JPH08217769A - 3−メチルテトラヒドロフランを製造する方法 - Google Patents
3−メチルテトラヒドロフランを製造する方法Info
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- JPH08217769A JPH08217769A JP7022807A JP2280795A JPH08217769A JP H08217769 A JPH08217769 A JP H08217769A JP 7022807 A JP7022807 A JP 7022807A JP 2280795 A JP2280795 A JP 2280795A JP H08217769 A JPH08217769 A JP H08217769A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大量且つ安価につくられている原料から,高
収率で,しかも不要な副生物のない3−メチルテトラヒ
ドロフランを製造する方法を提供する。 【構成】 青酸とメタクリル酸メチルから3−シアノイ
ソ酪酸メチルを製造する第一工程,第一工程で得られた
3−シアノイソ酪酸メチルを水和して3−カルバモイル
イソ酪酸メチルを製造する第二工程,第二工程で得られ
た3−カルバモイルイソ酪酸メチルとギ酸エステルより
メチルコハク酸エステルとホルムアミドを製造する第三
工程,第三工程で得られたメチルコハク酸エステルを接
触水素化して3−メチルテトラヒドロフランを製造する
第四工程および第三工程で得られた生成物から分離した
ホルムアミドを脱水して青酸を製造し循環使用する第五
工程よりなる3−メチルテトラヒドロフランの製造法。
収率で,しかも不要な副生物のない3−メチルテトラヒ
ドロフランを製造する方法を提供する。 【構成】 青酸とメタクリル酸メチルから3−シアノイ
ソ酪酸メチルを製造する第一工程,第一工程で得られた
3−シアノイソ酪酸メチルを水和して3−カルバモイル
イソ酪酸メチルを製造する第二工程,第二工程で得られ
た3−カルバモイルイソ酪酸メチルとギ酸エステルより
メチルコハク酸エステルとホルムアミドを製造する第三
工程,第三工程で得られたメチルコハク酸エステルを接
触水素化して3−メチルテトラヒドロフランを製造する
第四工程および第三工程で得られた生成物から分離した
ホルムアミドを脱水して青酸を製造し循環使用する第五
工程よりなる3−メチルテトラヒドロフランの製造法。
Description
【産業上の利用分野】本発明は3−メチルテトラヒドロ
フランの新規製造方法に関する。3−メチルテトラヒド
ロフランはスパンデックスファイバーの原料であるポリ
エーテルグリコールのコモノマーとして利用される。
フランの新規製造方法に関する。3−メチルテトラヒド
ロフランはスパンデックスファイバーの原料であるポリ
エーテルグリコールのコモノマーとして利用される。
【従来の技術】3−メチルテトラヒドロフランは種々の
方法により製造可能である。特開昭63−218669
号によれば,クエン酸の水素添加により3−メチルテト
ラヒドロフランは3−及び4−メチルブチロラクトンと
共に生成するがその選択率は約70% である。米国特許第
3956318 号によれば,液相,プロトン酸の存在下エポキ
サイドを接触水素化すると生成するがその原料エポキサ
イドは高価である。特開平2-62835 号によればアルデヒ
ドの存在下4−ヒドロキシブチルアルデヒドまたは2−
ヒドロキシテトラヒドロフランの接触水素化で得られる
ジオールを環化すると生成するがその原料は高価であ
り,テトラヒドロフランの副生を伴う。また、メチルマ
レイン酸またはメチルコハク酸の水素化による方法(特
開昭49−9463号)も開示されているが、出発原料
の入手が困難であるばかりでなく水素化条件も過酷であ
り工業的実施が困難なことは明白である。
方法により製造可能である。特開昭63−218669
号によれば,クエン酸の水素添加により3−メチルテト
ラヒドロフランは3−及び4−メチルブチロラクトンと
共に生成するがその選択率は約70% である。米国特許第
3956318 号によれば,液相,プロトン酸の存在下エポキ
サイドを接触水素化すると生成するがその原料エポキサ
イドは高価である。特開平2-62835 号によればアルデヒ
ドの存在下4−ヒドロキシブチルアルデヒドまたは2−
ヒドロキシテトラヒドロフランの接触水素化で得られる
ジオールを環化すると生成するがその原料は高価であ
り,テトラヒドロフランの副生を伴う。また、メチルマ
レイン酸またはメチルコハク酸の水素化による方法(特
開昭49−9463号)も開示されているが、出発原料
の入手が困難であるばかりでなく水素化条件も過酷であ
り工業的実施が困難なことは明白である。
【0001】特開昭48-22405号によれば1,4−ブテン
