし
く、更に好ましくは20mmφ以下である。この方法によ
り、安定して画像形成層又は受像層を転写することがで
きる。
【００６３】仮支持体を用いない場合には、画像形成面
又は受像面が内巻になるように作成し、これを巻き出す
ことで剥離することが好ましい。
【００６４】尚、最終形態においてロールにする場合、
カットシートに断栽する場合においても、仮支持体を剥
離後、受像層、画像形成層に傷ができたり、ゴミが入る
のを防止するため、仮支持体はロール巻取り又は断栽直
前で剥離することが好ましく、少なくともスリット後、
受像層、画像形成層はロールに触れないようにすること
が好ましい。
【００６５】支持体としては、剛性を有し、寸法安定性
が良く、画像形成の際に熱に耐えるものならば何でもよ
く、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリカーボネート、ナイロン、塩化
ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リプロピレンなどのプラスチックフィルムを使用するこ
とができる。又、レーザー光を記録材料側から照射して
画像を形成するのであれば、記録材料の支持体は透明で
あることが望ましい。レーザー光を受像材料側から照射
して画像を形成するのであれば、記録材料の支持体は透
明である必要はない。支持体の好ましい厚さは６〜200
μmであり、更に好ましくは25〜100μmである。
【００６６】本発明における支持体の一方又は仮支持体
は、受像層又は画像形成層がハジキや濃度ムラなく塗布
でき、又、支持体の一方又は仮支持体と受像層又は画像
形成層の界面で容易に剥離できなければならない。この
ため、支持体の一方又は仮支持体は、受像層又は画像形
成層と接着力が小さくなるように選定されるか、さもな
くば仮支持体と受像層又は画像形成層の間に剥離層を設
けることが好ましい。
【００６７】本発明における支持体の一方又は仮支持体
としては、上記支持体上に剥離層を形成する。剥離層と
しては、架橋されているか、実質的に中間層と画像形成
層の塗布溶剤に対し非溶解性であるか弗素又は長鎖アル
キル化合物を有する。これにより、画像形成層又は受像
層と中間層を仮支持体又は支持体に積層しても良好な剥
離性を得ることができ、しかも溶融転写において感度を
損なうこともない。
【００６８】架橋された剥離層としては、熱硬化、紫外
線硬化等、広範囲に可能性があるが、剥離後の感度低下
を考慮すると非シリコーン系化合物が好ましい。ただ
し、高級脂肪酸エステル変性シリコーン、ポリエステル
変性シリコーン等の例外的に溶融転写感度を落とさない
ものもある。
【００６９】剥離性の観点からは、溶剤系の画像形成
層、受像層を用いる場合、水溶性のバインダー（即ち、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、アンモニウム基など
を持ったバインダー）とメラミン化合物、イソシアナー
ト化合物、グリオキザール誘導体等の架橋剤との架橋物
が好ましい。その他、ホスファゼン樹脂も好ましい。
【００７０】架橋方法／化合物については、山下晋三、
金子東助編「架橋剤ハンドブック」（大成社）に詳しく
記載される。
【００７１】非溶解性の剥離層としては、難溶性の化合
物を適当な溶剤で分散し、コーティング後、熱処理によ
り製膜する方法が好ましい。
【００７２】難溶性の化合物としては、ポリエチレン、
ポリプロピレン又はエチレン、プロピレンと他のモノマ
ー、例えば酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸
等との共重合体、弗素化ポリオレフィン等のオレフィン
系化合物が適している。
【００７３】又、架橋された剥離層又は非溶解性の剥離
層に、更に剥離性を向上するため弗素又は長鎖アルキル
化合物を含有させることが好ましい。具体的には、パー
フルオロ燐酸エステルや弗素化オレフィンの分散物等が
挙げられる。市販品として、住友化学製のスミレーズレ
