JPH08203433A - ガラス破壊装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 外気に触れることなくエージングガス及び放
電ガスの交換可能なガラス破壊装置を提供する。 【構成】 密閉及び開封可能な処理室１０と、この処理
室と連通していて真空排気系及びガス導入系装置４６と
接続可能な配管部１２と、処理室内にガス封入されてい
るガラス管を気密に保持しながら挿入するガラス管導入
部１４と、処理室内に、この処理室を気密に保持しなが
らガラス管を破壊するガラス破壊手段１６とを具えてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、真空又はガス雰囲気
中でガラス管を破壊するためのガラス破壊装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、直流（ＤＣ）型プラズマディスプ
レイは、陰極と陽極とに挟まれた放電空間（表示セルと
もいう。）に放電ガスを封入してある。プラズマディス
プレイを表示させる場合は、それぞれの電極に選択的に
電圧を印加することにより所定のセル内でガス放電を起
こさせ、セルを表示させる。ＤＣ型プラズマディスプレ
イのガス充填方法としては、本願発明者等による特開平
３−２５７７３９号に開示した方法がある。この方法
は、ガス封入装置内で最初にエージング用ガスをパネル
に連通させて設けたガラス管を通してパネル内に導入
し、その後パネルに駆動回路を取りつけてエージングを
行う。その後、パネル内に封入されているエージングガ
スを一旦真空排気した後、パネル内に再度放電ガスを封
入してパネルに接続されているガラス管をチップオフす
るものであった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ようにガス封入装置内でエージングガスと放電ガスとを
入れ替えたり、ガス封入装置内でエージングを行う方法
は、パネルが大型化、或いは量産化を図る上で実用的で
はない。すなわち、エージングを行う場合、エージング
駆動装置を製造現場にセットしてエージングを行ってい
るが、エージングを行っている間は次のロットのパネル
にエージングガスの封入ができないため、作業効率が悪
くなる。従って、パネルの大型化及び量産化に対応する
ためには、エージングの際にガス導入系統とパネルとを
一旦切り離してエージングを行う方がより効率的であ
る。このような場合、パネル内にエージングガスを封入
してあるガラス管を一旦チップオフした後、エージング
を行うことになる。また、エージングの終了したパネル
は、チップオフしたパネルのガラス管の部分を破壊して
新たに放電ガスをパネル内に封入することになる。この
とき、パネル内部が外気に触れてしまいエージング効果
が失われてしまうという問題があった。従来は、一旦ガ
ス導入系から切り離されたエージングガスが封入されて
いるパネル内が外気に触れることなく、パネル内の放電
ガスを入れ替える有効な手段がなかった。

【０００４】そこで、エージングの終了したパネルのガ
ラス管部分を破壊して新たに放電ガスをパネル内に導入
するとき、外気に触れることなく放電ガスを導入できる
ガラス破壊装置が望まれていた。

【０００５】

【課題を解決するための手段】このため、この出願の発
明によれば、気密及び開封可能な処理室と、この処理室
と連通している真空排気系及びガス導入系と接続可能な
配管部と、処理室内にガス封入されているガラス管を処
理室に挿入した後、気密に保持できるガラス管導入部
と、この処理室内に当該処理室を気密保持しながらガラ
ス管を破壊するガラス破壊手段とを具えている。ガラス
管導入部には、ガラス管を挿入した後に処理室内の気密
性を保持するためにパッキンが設けられている。また、
ガラス破壊手段は平行移動できる機構を有するつき棒に
よりガラス管を物理的に破壊するものでもよいし、或い
はガラス管に選択的に熱を加えてガラス管を破壊するも
のでも良い。

【０００６】この発明の実施にあたり、好ましくは配管
部の先端を処理室の一つの内壁近くまで突出させてある
のが良い。また、配管部内に破壊されたガラス片が吸引
されるのを防止する手段を具えるのが良い。更に、この
発明の実施に当たり、処理室にガラス管を破壊したとき
に生じるガラス破片を収納する収納部を具えるのが良
い。