ジオールをヒドロホルミル化し,触媒分離後そのヒドロ
ホルミル化された生成物(2−ホルミル−1,4−ブテ
ンジオールと推定される) の水溶液を接触水素化し得ら
れた2−メチル−1,4−ブテンジオールを環化し3−
メチルテトラヒドロフランを得ている。また特開平5-11
7258号及び特公平4-55179 号によればアルデヒドの存在
下1,4−ブチンジオールまたは1,4−ブテンジオー
ルを接触水素化し得られたジオールを環化し3−メチル
テトラヒドロフランを得ている。しかしこれらの方法で
原料として用いている1,4−ブテンジオールおよび
1,4−ブチンジオールは,アセチレンから得られるも
のであるため高価であり,またテトラヒドロフランの副
生を伴う。特開平6−219981号によれば,イタコ
ン酸,3−ホルミル−2−メチルプロピオン酸またはこ
れらのエステルを接触水素化すると2−メチル−1,4
−ブタンジオールと共に生成するが,その原料イタコン
酸,3−ホルミル−2−メチルプロピオン酸酸は高価で
ある。以上既往の3−メチルテトラヒドロフランの製造
方法は原料が高価であるとか,3−メチルテトラヒドロ
フランへの選択性が低いため等, 工業的に満足すべき物
ではない。
ジオールをヒドロホルミル化し,触媒分離後そのヒドロ
ホルミル化された生成物(2−ホルミル−1,4−ブテ
ンジオールと推定される) の水溶液を接触水素化し得ら
れた2−メチル−1,4−ブテンジオールを環化し3−
メチルテトラヒドロフランを得ている。また特開平5-11
7258号及び特公平4-55179 号によればアルデヒドの存在
下1,4−ブチンジオールまたは1,4−ブテンジオー
ルを接触水素化し得られたジオールを環化し3−メチル
テトラヒドロフランを得ている。しかしこれらの方法で
原料として用いている1,4−ブテンジオールおよび
1,4−ブチンジオールは,アセチレンから得られるも
のであるため高価であり,またテトラヒドロフランの副
生を伴う。特開平6−219981号によれば,イタコ
ン酸,3−ホルミル−2−メチルプロピオン酸またはこ
れらのエステルを接触水素化すると2−メチル−1,4
−ブタンジオールと共に生成するが,その原料イタコン
酸,3−ホルミル−2−メチルプロピオン酸酸は高価で
ある。以上既往の3−メチルテトラヒドロフランの製造
方法は原料が高価であるとか,3−メチルテトラヒドロ
フランへの選択性が低いため等, 工業的に満足すべき物
ではない。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は前記の
欠点を有しない安価な原料を用い, 選択性の高い3−メ
チルテトラヒドロフランの製造方法を提供することであ
る。本目的のために(1)青酸とメタクリル酸メチルか
ら3−シアノイソ酪酸メチルを製造する工程,(2)前
記工程で得られた3−シアノイソ酪酸メチルを水及び硫
酸と反応, ついで同反応生成物をアルコールと反応させ
メチルコハク酸エステルを製造する工程および(3)前
記工程で得られたメチルコハク酸エステルを接触水素化
して3−メチルテトラヒドロフランを製造する工程より
なる3−メチルテトラヒドロフランの製造方法について
も検討を行ってきた。しかしながらこの方法では大量の
アンモニウム塩の副生を伴い, この処理が3−メチル−
テトラヒドロフランの製造コストを圧迫するという欠点
がある。
欠点を有しない安価な原料を用い, 選択性の高い3−メ
チルテトラヒドロフランの製造方法を提供することであ
る。本目的のために(1)青酸とメタクリル酸メチルか
ら3−シアノイソ酪酸メチルを製造する工程,(2)前
記工程で得られた3−シアノイソ酪酸メチルを水及び硫
酸と反応, ついで同反応生成物をアルコールと反応させ
メチルコハク酸エステルを製造する工程および(3)前
記工程で得られたメチルコハク酸エステルを接触水素化
して3−メチルテトラヒドロフランを製造する工程より
なる3−メチルテトラヒドロフランの製造方法について
も検討を行ってきた。しかしながらこの方法では大量の
アンモニウム塩の副生を伴い, この処理が3−メチル−
テトラヒドロフランの製造コストを圧迫するという欠点
がある。
【0003】本発明者は前記目的を達成するため鋭意検
討した結果, 3−シアノイソ酪酸メチルを水和して3−
カルバモイルイソ酪酸メチルとし, ついでギ酸エステル
を作用させてメチルコハク酸エステルとし, これを接触
水素化すると極めて効率的に3−メチル−テトラヒドロ
フランが得られることを見いだした。化1に本発明の製
造方法の全工程を概略的に示す。
討した結果, 3−シアノイソ酪酸メチルを水和して3−
カルバモイルイソ酪酸メチルとし, ついでギ酸エステル
を作用させてメチルコハク酸エステルとし, これを接触
水素化すると極めて効率的に3−メチル−テトラヒドロ
フランが得られることを見いだした。化1に本発明の製
