JPH0820656A

JPH0820656A - 磁気記録媒体用易接着性ポリエステルフイルム

Info

Publication number: JPH0820656A
Application number: JP6155894A
Authority: JP
Inventors: Sadami Miura; 定美三浦; Satoshi Kitazawa; 諭北澤
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1994-07-07
Filing date: 1994-07-07
Publication date: 1996-01-23

Abstract

(57)【要約】【目的】接着性、加工性、平坦性、耐ブロッキング性
に優れた磁気記録媒体用易接着性ポリエステルフイルム
を提供する。【構成】厚さが２〜８μｍで、少くとも一方向のヤン
グ率が６５０ｋｇ／ｍｍ ²以上である配向ポリエステル
フイルムの少くとも片面に、（Ａ）５０％モジュラスが
１０〜３００ｋｇ／ｍｍ²、破断伸度が２００〜９００
％のブロック共重合ポリエステル及び（Ｂ）平均粒径が
５〜１０００ｎｍの微粒子を含み、そして表面粗さＲａ
が２〜１０ｎｍである塗布層を設けてなる磁気記録媒体
用易接着性ポリエステルフイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体用易接着性
ポリエステルフイルムに関し、さらに詳しくは表面平坦
性及び磁性層に対する接着性に優れ、かつ平坦な磁性層
表面を形成することができ、磁気テープ、磁気ディスク
等のベースフイルムとして有用な磁気記録媒体用易接着
性ポリエステルフイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体のベースフイルムとして、
二軸配向ポリエステルフイルム特に二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムが用いられている。しかし、
近年磁気記録媒体の高品質化、長時間化が進み、これに
ともなってベースフイルムの要求特性も高度化してい
る。例えば、磁性層の薄膜化や磁性層表面の超平坦化に
対応し得るベースフイルムが要求されている。

【０００３】前記二軸配向ポリエステルフイルムには、
通常その表面に磁性層に対する易接着プライマー層（塗
布層）を設けるが、従来のプライマーで前記要求特性を
十分対応できるものは少かった。特に平坦性、耐ブロッ
キング性、加工性、接着性等のバランスをとることが難
しかった。例えば、特開昭５８―１９３１４９号公報に
は二層フイルムにランダム共重合ポリエステルとコロイ
ダルシリカを含む塗布層を設けることが記載されている
が、このものをベースとした磁気記録媒体はカレンダー
処理後の磁性層表面の平坦性が十分とは言い難い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、接着
性、加工性、平坦性、耐ブロッキング性に優れた磁気記
録媒体用易接着性ポリエステルフイルムを提供すること
にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次の構成からなる。

【０００６】厚さが２〜８μｍで、少くとも一方向のヤ
ング率が６５０ｋｇ／ｍｍ²以上である配向ポリエステ
ルフイルムの少くとも片面に、（Ａ）５０％モジュラス
が１０〜３００ｋｇ／ｍｍ²、破断伸度が２００〜９０
０％のブロック共重合ポリエステル及び（Ｂ）平均粒径
（ｄ：ｎｍ）が５〜１０００ｎｍの微粒子を含み、そし
て表面粗さＲａが２〜１０ｎｍである塗布層を設けてな
る磁気記録媒体用易接着性ポリエステルフイルム。

【０００７】本発明において配向ポリエステルフイルム
を構成するポリエステルとは、芳香族二塩基酸またはそ
のエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル
形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルで
ある。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリ（１，４―シクロヘキシ
レンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン―２，
６―ナフタレンジカルボキシレート等が例示でき、これ
らの共重合体またはこれらと小割合の他樹脂とのブレン
ド物なども含まれる。

【０００８】かかる線状飽和ポリエステル樹脂を溶融押
出し、常法でフイルム状となし、配向結晶化及び熱処理
結晶化せしめることで、本発明の配向ポリエステルフイ
ルムを得ることができる。この配向ポリエステルフイル
ムとしては、結晶融解熱として差動走査型熱量計によっ
て窒素気流中［１０℃／分の昇温速度において］で測定
した値が通常４ｃａｌ／ｇ以上を呈する程度に配向した
ものが好ましい。

【０００９】配向ポリエステルフイルムは厚さが２〜８
μｍ、好ましくは３〜７μｍであり、かつ少くとも一方
向のヤング率が６５０ｋｇ／ｍｍ²以上、好ましくは６
８０ｋｇ／ｍｍ²以上である必要がある。この厚さが２
μｍ未満では強度不足となり、一方８μｍを超えるとテ
ープの長尺化において重量増加を招き、好ましくない。
また、前記ヤング率が６５０ｋｇ／ｍｍ²未満では、ベ
ースフイルムの厚さが薄いので強度不足となり、好まし
くない。