ジンＦＰ−150 、ダイキン製のルブロンシリーズ、旭硝
子製のフルオンシリーズ、３Ｍ社製のフロラードシリー
ズ等がある。
【００７４】これら弗素又は長鎖アルキル化合物は、画
像形成層又は受像層との剥離性を向上させるばかりでな
く溶融転写感度を落とさず好ましい。又、弗素化合物
は、カブリや地汚れという不要な転写を抑える働きもあ
る。
【００７５】剥離層の上に画像形成層、光熱変換層、受
像層等を積層する場合、剥離層はこれらをコーティング
に用いる溶剤に対して耐溶剤性が要求される。ここで言
う「耐溶剤性」とは、溶剤に対して溶解したり、膨潤し
たり、変質したりしてしまい、剥離層と画像形成層又は
受像層との間の剥離力が著しく上昇したり、層間剥離が
不能となることの無い状態を指す。このため、剥離層は
硬化するか、積層する使用溶剤に対し非溶解性であるこ
とが要求される。又、受像層、画像形成層と接着力の小
さい親水性バインダー（ＰＶＡ、ゼラチン、ブチラール
等）を用いてもよい。
【００７６】剥離層は、インライン塗布やオフライン塗
布等の、通常、一般に用いられる方法で作成される。剥
離層の膜厚は、作成方法により何れの値も採るが、好ま
しくは0.01〜５μmである。又、剥離層にマット剤を含
有する時は、マット剤の効果を妨げない膜厚でなければ
ならない。
【００７７】クッション層と、受像層又は画像形成層上
に積層された中間層の貼合せ圧は十分に掛けることが好
ましく、５ｇ／cm以上が好ましい。又、貼合せ温度はク
ッション層素材の特性によって変動するが、室温〜120
℃が好ましい。貼合せを金属ロール上にて行う場合、ロ
ール面は平滑であることが好ましい。
【００７８】ロールの平滑性は、表面平滑性を表す平均
値Ｒaが0.01〜３μmであることが好ましい。ゴムロール
を用いる場合は、ゴム硬度は40〜100度が好ましい。
【００７９】本発明の方法により得られるヒートモード
記録材料の画像形成層とヒートモード受像材料の受像層
表面は仮支持体又は支持体と接していたため、受像層面
及び画像形成面はそのままでは鏡面化している。そのた
め、ロールや重ねた状態で保存すると重ねた面がブロッ
キングしたり、受像層面と画像形成面を対面するように
重ね合わせて像様に露光加熱すると、露光された像様以
外の部分も転写してしまう場合がある。
【００８０】これを防ぐ手段として、受像層又は画像形
成層表面の粗面化が挙げられる。受像層又は画像形成層
表面を粗面化する方法としては、粗面化処理した仮支持
体又は支持体上に受像層又は画像形成層を塗布し、最終
的に仮支持体又は支持体と受像層又は画像形成層の界面
で剥離することにより得られる。
【００８１】又は、まず最初に仮支持体上に受像層又は
画像形成層と中間層をこの順で積層し、その後、中間層
上にクッション層、クッション層が形成されていない面
が粗面化された支持体を積層し、仮支持体を受像層又は
画像形成層との界面で剥離し、ロール状に巻き取ること
により受像層又は画像形成層を粗面化することができ、
又、保存時のブロッキングを防止することができる。
【００８２】支持体や仮支持体の粗面化としては、マッ
ト材を含有させる、エンボス加工して凹凸を付ける、微
小突起物で削り取って凹凸を付ける等で処理したものを
用いることができる。
【００８３】マット材としては、有機又は無機のマット
材が用いられる。有機マット材としては弗素樹脂粒子、
グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、スチレン-ア
クリル共重合体樹脂粒子、シリコン樹脂粒子、メラミン
樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の樹脂粒子、無機マット
材としては金属酸化物（シリカ、酸化亜鉛、アルミナ、
酸化チタン等）、珪酸塩（珪酸カルシウム）、硫酸塩
（硫酸バリウム）、炭酸塩（炭酸カルシウム）等が挙げ
られる。
【００８４】マット材の粒径や含有量は仮支持体の膜厚