造方法の全工程を概略的に示す。
【0004】
【化1】
【0005】以下に本発明の方法について詳細に説明す
る。本発明に於ける青酸とメタクリル酸メチルから3−
シアノイソ酪酸メチルを製造する第一工程は,公知の方
法で実施されるもので低級アルキル置換ピロリドン或い
はジメチルスルホキシド溶媒のもとアルカリ金属シアン
化合物を触媒として40-130℃前後で行われれる。
る。本発明に於ける青酸とメタクリル酸メチルから3−
シアノイソ酪酸メチルを製造する第一工程は,公知の方
法で実施されるもので低級アルキル置換ピロリドン或い
はジメチルスルホキシド溶媒のもとアルカリ金属シアン
化合物を触媒として40-130℃前後で行われれる。
【0006】本発明に於ける3−カルバモイルイソ酪酸
メチルの製造(第二工程)は,3−シアノイソ酪酸メチ
ルと水の混合物を触媒存在下において反応させることに
より実施される。触媒としてはニトリル類の水和反応に
有効な触媒が適用可能であり,硫酸等の強酸も使用され
るが, 処理も含めた経済的観点から金属触媒あるいは金
属酸化物触媒などが望ましい。具体的にはマンガン,
銅, ニッケル或いはそれらの酸化物が有効であり, 特に
マンガン酸化物が好ましい。
メチルの製造(第二工程)は,3−シアノイソ酪酸メチ
ルと水の混合物を触媒存在下において反応させることに
より実施される。触媒としてはニトリル類の水和反応に
有効な触媒が適用可能であり,硫酸等の強酸も使用され
るが, 処理も含めた経済的観点から金属触媒あるいは金
属酸化物触媒などが望ましい。具体的にはマンガン,
銅, ニッケル或いはそれらの酸化物が有効であり, 特に
マンガン酸化物が好ましい。
【0007】水に対する3−シアノイソ酪酸メチルの仕
込重量比は,2:98-98:2 が適切な範囲である。又この系
には3−シアノイソ酪酸メチルの原料であるメタクリル
酸メチルやアルコール ,アセトン等のケトン類などを溶
媒として共存させることも可能である。酸化マンガンを
触媒とする時には反応温度20-150℃が好ましい範囲であ
り,30-100 ℃が特に好ましい。反応時間は0.3−6 時間
が好ましく特に0.5-4時間が好適である。反応は回分式
あるいは連続式何れの方式にても実施できる。
込重量比は,2:98-98:2 が適切な範囲である。又この系
には3−シアノイソ酪酸メチルの原料であるメタクリル
酸メチルやアルコール ,アセトン等のケトン類などを溶
媒として共存させることも可能である。酸化マンガンを
触媒とする時には反応温度20-150℃が好ましい範囲であ
り,30-100 ℃が特に好ましい。反応時間は0.3−6 時間
が好ましく特に0.5-4時間が好適である。反応は回分式
あるいは連続式何れの方式にても実施できる。
【0008】本発明に於ける3−カルバモイルイソ酪酸
メチルとギ酸エステルとの反応によるメチルコハク酸エ
ステルとホルムアミドの製造(第三工程)は,3−カル
バモイルイソ酪酸メチルとギ酸エステルとの混合物を無
触媒下, 加熱する方法でも可能ではあるが, 溶媒及び触
媒の存在下にて実施するのが効果的である。ギ酸エステ
ルとしてはギ酸メチルを用いる時にはギ酸メチルに代え
てメタノールと一酸化炭素も使用できる。この反応は平
衡反応であり, メチルコハク酸エステルの収率はギ酸エ
ステルに対する3−カルバモイルイソ酪酸メチルの仕込
モル比に左右され, 仕込のギ酸エステル/3−カルバモ
イルイソ酪酸メチル(モル比)は1-10が好ましく, 特に
2-6 が好適である。
メチルとギ酸エステルとの反応によるメチルコハク酸エ
ステルとホルムアミドの製造(第三工程)は,3−カル
バモイルイソ酪酸メチルとギ酸エステルとの混合物を無
触媒下, 加熱する方法でも可能ではあるが, 溶媒及び触
媒の存在下にて実施するのが効果的である。ギ酸エステ
ルとしてはギ酸メチルを用いる時にはギ酸メチルに代え
てメタノールと一酸化炭素も使用できる。この反応は平
衡反応であり, メチルコハク酸エステルの収率はギ酸エ
ステルに対する3−カルバモイルイソ酪酸メチルの仕込
モル比に左右され, 仕込のギ酸エステル/3−カルバモ
イルイソ酪酸メチル(モル比)は1-10が好ましく, 特に
2-6 が好適である。
【0009】溶媒の添加は3−カルバモイルイソ酪酸メ
チルの溶解性を高め, かつ反応の選択性を高める効果が
ある。使用される溶媒としてはギ酸エステルのエステル
基に対応するアルコールが好ましく, 3−カルバモイル
イソ酪酸メチルに対するアルコールの仕込モル比は1-10
が好ましく, 特に2-6 が好適である。
チルの溶解性を高め, かつ反応の選択性を高める効果が
ある。使用される溶媒としてはギ酸エステルのエステル
基に対応するアルコールが好ましく, 3−カルバモイル
イソ酪酸メチルに対するアルコールの仕込モル比は1-10
