JPH08225531A - キノリンまたはキナゾリン誘導体を含んでなる医薬およびそれに用いる新規誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 抗炎症剤及びそれに用いる新規キノリン又は
キナゾリン誘導体の提供。 【構成】 一般式（Ｉ）： 【化１】 [式中、Ｙは窒素原子又はＣ−Ｇ（Ｇはエステル化され
ていてもよいカルボキシル基を示す。）を、Ｒ¹及びＲ²
は、それぞれ水素、置換されていてもよい炭化水素残基
又は置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ¹とＲ²は
互いに結合して飽和環を形成していてもよい。Ａ環及び
Ｂ環はそれぞれ置換基を有していてもよい。ｎは１から
４の整数を、ｋは０又は１を示す。]で表される化合物
又はその塩を含有してなる抗炎症剤、及びそれに用いる
新規キノリン又はキナゾリン誘導体又はその塩。 【効果】 低毒性であり安全に投与でき、特に関節炎治
療剤として著効を奏する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は抗炎症剤に関する。さら
に詳しくは、キノリンまたはキナゾリン誘導体またはそ
の塩を含んでなる抗炎症剤、特に関節炎治療剤に関す
る。さらに本発明は、抗炎症作用を有する新規キノリン
またはキナゾリン誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】関節炎は、関節の炎症性疾患であり、主
な疾患としては、リウマチ様関節炎や関節に炎症の認め
られるその類縁疾患があげられる。とりわけ、リウマチ
様関節炎は、慢性関節リウマチともいわれ、関節内包層
の滑膜における炎症性変化を主要病変とする慢性多発性
関節炎である。リウマチ様関節炎などの関節炎は、進行
性であり、関節の変形、強直などの関節障害を来たし、
効果的な治療がなされずに悪化すれば、重症の身体障害
にいたることも多い。従来、これらの関節炎の治療に当
たっては、薬物療法としてコーチゾンその他の副腎皮質
ホルモンなどのステロイド;アスピリン、ピロキシカム
やインドメタシンなどの非ステロイド系抗炎症剤;金チ
オマレートその他金剤、クロロキン製剤やＤ−ペニシラ
ミンなどの抗リウマチ剤;コルヒチンなどの抗痛風剤;サ
イクロホスファマイド、アザチオプリン、メトトレキセ
ート、レバミソールなどの免疫抑制剤などが用いられて
きた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の薬剤は重篤なあるいは長期的使用を困難にさせる副作
用があったり、効果が不十分であったり、あるいは既に
発症している関節炎に対しては有効ではないなどの問題
点があった。従って、関節炎の臨床においては、低毒性
でかつ関節炎に対する予防、治療に優れた薬剤が今なお
望まれている。

【０００４】

【課題を解決するための手段】従来キノリンまたはキナ
ゾリン誘導体として種々の化合物が合成されてきた。４
−フェニルキノリンまたは４−フェニルキナゾリン骨格
２位にアミノメチル基を有する化合物としては、シンセ
シス(Ｓynthesis)、９巻、７１８頁(１９７９年)に記載
の２−ジメチルアミノメチル体、２−モルホリノメチル
体等が、またファルマコ(Ｆarmaco)、４４巻、５５５頁
(１９８９年)に記載の２−アルキルアミノメチルキノリ
ン誘導体等が知られている。しかし、これら４−フェニ
ルキノリンまたは４−フェニルキナゾリン誘導体の抗炎
症作用について開示したものはない。本発明者らは、４
−フェニルキノリンまたは４−フェニルキナゾリン骨格
２位に、置換アミノ基で置換されたアルキレン基を有す
る化合物が、抗炎症作用、特に抗関節炎作用を有し関節
破壊抑制剤として有用であることを見いだし本発明を完
成した。すなわち本発明は、（１）一般式（Ｉ）：

【０００５】

【化３】

【０００６】[式中、Ｙは窒素原子またはＣ−Ｇ（Ｇは
エステル化されていてもよいカルボキシル基を示す。）
を、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ水素、置換されていても
よい炭化水素残基または置換されていてもよい複素環基
を示し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して飽和環を形成してい
てもよい。Ａ環およびＢ環はそれぞれ置換基を有してい
てもよい。ｎは１から４の整数を、ｋは０または１を示
す。]で表される化合物またはその塩を含有してなる抗
炎症剤、（２）Ｒ¹およびＲ²で表される置換されていて
もよい炭化水素残基が、置換されていてもよいアルキル
基である前記（１）記載の抗炎症剤、（３）Ｒ¹および
Ｒ²が互いに結合して置換されていてもよい５〜７員飽
和環を形成している前記（１）記載の抗炎症剤、（４）
ｎが１または２である前記（１）記載の抗炎症剤、
（５）ＹがＣ−Ｇである前記（１）記載の抗炎症剤、
（６）ＧがＣ_1-6アルキルオキシカルボニルである前記
（５）記載の抗炎症剤、（７）Ｇがエトキシカルボニル
である前記（６）記載の抗炎症剤、（８）Ｙが窒素原子
である前記（１）記載の抗炎症剤、（９）Ａ環の置換基
がキノリン環またはキナゾリン環の６位および７位に位
置する低級アルキレンジオキシである前記（１）記載の
抗炎症剤、（１０）Ａ環の置換基がキノリン環またはキ
ナゾリン環の６位および７位に位置するメチレンジオキ
シである前記（９）記載の抗炎症剤、（１１）Ａ環がア
ルコキシ基で置換されている前記（１）記載の抗炎症
剤、（１２）Ａ環がメトキシで置換されている前記（１
１）記載の抗炎症剤、（１３）Ａ環が、同一または異な
るアルコキシ基で二置換されている前記（１）記載の抗
炎症剤、（１４）Ａ環がメトキシで二置換されている前
記（１３）記載の抗炎症剤、（１５）Ａ環が、キノリン
環またはキナゾリン環の６位および７位でメトキシによ
り二置換されている前記（１４）記載の抗炎症剤、（１
６）Ｂ環の置換基が低級アルキレンジオキシである前記
（１）記載の抗炎症剤、（１７）Ｂ環の置換基がメチレ
ンジオキシである前記（１６）記載の抗炎症剤、（１
８）Ｂ環の置換基がアルコキシ基である前記（１）記載
の抗炎症剤、（１９）Ｂ環の置換基がメトキシである前
記（１８）記載の抗炎症剤、（２０）Ｂ環が同一または
異なるアルコキシ基で二置換されている前記（１）記載
の抗炎症剤、（２１）Ｂ環がメトキシで二置換されてい
る前記（２０）記載の抗炎症剤、（２２）Ｂ環が３位お
よび４位でメトキシにより二置換されている前記（１）
記載の抗炎症剤、（２３）ｋが０である前記（１）記載
の抗炎症剤、（２４）式（Ｉ）で表される化合物が、４
−(３,４−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−sec−ブチ
ル−Ｎ−プロピルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキ
ノリン−３−カルボン酸エチル、４−(３,４−ジメトキ
シフェニル)−２−(Ｎ−tert−ブチル−Ｎ−エチルアミ
ノメチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン
酸エチル、２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル)−４−
(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノ
リン−３−カルボン酸エチル、または４−(３,４−ジメ
トキシフェニル)−２−(Ｎ−エチルアミノメチル)−６,
７−ジメトキシキナゾリンである前記（１）記載の抗炎
症剤、（２５）一般式（Ｉ'）：

【０００７】

【化４】

【０００８】[式中、Ｙは窒素原子またはＣ−Ｇ（Ｇは
エステル化されていてもよいカルボキシル基を示す。）
を、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ水素、置換されていても
よい炭化水素残基または置換されていてもよい複素環基
を示し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合して飽和環を形成してい
てもよい。Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立してアルコキシ
基を示す。Ｂ環は置換基を有していてもよい。ｎは１か
ら４の整数を、ｋは０または１を示す。]で表される化
合物またはその塩、（２６）Ｒ³およびＲ⁴がそれぞれメ
トキシである前記（２５）記載の化合物、（２７）Ｒ³
およびＲ⁴がそれぞれキノリン環またはキナゾリン環の
６位および７位に位置するメトキシである前記（２５）
記載の化合物、（２８）Ｂ環の置換基がアルコキシ基で
ある前記（２５）記載の化合物、（２９）Ｂ環の置換基
がメトキシである前記（２５）記載の化合物、（３０）
Ｂ環が同一または異なるアルコキシ基で二置換されてい
る前記（２５）記載の化合物、（３１）Ｂ環がメトキシ
で二置換されている前記（２５）記載の化合物、（３
２）Ｂ環が３位および４位でメトキシにより二置換され
ている前記（２５）記載の化合物、および（３３）４−
(３,４−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−sec−ブチル
−Ｎ−プロピルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキノ
リン−３−カルボン酸エチル、４−(３,４−ジメトキシ
フェニル)−２−(Ｎ−tert−ブチル−Ｎ−エチルアミノ
メチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸
エチル、２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル)−４−
(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノ
リン−３−カルボン酸エチル、または４−(３,４−ジメ
トキシフェニル)−２−(Ｎ−エチルアミノメチル)−６,
７−ジメトキシキナゾリンである前記（２５）記載の化
合物に関する。

【０００９】本発明で使用する一般式（Ｉ）で表される
化合物の幾つかは文献未記載の新規化合物であり、特
に、前記一般式（Ｉ'）で表される化合物は新規化合物
である。前記一般式ならびに本発明の範囲内に包含され
る諸定義の説明およびそれらの好適な例を以下に記載す
る。前記一般式(Ｉ)および(Ｉ')中、Ｒ¹またはＲ²で表
される置換されていてもよい炭化水素残基における炭化
水素残基としては、脂肪族炭化水素残基、脂環族炭化水
素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化
水素残基、芳香族炭化水素残基が挙げられる。