【００１０】かかる配向ポリエステルフイルムは従来か
ら公知の方法または当業界に蓄積されている方法で製造
することができる。例えば、乾燥したポリエチレンテレ
フタレートを溶融し、ダイから回転冷却ドラム上に押出
し急冷して未延伸フイルムとし、次いで該未延伸フイル
ムを一方向（縦方向又は横方向）に延伸し、続いてこの
延伸方法と直角方向（横方向又は縦方向）に延伸し、熱
固定することで製造することができる。その際、延伸温
度はポリエステルの二次転移点（Ｔｇ）以上とするのが
好ましく、延伸倍率は面積倍率で８倍以上とするのが好
ましい。但し、少くとも一方向の延伸倍率はヤング率が
６５０ｋｇ／ｍｍ²以上となる倍率である。延伸方法と
しては同時２軸延伸法、逐次２軸延伸法、多段延伸法、
再延伸法等を用いることができる。

【００１１】本発明において易接着性の塗布層は（Ａ）
５０％モジュラスが１０〜３００ｋｇ／ｍｍ²、破断伸
度が２００〜９００％のブロック共重合ポリエステル及
び（Ｂ）平均粒径が５〜１０００ｎｍの微粒子を含む塗
布層である。

【００１２】ブロック共重合ポリエステル（Ａ）の代表
的ポリマーとしてはソフトセグメントがポリアルキレン
エーテルグリコールよりなるポリエーテルエステルブロ
ック共重合体、ソフトセグメントが二次転移点の低い、
又は非晶性ないし難結晶性のポリエステル、特に脂肪族
ポリエステルよりなるポリエステルエステルブロック共
重合体が挙げられるが、これらの中ポリエーテルエステ
ルブロック共重合体が好ましい。

【００１３】ポリエーテルエステルブロック共重合体の
ハードセグメントを構成する結晶性の、又は二次転移点
の高い芳香族ポリエステルは、酸成分がテレフタル酸、
２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニ
ルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸を主成分とし、
グリコール成分がエチレングリコール、プロピレングリ
コール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール等の短
鎖グリコールを主成分とするポリエステルである。小割
合（３０モル％以下、好ましくは２０モル％以下）で用
い得る共重合成分としては、イソフタル酸、フタル酸、
１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セ
バシン酸、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコ
ール、ジプロピルグリコール、キシリレングリコール等
を例示することができる。これらの中、テトラメチレン
―２，６―ナフタレンジカルボキシレート又はテトラメ
チレンテレフタレートを主たる繰返し成分とするものが
好ましい。

【００１４】前記ポリエーテルエステルブロック共重合
体のソフトセグメントを構成するポリアルキレンエーテ
ルグリコーとしてはポリエチレングリコール、ポリテト
ラメチレングリコール等を好ましく例示することができ
る。これらの中ポリテトラメチレングリコールが好まし
い。ポリアルキレンエーテルグリコールの分子量は３０
０〜３０００、さらに６００〜２０００であることが好
ましい。

【００１５】かかるポリエーテルエステルブロック共重
合体は公知の方法で製造することができ、例えば芳香族
ポリエステルの製造原料と共にポリアルキレンエーテル
グリコールを反応させることで製造することができる。
その際、前記共重合成分とは別に３官能以上の化合物例
えばトリメリット酸、ピロメリット酸、グリセリン、ト
リメチロールプロパン等を少割合を共重合させることも
できる。この化合物の共重合によって弾性特性をより一
層改善することができる。また、ポリエーテルエステル
ブロック共重合体に親水性を付与する成分を共重合させ
ることもできる。

【００１６】また、ポリエステルエステルブロック共重
合体のハードセグメントを構成する成分としてはポリエ
ーテルエステルブロック共重合体のハードセグメントと
同じものであることができる。従って、ポリエステルエ
ステルブロック共重合体のハードセグメントとしてはエ
チレンテレフタレート、テトラメチレンテレフタレート
又はテトラメチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシ
レートを主たる繰返し成分とするものが好ましい。