が好ましく, 特に2-6 が好適である。
【0010】本反応に対する触媒としてはアルカリ金属
アルコラート, アルカリ土類金属の酸化物及び強塩基性
イオン交換樹脂が極めて優れている。アルカリ金属アル
コラートはリチウム,ナトリウム及びカリウム金属と低
級アルコールより合成され,具体的にはナトリウム及び
カリウムメチラート,エチラート或いはブチラート等が
挙げられる。またアルカリ土類金属の酸化物としては酸
化マグネシウム,酸化カルシウム及び酸化バリウム等が
挙げられる。アルカリ金属アルコラート,アルカリ土類
金属の酸化物または強塩基性イオン交換樹脂を触媒とす
る時は,反応温度20-80 ℃, 反応時間0.5-6 時間におい
て3−カルバモイルイソ酪酸メチル1モルに対する触媒
使用量は0.001-0.30モルが適当である。本工程における
反応生成物は蒸留等の操作により分離回収し, 未反応物
は原料系に戻される。
アルコラート, アルカリ土類金属の酸化物及び強塩基性
イオン交換樹脂が極めて優れている。アルカリ金属アル
コラートはリチウム,ナトリウム及びカリウム金属と低
級アルコールより合成され,具体的にはナトリウム及び
カリウムメチラート,エチラート或いはブチラート等が
挙げられる。またアルカリ土類金属の酸化物としては酸
化マグネシウム,酸化カルシウム及び酸化バリウム等が
挙げられる。アルカリ金属アルコラート,アルカリ土類
金属の酸化物または強塩基性イオン交換樹脂を触媒とす
る時は,反応温度20-80 ℃, 反応時間0.5-6 時間におい
て3−カルバモイルイソ酪酸メチル1モルに対する触媒
使用量は0.001-0.30モルが適当である。本工程における
反応生成物は蒸留等の操作により分離回収し, 未反応物
は原料系に戻される。
【0011】メチルコハク酸エステルと同時に生成する
ホルムアミドについては脱水反応を適用して青酸を製造
する(第五工程)。生成した青酸は回収して3−シアノ
イソ酪酸メチル製造工程へ送り循環使用する。
ホルムアミドについては脱水反応を適用して青酸を製造
する(第五工程)。生成した青酸は回収して3−シアノ
イソ酪酸メチル製造工程へ送り循環使用する。
【0012】本発明に於けるエステルの水素化(第四工
程)は,バッチ形式によっても行い得るが,好ましくは
固定床触媒を用いた潅液形式の反応を行う方が良く,そ
の際のエステルの単位時間当りの供給量は重量で使用触
媒量の0.05-1.0倍程度である。本接触水素化反応の条件
は原料エステルおよび触媒の種類によっても変わるが一
般的に100-300 ℃の温度で20kg/cm2(ゲージ圧)以上の
圧力下で実施される。本反応に用いる水素ガスは必ずし
も高純度である必要はなく,接触水素化反応に悪影響を
与えない窒素,メタン等のイナート分を含む物でも良
い。
程)は,バッチ形式によっても行い得るが,好ましくは
固定床触媒を用いた潅液形式の反応を行う方が良く,そ
の際のエステルの単位時間当りの供給量は重量で使用触
媒量の0.05-1.0倍程度である。本接触水素化反応の条件
は原料エステルおよび触媒の種類によっても変わるが一
般的に100-300 ℃の温度で20kg/cm2(ゲージ圧)以上の
圧力下で実施される。本反応に用いる水素ガスは必ずし
も高純度である必要はなく,接触水素化反応に悪影響を
与えない窒素,メタン等のイナート分を含む物でも良
い。
【0013】本発明における第四工程の水素化反応に用
いる触媒は,主成分として銅,または周期律表第7aお
よび8族に属する元素を含有する。更に詳しくは,銅,
コバルト,ニッケル,鉄,レニウム,パラジウム,ルテ
ニウム,白金,ロジウムが本反応の触媒の主成分として
有効である。また、助触媒をなす成分として,クロム,
モリブデン,マンガン,バリウム,マグネシウム,およ
び珪素,アルミニウムを含有する固体酸成分等が有効で
ある。本反応の触媒として,特に好適なのは銅を主成分
とした,一般に銅−クロマイトと称するものであり,マ
ンガン,バリウム等を助触媒成分として含有したものな
どがある。本反応の触媒として,特に好適な銅−クロマ
イトの場合では,反応温度は150〜280℃,また反
応圧は50〜200kg/cm2(ゲージ圧)の範囲が好適で
ある。
いる触媒は,主成分として銅,または周期律表第7aお
よび8族に属する元素を含有する。更に詳しくは,銅,
コバルト,ニッケル,鉄,レニウム,パラジウム,ルテ
ニウム,白金,ロジウムが本反応の触媒の主成分として
有効である。また、助触媒をなす成分として,クロム,
モリブデン,マンガン,バリウム,マグネシウム,およ
び珪素,アルミニウムを含有する固体酸成分等が有効で
ある。本反応の触媒として,特に好適なのは銅を主成分
とした,一般に銅−クロマイトと称するものであり,マ
ンガン,バリウム等を助触媒成分として含有したものな
どがある。本反応の触媒として,特に好適な銅−クロマ