【００１０】該脂肪族炭化水素残基としては、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、ヘキシ
ル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチルなど炭素数１〜
８の飽和脂肪族炭化水素残基、たとえばエテニル、１−
プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１
−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−
ペンテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセニ
ル、３−ヘキセニル、２,４−ヘキサジエニル、５−ヘ
キセニル、１−ヘプテニル、１−オクテニル、エチニ
ル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、
２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペ
ンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキ
シニル、３−ヘキシニル、２,４−ヘキサジイニル、５
−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなど炭
素数２〜８の不飽和脂肪族炭化水素残基が挙げられる。

【００１１】該脂環族炭化水素残基としては、たとえば
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂
環族炭化水素残基および１−シクロペンテニル、２−シ
クロペンテニル、３−シクロペンテニル、１−シクロヘ
キセニル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニ
ル、１−シクロヘプテニル、２シクロヘプテニル、３−
シクロヘプテニル、２,４−シクロヘプタジエニルなど
炭素数５〜７の不飽和脂環族炭化水素残基が挙げられ
る。該脂環族−脂肪族炭化水素残基としては前記脂環族
炭化水素残基と脂肪族炭化水素残基とが結合したものの
うち、炭素数４〜９のもの、たとえばシクロプロピルメ
チル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シ
クロペンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３
−シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２
−シクロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチ
ル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、
シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどが挙
げられる。

【００１２】該芳香脂肪族炭化水素残基としては、たと
えばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチル、３−
フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、１−フェニ
ルプロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキル、α−
ナフチルメチル、α−ナフチルエチル、β−ナフチルメ
チル、β−ナフチルエチルなど炭素数１１〜１３のナフ
チルアルキルが挙げられる。該芳香族炭化水素残基とし
ては、たとえばフェニル、ナフチル(α−ナフチル,β−
ナフチル)などが挙げられる。

【００１３】前記一般式(Ｉ)および(Ｉ')中、Ｒ¹または
Ｒ²で表される置換されていてもよい複素環基における
複素環基としては、たとえば１個の硫黄原子、窒素原子
または酸素原子を含む５〜７員複素環基、２〜４個の窒
素原子を含む５〜６員複素環基、１〜２個の窒素原子お
よび１個の硫黄原子または酸素原子を含む５〜６員複素
環基が用いられ、これらの複素環基は２個以下の窒素原
子をふくむ６員環、ベンゼン環または１個の硫黄原子を
含む５員環と縮合していてもよい。複素環基の具体例と
しては、例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピ
リジル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピ
リミジニル、６−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４
−ピリダジニル、２−ピラジニル、２−ピロリル、３−
ピロリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−
イミダゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、イソ
チアゾリル、イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−
チアゾリル、５−チアゾリル、２−オキサゾリル、４−
オキサゾリル、５−オキサゾリル、１,２,４−トリアゾ
ール−３−イル、１,２,３−トリアゾール−４−イル、
テトラゾール−５−イル、ベンズイミダゾール−２−イ
ル、インドール−３−イル、１Ｈ−インダゾール−３−
イル、１Ｈ−ピロロ[２,３−b]ピラジン−２−イル、１
Ｈ−ピロロ[２,３−b]ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミ
ダゾ[４,５−b]ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
[４,５−c]ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ[４,５
−b]ピラジン−２−イル等が挙げられる。

【００１４】前記一般式(Ｉ)および(Ｉ')中、Ｒ¹または
Ｒ²で表される炭化水素残基および複素環基は、それら
の任意の位置に置換基を１〜３個有していてもよい。

【００１５】かかるＲ¹またはＲ²で表される炭化水素残
基および複素環基の置換基としては、脂肪族鎖式炭化水
素基、脂環式炭化水素基、アリール基、芳香族複素環
基、非芳香族複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、置換
されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアシ
ル基、置換されていてもよいヒドロキシル基、置換され
ていてもよいチオール基、エステル化されていてもよい
カルボキシル基が挙げられる。

【００１６】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての脂肪族鎖式炭化水素基とし
ては、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基、例え
ばアルキル基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル
基、アルケニル基、好ましくは炭素数２〜１０のアルケ
ニル基、アルキニル基などが挙げられる。アルキル基の
好適な例としては、例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ter
t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、t
ert−ペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソ
ヘキシル、１,１−ジメチルブチル、２,２−ジメチルブ
チル、３,３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘ
キシル、ペンチル、オクチル、ノニル、デシルなどが挙
げられる。アルケニル基の好適な例としては、例えばビ
ニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−
メチル−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、３−メ
チル−２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３
−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−
ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルなどが挙
げられる。アルキニル基の好適な例としては、例えばエ
チニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニ
ル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２
−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−
ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘ
キシニル、５−ヘキシニルなどが挙げられる。

【００１７】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての脂環式炭化水素基として
は、飽和または不飽和の脂環式炭化水素基、例えばシク
ロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジエ
ニル基などが挙げられる。シクロアルキル基の好適な例
としては、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、例えば
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシク
ロ[２.２.１]ヘプチル、ビシクロ[２.２.２]オクチル、
ビシクロ[３.２.１]オクチル、ビシクロ[３.２.２]ノニ
ル、ビシクロ[３.３.１]ノニル、ビシクロ[４.２.１]ノ
ニル、ビシクロ[４.３.１]デシルなどが挙げられる。シ
クロアルケニル基の好適な例としては、炭素数３〜７の
シクロアルケニル基、例えば２−シクロペンテン−１−
イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキ
セン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルなどが
挙げられる。シクロアルカジエニル基の好適な例として
は、炭素数５〜８のシクロアルカジエニル基、例えば
２,４−シクロペンタジエン−１−イル、２,４−シクロ
ヘキサジエン−１−イル、２,５−シクロヘキサジエン
−１−イルなどが挙げられる。

【００１８】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としてのアリール基とは、単環式ま
たは縮合多環式芳香族炭化水素基を意味し、好適な例と
しては、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェ
ナントリル、アセナフチレニルなどが挙げられ、なかで
もフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどが好まし
い。

【００１９】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての芳香族複素環基の好適な例
としては、例えばフリル、チエニル、ピロリル、オキサ
ゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジア
ゾリル、１,２,４−オキサジアゾリル、１,３,４−オキ
サジアゾリル、フラザニル、１,２,３−チアジアゾリ
ル、１,２,４−チアジアゾリル、１,３,４−チアジアゾ
リル、１,２,３−トリアゾリル、１,２,４−トリアゾリ
ル、テトラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジ
ニル、ピラジニル、トリアジニルなどの芳香族単環式複
素環基;例えばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、
ベンゾ[b]チエニル、インドリル、イソインドリル、１
Ｈ−インダゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサ
ゾリル、１,２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチア
ゾリル、１,２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾ
トリアゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニ
ル、キナゾリニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナ
フチリジニル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリ
ル、α−カルボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボ
リニル、アクリジニル、フェノキサジニル、フェノチア
ジニル、フェナジニル、フェノキサチイニル、チアント
レニル、フェナトリジニル、フェナトロリニル、インド
リジニル、ピロロ[１,２−b]ピリダジニル、ピラゾロ
[１,５−a]ピリジル、イミダゾ[１,２−a]ピリジル、イ
ミダゾ[１,５−a]ピリジル、イミダゾ[１,２−b]ピリダ
ジニル、イミダゾ[１,２−a]ピリミジニル、１,２,４−
トリアゾロ[４,３−a]ピリジル、１,２,４−トリアゾロ
[４,３−b]ピリダジニルなどの芳香族縮合複素環基など
が挙げられる。

【００２０】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての非芳香族複素環基の好適な
例としては、例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキ
セタニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフ
リル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニ
ル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニルな
どが挙げられる。Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基
および複素環基の置換基としてのハロゲン原子の例とし
ては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられ、と
りわけフッ素および塩素が好ましい。

【００２１】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての、置換されていてもよいア
ミノ基としては、アミノ基に加え、置換アミノ基、例え
ばアミノ基の置換基として炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜１０のアルケニル基、芳香族基、複素環
基または炭素数１〜１０のアシル基を１または２個有す
るアミノ基(例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、ジアリル
アミノ、シクロヘキシルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルアミノ、アセチルアミノ、プロピ
オニルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチノイルアミノ
等)が挙げられる。

【００２２】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としてのアシル基としては、ホルミ
ル基または炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１
０のアルケニル基または芳香族基とカルボニル基の結合
したもの(例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘ
キサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、シクロブタ
ンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキ
サンカルボニル、シクロヘプタンカルボニル、クロトニ
ル、２−シクロヘキセンカルボニル、ベンゾイル、ニコ
チノイル等)が挙げられる。

【００２３】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての、置換されていてもよいヒ
ドロキシ基としては、ヒドロキシ基およびこのヒドロキ
シ基に適宜の置換基、特にヒドロキシ基の保護基として
用いられるものを有した、例えばアルコキシ、アルケニ
ルオキシ、アラルキルオキシ、アシルオキシなどに加え
てアリールオキシが挙げられる。該アルコキシとして
は、炭素数１〜１０のアルコキシ(例、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオ
キシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブ
トキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ
など)が好ましい。該アルケニルオキシとしては、アリ
ル(allyl)オキシ、クロチルオキシ、２−ペンテニルオ
キシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニルメ
トキシ、２−シクロヘキセニルメトキシなど炭素数２〜
１０のものが挙げられる。該アラルキルオキシとして
は、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルオキシ(例、ベンジ
ルオキシ、フェネチルオキシなど)が挙げられる。該ア
シルオキシとしては、炭素数２〜４のアルカノイルオキ
シ(例、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリ
ルオキシ、イソブチリルオキシなど)が好ましい。該ア
リールオキシとしては、フェノキシ、４−クロロフェノ
キシなどが挙げられる。