【０００７】

【作用】この出願の発明のガラス破壊装置によれば、ガ
ラス管の破壊処理を行う、気密及び開封可能な処理室を
具えていて、この処理室には、その内部を真空排気系及
びガス導入系と接続するための配管部を設けてある。こ
のため、この配管部を真空排気系及びガス導入系装置と
を接続することにより、処理室内を真空又はガス雰囲気
の状態に気密保持することができる。また、この処理室
には、ガス封入されていてパネルを連通して設けられて
いるガラス管を、処理室に挿入した後に、気密性を保持
できるガラス管導入部を設けてあるので、ガラス管導入
部にガラス管を挿入することにより、ガラス管とガラス
管導入部とにより処理室内を外気と遮断し、処理室内を
気密に保持することができる。また、ガラス破壊装置
は、処理室内にガラス破壊手段を設けてあるので、処理
室の気密状態を保ったまま、すなわち、真空状態または
ガス雰囲気中でガス封入されているガラス管をガラス破
壊手段を用いて容易に破壊することができる。

【０００８】このように、この発明の装置を用いること
により、まず、ガラス管導入部に、ガス封入されている
ガラス管を挿入し、その後、処理室内を真空又は所定の
ガスの雰囲気の状態にしてガス封入されているガラス管
をガラス破壊手段により破壊する。その後、破壊された
ガラス管口からパネル内を一旦真空排気し、新たに放電
ガスをパネル内に導入した状態でパネル近傍のガラス管
をチップオフすることにより、エージングガスと放電ガ
スとの交換の際にまったくパネル内部を外気に触れさせ
ることなく、放電ガスをパネル中に封入することができ
る。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照してこの発明のガラス破壊
装置の実施例について説明する。なお、図１〜図４は、
この発明を理解出来る程度に各構成成分の形状、大きさ
及び配置関係を概略的に示してあるにすぎない。

【００１０】第１実施例 図１は、この発明の第１実施例のガラス破壊装置及び真
空排気系及びガス導入系装置の構成を説明するための要
部を断面で示した概略図である。

【００１１】第１実施例のガラス破壊装置１９は、密閉
及び開封可能な処理室１０を具えている。そして、この
処理室１０には、ガラス管（後述する）を挿入すること
により処理室１０を密閉しかつガラス管を抜くことによ
り処理室１０を開封するガラス管導入部１４と、挿入さ
れたガラス管を破壊するガラス破壊手段１６と、破壊さ
れたガラス破片を収納する収納部１８とを設けている。
また、ガラス破壊装置１９には、処理室１０と連通して
いて真空排気系及びガス導入系４６と接続可能な配管部
１２を気密となるように設けてある。

【００１２】次に、ガラス破壊装置を構成している主要
構造について説明する。配管部１２は、先端を処理室１
０の一つの内壁面１１近くまで突出させてあり、更に、
この配管部１２内には、破壊されたガラス片の吸引を防
止する手段１３を設けてある。この防止手段１３として
例えばガラスウール、網、或いは極微細な穴のあいた蓋
等を用いるのが良い。第１実施例では、容易に入手し
得、取扱が簡単であり、しかも安価であるという理由
で、吸引を防止する手段１３としてガラスウールを用い
る。配管部１２は、その先端を処理室１０の内壁面１１
の近くにまで突出させ、かつ先端部の配管内をガラスウ
ール１３を詰め込んであるので、ガラス破片が配管部１
２内に吸引されることはなくなる。また、配管部１２
は、処理室１０の壁を貫通して設けられ、配管部１２と
処理室１０の壁とは溶接により気密に固定されている。