イトの場合では,反応温度は150〜280℃,また反
応圧は50〜200kg/cm2(ゲージ圧)の範囲が好適で
ある。
【0014】本接触水素化反応に用いる触媒としては銅
−クロム−バリウム(またはマンガン)触媒が好まし
く, 例えば次のような方法で調製される。 (1)固体状の酸化第二銅(CuO) ,酸化第二クロム (Cr
2O3)及び二酸化マンガン(MnO2)(または酸化バリウム(B
aO) )を混ぜ,更に滑材としてグラファイト等を添加し
て良く混合した後,一般的な方法で成形し,高温焼成後
成形物を破砕して適当な大きさにし使用する。 (2)重クロム酸アンモニウムを溶かした水溶液にアン
モニア水を加え,この水溶液に別途調製した硝酸第二銅
(または硫酸第二銅等)と,硝酸マンガン(または硫酸
マンガン等)或は硝酸バリウムとを溶かした水溶液を撹
伴しながら滴下する。生成する沈澱を水洗,乾燥後,例
えば空気中で350 ℃付近の温度で焼成する。この様にし
て得た粉末状の焼成物をそのまま反応に用いることもで
きるが,この焼成物に適当な粘結剤や滑剤を加えて充分
に混合した後成形して使用することもできる。
−クロム−バリウム(またはマンガン)触媒が好まし
く, 例えば次のような方法で調製される。 (1)固体状の酸化第二銅(CuO) ,酸化第二クロム (Cr
2O3)及び二酸化マンガン(MnO2)(または酸化バリウム(B
aO) )を混ぜ,更に滑材としてグラファイト等を添加し
て良く混合した後,一般的な方法で成形し,高温焼成後
成形物を破砕して適当な大きさにし使用する。 (2)重クロム酸アンモニウムを溶かした水溶液にアン
モニア水を加え,この水溶液に別途調製した硝酸第二銅
(または硫酸第二銅等)と,硝酸マンガン(または硫酸
マンガン等)或は硝酸バリウムとを溶かした水溶液を撹
伴しながら滴下する。生成する沈澱を水洗,乾燥後,例
えば空気中で350 ℃付近の温度で焼成する。この様にし
て得た粉末状の焼成物をそのまま反応に用いることもで
きるが,この焼成物に適当な粘結剤や滑剤を加えて充分
に混合した後成形して使用することもできる。
【0015】上記(1),(2)等の方法により得られ
た銅−クロム−バリウム(またはマンガン)触媒に含ま
れる各成分の重量比はCuO:Cr2O3:MnO2( またはBaO)の比
率に換算してそれぞれ20-85:15-75:1-15の範囲内にある
ことが好ましい。触媒の形態としては粉末状またはタブ
レット状等何れのものでも良く,その使用形態に一番あ
ったものが使用される。これらの触媒は使用する前に例
えば水素雰囲気で200℃付近で処理される等の適当な活
性化処理をした後で反応に供せられる。
た銅−クロム−バリウム(またはマンガン)触媒に含ま
れる各成分の重量比はCuO:Cr2O3:MnO2( またはBaO)の比
率に換算してそれぞれ20-85:15-75:1-15の範囲内にある
ことが好ましい。触媒の形態としては粉末状またはタブ
レット状等何れのものでも良く,その使用形態に一番あ
ったものが使用される。これらの触媒は使用する前に例
えば水素雰囲気で200℃付近で処理される等の適当な活
性化処理をした後で反応に供せられる。
【0016】使用する水素量はエステル1モル当たり4
モル以上, 好ましくは6-60モルが適当である。また本反
応は溶媒を用いなくとも実施できるが,好ましくは溶媒
を使用する。本反応に悪影響を与えないものはいずれも
溶媒として使用できる。アルコール類,炭化水素類が例
示される。本発明による接触水素化反応液は通常蒸留に
かけられ,製品の3−メチルテトラヒドロフランを分離
する。
モル以上, 好ましくは6-60モルが適当である。また本反
応は溶媒を用いなくとも実施できるが,好ましくは溶媒
を使用する。本反応に悪影響を与えないものはいずれも
溶媒として使用できる。アルコール類,炭化水素類が例
示される。本発明による接触水素化反応液は通常蒸留に
かけられ,製品の3−メチルテトラヒドロフランを分離
する。
【0017】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが本発明はこれらの実施例によりその範囲を限定
されるものではない。 実施例1 (1)工程1(青酸とメタクリル酸メチルからの3−シ
アノイソ酪酸メチルの合成) 撹拌機, 温度計, 滴下ロート2本を備えた内容積500ml
のフラスコにN-メチルピロリドン 203g ,シアン化カリ
ウム1.35g を仕込み, フラスコ内の温度を120 ℃に保ち
ながら青酸40g とメタクリル酸メチル 163g を4時間か
けて滴下する。滴下終了後120 ℃に2 時間保ち反応を完
結させた結果, メタクリル酸メチルの転化率は88.3% ,
反応したメタクリル酸メチルに対して98.1% 選択率で3
−シアノイソ酪酸メチルが生成していた。フラスコを減