【００２４】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての、置換されていてもよいチ
オール基としては、チオール基およびこのチオール基に
適宜の置換基、特にチオール基の保護基として用いられ
るものを有した、例えばアルキルチオ、アラルキルチ
オ、アシルチオなどがあげられる。該アルキルチオとし
ては、炭素数１〜１０のアルキルチオ(例、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−
ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペ
ンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニルチ
オ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘ
キシルチオなど)が好ましい。該アラルキルチオとして
は、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルチオ(例、ベンジル
チオ、フェネチルチオなど)が挙げられる。該アシルチ
オとしては、炭素数２〜４のアルカノイルチオ(例、ア
セチルチオ、プロピオニルチオ、ブチリルチオ、イソブ
チリルチオなど)が好ましい。

【００２５】Ｒ¹またはＲ²で表される炭化水素残基およ
び複素環基の置換基としての、エステル化されていても
よいカルボキシル基としては、カルボキシル基の他、例
えばアルキルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカ
ルボニル基などが挙げられる。該アルキルオキシカルボ
ニル基におけるアルキル基としては、炭素数１〜６のア
ルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ルなどが挙げられる。該アラルキルオキシカルボニル基
におけるアラルキル基とは、アリール−アルキル基を意
味する。該アリール基としては、例えば、フェニル、ナ
フチルなどが挙げられ、これらは前記Ｒ¹またはＲ²で表
される炭化水素基として例示したアリール基が有するの
と同様の置換基を有していてもよい。該アルキル基とし
ては、炭素数１〜６の低級アルキル基（例、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなど）が好ましい。該アラルキ
ル基の好適な例としては、ベンジル、フェネチル、３−
フェニルプロピル、（１−ナフチル）メチル、（２−ナ
フチル）メチルなどが挙げられ、なかでもベンジル、フ
ェネチルなどが好ましい。

【００２６】前記一般式(Ｉ)および(Ｉ')中、Ｒ¹または
Ｒ²で表される炭化水素残基および複素環基上の置換基
は、さらにそれぞれ適当な置換基を１個以上、好ましく
は１〜３個有していてもよく、該置換基としては、低級
（Ｃ_1-8）アルキル基（例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、tert−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプ
チル、オクチルなど）、低級（Ｃ_2-10）アルケニル基
（例、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１
−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−メチル
−１−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、
３−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル−２−ブ
テニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、２,４−ヘ
キサジエニル、５−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−
オクテニルビニルなど）、

【００２７】低級（Ｃ_2-8）アルキニル基（例、エチニ
ル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、
２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペ
ンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキ
シニル、３−ヘキシニル、２,４−ヘキサジイニル、５
−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルな
ど）、Ｃ_3-8シクロアルキル基（例、シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチルなど）、Ｃ_6-15アリール基（例、フェニル、
ナフチル（例、１−ナフチル、２−ナフチルなど）、ア
ントリル、フェナントリル、アセナフチレニルフェニ
ル、ナフチルなど）、

【００２８】芳香族複素環基（例、フリル、チエニル、
ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリ
ル、イソチアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、１,
２,３−オキサジアゾリル、１,２,４−オキサジアゾリ
ル、１,３,４−オキサジアゾリル、フラザニル、１,２,
３−チアジアゾリル、１,２,４−チアジアゾリル、１,
３,４−チアジアゾリル、１,２,３−トリアゾリル、１,
２,４−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリ
ダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルな
どの芳香族単環式複素環基;例えばベンゾフラニル、イ
ソベンゾフラニル、ベンゾ[b]チエニル、インドリル、
イソインドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンゾイミダゾ
リル、ベンゾオキサゾリル、１,２−ベンゾイソオキサ
ゾリル、ベンゾチアゾリル、１,２−ベンゾイソチアゾ
リル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノ
リル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、
フタラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニ
ル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボリニ
ル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサジニ
ル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイ
ニル、チアントレニル、フェナトリジニル、フェナトロ
リニル、インドリジニル、ピロロ[１,２−b]ピリダジニ
ル、ピラゾロ[１,５−a]ピリジル、イミダゾ[１,２−a]
ピリジル、イミダゾ[１,５−a]ピリジル、イミダゾ[１,
２−b]ピリダジニル、イミダゾ[１,２−a]ピリミジニ
ル、１,２,４−トリアゾロ[４,３−a]ピリジル、１,２,
４−トリアゾロ[４,３−b]ピリダジニルなどの芳香族縮
合複素環基など）、

【００２９】非芳香族複素環基（例、オキシラニル、ア
ゼチジニル、オキセタニル、チエタニル、ピロリジニ
ル、テトラヒドロフリル、チオラニル、ピペリジル、テ
トラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニ
ル、ピペラジニルなど）、アラルキル基、好ましくはＣ
_6-14アリール−Ｃ_1-4アルキル基（例、ベンジル、フェ
ネチル、３−フェニルプロピル、（１−ナフチル）メチ
ル、（２−ナフチル）メチルなど）、アミノ基、Ｎ−モ
ノ置換アミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、ブ
チルアミノ、アリルアミノ、シクロヘキシルアミノ、フ
ェニルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ベンゾイルアミノ、ニコチノイルアミノなど）、Ｎ,Ｎ
−ジ置換アミノ基（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ
−フェニルアミノなど）、アミジノ基、

【００３０】Ｃ_1-10アシル基（例、ホルミル基、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタ
ノイル、オクタノイル、シクロブタンカルボニル、シク
ロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シ
クロヘプタンカルボニル、クロトニル、２−シクロヘキ
センカルボニル、ベンゾイル、ニコチノイルなど)、カ
ルバモイル基、Ｎ−モノ置換カルバモイル基（例、メチ
ルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカルバ
モイルなど）、Ｎ,Ｎ−ジ置換カルバモイル基（例、Ｎ,
Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモ
イル、ピペリジノカルボニル、モルホリノカルボニルな
ど）、スルファモイル基、

【００３１】Ｎ−モノ置換スルファモイル基（例、メチ
ルスルファモイル、エチルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル、p−トルエンスルファモイルなど）、Ｎ,
Ｎ−ジ置換スルファモイル基（例、Ｎ,Ｎ−ジメチルス
ルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイ
ル、ピペリジノスルホニル、モルホリノスルホニルな
ど）、カルボキシル基、低級（Ｃ_1-5）アルコキシカル
ボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、sec-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニルなど）、ヒドロキシ基、

【００３２】低級（Ｃ_1-8）アルコキシ基(例、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオ
キシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキ
シ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘ
キシルオキシなど)、低級（Ｃ_3-10）アルケニルオキシ
基（例、アリル(allyl)オキシ、クロチルオキシ、２−
ペンテニルオキシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シクロ
ペンテニルメトキシ、２−シクロヘキセニルメトキシな
ど）、Ｃ_3-7シクロアルキルオキシ基（例、シクロプロ
ポキシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シク
ロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシなど）、アラ
ルキルオキシ基、好ましくはＣ_6-14アリール−Ｃ_1-4ア
ルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、フェネチルオキ
シ、３−フェニルプロピルオキシ、（１−ナフチル）メ
チルオキシ、（２−ナフチル）メチルオキシなど）、

【００３３】Ｃ_6-15アリールオキシ基（例、フェノキ
シ、ナフチルオキシ（例、１−ナフチルオキシ、２−ナ
フチルオキシなど）、アントリルオキシ、フェナントリ
ルオキシ、アセナフチレニルフェニルオキシなど）、メ
ルカプト基、低級（Ｃ_1-8）アルキルチオ基（例、メチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、t
ert−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、
ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニ
ルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シク
ロヘキシルチオなど)、Ｃ_6-14アリール−Ｃ_1-4アルキル
チオ基（例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど)、Ｃ
_6-14アリールチオ基（例、フェニルチオ、ナフチルチオ
（例、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオなど）、ア
ントリルチオ、フェナントリルチオ、アセナフチレニル
フェニルチオ、ナフチルチオなど）、

【００３４】スルホ基、シアノ基、アジド基、ニトロ
基、ニトロソ基、ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素）などが挙げられる。

【００３５】Ｒ¹とＲ²は互いに結合して飽和環を形成す
ることもあるが、このような−Ｎ(Ｒ¹)(Ｒ²)の例として
は、１−ピロリジニル、１−イミダゾリジニル、１−ピ
ラゾリジニル、１−ピペリジニル、１−ピペラジニル、
４−モルホリニル、４−チオモルホリニル、ホモピペラ
ジン−１−イル等が挙げられる。これら飽和環は、オキ
ソ基、チオキソ基を含有していてもよい。

【００３６】一般式(Ｉ)中、ＹがＣ−Ｇで表されるキノ
リン誘導体であるとき、Ｇで表されるエステル化された
カルボキシル基としては、アルキルオキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基が挙げられる。該ア
ルキルオキシカルボニル基におけるアルキル基として
は、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチル等が挙げられる。このうちエ
チルが好ましい。該アラルキルオキシカルボニル基にお
けるアラルキル基としては、アリール基を置換基として
有するアルキル基(アリールアルキル基)を意味する。該
アリール基としては、炭素数６〜１４のアリール基、例
えば、フェニル、ナフチルなどが挙げられ、これらは前
記Ｒ¹またはＲ²で表される置換されていてもよい炭化水
素残基におけるアリール基が有するのと同様の置換基を
有していてもよい。該アルキル基としては、炭素数１〜
６の低級アルキル基が好ましい。該アラルキル基の好適
な例としては、例えば、ベンジル、フェネチル、３−フ
ェニルプロピル、(1-ナフチル)メチル、(２−ナフチル)メチ
ルなどが挙げられ、なかでもベンジル、フェネチルなど
が好ましい。