によって選択されるが、粒径が0.1〜30μmで、含有量は
１〜1000個／mm2が好ましい。
【００８５】エンボス加工するには、通常、紙、皮革、
プラスチック等の加工に用いられる機器で十分である。
【００８６】表面を削り取るための微小突起物として
は、サンドペーパー等を用いたり、サンドブラスト法に
よる加工を用いることができる。
【００８７】又、剥離層の粗面化として、２種以上の相
溶性のない樹脂を用いて白濁させて粗面化させる手段も
有効である。
【００８８】その他、記録材料及び受像材料の構成、素
材に関しては、特開平5-278198号、同5-286257号、同5-
318952号、同5-338358号、同6-55867号等に記載の技術
が適用できる。
【００８９】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、各構成
に示される「部」は、溶剤や分散媒を除いた重量部を示
す。
【００９０】実施例１ａ （記録材料の作成）まず、25μmのポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ，ダイヤホイルヘキスト製：Ｔ−10
0）上に、下記組成の剥離層液をメチルエチルケトンで
希釈して、乾燥膜厚が２μmになるようにワイヤーバー
塗布し、紫外線を照射して硬化させ仮支持体とした。
【００９１】この剥離層は、次の画像形成層塗布に用い
る溶剤、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、水、
エタノール、i-プロパノールについて対して良好な耐溶
剤性を有する。
【００９２】剥離層 ホスファゼン系硬化性樹脂（出光石油化学(株)：Ｕ−2000） 97部 マット剤（粒径4.5μmのシリコーン樹脂粒子， 3部 東芝シリコーン：トスパール145） この剥離層の上に、下記組成の画像形成層をワイヤーバ
ー塗布した。溶剤組成はメチルエチルケトン／シクロヘ
キサノン＝８／２のものを用いた。
【００９３】画像形成層 〔イエロー（ブルー透過濃度が0.79になるように膜厚設定）〕 イエロー顔料 40部 スチレン-アクリル樹脂（三洋化成製：ＳＢＭ100） 48部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ， 5部 三井デュポンポリケミカル製：ＥＶ−40Ｙ） ジオクチルフタレート 3部 界面活性剤（旭硝子：Ｓ−382） 1部 〔マゼンタ（グリーン透過濃度が0.96になるように膜厚設定）〕 マゼンタ顔料 40部 スチレン-アクリル樹脂（前出：ＳＢＭ100） 48部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：ＥＶ−40Ｙ） 5部 ジオクチルフタレート 3部 界面活性剤（前出：Ｓ−382） 1部 〔シアン（レッド透過濃度が0.83になるように膜厚設定）〕 シアン顔料 40部 スチレン-アクリル樹脂（前出：ＳＢＭ100） 48部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：ＥＶ−40Ｙ） 5部 界面活性剤（前出：Ｓ−382） 1部 〔ブラック（オレンジ透過濃度が1.28になるように膜厚設定）〕 ブラック顔料 40部 スチレン-アクリル樹脂（前出：ＳＢＭ100） 48部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：ＥＶ−40Ｙ） 5部 界面活性剤（前出：Ｓ−382） 1部 更に、上記画像形成層上に、下記組成の光熱変換層塗布
液を830nmの透過吸収が1.0になるようにワイヤーバー塗
布した。
【００９４】光熱変換層 ＩＲ吸収色素（ＩＲ−１） 30部 ゼラチン 67部 界面活性剤（ＳＵ−１） 2部 水 2500部 エタノール 200部 ＳＵ−１：スルホ琥珀酸i-アミル・デシル・ナトリウム
【００９５】
【化１】
【００９６】次に、ＰＥＴ(前出：Ｔ−100，100μm厚)