【００１３】また、この装置１９には、ガス封入されて
いるガラス管（図示せず）を処理室１０に挿入した後、
気密保持できるガラス管導入部１４が設けてある。この
ガラス管導入部１４には、ガラス管を挿入するための穴
（又は案内孔ともいう。）１７ａを設けてある。このた
め、挿入するガラス管の先端部分をこの穴１７ａを通し
て処理室１０内にセッテングできる。このガラス管導入
部１４は、処理室１０の１つの壁に突設され、穴１７ａ
を画成する例えば金属製の管体２３と、処理室１０を密
閉するため管体２３の内側に設けられた段差部に位置さ
せたパッキン１５ａと、このパッキン１５ａを押えるた
めこの段差部に嵌込んだアダプタ２０ａと、アダプタ２
０ａを押圧してガラス管との密着性を保持するため、管
体２３の外側に螺合するキャップ２２ａとを具えてい
る。この穴１７ａは、管体２３を取りつけた処理室１０
の壁の穴１７ｂを介して処理室１０と連通している。こ
の処理室１０の壁の穴１７ｂと穴１７ａの内径を同一と
する。また、この穴１７ａは、キャップ２２ａの穴１７
ｃと同径であって、このキャップ２２ａの穴１７ｃを介
して外部と連通している。すなわち、穴１７ａ，１７ｂ
及び１７ｃで１つの穴１７を構成し、この穴１７を通じ
て処理室１０の外部から処理室１０内へ処理すべきガラ
ス管３２を導入する。なお、この第１実施例では、パッ
キン１５ａとして例えばＯリングを用いる。

【００１４】また、処理室１０内にこの処理室１０を気
密に保持しながらガラス管（図２の３２参照）を破壊す
るためのガラス破壊手段１６を設けてある。このガラス
破壊手段１６は、ハンドル付き回転軸１６ａと、図中矢
印Ａで示す左右方向へ移動可能な移動部材１６ｂと、回
転軸１６ａを支持し、処理室１０を構成しかつ気密性を
保持するための支持台２６と、処理室１０と支持台２６
との間を直接又は間接的に封止するため、処理室１０と
対向する端部の凹部に設けられたパッキン１５ｂとを具
えている。この実施例では、支持台２６を間接的に封止
するため、このパッキン１５ｂを押えるアダプタ２０ｂ
を処理室１０の壁の段差部に嵌込んで設け、このアダプ
タ２０ｂの外側から支持台２６を覆うようにして設けて
ある。そのため、例えばガラス破壊手段１６側の処理室
１０の外周壁にはネジ（図示せず）を設けてあり、ま
た、支持台２６の内壁にもネジ（図示せず）を設けてあ
るので、この支持台２６のネジと処理室１０の外周壁の
ネジとを螺合することによりアダプタ２０ｂが押しつけ
られてパッキン１５ｂが処理室の壁に押圧され、処理室
１０内を気密保持するように構成されている。そして、
ハンドル付き回転軸１６ａの軸の一方の端部側と移動部
材１６ｂの一方の端部側とは螺合して互いに結合すると
共に、回転軸１６ａを回転させたとき、移動部材１６ｂ
を矢印Ａ方向（左右方向）のいずれか一方の方向に移動
させることができる構成となっている。そのため、この
実施例では、移動部材１６ｂの一端側に円筒状の凹部
（又は溝）２９を設け、その内面にネジ切りし、このネ
ジ切りした部分と回転軸１６ａの外周にもネジ切りした
部分とが螺合する構成としてある。なお、移動部材１６
ｂの形状は、円柱形、円筒形、角柱及び球体形などのい
ずれの形状であっても良い。ハンドル付き回転軸１６ａ
として例えばニードルバルブを用いるのが良い。また、
支持台２６には、回転軸１６ａを気密に挿入するための
穴が設けてある。このハンドル付き回転軸１６ａを支持
台２６の穴に挿入してその回転軸１６ａの先端を移動部
材１６ｂに螺合させておく。そして、回転軸１６ａのハ
ンドルを回転すると、回転軸１６ａは定位置で回転運動
を行うが、この回転に応じて移動部材１６ｂは矢印Ａで
示すいずれかの方向に進む。そのため、支持台２６に
は、移動部材１６ｂが移動した場合、この移動部材１６
ｂと滑合するための溝（又は空所ともいう。）２４を設
けてある。溝２４の外径は、移動部材１６ｂの外径より
も多少大きくしてある。