圧系につなぎ,未反応のメタクリル酸メチルを回収後,
3−シアノイソ酪酸メチル 165g を得た。中間留分を含
めて3−シアノイソ酪酸メチルの回収率は定量的であっ
た。
明するが本発明はこれらの実施例によりその範囲を限定
されるものではない。 実施例1 (1)工程1(青酸とメタクリル酸メチルからの3−シ
アノイソ酪酸メチルの合成) 撹拌機, 温度計, 滴下ロート2本を備えた内容積500ml
のフラスコにN-メチルピロリドン 203g ,シアン化カリ
ウム1.35g を仕込み, フラスコ内の温度を120 ℃に保ち
ながら青酸40g とメタクリル酸メチル 163g を4時間か
けて滴下する。滴下終了後120 ℃に2 時間保ち反応を完
結させた結果, メタクリル酸メチルの転化率は88.3% ,
反応したメタクリル酸メチルに対して98.1% 選択率で3
−シアノイソ酪酸メチルが生成していた。フラスコを減
圧系につなぎ,未反応のメタクリル酸メチルを回収後,
3−シアノイソ酪酸メチル 165g を得た。中間留分を含
めて3−シアノイソ酪酸メチルの回収率は定量的であっ
た。
【0018】(2)工程2(3−シアノイソ酪酸メチル
の水和による3−カルバモイルイソ酪酸メチルの合成)触媒調製 ;撹拌機, 還流冷却器, 温度計を備えた内容積1
l のフラスコに過マンガン酸カリウム63.2g と水500g
を仕込み,70℃に加熱撹拌する。これに硫酸マンガン9
6.2gを溶解した水溶液240gと15% 硫酸40g を添加し,70
℃で3時間反応させた。内容物を冷却した後, 沈澱をろ
過し2.4 l の水で洗浄した。沈澱ケーキを60℃で一昼夜
乾燥し,74g の活性二酸化マンガンを取得し, 下記の反
応の触媒とした。水和反応 ;撹拌機, 温度計, 滴下ロートを備えた内容積5
00ml のフラスコに工程1で得られた3−シアノイソ酪
酸メチル 80g, 水250g, アセトン58g ,触媒50g を仕込
み,フラスコ内の温度を80℃に保ちながら3.5 時間水和
反応を行う。反応混合物を冷却後, ろ過により触媒を除
去した濾液を分析した結果, 3−シアノイソ酪酸メチル
の転化率は90.7% となり, 反応した3−シアノイソ酪酸
メチルに対して98% 選択率で3−カルバモイルイソ酪酸
メチルが得られた。この濾液を減圧化に濃縮し, アセト
ンで再結晶することにより純度99.5% 以上の3−カルバ
モイルイソ酪酸メチル 73gを得た。
の水和による3−カルバモイルイソ酪酸メチルの合成)触媒調製 ;撹拌機, 還流冷却器, 温度計を備えた内容積1
l のフラスコに過マンガン酸カリウム63.2g と水500g
を仕込み,70℃に加熱撹拌する。これに硫酸マンガン9
6.2gを溶解した水溶液240gと15% 硫酸40g を添加し,70
℃で3時間反応させた。内容物を冷却した後, 沈澱をろ
過し2.4 l の水で洗浄した。沈澱ケーキを60℃で一昼夜
乾燥し,74g の活性二酸化マンガンを取得し, 下記の反
応の触媒とした。水和反応 ;撹拌機, 温度計, 滴下ロートを備えた内容積5
00ml のフラスコに工程1で得られた3−シアノイソ酪
酸メチル 80g, 水250g, アセトン58g ,触媒50g を仕込
み,フラスコ内の温度を80℃に保ちながら3.5 時間水和
反応を行う。反応混合物を冷却後, ろ過により触媒を除
去した濾液を分析した結果, 3−シアノイソ酪酸メチル
の転化率は90.7% となり, 反応した3−シアノイソ酪酸
メチルに対して98% 選択率で3−カルバモイルイソ酪酸
メチルが得られた。この濾液を減圧化に濃縮し, アセト
ンで再結晶することにより純度99.5% 以上の3−カルバ
モイルイソ酪酸メチル 73gを得た。
【0019】(3)工程3(3−カルバモイルイソ酪酸
メチルとギ酸メチルからのメチルコハク酸ジメチルとホ
ルムアミドの合成) 撹拌機付きの内容積1 l のステンレス製オートクレブに
工程2で得られた3−カルバモイルイソ酪酸メチル 72.
5g,ギ酸メチル 180g ,メタノール 96g,ナトリウムメ
チラート1.1gを仕込み,60℃にて2時間加熱反応を行
う。生成物を冷却後分析した結果, 3−カルバモイルイ
ソ酪酸メチルの転化率は83.2% となり, 反応した3−カ
ルバモイルイソ酪酸メチルに対して99.8% 選択率でメチ
ルコハク酸ジメチル及び98.4% 選択率でホルムアミドが
得られた。生成液中のナトリウムメチラートを硫酸で中
和した後, 常法により蒸留してギ酸メチル,メタノール
を回収すると共に純度99% 以上のメチルコハク酸ジメチ
ル60g 及び純度99% のホルムアミド16g を得た。中間留
分を含めた回収率は定量的であった。
メチルとギ酸メチルからのメチルコハク酸ジメチルとホ
ルムアミドの合成) 撹拌機付きの内容積1 l のステンレス製オートクレブに
工程2で得られた3−カルバモイルイソ酪酸メチル 72.