に、下記組成のクッション層を乾燥厚み６μmになるよ
うにコンマドクター塗布し、図２に示される装置中で先
に作成した光熱変換層面と上記クッション層を対面させ
て、ヒートロールとシリコンロールの間を通して（50℃
・10ｇ／cm）貼り合わせた（本発明による作成工程）。
【００９７】クッション層組成 スチレン-エチレン-ブチレン-スチレン共重合体 7部 （ＳＥＢＳ，シェル製：クレイトンＧ1657） タッキファイヤー（荒川化学製：スーパーエステルＡ100） 3部 トルエン 90部 貼り合わせた後、仮支持体と画像形成層の界面で剥離
し、ＰＥＴ／クッション層／光熱変換層／画像形成層か
らなるシートを得た。この時、剥離は良好に行うことが
でき、画像形成層表面は剥離層中のマット材により粗面
化されていた。得られた記録材料に傷は全く見られなか
った。
【００９８】なお、実施例において、前述の好ましい剥
離条件で剥離している。
【００９９】（受像材料の作成）125μm厚のホワイトＰ
ＥＴベース（ダイヤホイルヘキスト製：Ｗ400）に、ク
ッション層としてＥＶＡ（前出：ＥＶ−40Ｙ）を乾燥厚
み15μmになるようにコンマドクター塗布により形成
し、記録材料と同じ仮支持体上に下記組成の受像層をワ
イヤーバー塗布し、その上にメチルセルロース（信越化
学製：ＳＭ15）を乾燥膜厚0.8μmになるように塗布した
クッション層／剥離層／受像層から成る受像材料を得
た。
【０１００】この時、剥離は良好に行われ、受像材料は
残留溶剤による受像層表面の劣化もなく良好であった。
【０１０１】受像層 アクリル樹脂（三菱レイヨン製：ＢＲ−113） 98.5部 シリコーン樹脂（前出：トスパール130） 1.5部 受像層は乾燥厚みが1.5μmになるようにコーティング
し、溶剤組成はメチルエチルケトン／シクロヘキサノン
／i-プロピルアルコール＝3.5／3.5／3とした。
【０１０２】上記のように作成された記録材料及び受像
材料を用い、円筒ドラム上で受像材料／記録材料の順に
真空密着（大気圧から200mmHg減圧）させ、発振波長830
nmのレーザーダイオードにて転写を行った。露光面の光
強度は33mW、ビーム経は１／e2値で11μm、送りピッチ
９μm（副走査方向）で転写を行った。この時、イエロ
ー(Ｙ)、マゼンタ(Ｍ)、シアン(Ｃ)は、それぞれ露光エ
ネルギー密度160mJ／cm2、黒(Ｋ)は140mJ／cm2にて、カ
ブリや転写残りもなく均一な濃度で画像を形成すること
ができた。
【０１０３】又、試料片を120℃で60分間加熱し、ガス
クロマトグラフィーにて揮発溶剤量の１m2当たりの換算
値を求めたところ、記録材料、受像材料共に使用溶剤の
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、i-
プロピルアルコール共に検出されなかった。
【０１０４】更に画像転写済みの受像材料を、印刷用紙
（三菱特両アート紙128ｇ／ｍ）に市販のラミネーター
（上下ロール加熱タイプ）で160℃でラミネートした
後、受像材料を紙から剥離したところ、受像層を伴って
100％再転写が行われた。剥離は受像層と剥離層との間
で界面剥離した。
【０１０５】又、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの反射濃度は、それぞ
れ1.50，1.49，1.52，1.65であった。
【０１０６】実施例１ｂ 実施例１ａで用意した仮支持体／画像形成層／光熱変換
層上に、実施例１ａでコーティングしたクッション層を
同様に連続塗布した。そして、ロール上に巻き取る直前
に100μmのＰＥＴベース（前出：Ｔ−100）に貼り合わ
せ、ロール上に巻き取った。これを巻き出す時、仮支持
体を画像形成層との界面で剥離し、実施例１ａと同様、
傷の全くない記録材料を得た。
【０１０７】これを用いての転写実験の結果は実施例１
ａと同じであった。
【０１０８】実施例１ｃ 実施例１ａで用意した仮支持体（100μmのＰＥＴベー
ス，前出：Ｔ−100）／画像形成層／光熱変換層を塗布