【００１５】また、移動部材１６ｂの外周には移動部材
１６ｂの左右方向の移動に伴って弾性部材、例えば伸縮
自在な板ばね２５（図中、点線で表した部分）を設けて
ある。この板ばね２５の一端と移動部材１６ｂの一部と
は固定部２５ａで固定されており、板ばね２５の他端と
アダプタ２０ｂとは固定部２５ｂで固定されている。
尚、この弾性手段は上述した板バネ以外のコイルバネ、
その他の伸縮自在ななんらかの手段であっても良い。更
に、溝２９を設けた側とは反対側の移動部材１６ｂの端
部側には、ガラス管３２を挿入するためのガラス管挿入
穴１６ｃが設けてある。この穴１６ｃの径は、ガラス管
導入部１４の穴１７の径よりも小さくしてある。そし
て、このガラス管導入部１４とガラス破壊手段１６と
を、移動部材１６ｂが移動したとき、ガラス管導入部の
穴１７と、移動部材１６ｂの穴１６ｃとが一直線上に並
ぶような位置関係で設けてあれば良い。

【００１６】また、第１実施例の装置には、ガラス破壊
手段１６によってガラス管を破壊したとき発生する破片
を収納するための収納部１８を設けてある。この収納部
１８には、パッキン１５ｃとキャップ２２ｂと処理室１
０の壁と一体構造をした金属製の管体２１とを設けてあ
る。また、管体２１の外壁にはネジが設けてあり、かつ
処理室１０の壁と連通する穴が設けてある。また、キャ
ップ２２ｂの内側にはネジが設けてある。このため、管
体２１とキャップ２２ｂとを螺合することにより、パッ
キン１５ｃを押圧して処理室１０を気密保持することが
できる。この収納部１８は、ガラス破片が飛散して落下
したとき、これらガラス破片を収集できる位置に設けて
おけば良い。

【００１７】ガラス破壊手段１６によって破壊されたガ
ラス破片は、処理室１０の壁の穴及び管体２１を通過し
てキャップ２２ｂ内に集積されるため、キャップ２２ｂ
を開封することによりガラス破片を外部に取り出すこと
ができる。

【００１８】次に、配管部１２と連結されている真空排
気系及びガス導入系装置４６について説明する。配管部
１２には、真空排気系及びガス導入系装置４６と配管１
２ａにより連結されている。そして、配管１２ａには、
真空排気装置４０とこの装置４０を開閉するための電磁
バルブ４１とが連結されている。また、配管１２ａと、
ガス源４２、４４と、これらガス源４２、４４を開閉す
るための電磁バルブ４３、４５とが連結されている。こ
こでは、ガス源４２をエージング用ガス、例えばＮｅ−
１％体積Ｘｅ系ガスとし、ガス源４４を放電用ガス、例
えば例えばＨｅ−５％体積Ｘｅ系ガスとするのが良い。

【００１９】第１実施例の動作方法 次に、図１及び図２を参照して第１実施例の装置の動作
方法について説明する。まず、回転軸１６ａを回転させ
て、移動部材１６ｂを移動させて、移動部材１６ｂのガ
ラス管挿入穴１６ｃをガラス管導入部１４の穴１７と一
直線となる位置に設定してガラス管３２の先端部分が穴
１６ｃに挿入できるようにする。予めエージングガスを
封入済のパネル３０（例えばプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ））のガラス管３２を、処理室１０外からガ
ラス管導入部１４を介して処理室１０内に挿入する。通
常、ガラス管３２には、切込み部３２ａとチップオフ部
３２ｂとを設けてある。尚、切込み部３２ａは、ガラス
切り用具などを用いてガラス管に切口をつけておくのが
良い。ガラス管３２をガラス管導入部１４の穴１７にセ
ットするに際して、処理室１０内を気密保持するため、
キャップ２２ａを管体２３と螺合させて、管体２３の段
差部に設けたパッキン１５ａをガラス管３２に押圧して
ガラス管３２を固定する。