5g,ギ酸メチル 180g ,メタノール 96g,ナトリウムメ
チラート1.1gを仕込み,60℃にて2時間加熱反応を行
う。生成物を冷却後分析した結果, 3−カルバモイルイ
ソ酪酸メチルの転化率は83.2% となり, 反応した3−カ
ルバモイルイソ酪酸メチルに対して99.8% 選択率でメチ
ルコハク酸ジメチル及び98.4% 選択率でホルムアミドが
得られた。生成液中のナトリウムメチラートを硫酸で中
和した後, 常法により蒸留してギ酸メチル,メタノール
を回収すると共に純度99% 以上のメチルコハク酸ジメチ
ル60g 及び純度99% のホルムアミド16g を得た。中間留
分を含めた回収率は定量的であった。
【0020】(4)工程4(メチルコハク酸ジメチルの
水素化) 市販の触媒である日産ガードラー社製G99C(重量組成 C
uO 36%, Cr2O3 32%, MnO 2 2.4%, BaO 2.2% 形状 1/4イ
ンチ× 1/4インチ ペレット)を1/8 の大きさに分割
し,内径15mm,長さ300mm の反応管に20.0g充填し(触
媒層高 97mm ),通常の水素還元による活性化処理(1-
10%水素含有の窒素気流中,200 ℃以下で還元する)を
行った後,反応に供した。反応温度 230℃, 反応圧力 1
60kg/cm2(ゲージ圧),水素の供給量は反応管出口で10
l/hr とし原料の30wt% メチルコハク酸ジメチルのプソ
イドクメン溶液を5g/hr の速度(原料供給重量速度を触
媒重量で割ったWHSVは 0.075hr-1)で反応管の上部から
水素と共に供給した。得られた反応液を分析した結果,
未反応メチルコハク酸ジメチルは認められず3−メチル
テトラヒドロフランの収率は供給したメチルコハク酸ジ
メチルに対して95.5% であった。
水素化) 市販の触媒である日産ガードラー社製G99C(重量組成 C
uO 36%, Cr2O3 32%, MnO 2 2.4%, BaO 2.2% 形状 1/4イ
ンチ× 1/4インチ ペレット)を1/8 の大きさに分割
し,内径15mm,長さ300mm の反応管に20.0g充填し(触
媒層高 97mm ),通常の水素還元による活性化処理(1-
10%水素含有の窒素気流中,200 ℃以下で還元する)を
行った後,反応に供した。反応温度 230℃, 反応圧力 1
60kg/cm2(ゲージ圧),水素の供給量は反応管出口で10
l/hr とし原料の30wt% メチルコハク酸ジメチルのプソ
イドクメン溶液を5g/hr の速度(原料供給重量速度を触
媒重量で割ったWHSVは 0.075hr-1)で反応管の上部から
水素と共に供給した。得られた反応液を分析した結果,
未反応メチルコハク酸ジメチルは認められず3−メチル
テトラヒドロフランの収率は供給したメチルコハク酸ジ
メチルに対して95.5% であった。
【0021】(5)工程5(ホルムアミドの脱水による
青酸の合成)触媒調製 ;炭酸マンガン51.5g に水30g に溶解した炭酸
ナトリウム0.88g を加え,1時間混練した。その後110
℃で15時間乾燥し,10% 水素を含有する窒素気流中450
℃で5時間焼成してから, 粉砕し10-20 メッシュに揃え
たものを30g 得た。反応 ;上記の方法で得た酸化マンガン3.0gを温度計鞘管
を備えた内径10φで長さ300mmの石英製反応管に充填し,
触媒層下部の温度を400 ℃に維持するように加熱し
た。また触媒層の上部15cmには3×3mmの石英ラシヒリ
ングを充填し,100-400 ℃に加熱してホルムアミドの蒸
発部とした。反応管内を100mmHg の真空度に保ちながら
第三工程で得たホルムアミドを,10g/hr, 空気を240ml/
hrの割合で反応管上部から系内に導入した。反応開始後
5時間目から反応ガスを1時間サンプリングした。水及
びNaOH水溶液に吸収されることにより捕集した青酸は,
硝酸銀滴定で定量した。また水に溶解したアンモニアは
イオンクロマトグラフ,未反応ホルムアミドはガスクロ
マトグラフでそれぞれ定量した。その結果ホルムアミド
反応率99.5% ,青酸収率95.2% ,アンモニア収率4.3%で
あった。
青酸の合成)触媒調製 ;炭酸マンガン51.5g に水30g に溶解した炭酸
ナトリウム0.88g を加え,1時間混練した。その後110
℃で15時間乾燥し,10% 水素を含有する窒素気流中450
℃で5時間焼成してから, 粉砕し10-20 メッシュに揃え
たものを30g 得た。反応 ;上記の方法で得た酸化マンガン3.0gを温度計鞘管
を備えた内径10φで長さ300mmの石英製反応管に充填し,
触媒層下部の温度を400 ℃に維持するように加熱し
た。また触媒層の上部15cmには3×3mmの石英ラシヒリ
ングを充填し,100-400 ℃に加熱してホルムアミドの蒸
発部とした。反応管内を100mmHg の真空度に保ちながら
第三工程で得たホルムアミドを,10g/hr, 空気を240ml/
hrの割合で反応管上部から系内に導入した。反応開始後
5時間目から反応ガスを1時間サンプリングした。水及
びNaOH水溶液に吸収されることにより捕集した青酸は,
硝酸銀滴定で定量した。また水に溶解したアンモニアは
イオンクロマトグラフ,未反応ホルムアミドはガスクロ
マトグラフでそれぞれ定量した。その結果ホルムアミド
反応率99.5% ,青酸収率95.2% ,アンモニア収率4.3%で
あった。
【0022】実施例2 第3工程の原料であるギ酸メチルをギ酸エチルに代えた
以外は実施例1と同様に反応させた。その結果3−カル
バモイルイソ酪酸メチルの転化率は83.7% となり, 反応
した3−カルバモイルイソ酪酸メチルに対して99.8% 選
択率でメチルコハク酸エチルメチルエステル及び98.6%
選択率でホルムアミドが得られた。
以外は実施例1と同様に反応させた。その結果3−カル
バモイルイソ酪酸メチルの転化率は83.7% となり, 反応