【００３７】一般式(Ｉ)中、環Ａおよび環Ｂは置換基を
有してもよく、このような置換基としては例えば、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよいアルキル
基、置換されていてもよいヒドロキシ基、置換されてい
てもよいチオール基、置換されていてもよいアミノ基、
置換されていてもよいアシル基、エステル化されていて
もよいカルボキシル基または置換されていてもよい芳香
族環基が用いられる。

【００３８】環Ａおよび環Ｂの置換基としてのハロゲン
原子の例としてはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素があ
げられ、とりわけフッ素および塩素が好ましい。環Ａお
よび環Ｂの置換基としての置換されていてもよいアルキ
ル基としては炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状、環状い
ずれでもよく、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチルなどがあげられる。

【００３９】環Ａおよび環Ｂの置換基としての置換され
ていてもよいヒドロキシ基としては、ヒドロキシ基およ
びこのヒドロキシ基に適宜の置換基、特にヒドロキシ基
の保護基として用いられるものを有した、例えばアルコ
キシ、アルケニルオキシ、アラルキルオキシ、アシルオ
キシなどに加えてアリールオキシがあげられる。該アル
コキシとしては、炭素数１〜１０のアルコキシ(例、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオ
キシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロ
ヘキシルオキシなど)が好ましい。該アルケニルオキシ
としては、アリル(allyl)オキシ、クロチルオキシ、２
−ペンテニルオキシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シク
ロペンテニルメトキシ、２−シクロヘキセニルメトキシ
など炭素数１〜１０のものが、該アラルキルオキシとし
ては、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルオキシ(例、ベン
ジルオキシ、フェネチルオキシなど)があげられる。該
アシルオキシとしては、炭素数２〜４のアルカノイルオ
キシ(例、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、イソブチリルオキシなど)が好ましい。該
アリールオキシとしてはフェノキシ、４−クロロフェノ
キシなどがあげられる。

【００４０】環Ａおよび環Ｂの置換基としての置換され
ていてもよいチオール基としては、チオール基およびこ
のチオール基に適宜の置換基、特にチオール基の保護基
として用いられるものを有した、例えばアルキルチオ、
アラルキルチオ、アシルチオなどがあげられる。該アル
キルチオとしては、炭素数１〜１０のアルキルチオ
(例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチ
ルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチ
ルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチ
オ、ノニルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチ
オ、シクロヘキシルチオなど)が好ましい。該アラルキ
ルチオとしては、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルチオ
(例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど)があげられ
る。該アシルチオとしては、炭素数２〜４のアルカノイ
ルチオ(例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、ブチリ
ルチオ、iso−ブチリルチオなど)が好ましい。

【００４１】環Ａおよび環Ｂの置換基としての置換され
ていてもよいアミノ基としては、炭素数１〜１０のアル
キル基、炭素数１〜１０のアルケニル基、芳香族基また
はアシル基が１または２個アミノ基(−ＮＨ₂基)に置換
したもの(例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、ジアリルア
ミノ、シクロヘキシルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メ
チル−Ｎ−フェニルアミノ、アセチルアミノ、プロピオ
ニルアミノ、ベンゾイルアミノ等)があげられる。

【００４２】環Ａおよび環Ｂの置換基としての置換され
ていてもよいアシル基としては、ホルミルまたは炭素数
１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルケニル基
または芳香族基とカルボニル基の結合したもの(例、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプ
タノイル、オクタノイル、シクロブタンカルボニル、シ
クロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、
シクロヘプタンカルボニル、クロトニル、２−シクロヘ
キセンカルボニル、ベンゾイル、ニコチノイル等)があ
げられる。

【００４３】環Ａおよび環Ｂの置換基としての置換され
ていてもよい芳香族環基としては、フェニル、ナフチ
ル、アントリル等Ｃ_6-14芳香族炭化水素残基にくわえて
ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、チアゾリ
ル等の複素芳香族残基があげられる。

【００４４】かかるＡ環およびＢ環の置換基は、それぞ
れの環のいずれの位置に置換していてもよい。Ａ環の置
換基は、好ましくは、Ａ環のキノリン環またはキナゾリ
ン環の６位および／または７位に位置する。また、Ｂ環
の置換基は、好ましくは、Ｂ環の３位および／または４
位に位置する。これら置換基は、それぞれ同一または異
なっていてもよく、その数は１〜４個である。環Ａまた
は環Ｂ上の置換基が互いに隣接しているときは、隣接す
る置換基が連結して、−(ＣＨ₂)m−または−Ｏ−(Ｃ
Ｈ₂)₁−Ｏ−[式中、ｍは３〜５の整数を、ｌは１〜３の
整数を示す]で示される環を形成していてもよく、かか
る環は、ベンゼン環の炭素原子とともに形成される５〜
７員環を含む。

【００４５】Ａ環の置換基が置換基を有する好ましい態
様としては、例えば、Ａ環のキノリン環またはキナゾリ
ン環の６位および７位に低級（Ｃ_1-3）アルキレンジオ
キシが位置する場合、特にメチレンジオキシが位置する
場合；Ａ環が同一または異なるアルコキシ基で置換され
ている場合、特にＡ環が、メトキシで置換されている場
合；Ａ環が、キノリン環またはキナゾリン環の６位およ
び７位で同一または異なるアルコキシ基により二置換さ
れている場合、特にＡ環が、キノリン環またはキナゾリ
ン環の６位および７位でメトキシにより二置換されてい
る場合などが挙げられる。

【００４６】また、Ｂ環の置換基が置換基を有する好ま
しい態様としては、例えば、Ｂ環の置換基が低級（Ｃ
_1-3）アルキレンジオキシである場合、特にメチレンジ
オキシである場合；Ｂ環の置換基がアルコキシ基である
場合、特にＢ環の置換基がメトキシである場合；Ｂ環が
同一または異なるアルコキシ基で二置換されている場
合、特にＢ環がメトキシで二置換されている場合；Ｂ環
が３位または４位でメトキシにより置換されている場
合；Ｂ環が３位および４位でメトキシにより二置換され
ている場合などが挙げられる。

【００４７】一般式（Ｉ'）中のＡ環は、Ｒ³およびＲ⁴
で示される同一または異なるアルコキシ基で置換されて
いる。Ｒ³およびＲ⁴で示されるアルコキシ基としては、
例えば、一般式（Ｉ）中のＡ環およびＢ環の置換基のア
ルコキシ基として例示したものが挙げられる。一般式
（Ｉ'）中のＢ環が置換されている場合の置換基として
は、例えば、一般式（Ｉ）中のＡ環およびＢ環の置換基
として例示したものが挙げられる。一般式（Ｉ）中、ｎ
は好ましくは１または２、さらに好ましくは１である。
一般式（Ｉ）中、ｋは好ましくは０である。一般式
（Ｉ）で表される化合物は好ましくは、４−(３,４−ジ
メトキシフェニル)−２−(Ｎ−sec−ブチル−Ｎ−プロ
ピルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−
カルボン酸エチル（実施例３９の化合物）、４−(３,４
−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−tert−ブチル−Ｎ−
エチルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３
−カルボン酸エチル（実施例４０の化合物）、２−(Ｎ,
Ｎ−ジエチルアミノメチル)−４−(３,４−ジメトキシ
フェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン
酸エチル（実施例５の化合物）、または４−(３,４−ジ
メトキシフェニル)−２−(Ｎ−エチルアミノメチル)−
６,７−ジメトキシキナゾリン（実施例５４の化合物）
である。本発明で用いる一般式(Ｉ)および(Ｉ')で表さ
れる化合物の塩としては薬学的に許容される塩が好まし
く、例えば無機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸と
の塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩
などが挙げられる。無機塩基との塩の好適な例として
は、例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金
属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土
類金属塩;ならびにアルミニウム塩、アンモニウム塩な
どが挙げられる。有機塩基との塩の好適な例としては、
例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、
Ｎ,Ｎ'−ジベンジルエチレンジアミンなどとの塩が挙げ
られる。無機酸との塩の好適な例としては、例えば塩
酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸などとの塩が挙げ
られる。有機酸との塩の好適な例としては、例えばギ
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール酸、シュウ酸、
酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエン
スルホン酸などとの塩が挙げられる。塩基性アミノ酸と
の塩の好適な例としては、例えばアルギニン、リジン、
オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性アミノ酸との塩
の好適な例としては、例えばアスパラギン酸、グルタミ
ン酸などとの塩が挙げられる。

【００４８】本発明で用いる一般式(Ｉ)で表される化合
物は、薬学的に許容される担体と配合し、錠剤、カプセ
ル剤、顆粒剤、散剤などの固形製剤;またはシロップ
剤、注射剤などの液状製剤として経口または非経口的に
投与することができる。薬学的に許容される担体として
は、製剤素材として慣用の各種有機あるいは無機担体物
質が用いられ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合
剤、崩壊剤;液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁
化剤、等張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合され
る。また必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘
味剤などの製剤添加物を用いることもできる。

