JPH08209372A - p−ヒドロキシベンズアルデヒドの製法 - Google Patents
p−ヒドロキシベンズアルデヒドの製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/20—Processes
- C25B3/23—Oxidation
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】p−ヒドロキシベンズアルデヒドの製法
【解決手段】アルカノールR1−OH[式中、R1は、
C1〜C6−アルキル基を表す]の存在で、下記の一般
式IIのフェノールの電気化学的酸化により、下記の一
般式Iのp−ヒドロキシベンズアルデヒドを製造する方
法において、反応を、式IIのフェノールを相応するフ
ェノレートイオンに変じることのできる有機又は無機の
塩基の化学当量よりも少ない量の存在で実施し、反応混
合物を加水分解により後処理し、式Iのアルデヒドを単
離する。 【化1】
C1〜C6−アルキル基を表す]の存在で、下記の一般
式IIのフェノールの電気化学的酸化により、下記の一
般式Iのp−ヒドロキシベンズアルデヒドを製造する方
法において、反応を、式IIのフェノールを相応するフ
ェノレートイオンに変じることのできる有機又は無機の
塩基の化学当量よりも少ない量の存在で実施し、反応混
合物を加水分解により後処理し、式Iのアルデヒドを単
離する。 【化1】
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルカノールR1
−OH[式中、R1は、C1〜C6−アルキル基を表
す]の存在で、一般式II:
−OH[式中、R1は、C1〜C6−アルキル基を表
す]の存在で、一般式II:
【0002】
【化4】
【0003】のフェノールの電気化学的酸化により、一
般式I:
般式I:
【0004】
【化5】
【0005】[式中、芳香環は、不活性置換基X2〜4
個を有していてよい]のp−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドを製造するための改良された方法に関する。
個を有していてよい]のp−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドを製造するための改良された方法に関する。
【0006】
【従来の技術】アルデヒドIは、医薬品、光−及び植物
保護剤、安定剤、酸化防止剤、染料及び臭い物質の製造
用の中間体として役立つ。
保護剤、安定剤、酸化防止剤、染料及び臭い物質の製造
用の中間体として役立つ。
【0007】2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェ
ノールを電気化学的に酸化して3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンズアルデヒドにすることは、H.
Ohmori等のChem.Pharm.Bull.3
3.(1985)4007に記載されている。この反応
は、化学当量のナトリウムメタノレート及び他の補助電
解質の存在で、メタノール及びジエチルエーテルの混合
物中で、一定電圧で実施される。しかしながら、この方
法の経済的な工業的反応のためには、68%の達成収率
が望ましい。
ノールを電気化学的に酸化して3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンズアルデヒドにすることは、H.
Ohmori等のChem.Pharm.Bull.3
3.(1985)4007に記載されている。この反応
は、化学当量のナトリウムメタノレート及び他の補助電
解質の存在で、メタノール及びジエチルエーテルの混合
物中で、一定電圧で実施される。しかしながら、この方
法の経済的な工業的反応のためには、68%の達成収率
が望ましい。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、フェ
ノールIIからアルデヒドIを高収率で選択的に入手可
能とすることである。
ノールIIからアルデヒドIを高収率で選択的に入手可
能とすることである。
【0009】
【課題を解決する手段】相応して、冒頭に定義された方
法の改良が発見され、これは、反応を、フェノールII
を相応するフェノレートイオンに変じることのできる有
機又は無機の塩基の化学当量よりも少ない量での存在下
に実施し、反応混合物を、加水分解後処理し、アルデヒ
ドIを単離させることよりなる。
法の改良が発見され、これは、反応を、フェノールII
を相応するフェノレートイオンに変じることのできる有
機又は無機の塩基の化学当量よりも少ない量での存在下
に実施し、反応混合物を、加水分解後処理し、アルデヒ
ドIを単離させることよりなる。
【0010】出発化合物Iは、不活性の置換基、例えば
アルキル−、アルコキシ−、アルコキシカルボニル−、
シアノ−又はハロゲン基を有していてよい。中間体とし
てのその使用に関して、式中のR2及びR3が相互に独
立して、C1〜C18−アルキル基、例えばメチル、エ
チル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イ
ソ−ブチル及びt−ブチルであり、C1〜C18−アル
コキシ基は、メトキシ又はエトキシを表すような一般式
IIIのの化合物が有利である。式II又はIIIの化
合物は、市場で入手可能であるか又は公知の方法で製造
可能である。
アルキル−、アルコキシ−、アルコキシカルボニル−、
シアノ−又はハロゲン基を有していてよい。中間体とし
てのその使用に関して、式中のR2及びR3が相互に独
立して、C1〜C18−アルキル基、例えばメチル、エ
チル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イ
ソ−ブチル及びt−ブチルであり、C1〜C18−アル
コキシ基は、メトキシ又はエトキシを表すような一般式