した3−カルバモイルイソ酪酸メチルに対して99.8% 選
択率でメチルコハク酸エチルメチルエステル及び98.6%
選択率でホルムアミドが得られた。
【0023】実施例3 実施例1の第三工程でギ酸メチル 180g とメタノール 9
6gとの代わりに,メタノール 200g を仕込,さらに一酸
化炭素を 40kg/cm2 (ゲージ圧)となるよう圧入し加熱
撹拌して反応させた。オートクレーブ内の温度が60℃に
達したなら反応圧力を40kg/cm2(ゲージ圧)に維持する
ように一酸化炭素を供給し3 時間反応を続けた。その後
オートクレーブを冷却し, 内圧を徐々に下げて常圧に戻
し, 生成物を取り出し分析する。その結果は3−カルバ
モイルイソ酪酸メチルの転化率は81.4% となり, 反応し
た3−カルバモイルイソ酪酸メチルに対して95.7% 選択
率でメチルコハク酸ジメチル及び94.4% 選択率でホルム
アミドが得られた。
6gとの代わりに,メタノール 200g を仕込,さらに一酸
化炭素を 40kg/cm2 (ゲージ圧)となるよう圧入し加熱
撹拌して反応させた。オートクレーブ内の温度が60℃に
達したなら反応圧力を40kg/cm2(ゲージ圧)に維持する
ように一酸化炭素を供給し3 時間反応を続けた。その後
オートクレーブを冷却し, 内圧を徐々に下げて常圧に戻
し, 生成物を取り出し分析する。その結果は3−カルバ
モイルイソ酪酸メチルの転化率は81.4% となり, 反応し
た3−カルバモイルイソ酪酸メチルに対して95.7% 選択
率でメチルコハク酸ジメチル及び94.4% 選択率でホルム
アミドが得られた。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば各工程とも極めて高い選
択率で進行し, メタクリル酸メチルとギ酸エステルを原
料として高収率で,しかもアンモニウム塩のような不都
合な副生成物もなく3−メチルテトラヒドロフランが製
造されるので, 本発明は工業的に極めて高い価値を持
つ。
択率で進行し, メタクリル酸メチルとギ酸エステルを原
料として高収率で,しかもアンモニウム塩のような不都
合な副生成物もなく3−メチルテトラヒドロフランが製
造されるので, 本発明は工業的に極めて高い価値を持
つ。
Claims (3)
- 【請求項1】 (1)青酸とメタクリル酸メチルから3
−シアノイソ酪酸メチルを製造する第一工程,(2)前
記第一工程で得られた3−シアノイソ酪酸メチルを水和
して3−カルバモイルイソ酪酸メチルを製造する第二工
程,(3)前記第二工程で得られた3−カルバモイルイ
ソ酪酸メチルとギ酸エステルよりメチルコハク酸エステ
ルとホルムアミドを製造する第三工程,(4)前記第三
工程で得られたメチルコハク酸エステルを接触水素化し
て3−メチルテトラヒドロフランを製造する第四工程お
よび(5)第三工程で得られた生成物から分離したホル
ムアミドを脱水して青酸を製造し循環使用する第五工程
よりなる3−メチルテトラヒドロフランの製造法。 - 【請求項2】 第三工程で用いるギ酸エステルがギ酸メ
チルである請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 第三工程でギ酸メチルの代わりにメタノ
ールと一酸化炭素を用いる請求項2項記載の方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7022807A JPH08217769A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 3−メチルテトラヒドロフランを製造する方法 |
| US08/595,271 US5618953A (en) | 1995-02-10 | 1996-02-01 | Process for producing 3-methyltetrahydrofuran |
| TW085101392A TW322474B (ja) | 1995-02-10 | 1996-02-05 | |
| DE69625102T DE69625102T2 (de) | 1995-02-10 | 1996-02-07 | Verfahren zur Herstellung von 3-Methyltetrahydrofuran |
| EP96101708A EP0727422B1 (en) | 1995-02-10 | 1996-02-07 | Process for producing 3-methyltetrahydrofuran |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7022807A JPH08217769A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 3−メチルテトラヒドロフランを製造する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08217769A true JPH08217769A (ja) | 1996-08-27 |
Family
ID=12092970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7022807A Pending JPH08217769A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 3−メチルテトラヒドロフランを製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08217769A (ja) |
-
1995
- 1995-02-10 JP JP7022807A patent/JPH08217769A/ja active Pending
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