【００１７】前記ポリエステルエステルブロック共重合
体のソフトセグメントを構成する脂肪族ポリエステル
は、酸成分がコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメ
リン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ジメ
チロールプロピオン酸等の脂肪族ジカルボン酸を主成分
とし、グリコール成分がエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール等の脂肪族グリコールを主成分とするポ
リエステルである。小割合（３０モル％以下、好ましく
は２０モル％以下）で用い得る共重合成分としては、テ
レフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロ
ヘキサンジカルボン酸等、ジエチレングコール、ジプロ
ピレングリコール、キシリレングリコール、ビスフェノ
ールＡのエチレンオキシド付加体、２，２―ビス（β―
ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を例示するこ
とができる。またソフトセグメントとして非晶性の芳香
族ポリエステル、例えばイソフタル酸を主たる酸成分と
炭素数２〜４のα，ω―ジオールをグリコール成分とす
るポリエステルを用いることができる。ソフトセグメン
トを構成する二次転移点の低い、又は非結晶ないし難結
晶性のポリエステルの分子量は３００〜３０００、さら
に６００〜２０００であることが好ましい。

【００１８】かかるポリエステルエステルブロック共重
合体は公知の方法で製造することができ、例えば二次転
移点の高い又は結晶性のポリエステルと二次転移点の低
い又は非晶性のポリエステルとを溶融状態で反応させブ
ロックコポリマーとすることで製造することができる。
その際、この反応が進みすぎるとランダム結合のコポリ
エステルとなって低弾性率の特性が消失するので注意を
要する。また、ポリエーテルエステルブロック共重合体
のときと同様に３官能以上の化合物や親水性付与化合物
を共重合させることもできる。

【００１９】ブロック共重合ポリエステルに親水性を付
与する化合物としては、ポリマー分子側鎖にスルホン酸
塩基、カルボン酸塩基等を導入し得る化合物例えば５―
Ｎａスルホイソフタル酸、５―アンモニウムスルホイソ
フタル酸、４―Ｎａスルホイソフタル酸、４―メチルア
ンモニウムスルホイソフタル酸、２―Ｎａスルホテレフ
タル酸、５―Ｋスルホイソフタル酸、４―Ｋスルホイソ
フタル酸、２―Ｋスルホテレフタル酸、Ｎａスルホコハ
ク酸、トリメリット酸のモノＮａ（又はＫ）塩、トリメ
シン酸のモノメチルアンモニウム塩、ピロメリット酸の
Ｎａ（又はＫ）塩、ピロメリット酸のメチルアンモニウ
ム塩等を、またポリマー分子主鎖中にエーテル結合を導
入し得る化合物例えばジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリエチレングリコール等を挙げるこ
とができる。かかる化合物は全酸成分又は全グリコール
成分当り０．５〜２０モル％、更には１〜１８モル％の
割合で用いるのが好ましい。

【００２０】本発明におけるブロック共重合ポリエステ
ル（Ａ）は５０％モジュラスが１０〜３００ｋｇ／ｃｍ
²、好ましくは１５〜２００ｋｇ／ｃｍ²、かつ破断伸
度が２００〜９００％、好ましくは２２０〜７５０％の
ポリエステルである。この５０％モジュラスが１０ｋｇ
／ｃｍ²未満では耐ブロッキング性が低下し、一方３０
０ｋｇ／ｃｍ²を超えるとカレンダー処理による磁性層
面の平坦化性が劣るので好ましくない。また破断伸度が
２００％未満では該磁性層面の平坦化性劣り、一方９０
０％を超えると耐ブロッキング性が低下するので好まし
くない。

【００２１】本発明における微粒子（Ｂ）は平均粒径が
５〜１０００ｎｍ、好ましくは６〜５００ｎｍの微粒子
である。この微粒子としては、例えば炭酸カルシウム、
酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪
素、酸化亜鉛、カーボンブラック、炭化珪素、酸化錫、
架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子等を
挙げることができる。この微粒子の平均粒径が５ｎｍ未
満では耐ブロッキング性が低下し、一方１０００ｎｍを
超えると塗布層の表面や磁性層面が粗化するので、好ま
しくない。

【００２２】前記微粒子の平均粒径（ｄ：ｎｍ）は、塗
布層の厚さ（ｔ：ｎｍ）の３倍以下であることが好まし
い。この平均粒径が厚さの３倍より大きくなると、微粒
子の削れが生じ易くなる。

【００２３】本発明において、塗布層（易接着プライマ
ー層）はブロック共重合ポリエステル（Ａ）及び微粒子
（Ｂ）を含む塗布液をポリエステルフイルムの少くとも
片面に塗布することで形成するが、該塗布液は水性液で
あることが好ましい。特にフイルム製造工程で塗布する
場合は有機溶剤系は使用し難い。塗布液中には、必要に
応じ、界面活性剤、帯電防止剤、分散剤、酸化防止剤、
ブロッキング防止剤、滑り剤、消泡剤、軟化剤、架橋
剤、硬化剤、触媒等を添加することができる。