【００２０】次に、配管部１２に連結されている真空排
気装置４０の電磁バルブ４１を開にして処理室１０内を
真空排気する。このとき、ガス導入源４２、４４側の電
磁バルブ４３及び４５は閉にしておく。処理室１０内を
高真空（例えば１×１０^-6Ｔｏｒｒ）に排気した後、電
磁バルブ４１を閉にしてハンドル付き回転軸１６ａを回
転させる。このハンドルを回転させると移動部材１６ｂ
は、矢印Ａの方向（左又は右方向）に移動するので、図
１に示すように、穴１７と１６ｃは、同一直線上から互
いにずれた位置関係となる。このため、ガラス管３２の
切り込み部３２ａは、ガラス管挿入穴１６ｃの内壁部と
接触して押圧されるので、ガラス管３２の長手方向と直
交する方向に破壊される。破壊されたガラス破片は、処
理室１０に設けられている収納部１８にトラップされ
る。また、ガラス破片が配管部１２に入り込まないよう
に配管部１２の先端を処理室１０の一つの内壁面１１の
近くまで突出させ、かつ配管部１２内に例えばガラスウ
ール１３を詰めてあるので、ガラス破片が配管１２ａ内
に吸引されのを防止できる。その後、電磁バルブ４５を
開にして、放電用ガス源４４から放電ガス（例えばＨｅ
−Ｘｅ５％体積ガス）をパネル３０内に導入する。更
に、電磁バルブ４５を閉にした後、ガラス管３２のチッ
プオフ部３２ｂを例えばガスバーナなどを用いて封止し
てパネル内への放電ガスの封入が完了する。

【００２１】第２実施例 図３は、この発明の第２実施例の装置の構造と真空排気
系及びガス導入系装置の構成について説明するための図
である。この第２実施例の装置は、ガラス破壊手段２７
としてヒータ２７ａを用いる点が第１実施例と異なって
いる。ヒータ２７ａとしては、一般に市販されている白
金線、ニクロム線或いはセラミックヒータなどを用いる
のが良い。尚、ここで述べたヒータ材料は一例にすぎ
ず、ガスの発生しない材料であれば何らこの材料に制限
されるものではない。ヒータ保持部２７ｂは、処理室１
０の壁に取り付けてあり、かつヒータ保持部２７ｂは外
気が処理室１０内に入り込まないように、気密保持され
ている。なお、ヒータ２７ａの位置は、ガラス管導入部
１４の穴１７の垂直方向であって、ほぼ穴１７径の中心
にヒータ２７ａ径の中心が合うようにセットしてある。
ここでは、ヒータ２７ａとヒータ保持部２７ｂとを総称
してガラス破壊手段２７と称する。

【００２２】また、第２実施例の装置２８は、配管部１
２内にガラス破片の吸引を防止するためのガラスウール
１３を設ける必要はない。その理由は、加熱によってガ
ラス管の破壊を行った場合には、急激な部分加熱を行う
ことにより、ガラス管にクラックが発生し、そのクラッ
ク部分からガラス管が破壊するので、第１実施例のよう
にガラス破片が処理室１０内に飛散する心配がないため
である。その他の処理室１０内の配管部１２、ガラス管
導入部１４及び収納部１８の構造は第１実施例と同様で
ある。したがって、詳細な説明を省略する。また、配管
部１２と接続されている真空排気系及びガス導入系装置
４６も第１実施例と同様である。従って、ここでは真空
排気系及びガス導入系装置４６の詳細な説明は省略す
る。

【００２３】第２実施例の装置の動作方法の説明 次に、図３及び図４を参照して、第２実施例のガラス破
壊装置の動作方法について説明する。なお、図４は、パ
ネル３０に付随するガラス管３２とガラス破壊装置２８
とのセッティングの方法を説明するために供する図であ
る。