し、その上に実施例１ａでコーティングしたクッション
層を同様に連続コーティングし、そのまま巻き取った。
これを巻き出すと、クッション層が光熱変換層／画像形
成層を伴ってベースの剥離層と反対の面へ転写し、剥離
層／支持体／クッション層／光熱変換層／画像形成層か
ら成るベースが得られた。この時、剥離層はそのままBC
層としてブロッキング防止も兼ねる。得られた記録材料
には傷は全く見られなかった。
【０１０９】転写実験の結果は実施例１ａと同じであっ
た。
【０１１０】実施例２ （記録材料の作成）25μm厚のＰＥＴベース（前出：Ｔ
−100）上に、弗素系の剥離層（旭硝子製：ＬＦ200Ｃ）
を乾燥膜厚0.5μmとなるようにワイヤーバー塗布し、熱
硬化させ、仮支持体とした。これを用いて、実施例１と
同様に残留溶剤も発生せず、画像のレーザー転写を行っ
たところ、カブリや転写残りもなく良好な画像が得られ
た。
【０１１１】実施例３ （記録材料の作成）25μm厚のＰＥＴ（前出：Ｔ−100）
上に下記組成の剥離層液を水で希釈して、乾燥膜厚が0.
3μmの厚さになるようワイヤーバー塗布し、100℃、10
分で熱硬化させ、更に60℃で36時間キュアーを行い仮支
持体とした。
【０１１２】この剥離層は、キュアー後、80℃の温水で
も変質せず耐水性を有している。又、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン等の溶剤に対しても耐溶剤性があ
る。
【０１１３】剥離層 固形分比率（液体のものは有効成分比率）で以下の組成
を水に希釈、ドライ0.3ｇ／m2になるように、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにコーティング
し、乾燥後、120℃で１分熱処理を行った。更に、60℃
で36時間のキュアーを行った。
【０１１４】 ＥＧ−30（日本合成化学製：ＰＶＡ） 85部 スミレーズレジン−613（住友化学製：架橋剤） 9部 ＡＣＸ−Ｐ（住友化学製：架橋促進剤） 1部 ＦＰ−150（住友化学製：弗素系化合物） 5部 得られた記録材料で実施例１と同様にレーザー転写を行
ったところ、カブリや転写残りもなく良好な画像が得ら
れた。
【０１１５】実施例４ （記録材料の作成）実施例１ａにおいて、剥離層の組成
を下記のように変えた以外は同様に実施した。剥離層と
画像形成層との剥離性も良く、感度も同程度であった。
【０１１６】次に、同じ剥離層を用いて以下の実験を行
った。なお、組成中のＭＥ810は、水や有機溶剤に対し
難溶である。
【０１１７】剥離層 ポリビニルアルコール 50部 （日本合成化学製：ゴーセノールＥＧ−30） 弗素化オレフィン分散物（ダイキン製：ＭＥ810） 50部 比較例１ まず、実施例１ａで用いた光熱変換層塗布液を、25μm
厚ＰＥＴ（前出：Ｔ−100）に、830nmの透過吸収が1.0
になるようにワイヤーバーコーティングした。
【０１１８】次に、50μm厚ＰＥＴ（前出：Ｔ−100）
に、実施例１ａで用いた組成のクッション層を乾燥厚み
６μmになるようにコンマドクターコーティングし、図
２に示される装置の中で、先に作成した光熱変換層面と
上記クッション層面を対面させて、図２のヒートロール
とシリコンロールの間を通して貼り合わせた。
【０１１９】貼り合わせた後、25μm厚のＰＥＴを剥離
し、ＰＥＴ／クッション層／光熱変換層から成るシート
を得た。更に、この光熱変換層上に実施例１ａで用いた
画像形成層をワイヤーバーコーティングし、乾燥後巻き
取ったところ、画像形成層表面にヒビが発生し、又、所
々に傷が発生した。
【０１２０】この記録材料を用い、実施例１ａと同様の
露光を行ったところ、ヒビの入った箇所で転写残りがあ
り、又、傷の箇所は広範囲に亘って転写抜けが生じ、良
好な画像が得られなかった。
【０１２１】又、試料片を120℃で60分間加熱し、ガス
クロマトグラフィーにて揮発溶剤量の１m2当たりの換算
値を求めたところ、画像形成層溶剤のメチルエチルケト