【００２４】塗布液の塗布はポリエステル未延伸フイル
ム、一軸延伸（配向）フイルム、二軸延伸（配向）フイ
ルムのいずれかに行なっても良いが、特に縦方向に延伸
した一軸延伸（配向）フイルムに塗布してから横方向に
延伸するのが好ましい。その後、更に縦方向や横方向に
再延伸することもできる。フイルム製造工程外で二軸延
伸（配向）フイルムに塗布するときは有機溶剤系塗布液
も使用できる。

【００２５】塗布は、例えばロールコーター、ダイコー
ター、グラビアコーター等のコーターを用いて行うこと
ができる。

【００２６】前記塗布層は、表面粗さＲａが２〜１０ｎ
ｍ、好ましくは３〜９ｎｍである層である。この表面粗
さＲａが２ｎｍ未満では滑り性が不足し、一方１０ｎｍ
を超えると粗れすぎて磁気特性が低下し、好ましくな
い。またこの表面粗さＲａは微粒子（Ｂ）の平均粒径よ
り小さいことが好ましい。

【００２７】本発明の易接着性ポリエステルフイルム
は、塗布層の上に磁性層を設けたときにブロック共重合
ポリエステル（Ａ）の作用によって接着力が強くかつカ
レンダー処理での磁性層表面の平坦化効果が著しいとい
う特性を有し、さらに微粒子（Ｂ）の作用によってフイ
ルムの巻取り性、耐ブロッキング性が維持されることか
ら磁気記録媒体のベースフイルムとして有用である。

【００２８】

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に説明す
る。なお、例中のフイルム特性は次の方法で測定した。

【００２９】１．ヤング率１／２”幅のサンプルフイルムを引張試験機を用いて５
０ｍｍ／分の速度で引張り荷伸曲線を測定する。この曲
線の伸度０％の時の接線勾配からヤング率を求める。

【００３０】２．５０％モジュラス、破断伸度厚さ０．５ｍｍのダンベルに形成し該ダンベルを引張試
験機にて５０ｍｍ／分の速度で引張り、伸度５０％の時
の荷重を５０％モジュラス（ｋｇ／ｃｍ²）、破断した
時の伸度を破断伸度（％）とする。

【００３１】３．表面粗さ（Ｒａ）ＪＩＳＢ０６０１に準じ、（株）小坂研究所製の高精
度表面粗さ計ＳＥ―３ＦＡＴを使用して、針の半径２μ
ｍ、荷重３０ｍｇで拡大倍率２０万倍、カットオフ０．
０８ｍｍの条件下にチャートをかかせ、表面粗さ曲線か
らその中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、こ
の抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸と
して、粗さ曲線をＹ＝ｆ（ｘ）で表したとき、次の式で
与えられた値をμｍ単位で表す。

【００３２】

【数１】

【００３３】この測定は基準長を１．２５ｍｍとして４
個測定し、平均値を表す。

【００３４】４．接着性（プライマー被覆）ポリエステルフイルムに下記評価用
塗料をマイヤーバーで乾燥後の厚さが約０．８μｍにな
るように塗布し、１００℃で３分間乾燥する。カレンダ
ー処理の後６０℃で２４時間エージングし、次いでスコ
ッチテープ No.６００（３Ｍ社製）巾１２．７ｍｍ，長
さ１５ｃｍを気泡の入らないように粘着し、この上をＪ
ＩＳＣ２７０１（１９７５）記載の手動式荷重ロール
でならし、密着させ、テープ巾に切り出す。これを１８
０度剥離した時の強力を測定する。［評価用塗料］固形分換算で、ウレタン樹脂ニッポラン2304 ２５重量部（日本ポリウレタン製）塩ビ・酢ビ樹脂エスレックＡ５０重量部（積水化学製）分散剤レシオンＰ１重量部（理研ビタミン製）磁性剤ＣＴＸ―８６０５００重量部（戸田化学製）をメチルエチルケトン／トルエン／シクロヘキサノン混
合溶剤に溶解し、４０％液にし、サンドグライダーで２
時間分散する。その後架橋剤のコロネートＬ２５重量
部（固形分換算）を添加し、よく攪拌して磁性塗料を得
る。

【００３５】５．ブロッキング性ポリエステルフイルムの表面と裏面を合わせてから１０
ｃｍ×１５ｃｍ角に切り、これに５０℃×５０％ＲＨの
雰囲気中で１７時間、５０ｋｇ／ｃｍ²の加重をかけ、
次いでこの１０ｃｍ巾の剥離強度を測定する。このとき
の剥離スピードは１００ｍｍ／分である。