【００４９】賦形剤の好適な例としては、例えば乳糖、
白糖、Ｄ−マンニトール、デンプン、結晶セルロース、
軽質無水ケイ酸などが挙げられる。滑沢剤の好適な例と
しては、例えばステアリン酸マグネシウム、ステアリン
酸カルシウム、タルク、コロイドシリカなどが挙げられ
る。結合剤の好適な例としては、例えば結合セルロー
ス、白糖、Ｄ−マンニトール、デキストリン、ヒドロキ
シプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。崩壊
剤の好適な例としては、例えばデンプン、カルボキシメ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウ
ム、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチル
スターチナトリウムなどが挙げられる。溶剤の好適な例
としては、例えば注射用水、アルコール、プロピレング
リコール、マクロゴール、ゴマ油、トウモロコシ油など
が挙げられる。

【００５０】溶解補助剤の好適な例としては、例えばポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、Ｄ−マ
ンニトール、安息香酸ベンジル、エタノール、トリスア
ミノメタン、コレステロール、トリエタノールアミン、
炭酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられ
る。懸濁化剤の好適な例としては、例えばステアリルト
リエタノールアミン、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリ
ルアミノプロピオン酸、レシチン、塩化ベンザルコニウ
ム、塩化ベンゼトニウム、モノステアリン酸グリセリン
などの界面活性剤;例えばポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロースナトリ
ウム、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロースなどの親水性高分子などが挙げられる。

【００５１】等張化剤の好適な例としては、例えば塩化
ナトリウム、グリセリン、Ｄ−マンニトールなどが挙げ
られる。緩衝剤の好適な例としては、例えばリン酸塩、
酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液などが挙げら
れる。無痛化剤の好適な例としては、例えばベンジルア
ルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例として
は、例えばパラオキシ安息香酸エステル類、クロロブタ
ノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、
デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗酸化剤
の好適な例としては、例えば亜硫酸塩、アスコルビン酸
などが挙げられる。上記一般式(Ｉ)で表される化合物は
例えば次の様にして製造できる。すなわち

【００５２】

【化５】

【００５３】[式中、Ｑは脱離基を、他の記号は前記と
同意義を有する。] 一般式(ＩＩ)中、Ｑで表される脱離基としては、例えば
ハロゲン、好ましくは塩素、臭素またはヨウ素やエステ
ル化することにより活性化されたヒドロキシル基、例え
ば有機スルホン酸の残基(例、p−トルエンスルホニルオ
キシ基、メタンスルホニルオキシ基等)や有機リン酸の
残基であるジフェニルホスホリルオキシ基、ジベンジル
ホスホリルオキシ基、ジメチルホスホリルオキシ基など
が挙げられる。Ａ法では(ＩＩ)を塩基の存在下(ＩＩＩ)
と反応させて(Ｉ)を製造する。(ＩＩ)と(ＩＩＩ)の反応
は適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては例えばベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどの
エーテル類、メタノール、エタノール、プロパノールな
どのアルコール類、酢酸エチル、アセトニトリル、ピリ
ジン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジク
ロロエタン、１,１,２,２−テトラクロロエタン、アセ
トン、２−ブタノン及びこれらの混合溶媒があげられ
る。

【００５４】(ＩＩ)と(ＩＩＩ)の反応は水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピリジン、
トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン等のアミ
ン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの適宜の
塩基の存在下に行われ、これら塩基の使用量は化合物
(ＩＩ)に対し１〜５モル当量程度が好ましい。また、
(ＩＩＩ)を過剰量用いることにより、(ＩＩＩ)を塩基と
しても使用することもできる。本反応は通常−２０℃〜
１５０℃、好ましくは約−１０℃〜１００℃で行われ
る。このようにして得られるキノリンまたはキナゾリン
誘導体(Ｉ)は公知の分離精製手段例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。本発明の原料
化合物(ＩＩ)は例えば次のような方法で製造することが
できる。

【００５５】

【化６】

【００５６】[式中、Ｇ'はエステル化されたカルボキシ
ル基を、他の記号は前記と同意義を有する。] 一般式(Ｖ)および(ＩＩ−１)中、Ｇ'で表されるエステ
ル化されたカルボキシル基としては、Ｇで示されるエス
テル化されたカルボキシル基と同様のものが挙げられ
る。Ｂ法では２−アミノベンゾフェノン誘導体(ＩＶ)を
酸の存在下(Ｖ)と反応させて(ＩＩ−１)を製造する。
(ＩＶ)と(Ｖ)の反応は適宜の溶媒中で行われる。該溶媒
としては例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタンなどのエーテル類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジク
ロロメタン、１,２−ジクロロエタン、１,１,２,２−テ
トラクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノ
ールなどのアルコール類、酢酸等があげられる。

【００５７】(ＩＶ)と(Ｖ)の反応は、塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛等のルイス酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ
酢酸等の適宜の酸の存在下に行われ、これら酸の使用量
は化合物(ＩＶ)に対し０.０５〜０.５モル当量程度が好
ましい。本反応は通常２０℃〜２００℃、好ましくは約
３０℃〜１５０℃で行われる。反応時間は０.５〜２０
時間、好ましくは１〜１０時間である。このようにして
得られる化合物(ＩＩ−１)は公知の分離精製手段例えば
濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロ
マトグラフィーなどにより単離精製することができる。

【００５８】

【化７】

【００５９】[式中、各記号は前記と同意義を有する。] Ｃ法では２−アミノベンゾフェノン誘導体(ＩＶ)を酸の
存在下アセト酢酸エステル誘導体(ＶＩ)と反応させて製
造した(ＶＩＩ)をブロム化して２−ブロモメチルキノリ
ン誘導体(ＩＩ−２)を製造する。(ＩＶ)と(ＶＩ)の反応
はＢ法と同様に行われる。(ＶＩＩ)のブロム化は常法に
したがいＮ−ブロモスクシイミド等との反応により、適
宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては例えば四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロ
エタン、１,１,２,２−テトラクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素があげられる。Ｎ−ブロモスクシイミドの
使用量は、化合物(ＶＩＩ)に対し、１〜２モル当量であ
る。

【００６０】このブロム化反応は、過酸化ベンゾイル、
２,２'−アゾビス(イソブチロニトリル)等のラジカル反
応開始剤の存在下に行われ、これらラジカル反応開始剤
の使用量は化合物(ＶＩＩ)に対し０.００１〜０.０１モ
ル当量程度が好ましい。本反応は通常２０℃〜１５０
℃、好ましくは約３０℃〜１００℃で行われる。反応時
間は０.５〜２０時間、好ましくは１〜１０時間であ
る。このようにして得られる化合物(ＩＩ−２)は公知の
分離精製手段例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。

【００６１】

【化８】

【００６２】[式中、Ｑ'はハロゲン原子を示し、他の記
号は前記と同意義を有する。] 式(ＶＩＩＩ)および(ＩＩ−３)中、Ｑ'で表されるハロ
ゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
Ｄ法では、２−アミノベンゾフェノン誘導体(ＩＶ)とハ
ロゲノアセトニトリル誘導体(ＶＩＩＩ)を反応させて２
−ハロゲノメチルキナゾリン誘導体(ＩＩ−３)を製造す
る。(ＩＶ)と(ＶＩＩＩ)の反応は過剰の(ＶＩＩＩ)を溶
媒として用い、酸の存在下に行われる。該酸としてはＢ
法で挙げたものが用いられる。これら酸の使用量は化合
物(ＩＶ)に対し１〜５モル当量程度、好ましくは１〜２
モル当量である。本反応は通常０.５〜３０時間、好ま
しくは１〜１０時間である。反応温度は通常２０℃〜２
００℃、好ましくは３０℃〜１５０℃である。このよう
にして得られるキナゾリン誘導体(ＩＩ−３)は公知の分
離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。

【００６３】

【化９】

【００６４】[式中、各記号は前記と同意義を有する。] Ｅ法では、２−アミノベンゾフェノン誘導体(ＩＶ)とア
セトニトリルを反応させて２−メチルキナゾリン誘導体
(ＩＸ)を製造し、ついで(ＩＸ)をブロム化反応に付し２
−ブロモメチルキナゾリン誘導体(ＩＩ−４)を製造す
る。(ＩＶ)とアセトニトリルの反応はＤ法と同様に行わ
れる。(ＩＸ)のブロム化はＣ法での(ＶＩＩ)のブロム化
と同様に行われる。このようにして得られるキナゾリン
誘導体(ＩＩ−４)は公知の分離精製手段、例えば濃縮、
減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグ
ラフィーなどにより単離精製することができる。

【００６５】

【化１０】

【００６６】[式中、各記号は前記と同意義を有する。] Ｆ法では、２−アミノベンゾフェノン誘導体(ＩＶ)とシ
アノ酢酸エステル誘導体(Ｘ)を反応させてキナゾリン誘
導体(ＸＩ)を製造する。(ＩＶ)と(Ｘ)の反応はＤ法と同
様に行われる。このようにして得られるキナゾリン誘導
体(ＸＩ)は公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。

【００６７】

【化１１】

【００６８】[式中、各記号は前記と同意義を有す
る。］ Ｇ法では、２−アミノベンゾフェノン誘導体（ＩＶ)と
アセトンジカルボン酸エステル誘導体(ＸＩＩ)を反応さ
せてキノリン誘導体(ＸＩＩＩ)を製造する。(ＩＶ)と
(ＸＩＩ)の反応はＢ法と同様に行われる。このようにし
て得られるキノリン誘導体(ＸＩＩＩ)は公知の分離精製
手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結
晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製する
ことができる。