IIIのの化合物が有利である。式II又はIIIの化
合物は、市場で入手可能であるか又は公知の方法で製造
可能である。
【0011】
【化6】
【0012】次の化合物の製造が特に有利である:3−
メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド、3,5−ジ−T−ブチル−4−ヒドロキシベンズ
アルデヒド、3,5−ジ−n−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、3,5−ジ−イソプロピル−4−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、3,5−ジエチル−4−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、3−t−ブチル−5−メチ
ル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド。
メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド、3,5−ジ−T−ブチル−4−ヒドロキシベンズ
アルデヒド、3,5−ジ−n−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、3,5−ジ−イソプロピル−4−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、3,5−ジエチル−4−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、3−t−ブチル−5−メチ
ル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド。
【0013】電気化学的酸化は、アルコールR1−OH
(ここでR1はC1〜C6−アルキル基である)の存在
で行われる。メタノールが好適である。電解液は、加水
分解条件下で不活性の溶剤例えばアセトニトリルを含有
していてよいが、そのような溶剤なしで電気分解をおこ
なうのが有利である。電解液中のアルカノールの濃度
は、一般に50〜98重量%である。
(ここでR1はC1〜C6−アルキル基である)の存在
で行われる。メタノールが好適である。電解液は、加水
分解条件下で不活性の溶剤例えばアセトニトリルを含有
していてよいが、そのような溶剤なしで電気分解をおこ
なうのが有利である。電解液中のアルカノールの濃度
は、一般に50〜98重量%である。
【0014】更に、この電解液は、有機又は無機の塩基
を含有する。これらの塩基は、フェノールII又はII
Iを相応するフェノレートイオンに変じることができる
べきである。詳細には、アミン、例えば3級アミン、例
えばトリエチルアミンがこれに該当するが、アルカリ金
属水酸化物、例えばNaOH及びKOH及びアルカリ金
属アルコレート、例えばナトリウムメタノレート及び−
エタノレートが有利である。この塩基は、フェノールI
I又はIIIに対して化学当量より少ない量で使用され
る。フェノールII又はIIIの1当量当たり0.01
〜0.9、特に有利に0.25〜0.7当量を使用する
のが有利である。
を含有する。これらの塩基は、フェノールII又はII
Iを相応するフェノレートイオンに変じることができる
べきである。詳細には、アミン、例えば3級アミン、例
えばトリエチルアミンがこれに該当するが、アルカリ金
属水酸化物、例えばNaOH及びKOH及びアルカリ金
属アルコレート、例えばナトリウムメタノレート及び−
エタノレートが有利である。この塩基は、フェノールI
I又はIIIに対して化学当量より少ない量で使用され
る。フェノールII又はIIIの1当量当たり0.01
〜0.9、特に有利に0.25〜0.7当量を使用する
のが有利である。
【0015】更なる補助電解質、例えば弱塩基性又は中
性の塩は、一般に必要ではなく、そのような補助電解質
なしで操作するのが有利である。
性の塩は、一般に必要ではなく、そのような補助電解質
なしで操作するのが有利である。
【0016】本発明の方法は、一般に、0.1〜20A
/dm2、有利に2〜8A/dm2の電流で実施する。
荷電量は、一般に4〜6F/出発化合物モルである。
/dm2、有利に2〜8A/dm2の電流で実施する。
荷電量は、一般に4〜6F/出発化合物モルである。
【0017】温度は、広範に変動できる。それは−20
〜180℃、特に50〜70℃であってよい。この際、
減圧、常圧又は過圧が支配するが、常圧又は3バールま
での過圧が有利である。
〜180℃、特に50〜70℃であってよい。この際、
減圧、常圧又は過圧が支配するが、常圧又は3バールま
での過圧が有利である。
【0018】反応器としては、分割された又は非分割の
セルが使用されるが、後者が有利である。
セルが使用されるが、後者が有利である。
【0019】陽極材料として、貴金属、例えば白金又は
酸化物、例えば酸化クロム又は酸化ルテニウム並びに混
合酸化物、例えばTi/RuOXがこれに該当する。グ
ラファイト−及び白金電極が有利である。
酸化物、例えば酸化クロム又は酸化ルテニウム並びに混
合酸化物、例えばTi/RuOXがこれに該当する。グ
ラファイト−及び白金電極が有利である。
【0020】陰極材料としては、一般に、鋼、鉄、銅、
ニッケル、亜鉛及び炭素並びに貴金属、例えば、白金、
特にグラファイト及び白金が好適である。
ニッケル、亜鉛及び炭素並びに貴金属、例えば、白金、
特にグラファイト及び白金が好適である。
【0021】電気分解は、不連続的に又は連続的に実施
できる。連続的な変法では、反応溶液の部分流(これ
は、一般に全流の5重量%より少ない)を分離し、後処
理することができる。電気分解液が取り出される程度に
応じて、反応溶液に新たな出発溶液を添加する。
できる。連続的な変法では、反応溶液の部分流(これ
は、一般に全流の5重量%より少ない)を分離し、後処