【００２４】第１実施例において既に説明した方法と同
様にして、まず、パネル３０に取りつけられているガラ
ス管３２をガラス管導入部１４の穴１７に挿入する。こ
のとき、キャップ２２ａと管体２３を螺合してガラス管
３２をガラス管導入部１４に挿入し、処理室１０を気密
保持する。このとき、ガラス管３２の先端部であって、
ガラス管３２の切込み部３２ａをヒータ２７ａに接触す
るようにセッテイングするのが良い。続いて、真空排気
装置４０の電磁バルブ４１を開にし、処理室１０内を真
空排気する。このときの真空度は、第１実施例の値と同
一にする。続いて、電磁バルブ４１を閉じ、ヒータの両
端子に電圧を印加する。このとき、ヒータ２７ａの温度
が瞬時に８００℃程度の温度になるように電圧印加装置
（図示せず）の電圧を調整しておくのが良い。このよう
な方法により、ガラス管３２の切込み部３２ａを選択的
に容易に破壊できる。破壊されたガラス片は、収納部１
８にトラップされる。

【００２５】次に、電磁バルブ４１を閉じた状態で、電
磁バルブ４５を開にして放電用ガス源４４からパネル内
に放電ガスを導入する。放電ガスを導入した後、パネル
のガラス管３２のチップオフ部３２ｂを例えばガスバー
ナを用いて封止する。このような一連の動作を行ってパ
ネル３０内に放電ガスを外気に触れずに封入することが
できる。

【００２６】第２実施例では、ガラス破壊手段２７とし
て、リング状のヒータ２７ａを用いた例について説明し
たが、例えば熱電対のように抵抗線同士を結合させた抵
抗体を用いて、抵抗線の結合部をガラス管３２の切込み
部３２ａに直接接触させても良い。ガラス管３２は、抵
抗線の点接触加熱により容易に破壊する。これは、丁度
冷却したコップ内に急激に熱湯を注いだ場合、簡単にガ
ラスコップが破壊する原理と同じである。

【００２７】上述した第１及び第２実施例では、真空中
でガラス管を破壊させた例について説明したが、何ら真
空中に限定されるものではなく、例えばキャリアガス中
でガラス管を破壊させても良い。この場合は、真空排気
系及びガス導入系装置には、キャリアガス源を付加すれ
ば良い。また、第１及び第２実施例では処理室を真空あ
るいはガス雰囲気にしてガラス管を破壊し、パネル内の
ガスの入れ替えを行う方法を述べたが、従来のＰＤＰの
製造プロセスで行われる例が多い水銀拡散をより短時間
に均一に行うプロセスにも応用できる。この場合は、予
めエージング処理を行ったパネルをこの発明のガラス破
壊装置を用いて外気に触れずに、パネル内部を真空排気
してその状態でチップオフを行う。このとき、パネル側
のガラス管はもう一度ガス入れ替えの行える状態にして
おく（所定の長さのガラス管をパネル側に残してお
く）。このパネル内部が真空の状態で例えば水銀ゲッタ
を加熱することによりパネル内に水銀を導入した後、例
えば、２５０℃程度にパネル全体を昇温させることによ
りパネル全域に水銀を拡散させる。このとき、パネル内
部は水銀蒸気だけであるので、容易に短時間で均一に水
銀をパネル全体に拡散することができる。その後、一旦
パネルを室温まで戻し、更に、このガラス破壊装置を用
いてパネル内に放電用ガスを導入する。室温では、水銀
の飽和蒸気圧（約１０^-3Ｔｏｒｒ）が低いため、一旦拡
散された水銀がこのプロセスで移動することはない。

【００２８】また、第１及び第２実施例の装置は、エー
ジングガスをパネル内に導入する装置としても利用でき
る。この場合は、ガラス破壊手段を用いずに、一端処理
室内を真空排気した後、外部に設けたガス導入系のエー
ジング用ガス源からエージングガスをパネル内に導入し
てガラス管のチップオフ部を封止すれば良い。