【００６９】

【化１２】

【００７０】[式中、Ｙ'は窒素原子またはＣ−Ｇ'を、
他の記号は前記と同意義を有する。] Ｈ法ではＦ法およびＧ法で得た化合物(ＸＩ)および(Ｘ
ＩＩＩ)を還元反応に付すことにより、アルコール体(Ｘ
ＩＶ)を製造する。本還元反応は、自体公知の方法で行
うことができる。例えば、金属水素化物による還元、金
属水素錯化合物による還元、ジボランおよび置換ボラン
による還元、接触水素添加等が用いられる。すなわち、
この反応は化合物(ＸＩ)および(ＸＩＩＩ)を還元剤で処
理することにより行われる。還元剤としては、水素化ホ
ウ素アルカリ金属(例、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素リチウム等)、水素化アルミニウムリチウムな
どの金属水素錯化合物、水素化ナトリウムなどの金属水
素化物、有機スズ化合物(水素トリフェニルスズ等)、ニ
ッケル化合物、亜鉛化合物などの金属および金属塩、パ
ラジウム、白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素と
を用いる接触還元剤およびジボランなどが挙げられる。
この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で行わ
れる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、１,
１,２,２−テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、２−メトキシエタノール
などのアルコール類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドな
どのアミド類、あるいはこれらの混合溶媒などが還元剤
の種類により適宜選択して用いられる。反応温度は−２
０℃〜１５０℃、とくに０℃〜１００℃が好適であり、
反応時間は、約１〜２４時間程度である。

【００７１】

【化１３】

【００７２】[式中、各記号は前記と同意義を有する。] Ｉ法では化合物(ＸＩＶ)をハロゲン化剤あるいはスルホ
ニル化剤と反応させて(ＩＩ−５)を製造する。かかるハ
ロゲン化剤としては塩化チオニル、三臭化リンなどが好
んで用いられ、この場合Ｑが塩素または臭素で示される
(ＩＩ−５)が生成する。本反応は適宜の不活性溶媒
(例、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、
ジクロロメタンなど)中あるいは過剰のハロゲン化剤を
溶媒として−１０〜８０℃で行われる。ハロゲン化剤の
使用量は(ＸＩＶ)に対して１〜２０モルである。スルホ
ニル化剤としてはメシルクロリド、トシルクロリド、ベ
ンゼンスルホニルクロリドなどが好んで用いられ、Ｑが
それぞれメシルオキシ、トシルオキシ、ベンゼンスルホ
ニルオキシで示される(ＩＩ−５)が生成する。本反応は
適宜の不活性溶媒(例、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルエーテル、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、ジクロロメタンなど)中、塩基(例、
トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなど)の存在下に−１０〜３０℃で行われる。ス
ルホニル化剤および塩基の使用量は(ＸＩＶ)１モルに対
してそれぞれ１〜１.２モルである。以上のようにして
生成したＱが塩素、臭素あるいはスルホニルオキシであ
る化合物(ＩＩ−５)１モルにヨウ化ナトリウムあるいは
ヨウ化カリウムを１〜１.５モル反応させればＱがヨウ
素である(ＩＩ−５)を製造することもできる。この場合
反応はアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エ
タノールなどの溶媒中２０〜８０℃で行うことができ
る。

【００７３】

【化１４】

【００７４】[式中、ｎ'は１または２を示し、他の記号
は前記と同意義を有する。] Ｊ法では、Ｂ法、Ｃ法、Ｄ法、Ｅ法、Ｉ法で製造した化
合物(ＩＩ−１)、(ＩＩ−２)、(ＩＩ−３)、(ＩＩ−４)
および(ＩＩ−５)を酸化して化合物(ＩＩ−６)を製造す
る。本酸化反応は常法に従い、酸化剤、例えばm−クロ
ロ過安息香酸、過酸化水素、過エステル(peresters)、
メタ過ヨウ素酸ナトリウム等を用いて行われる。この酸
化は反応条件下で不活性である有機溶媒、例えばハロゲ
ン化された炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタン等)または炭化水素(例、ベンゼン、
トルエン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール等)にて有利に行われる。酸化剤は化合物
(ＩＩ−１)、(ＩＩ−２)、(ＩＩ−３)、(ＩＩ−４)また
は(ＩＩ−５)に対して１〜５モル当量、好ましくは１〜
３モル当量用いて行われる。反応温度は−１０℃〜１５
０℃、好ましくは約０℃〜１００℃の温度で通常０.５
〜１０時間かけて行われる。このようにして得られるキ
ノリン １−オキシドまたはキナゾリン １−オキシド
誘導体(ＩＩ−６)は公知の分離精製手段例えば濃縮、減
圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。化合物
(Ｉ)のうちキノリン誘導体(Ｉ−１)で表わされる化合物
は、Ｋ法によっても製造することができる。

【００７５】

【化１５】

【００７６】[式中、各記号は前記と同意義を有する。] 本法では、２−アミノベンゾフェノン誘導体(ＩＶ)と化
合物(ＸＶ)との反応により化合物(Ｉ−１)を製造する。
本法は、Ｂ法と同様にして行われる。このようにして得
られるキノリン誘導体(Ｉ−１)は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。化合物(Ｉ)のうちキノリンカルボン酸誘導体
(Ｉ−３)は、Ｌ法によっても製造することができる。

【００７７】

【化１６】

【００７８】[式中、各記号は前記と同意義を有する。] 本法では、キノリン−３−カルボン酸エステル誘導体
(Ｉ−２)を加水分解反応に付し、カルボン酸誘導体(Ｉ
−３)を製造する。本加水分解反応は、常法に従い水ま
たは含水溶媒中酸または塩基の存在下に行われる。該溶
媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、
２−メトキシエタノール、エチレングリコール等のアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、酢酸、アセトニトリル、アセトン、２−ブタノ
ン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等が挙げられる。該酸としては、塩酸、硫酸、硝
酸、臭化水素酸等が挙げられる。該塩基としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げら
れる。好ましくは、酸または塩基を化合物(Ｉ−２)に対
して過剰量(塩基:１〜１０モル当量、酸:１〜５０モル
当量)使用する。本加水分解反応は、通常−２０℃〜１
５０℃、好ましくは−１０℃〜１００℃で１〜５０時間
で行われる。このようにして得られるキノリン誘導体
(Ｉ−３)は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。

【００７９】本発明で用いる一般式(Ｉ)で表される化合
物またはそれらの塩は、抗炎症作用、解熱鎮痛作用を有
し、さらにヒトのリウマチ様関節炎に類似した関節炎を
発症するアジュバント関節炎の実験モデルで優れた抗関
節炎作用が確認された。また、本発明の化合物の毒性は
低く、例えば実施例５で合成した化合物を２５０mg／k
g、マウスおよびラットに経口投与、また実施例５４で
合成した化合物を５００mg／kgの割合でラットに経口投
与しても死亡例は認められなかった。従って、本発明の
目的化合物はヒトを含む哺乳動物（例、マウス、ラッ
ト、ネコ、イヌ、ウサギ、ウシ、ブタなど）の関節に炎
症症状を呈する総ての関節炎に適用しうる。本発明で使
用する化合物(Ｉ)の投与量は、投与経路、治療すべき患
者の症状により種々選択できるが、通常、成人１人あた
り、経口投与の場合、５mg〜１０００mg、非経口投与の
場合、１mg〜１００mgの範囲から選択でき、これらを１
日１〜３回に分けて投与できる。

【００８０】つぎに本発明で用いる化合物(Ｉ)またはそ
れらの塩の薬理作用を裏付けるための試験方法およびそ
の結果を示す。 試験例１:ラット・アジュバント関節炎に対する作用 雄性Ｌewis系ラット(７週令、日本クレア)の右後肢足蹠
皮内にＦreund's complete adjuvant(０.５％結核死菌
の流動パラフィン懸濁液)０.０５mlを注射して感作し
た。被検薬剤(１２.５mg／kg)を０.５％メチルセルロー
スに懸濁して感作直前(day ０)から１４日間１日１回経
口投与した。感作直前(Ｄay ０)および１４日目(Ｄay
１４)に左後肢容積および体重を測定し、非感作ラット
に対する足蹠の膨張抑制率(％)及び体重増加率(％)を求
めた。結果は、各群(Ｎ＝６)の平均±Ｓ.Ｅ.で表しＤun
nett's testで比較・検定した。また、危険率５％未満
を有意とした。表１に示した通り、本発明の化合物は足
蹠の浮腫抑制及び体重増加に見られる全身症状の改善に
おいて効果を示した。

【００８１】

【表１】

【００８２】

【実施例】以下、参考例および実施例を示して本発明を
さらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。 参考例１ ２−アミノ−４,５−エチレンジオキシ−３',４'−ジメ
トキシベンゾフェノン(６.５g)、４−クロロアセト酢酸
エチル(３.７g)および酢酸(６０ml)の混合物に濃硫酸
(０.３ml)を加え、１００℃で３時間かきまぜた。反応
混合物を減圧下に濃縮し、残留物を水にそそいで２ＮＮ
aＯＨでアルカリ性とし、クロロホルムで抽出した。ク
ロロホルム層は水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒を
留去し、残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付した。クロロホルム−酢酸エチル(７:３,v／v)で溶
出する部分から２−クロロメチル−６,７−エチレンジ
オキシ−４−(３,４−ジメトキシフェニル)キノリン−
３−カルボン酸エチルエステル(５.５g,６０％)を得
た。アセトンから再結晶した。無色プリズム晶。融点１
９７〜１９８℃。

【００８３】参考例２〜参考例７ 参考例１と同様にして表２の化合物を得た。

【００８４】

【表２】

【００８５】参考例８ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン、アセト酢酸エチルおよび酢酸の混合物に濃硫酸
を加え、参考例１と同様に処理して４−(３,４−ジメト
キシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−メチルキノリ
ン−３−カルボン酸エチルエステル(８３％)を得た。エ
タノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点１４７
〜１４８℃。