理することができる。電気分解液が取り出される程度に
応じて、反応溶液に新たな出発溶液を添加する。
【0022】反応溶液の後処理は、アルコールR1−O
Hの留去により行うのが有利である。残分を加水分解的
に、特に中性で又は酸中で後処理するのが有利である。
酸性化のために、例えば、鉱酸、例えば硫酸又は有機
酸、例えば酢酸を使用することができる。これらの酸
は、反応混合物に、一般に反応混合物に対して1〜10
重量%の量で添加される。次いで、生成物を、固体とし
て分離するか、又は有機溶剤、例えばメチルt−ブチル
エーテル又はトルオールで抽出の後に蒸留により取得す
る。アルコールR1−OH及び場合によっては回収され
た出発物質II又はIIIは、更なるバッチ中で使用で
きる。
Hの留去により行うのが有利である。残分を加水分解的
に、特に中性で又は酸中で後処理するのが有利である。
酸性化のために、例えば、鉱酸、例えば硫酸又は有機
酸、例えば酢酸を使用することができる。これらの酸
は、反応混合物に、一般に反応混合物に対して1〜10
重量%の量で添加される。次いで、生成物を、固体とし
て分離するか、又は有機溶剤、例えばメチルt−ブチル
エーテル又はトルオールで抽出の後に蒸留により取得す
る。アルコールR1−OH及び場合によっては回収され
た出発物質II又はIIIは、更なるバッチ中で使用で
きる。
【0023】本発明の方法は、高い収率でのアルデヒド
Iの選択的製造を可能にする。
Iの選択的製造を可能にする。
【0024】
【実施例】すべての実施例は、1mmの間隔のグラファ
イト電極を有する、下から流入する分割されていない貫
流電解セル中で実施した。
イト電極を有する、下から流入する分割されていない貫
流電解セル中で実施した。
【0025】電解液を550 l/hでポンプ循環させ
た。本発明により、後処理をこの反応混合物の加水分解
により行った。
た。本発明により、後処理をこの反応混合物の加水分解
により行った。
【0026】反応しなかった基質及び中間体は、生成物
の濾過後のメチル−t−ブチルエーテル(MTBE)を
用いる水性母液の抽出及びこの生成物の再結晶からの母
液の蒸発濃縮により取得した。「重量%」なる記載は、
全反応バッチに対する。
の濾過後のメチル−t−ブチルエーテル(MTBE)を
用いる水性母液の抽出及びこの生成物の再結晶からの母
液の蒸発濃縮により取得した。「重量%」なる記載は、
全反応バッチに対する。
【0027】例1 3,5−ジ−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド
の製造 電解液の組成: 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール 150g(0.68モル、5重量%) 30%メタノール溶液としてのナトリウムメチレート 61.4g(0.34モル、0.6重量%) メタノール 2789g 電気分解条件: 温度 58℃ 電流密度 4A/dm2 電荷量 4.7F/モル 後処理は、メタノール2380gの留去、引き続く4%
HCl 450gでの反応混合物の加水分解及び濾過に
よる生成物の分離並びにシクロヘキサンからの粗生成物
の再結晶により行った。
の製造 電解液の組成: 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール 150g(0.68モル、5重量%) 30%メタノール溶液としてのナトリウムメチレート 61.4g(0.34モル、0.6重量%) メタノール 2789g 電気分解条件: 温度 58℃ 電流密度 4A/dm2 電荷量 4.7F/モル 後処理は、メタノール2380gの留去、引き続く4%
HCl 450gでの反応混合物の加水分解及び濾過に
よる生成物の分離並びにシクロヘキサンからの粗生成物
の再結晶により行った。
【0028】使用基質に対して、次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド148g(0.66モル、93%)。
(モル−%):3,5−ジ−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド148g(0.66モル、93%)。
【0029】例2 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造 製造を例1と同様に行ったが、電流密度は8A/dm2
であった。
ヒドの製造 製造を例1と同様に行ったが、電流密度は8A/dm2
であった。
【0030】使用基質に対して次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド143g(0.61モル、90
%)。
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド143g(0.61モル、90
%)。
【0031】例3 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造 製造は例1と同様に行ったが、電流密度は2A/dm2
であった。
ヒドの製造 製造は例1と同様に行ったが、電流密度は2A/dm2
であった。
【0032】使用基質に対して、次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド146g(0.62モル、91
%)。
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド146g(0.62モル、91
%)。
【0033】例4 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造 電解液の組成: 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール 300g(1.36モル、10重量%) 30%メタノール溶液としてのナトリウムメチレート122g(0.68モル) メタノール 2578g この電気分解及び後処理を例1と同様に行った。