ンは5.6mg／m2、シクロヘキサノンは5.2mg／m2が検出さ
れた。
【０１２２】比較例２ 実施例１ａにおいて、剥離層組成をメチルセルロース
（住友化学製：SM−15）に変えた以外は同様にして記録
材料を作成した。メチルセルロースは、画像形成層を塗
布する溶剤（メチルエチルケトンやシクロヘキサノン）
に対しては耐溶剤性があるが、光熱変換層を塗布する溶
剤（水やアルコール）に対しては耐溶剤性がない。
【０１２３】該剥離層を用いると、光熱変換層塗布時に
剥離層が僅かに溶解し、画像形成層と剥離層との接着力
が増加してしまい、この界面での剥離が困難になった
（光熱変換層のみがクッション層側へ転写し、画像形成
層は剥離層に残ってしまった）。
【０１２４】比較例３ 実施例１ａにおいて、剥離層にシリコーン系の離型剤
（東芝シリコーン製：ＴＰＲ6702）を用いた以外は同様
にして実施したところ、最終的に画像形成層と光熱変換
層の２層が同時にクッション層側へ転写できたが、記録
材料の感度は200mJ／cm2と低下してしまった。これは、
シリコーン系離型剤が画像形成層表面へ移行し、溶融転
写性を阻害するためである。
【０１２５】
【発明の効果】本発明を用いることにより、熱転写方式
のヒートモード記録用画像形成材料に好ましい柔軟なク
ッション層を有し、該クッション層上に塗布ムラや傷を
付けずに多層を設けることができ、又、残留溶剤も発生
せず、特に最上層に表面形状が劣化することなく、効率
良く作成できる。
【０１２６】又、本発明を用いることにより、カブリや
転色残りがなく、良好な剥離性を有し、溶融転写に優れ
る光熱変換型ヒートモード記録材料、光熱変換型ヒート
モード受像材料を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光熱変換型ヒートモード記録材料の作
成法１の工程順概要図。
【図２】本発明の光熱変換型ヒートモード記録材料の作
成法２の工程順概要図。
【図３】本発明の光熱変換型ヒートモード記録材料の作
成法３の工程順概要図。
【図４】本発明の光熱変換型ヒートモード記録材料の作
成法４の工程順概要図。
【図５】本発明の光熱変換型ヒートモード受像材料の作
成法５の工程順概要図。
【図６】本発明の光熱変換型ヒートモード受像材料の作
成法６の工程順概要図。
【図７】本発明の光熱変換型ヒートモード受像材料の作
成法７の工程順概要図。
【図８】本発明の光熱変換型ヒートモード受像材料の作
成法８の工程順概要図。
【図９】本発明の作成法において、剥離ロールを用いる
好ましい剥離形態の断面図。
【符号の説明】
１ 記録材料支持体 ２ クッション層 ３ 中間層 ４ 仮支持体 ５ 画像形成層 ６ 受像層 11 受像材料支持体 Ｒ 剥離ロール径 θ1 支持体の曲率 θ2 仮支持体の曲率
フロントページの続き (72)発明者 工藤 伸司 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 支持体上にクッション層、中間層、画像
    形成層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる
    光熱変換型ヒートモード記録材料を、架橋された離型面
    を有する仮支持体又は支持体上に形成した画像形成層
    を、該仮支持体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を
    画像形成面となして作成することを特徴とする光熱変換
    型ヒートモード記録材料の作成方法。
  2. 【請求項２】 支持体上にクッション層、中間層、画像
    形成層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる
    光熱変換型ヒートモード記録材料を、実質的に中間層と
    画像形成層の双方の塗布溶剤に対して非溶解性の離型面
    を有する仮支持体又は支持体上に形成した画像形成層