【００８６】参考例９ ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ
−２−メチルキノリン−３−カルボン酸エチルエステル
(４１１mg)、Ｎ−ブロモスクシイミド(２１４mg)、２,
２'−アゾビス(イソブチロニトリル)(１０mg)および四
塩化炭素(１０ml)の混合物を５時間還流下にかきまぜ
た。反応混合物は水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒
を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付した。クロロホルム−酢酸エチル(１０:１,v／v)
で溶出する部分から２−ブロモメチル−６,７−ジメト
キシ−４−(３,４−ジメトキシフェニル)キノリン−３
−カルボン酸エチルエステル(２８５mg,５８％)を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点１３５〜１３６℃。

【００８７】参考例１０ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン、アセト酢酸プロピルおよび酢酸の混合物に濃硫
酸を加え、参考例１と同様に処理して４−(３,４−ジメ
トキシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−メチルキノ
リン−３−カルボン酸プロピルエステル(７９％)を得
た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１５３〜１５５℃。

【００８８】参考例１１ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン、アセト酢酸ブチルおよび酢酸の混合物に濃硫酸
を加え、参考例１と同様に処理して４−(３,４−ジメト
キシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−メチルキノリ
ン−３−カルボン酸ブチルエステル(５３％)を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点１１９〜１２０℃。

【００８９】参考例１２ 参考例９と同様にして２−ブロモメチル−４−(３,４−
ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３
−カルボン酸プロピルエステル(４８％)を得た。酢酸エ
チル−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点１４４〜１４５℃。

【００９０】参考例１３ 参考例９と同様にして、２−ブロモメチル−４−(３,４
−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−
３−カルボン酸ブチルエステル(５６％)を得た。酢酸エ
チル−エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１６０〜１６１℃。

【００９１】参考例１４ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン(８.０g)およびクロロアセトニトリル(２５ml)の
混合物に粉末塩化アルミニウム(６.７g)を加え１００℃
で２時間かきまぜた。反応混合物を水に注いでクロロホ
ルムで抽出した。クロロホルム層は水洗、乾燥(ＭgＳＯ
₄)後溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付した。クロロホルム−酢酸エチル(１０:
１,v／v)で溶出する部分より、２−クロロメチル−４−
(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキナ
ゾリン(４.９g,５２％)を得た。アセトンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１８３〜１８４℃。

【００９２】参考例１５ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン(６.３g)およびシアノ酢酸メチルエステル(２３m
l)の混合物に粉末塩化アルミニウム(５.３g)を加え１０
０℃で２.５時間かきまぜた。反応混合物を水に注いで
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(Ｍg
ＳＯ₄)後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル カラムク
ロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(４:
１,v／v)で溶出する部分より、４−(３,４−ジメトキシ
フェニル)−６,７−ジメトキシキナゾリン−２−酢酸メ
チルエステルを得た。アセトンから再結晶した。無色針
状晶。融点１５２〜１５３℃。

【００９３】参考例１６ ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ
キナゾリン−２−酢酸メチルエステル(４.０g)、水素化
ホウ素ナトリウム(１.９g)およびテトラヒドロフラン
(８０ml)の混合物にメタノール(１５ml)を還流下に滴下
した。混合物を還流下に２時間かきまぜた後、水に注い
で酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥
(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去し、４−(３,４−ジメトキシフ
ェニル)−２−(２−ヒドロキシエチル)−６,７−ジメト
キシキナゾリン(３.０g,８１％)を得た。酢酸エチルか
ら再結晶した。無色針状晶。融点１６５〜１６６℃。

【００９４】参考例１７ 三臭化リン(ＰＢr₃)(０.９５g)を、４−(３,４−ジメト
キシフェニル)−２−(２−ヒドロキシエチル)−６,７−
ジメトキシキナゾリン(２.６g)のベンゼン(５０ml)溶液
に室温で滴下した。混合物を７５℃で１時間かきまぜた
後、氷水に注ぎ飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後
クロロホルムで抽出した。クロロホルム層は水洗、乾燥
(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去し、残留物はシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチル
(３:１,v／v)で溶出する部分から２−(２−ブロモエチ
ル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメ
トキシキナゾリン(１.１g,３７％)を得た。酢酸エチル
から再結晶した。無色針状晶。融点１６６〜１６７℃。

【００９５】参考例１８ 参考例１と同様にして、６−クロロ−２−クロロメチル
−４−（４−クロロフェニル）キノリン−３−カルボン
酸エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１４０−１４１℃。

【００９６】参考例１９ 参考例１と同様にして、２−クロロメチル−４−(４−
クロロフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カ
ルボン酸エチルを得た。エタノールから再結晶した。無
色プリズム晶。融点１５３−１５４℃。

【００９７】参考例２０ 参考例１と同様にして、２−クロロメチル−４−(４−
フルオロフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−
カルボン酸エチルを得た。エタノールから再結晶した。
無色プリズム晶。融点１４７−１４８℃。

【００９８】参考例２１ 参考例１と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,４
−ジクロロフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３
−カルボン酸エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点１５９−１６０℃。

【００９９】参考例２２ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
(３.０g)、メタクロロ過安息香酸(８５％,２.３g)およ
びメタノール(４０ml)の混合物を還流下に２時間かきま
ぜた。反応混合物を減圧下に濃縮し、残留物をクロロホ
ルムに溶解した。クロロホルム層は、水洗、乾燥(ＭgＳ
Ｏ₄)後減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム−酢酸エ
チル(６:４,v／v)で溶出する部分から２−クロロメチル
−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキ
シキノリン−３−カルボン酸エチル １−オキシド(２.
０g,６５％)を得た。アセトン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点１９３−１９４
℃。

【０１００】参考例２３ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン(５０.０g)、アセトンジカルボン酸ジエチル(３
５.０g)および酢酸(４００ml)の混合物に濃硫酸(１.５m
l)を加え、１００℃で２.５時間かきまぜた。反応混合
物を減圧下に濃縮し、残留物を水に注いで飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルムで抽出した。
クロロホルム層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶
媒を留去し、残留する結晶をアセトンから再結晶し、４
−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ−
３−エトキシカルボニルキノリン−２−酢酸エチル(４
８.８g,６４％)を得た。無色プリズム晶。融点１４６−
１４７℃。

【０１０１】参考例２４ ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ
−３−エトキシカルボニルキノリン−２−酢酸エチル
(５.８g)のテトラヒドロフラン(１００ml)溶液を、水素
化アルミニウムリチウム(０.４５５g)のテトラヒドロフ
ラン(５０ml)懸濁液に０℃で滴下した。混合物を０℃で
１時間かきまぜた後、水(２.５ml)を滴下しさらに３０
分間かきまぜた。不溶の固体をろ別し、ろ液を減圧下に
濃縮した。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルム−酢酸エチル(１:１,v／v)で溶
出する部分から４−(３,４−ジメトキシフェニル)−２
−(２−ヒドロキシエチル)−６,７−ジメトキシキノリ
ン−３−カルボン酸エチル(１.７５g,３３％)を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点１５０−１５１℃。

【０１０２】参考例２５ 三臭化リン(１.０g)を、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−２−(２−ヒドロキシエチル)−６,７−ジメトキシ
キノリン−３−カルボン酸エチル(１.７g)のベンゼン
(５０ml)溶液に室温で滴下した。混合物を８０℃で１時
間かきまぜた後、氷水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和後クロロホルムで抽出した。クロロホルム
層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒を留去し、
残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
た。クロロホルム−酢酸エチル(１:１,v／v)で溶出する
部分から２−(２−ブロモエチル)−４−(３,４−ジメト
キシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カル
ボン酸エチル(０.４９g,２６％)を得た。酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点１３２
−１３３℃。

【０１０３】参考例２６ ４−ブロモブタン酸ベンジル(５８.６g)、ジエチルアミ
ン(５８.３g)およびジクロロメタン(１０００ml)の混合
物を還流下に１４時間かきまぜた。反応混合物は、水
洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒を留去し、残留物は
シリカゲル カラムクロマトグラフィーに付した。酢酸
エチルで溶出する部分から４−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミ
ノ)ブタン酸ベンジル(３３.８g,６０％)を得た。ＮＭＲ
(δ ppm inＣＤＣl₃):０.９９(６Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈ
z),１.７８(２Ｈ,quintet,Ｊ＝７.２Ｈz),２.３９(２
Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈz),２.４９(４Ｈ,q,Ｊ＝７.２Ｈz),
５.１１(２Ｈ,s),７.３０−７.４１(５Ｈ,m)。

【０１０４】参考例２７ 参考例２６と同様にして、５−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミ
ノ)ペンタン酸ベンジルを得た。ＮＭＲ(δ ppm in
ＣＤＣl₃):０.９９(６Ｈ,t,Ｊ＝７.０Ｈz),１.４０−
１.７８(４Ｈ,m),２.３３−２.５０(４Ｈ,m),２.４９
(４Ｈ,q,Ｊ＝７.０Ｈz),５.１１(２Ｈ,s),７.３０−７.
４０(５Ｈ,m)。

【０１０５】参考例２８ ４−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)ブタン酸ベンジル(３３.
８g)、パラジウム−炭素(５％,７g)およびエタノール
(５００ml)の混合物を室温、１気圧で接触還元反応に付
した。触媒をろ別後、ろ液を減圧下に濃縮し、４−(Ｎ,
Ｎ−ジエチルアミノ)ブタン酸(１６.２g,７５％)を得
た。融点４５〜４７℃。ＮＭＲ(δ ppm inＣＤＣl₃):
１.３０(６Ｈ,t,Ｊ＝６.６Ｈz),１.９２(２Ｈ,quintet,
Ｊ＝６.６Ｈz),２.５２(２Ｈ,t,Ｊ＝６.６Ｈz),２.９５
(２Ｈ,t,Ｊ＝６.６Ｈz),２.９９(4H,q,Ｊ＝６.６Ｈz)。