ヒドの製造 電解液の組成: 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール 300g(1.36モル、10重量%) 30%メタノール溶液としてのナトリウムメチレート122g(0.68モル) メタノール 2578g この電気分解及び後処理を例1と同様に行った。
【0034】使用基質に対して、次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−3−ヒドロキ
シベンズアルデヒド289g(1.24モル、91
%)。
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−3−ヒドロキ
シベンズアルデヒド289g(1.24モル、91
%)。
【0035】例5 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造 電気分解及び後処理を例4と同様に行うが、温度は40
℃であった。
ヒドの製造 電気分解及び後処理を例4と同様に行うが、温度は40
℃であった。
【0036】使用基質に対して次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド258g(1.1モル)。
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド258g(1.1モル)。
【0037】例6 3,5−ジ−t−ブチル−3−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造 電解液の組成: 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール 300g(1.36モル、10重量%) 水酸化ナトリウム 2O.5g(0.51モル、0.7重量%) メタノール 2680g 電気分解及び後処理を例1と同様に行った。
ヒドの製造 電解液の組成: 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール 300g(1.36モル、10重量%) 水酸化ナトリウム 2O.5g(0.51モル、0.7重量%) メタノール 2680g 電気分解及び後処理を例1と同様に行った。
【0038】使用基質に対して、次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド271g(1.2モル、85%)。
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド271g(1.2モル、85%)。
【0039】例7 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造 電解液の組成: 2,6−t−ブチル−4−メチルフェノール 150g(0.68モル、5重量%) 水酸化カリウム 19.1g(0.34モル、0.6重量%) メタノール 2830g 電気分解及び後処理を例1と同様におこなった。
ヒドの製造 電解液の組成: 2,6−t−ブチル−4−メチルフェノール 150g(0.68モル、5重量%) 水酸化カリウム 19.1g(0.34モル、0.6重量%) メタノール 2830g 電気分解及び後処理を例1と同様におこなった。
【0040】使用基質に対して次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド119g(0.51モル、75
%)。
(モル−%):3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンズアルデヒド119g(0.51モル、75
%)。
【0041】例8 3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒドの
製造 電解液の組成: 2,4,6−トリメチルフェノール150g(1.1モル、10重量%) 30%メタノール溶液としてのナトリウムメチレート 100g(0.55モル、1重量%) メタノール 2750g 電気分解条件: 温度 58℃ 電流密度 4A/dm2 荷電量 5F/モル 後処理を、メタノール2356gの留去、引き続く4%
HCl 450gでの反応混合物の加水分解及び濾過に
よる生成物の分離並びにシクロヘキサンからの再結晶に
より行った。
製造 電解液の組成: 2,4,6−トリメチルフェノール150g(1.1モル、10重量%) 30%メタノール溶液としてのナトリウムメチレート 100g(0.55モル、1重量%) メタノール 2750g 電気分解条件: 温度 58℃ 電流密度 4A/dm2 荷電量 5F/モル 後処理を、メタノール2356gの留去、引き続く4%
HCl 450gでの反応混合物の加水分解及び濾過に
よる生成物の分離並びにシクロヘキサンからの再結晶に
より行った。
【0042】使用基質に対して、次のものが単離された
(モル−%):3,5−ジ−メチル−4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド114g(0.76モル、69%)。
(モル−%):3,5−ジ−メチル−4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド114g(0.76モル、69%)。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年12月25日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 カール−ハインツ グローセ ブリンクハ ウス ドイツ連邦共和国 バート デュルクハイ ム カイザースラウテラー シュトラーセ 112
Claims (7)
- 【請求項1】 アルカノールR1−OH[式中、R