【００２９】

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の発明のガラス破壊装置によれば、密閉及び開封可能な
処理室を設け、この処理室内に、この処理室と連通した
配管部と、ガラス管導入部と、ガラス破壊手段とを具え
ている。このため、予めエージングガスをパネル中に封
入した後、このパネルを単独にエージングした試料を用
意しておく。その後、エージングを終えた試料をガラス
破壊装置のガラス管導入部にセットして処理室内を真空
状態又はガス雰囲気とする。その後、ガラス管の切込み
部を破壊してガス導入系装置から放電ガスをパネル内に
導入してガラス管のチップオフ部を封止する。このよう
な一連の動作によりパネル内への放電ガスの入れ替えの
際に、パネル内をまったく外気に触れさせずにエージン
グ用ガスと放電ガスとのガス交換ができる。このため、
パネルのエージング効果を持続させた状態で放電ガスを
パネル内へ封入できる。このように、パネル内へのエー
ジングガスの封入工程、エージング処理工程、及びエー
ジングガスと放電ガスとの入れ替え工程が個別にできる
ので、パネルの量産化或いは大型化に対処できる。ま
た、処理室内にガラス破片を収納する収納部を設けてあ
るので、放電ガス封入が終了した後、破壊されたガラス
破片を容易に処理室から外部へ取り出すことが出来る。
また、配管部の先端を処理室の一つの内壁面の近くまで
突出させてあるので、破壊されたガラス管の破片が配管
部内に入り込むのを低減できる。また、配管部内に破壊
されたガラス片の吸引を防止する手段を設けてあるの
で、真空排気またはガス導入の際の吸引によりガラス破
片が配管部に入り込むのを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施例のガラス破壊装置の構造
と真空排気系及びガス導入系装置の構成とを説明するた
めの説明図である。

【図２】第１実施例のガラス破壊装置を用いてガラス管
を破壊する方法を説明するための断面図である。

【図３】この発明の第２実施例のガラス破壊装置の構造
と真空排気系及びガス導入系装置の構成とを説明するた
めの説明図である。

【図４】第２実施例のガラス破壊装置を用いてガラス管
のセッテング方法及びガラス管の破壊方法を説明するた
めの図である。

【符号の説明】

１０：処理室 １１：内壁面 １２：配管部 １２ａ：配管 １３：ガラスウール １４：ガラス管導入部 １５ａ，１５ｂ，１５ｃ：パッキン １６：ガラス破壊手段 １６ａ：ハンドル付き回転軸 １６ｂ：移動部材 １６ｃ：ガラス管挿入穴 １７、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ：穴 １８：収納部 １９、２８：ガラス破壊装置 ２０ａ，２０ｂ：アダプタ ２１：管体 ２２ａ，２２ｂ：キャップ ２３：管体 ２４：溝 ２５：板バネ ２５ａ，２５ｂ：固定部 ２６：支持台 ２７：ガラス破壊手段 ２７ａ：ヒータ ２７ｂ：ヒータ保持部 ２９：溝 ３０：パネル ３２：ガラス管 ３２ａ：切込み部 ３２ｂ：チップオフ部 ４０：真空排気装置 ４１、４３、４５：開閉バルブ（電磁バルブ） ４２：エージング用ガス源 ４４：放電用ガス源 ４６：真空排気系及びガス導入系装置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 気密及び開封可能な処理室と、該処理室
   と連通している真空排気系及びガス導入系と接続可能な
   配管部と、前記処理室内にガス封入されているガラス管
   を前記処理室に挿入した後、気密に保持できるガラス管
   導入部と、前記処理室内に該処理室を気密保持しながら
   前記ガラス管を破壊するガラス破壊手段とを具えてなる
   ことを特徴とするガラス破壊装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のガラス破壊装置におい
   て、 前記処理室に前記ガラス管を破壊したときに生じるガラ
   ス破片を収納する収納部を具えていることを特徴とする
   ガラス破壊装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載のガラス破壊装置におい
   て、 前記配管部の先端を前記処理室の一つの内壁面近くまで
   突出させてあることを特徴とするガラス破壊装置。
4. 【請求項４】 請求項１に記載のガラス破壊装置におい
   て、 前記配管部内に破壊されたガラス破片の吸引を防止する
   手段を具えたことを特徴とするガラス破壊装置。