【００３６】［実施例１］酸化珪素微粒子（滑剤）を含
有する固有粘度０．６６のポリエチレン２，６―ナフタ
レンジカルボキシレートを溶融し、ダイから冷却ドラム
上にキャストして急冷した後、縦方向に４倍延伸した。
得られた一軸延伸フイルムの片面に、テレフタル酸―イ
ソフタル酸―５―Ｎａスルホイソフタル酸―１，４―ブ
タンジオール―ポリエチレングリコール―ポリテトラメ
チレングリコールブロック共重合体（Ａ―１、５０％モ
ジュラス８０ｋｇ／ｃｍ²、破断伸度３８０％）６５ｗ
ｔ％、平均粒径４８ｎｍの架橋アクリル樹脂微粒子（Ｂ
―１）２０ｗｔ％、エチレンオキシド・プロピレンオキ
シドブロック共重合体１０ｗｔ％及びポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル５ｗｔ％からなる４％水性液
をグラビアコーターで塗布し、乾燥し、続いて横方向に
５．２倍延伸した後、２３２℃で熱固定処理した。得ら
れた二軸配向フイルムの厚さは６．９μｍであり、プラ
イマー層の厚さは５０ｎｍ、表面粗さ（Ｒａ）は７ｎｍ
であった。このフイルムの横方向のヤング率は７５０ｋ
ｇ／ｍｍ²であった。このフイルムの特性を表１に示
す。

【００３７】［比較例１］実施例１において塗布処理を
行なわない以外は同様に行なった。得られた二軸配向ポ
リエステルフイルムの特性を表１に示す。

【００３８】［実施例２〜８、比較例２〜３］実施例１
において、塗布剤及び塗布量を表１に示すように変更す
る以外は同様に行なった。この結果を表１に示す。

【００３９】

【表１】

【００４０】註）表中の符号は次のとおりである。Ａ―２：２，６―ナフタレンジカルボン酸―イソフタル
酸―５―Ｋスルホイソフタル酸―ジエチレングリコール
―１，４―ブタンジオール―ポリテトラメチレングリコ
ールブロック共重合体（５０％モジュラス６０ｋｇ／ｃ
ｍ²、破断伸度４１０％）。Ａ―３：テレフタル酸―イソフタル酸―５―Ｎａスルホ
イソフタル酸―エチレングリコール―ネオペンチルグリ
コールランダム共重合ポリエステル（５０％モジュラス
３８５ｋｇ／ｃｍ²、破断伸度１６％）。Ａ―４：テレフタル酸―５―Ｎａスルホイソフタル酸―
１，４―ブタンジオール―ジエチレングリコール―ポリ
テトラメチレングリコールブロック共重合体（５０％モ
ジュラス６８ｋｇ／ｃｍ²、破断伸度３９２％）。Ｂ―２：平均粒径１２ｎｍのシリカ微粒子。Ｂ―３：平均粒径５０ｎｍの架橋ポリスチレン微粒子。Ｂ―４：平均粒径１５０ｎｍの架橋ポリスチレン微粒
子。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、接着性、加工性、平坦
性、耐ブロッキング性に優れ、磁気記録媒体のベースフ
イルムとして有用な易接着性ポリエステルフイルムを提
供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】厚さが２〜８μｍで、少くとも一方向の
ヤング率が６５０ｋｇ／ｍｍ²以上である配向ポリエス
テルフイルムの少くとも片面に、（Ａ）５０％モジュラ
スが１０〜３００ｋｇ／ｍｍ²、破断伸度が２００〜９
００％のブロック共重合ポリエステル及び（Ｂ）平均粒
径（ｄ：ｎｍ）が５〜１０００ｎｍの微粒子を含み、そ
して表面粗さＲａが２〜１０ｎｍである塗布層を設けて
なる磁気記録媒体用易接着性ポリエステルフイルム。
【請求項２】塗布層の厚さ（ｔ：ｎｍ）と微粒子の平
均粒径（ｄ：ｎｍ）とが３ｔ≧ｄの関係にある請求項１
記載の易接着性ポリエステルフイルム。
【請求項３】ブロック共重合ポリエステルがポリエー
テルエステルブロック共重合体である請求項１記載の易
接着性ポリエステルフイルム。
【請求項４】ポリエーテルエステルブロック共重合体
のソフトセグメント成分がポリテトラメチレングリコー
ルである請求項３記載の易接着性ポリエステルフイル
ム。
【請求項５】配向ポリエステルフイルムがポリエチレ
ンテレフタレート又はポリエチレン―２，６―ナフタレ
ンジカルボキシレートの素材からなる請求項１記載の易
接着性ポリエステルフイルム。