1は、C1〜C6−アルキル基を表す]の存在で、一般
式II: 【化1】 のフェノールの電気化学的酸化により、一般式I: 【化2】 [式中、芳香環は、不活性置換基X2〜4個を有してい
てよい]のp−ヒドロキシベンズアルデヒドを製造する
方法において、この反応を、式IIのフェノールを相応
するフェノレートイオンに変じることのできる有機又は
無機の塩基の当量より少ない量の存在下に、実施し、反
応混合物を、加水分解により後処理し、式Iのアルデヒ
ドを単離することを特徴とする、p−ヒドロキシベンズ
アルデヒドの製法。 - 【請求項2】 一般式III: 【化3】 [式中基R2及びR3は、相互に独立してC1〜C8−
アルキル又はC1〜C8−アルコキシを表す]のフェノ
ールを酸化することを特徴とする、請求項1に記載の方
法。 - 【請求項3】 基R1及びR3は、t−ブチル基を表
す、請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 電気化学的酸化を非分隔貫流セル中で実
施する、請求項1から3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 50〜70℃で電気分解をする、請求項
1から4のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 式IIのフェノール1当量当たり塩基
0.25〜0.7当量を使用する、請求項1から5のい
ずれかに記載の方法。 - 【請求項7】塩基としてアルカリ金属水酸化物又はアル
カリ金属アルコレートを使用する、請求項1から6のい
ずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4440466A DE4440466A1 (de) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | Verfahren zur Herstellung von p-Hydroxybenzaldehyden |
| DE4440466.2 | 1994-11-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08209372A true JPH08209372A (ja) | 1996-08-13 |
Family
ID=6533160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7294256A Withdrawn JPH08209372A (ja) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | p−ヒドロキシベンズアルデヒドの製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0711851B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08209372A (ja) |
| DE (2) | DE4440466A1 (ja) |
| ES (1) | ES2113150T3 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200631931A (en) * | 2005-01-19 | 2006-09-16 | Merisol Rsa Pty Ltd | Method for the production of alkoxy-substituted phenols |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5227739A (en) * | 1975-08-26 | 1977-03-02 | Takasago Corp | Process for preparation of 3-substituted or non-substituted-4-hydroxyb enzaldehyde by electrolytic oxidation |
| JPS572881A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-08 | Otsuka Chem Co Ltd | Manufacture of 3,5-dialkoxy-4-hydroxybenzaldehyde |
-
1994
- 1994-11-15 DE DE4440466A patent/DE4440466A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-11-07 ES ES95117495T patent/ES2113150T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-07 EP EP95117495A patent/EP0711851B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-07 DE DE59501538T patent/DE59501538D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-13 JP JP7294256A patent/JPH08209372A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0711851A1 (de) | 1996-05-15 |
| EP0711851B1 (de) | 1998-03-04 |
| DE4440466A1 (de) | 1996-05-23 |
| ES2113150T3 (es) | 1998-04-16 |
| DE59501538D1 (de) | 1998-04-09 |
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