    を、該仮支持体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を
    画像形成面となして作成することを特徴とする光熱変換
    型ヒートモード記録材料の作成方法。
  3. 【請求項３】 支持体上にクッション層、中間層、画像
    形成層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる
    光熱変換型ヒートモード記録材料を、弗素又は長鎖アル
    キルを含有する離型面を有する仮支持体又は支持体上に
    形成した画像形成層を、該仮支持体又は支持体との界面
    で剥離し、剥離面を画像形成面となして作成することを
    特徴とする光熱変換型ヒートモード記録材料の作成方
    法。
  4. 【請求項４】 仮支持体上に画像形成層、中間層、クッ
    ション層、支持体をこの順になるように形成し、その
    後、該画像形成層と該仮支持体との界面で剥離し、剥離
    面を画像形成面となすことを特徴とする請求項１，２又
    は３記載の光熱変換型ヒートモード記録材料の作成方
    法。
  5. 【請求項５】 支持体上に画像形成層、中間層、クッシ
    ョン層をこの順になるように形成し、その後、該画像形
    成層と該支持体との界面で剥離して該支持体の他方の面
    にクッション層及び中間層と共に転写し、剥離面を画像
    形成面となすことを特徴とする請求項１，２又は３記載
    の光熱変換型ヒートモード記録材料の作成方法。
  6. 【請求項６】 支持体上にクッション層、中間層、受像
    層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光熱
    変換型ヒートモード受像材料を、架橋された離型面を有
    する仮支持体又は支持体上に形成した受像層を、該仮支
    持体又は支持体との界面で剥離し、剥離面を受像面とな
    して作成することを特徴とする光熱変換型ヒートモード
    受像材料の作成方法。
  7. 【請求項７】 支持体上にクッション層、中間層、受像
    層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光熱
    変換型ヒートモード受像材料を、実質的に中間層と受像
    層の双方の塗布溶剤に対して非溶解性の離型面を有する
    仮支持体又は支持体上に形成した受像層を、該仮支持体
    又は支持体との界面で剥離し、剥離面を受像面となして
    作成することを特徴とする光熱変換型ヒートモード受像
    材料の作成方法。
  8. 【請求項８】 支持体上にクッション層、中間層、受像
    層をこの順で有し、ヒートモード記録に用いられる光熱
    変換型ヒートモード記録材料を、弗素又は長鎖アルキル
    を含有する離型面を有する仮支持体又は支持体上に形成
    した受像層を、該仮支持体又は支持体との界面で剥離
    し、剥離面を受像面となして作成することを特徴とする
    光熱変換型ヒートモード受像材料の作成方法。
  9. 【請求項９】 仮支持体上に受像層、中間層、クッショ
    ン層、支持体をこの順になるように形成し、その後、該
    受像層と該仮支持体との界面で剥離し、剥離面を受像面
    となして作成することを特徴とする請求項６，７又は８
    記載の光熱変換型ヒートモード受像材料の作成方法。
  10. 【請求項１０】 支持体上に受像層、中間層、クッショ
    ン層をこの順になるように形成し、その後、該受像層と
    該支持体との界面で剥離して該支持体の他方の面にクッ
    ション層及び中間層と共に転写し、剥離面を受像面とな
    すことを特徴とする請求項６，７又は８記載の光熱変換
    型ヒートモード受像材料の作成方法。
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