【０１０６】参考例２９ 参考例２８と同様にして、５−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミ
ノ)ペンタン酸を得た。ＮＭＲ(δ ppm in ＣＤＣ
l₃):１.２６(６Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈz),１.５３−１.８５
(４Ｈ,m),２.２９(２Ｈ,t,Ｊ＝６.０Ｈz),２.９０(２
Ｈ,t,Ｊ＝６.０Ｈz),３.０６(４Ｈ,q,Ｊ＝６.０Ｈz)。

【０１０７】参考例３０ ４−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)ブタン酸(１０.０g)のテ
トラヒドロフラン(４００ml)懸濁液に、Ｎ,Ｎ'−カルボ
ニルジイミダゾール(１１.２g)を加え室温で６時間かき
まぜた。ついでマロン酸モノエチルエステル マグネシ
ウム塩(Ｍg(ＯＣＯＣＨ₂ＣＯＯＣ₂Ｈ₅)₂](１９.８g)を
加え、室温で１４時間かきまぜた。反応混合物は減圧下
に濃縮し、残留物をクロロホルムに溶解した。クロロホ
ルム層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒を留去
し、残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
した。クロロホルム−メタノール(５:１,v／v)で溶出す
る部分から６−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)−３−オキソ
ヘキサン酸エチル(７.６g,５３％)を得た。ＮＭＲ(δ
ppm in ＣＤＣl₃):１.００(６Ｈ,t,Ｊ＝７.０Ｈz),
１.２８(３Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈz),１.７５(２Ｈ,quintet,
Ｊ＝７.２Ｈz),２.３６−２.６４(８Ｈ,m),３.４６(２
Ｈ,broad s),４.１９(２Ｈ,q,Ｊ＝７.２Ｈz)。

【０１０８】参考例３１ 参考例３０と同様にして、７−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミ
ノ)−３−オキソヘプタン酸エチルを得た。ＮＭＲ(δ
ppm in ＣＤＣl₃):１.０１(６Ｈ,t,Ｊ＝７.０Ｈz),
１.２８(３Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈz),１.３８−１.７０(４
Ｈ,m),２.３６−２.６０(８Ｈ,m),３.４３(２Ｈ,s),４.
１９(２Ｈ,q,Ｊ＝７.２Ｈz)。

【０１０９】実施例１ 油性水素化ナトリウム(６０％,０.２７g)をモルホリン
(０.５３７g)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド(２０ml)
溶液に加え、室温で１５分かきまぜた。ついで、２−ク
ロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７
−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル(２.５g)
を加えた。混合物を１００℃で２時間かきまぜ、水に注
いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾
燥(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去した。残留結晶をろ取後、エ
タノールから再結晶し、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−ジメトキシ−２−モルホリノメチルキノリ
ン−３−カルボン酸エチル(１.９g,６８％)を得た。無
色プリズム晶。融点１４６〜１４７℃。

【０１１０】実施例２ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
(１.０g)、ピペラジン(１.１５g)およびメタノール(１
５ml)の混合物を、室温で３６時間かきまぜた。反応混
合物を減圧下に濃縮し、残留物に６Ｎ ＨＣl(３０ml)
を加え、ジクロロメタンで洗浄した。水層を２Ｎ Ｎa
ＯＨで中和し、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメ
タン層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去した。残
留結晶をろ取後、ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶
し、４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメト
キシ−２−ピペラジノメチルキノリン−３−カルボン酸
エチル(０.４３g,３９％)を得た。無色プリズム晶。融
点１９２〜１９３℃。

【０１１１】実施例３ 油性水素化ナトリウム(６０％,０.７５３g)をチオモル
ホリン(１.８g)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド(５０m
l)溶液に加え、室温で１５分かきまぜた。ついで、２−
クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,
７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル(６.０
g)を加えた。混合物を室温で一夜かきまぜ、水に注いで
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥
(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去した。残留物はシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチ
ル(７:３,v／v)で溶出する部分から、４−(３,４−ジメ
トキシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−チオモルホ
リノメチルキノリン−３−カルボン酸エチル(１.４g,４
２％)を得た。エタノールから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点１４８〜１４９℃。

【０１１２】実施例４ 油性水素化ナトリウム(６０％,０.４６６g)をＮ−メチ
ルホモピペラジン(１.２３g)のＮ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド(４０ml)溶液に加え、室温で１５分かきまぜた。
ついで、２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフ
ェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸
エチル(４.０g)を加えた。混合物を１００℃で３.５時
間かきまぜ、水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去した。残
留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ク
ロロホルム−メタノール(５:１,v／v)で溶出する部分か
ら、４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメト
キシ−２−[(４−メチルホモピペラジノ)メチル]キノリ
ン−３−カルボン酸エチル(１.０g,２２％)を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点１５７〜１５９℃。

【０１１３】実施例５ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
(４.０g)、ジエチルアミン(１.２８g)およびメタノール
(４５ml)の混合物を、室温で４日間かきまぜた。反応混
合物を水に注いでジクロロメタンで抽出した。ジクロロ
メタン層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去した。
残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
酢酸エチルで溶出する部分から、２−(Ｎ,Ｎ−ジエチル
アミノメチル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−
６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
(０.５１g,１８％)を得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点１３０〜１３１℃。

【０１１４】実施例６ ２−クロロメチル−６,７−ジメトキシ−４−(４−メト
キシフェニル)キノリン−３−カルボン酸エチル(２.０
g)、モルホリン(２.５g)およびメタノール(３０ml)の混
合物を、室温で１７時間かきまぜた。反応混合物を減圧
下に濃縮し、残留物にジクロロメタンを加え水洗後、乾
燥(ＭgＳＯ₄)した。溶媒を留去して得られる結晶をろ取
後、エタノールから再結晶し、６,７−ジメトキシ−４
−(４−メトキシフェニル)−２−モルホリノメチルキノ
リン−３−カルボン酸エチル(１.６５g,７４％)を得
た。無色プリズム晶。融点１６５〜１６６℃。

【０１１５】実施例７ 実施例６と同様にして、６,７−ジメトキシ−４−(４−
メトキシフェニル)−２−ピペリジノメチルキノリン−
３−カルボン酸エチルを得た。エタノールから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１２９〜１３０℃。

【０１１６】実施例８ ２−クロロメチル−６,７−ジメトキシ−４−(２−メト
キシフェニル)キノリン−３−カルボン酸エチル(１.０
g)、モルホリン(１.２５g)およびエタノール(１３ml)の
混合物を、室温で３日間かきまぜた後、析出結晶をろ
取、酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し、６,７−ジメ
トキシ−４−(２−メトキシフェニル)−２−モルホリノ
メチルキノリン−３−カルボン酸エチル(０.７６g,６８
％)を得た。無色プリズム晶。融点１５３〜１５４℃。

【０１１７】実施例９ 実施例６と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−エチレンジオキシ−２−モルホリノメチル
キノリン−３−カルボン酸エチルを得た。エタノールか
ら再結晶した。無色針状晶。融点１７４〜１７５℃。

【０１１８】実施例１０ 実施例６と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−エチレンジオキシ−２−ピペリジノメチル
キノリン−３−カルボン酸エチルを得た。エタノールか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点１５８〜１６０
℃。

【０１１９】実施例１１ 実施例６と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−ジエトキシ−２−モルホリノメチルキノリ
ン−３−カルボン酸エチルを得た。エタノールから再結
晶した。無色プリズム晶。融点１４７〜１４８℃。

【０１２０】実施例１２ 実施例６と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−ジエトキシ−２−ピペリジノメチルキノリ
ン−３−カルボン酸エチルを得た。エタノールから再結
晶した。無色プリズム晶。融点１５４〜１５５℃。

【０１２１】実施例１３ 実施例６と同様にして、６−クロロ−２−モルホリノメ
チル−４−フェニルキノリン−３−カルボン酸エチルを
得た。エタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融
点１６１〜１６３℃。

【０１２２】実施例１４ ２−クロロメチル−４−(３−イソプロポキシ−４−メ
トキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カ
ルボン酸エチル(３.０g)、モルホリン(２.７６g)および
エタノール(５０ml)−ジクロロメタン(５ml)の混合物を
室温で一夜かきまぜた。反応混合物を減圧下に濃縮し、
残留物にジクロロメタン(５０ml)を加た。ジクロロメタ
ン層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去した。残留
物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルム−酢酸エチル(１:１,v／v)で溶出する部分か
ら、４−(３−イソプロポキシ−４−メトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシ−２−モルホリノメチルキノリン
−３−カルボン酸エチルの油状物を得た。この油状物を
エタノール(２０ml)に溶かし、塩化水素のエタノール溶
液(２３％,１.０５g)を加え、室温で１０分間かきまぜ
た。減圧下に溶媒を留去し、結晶をろ取した。エタノー
ル−エーテルから再結晶し、４−(３−イソプロポキシ
−４−メトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−モ
ルホリノメチルキノリン−３−カルボン酸エチル塩酸塩
(１.６２g,４５％)を得た。無色結晶。融点１８５〜１
８８℃。 元素分析 Ｃ₂₉Ｈ₃₇Ｎ₂Ｏ₇Ｃl・Ｈ₂Ｏとして 計算値:Ｃ,６０.１５;Ｈ,６.７９;Ｎ,４.８４ 分析値:Ｃ,６０.５１;Ｈ,６.５８;Ｎ,４.７３

【０１２３】実施例１５ 実施例１４と同様にして、４−(３−イソプロポキシ−
４−メトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−ピペ
リジノメチルキノリン−３−カルボン酸エチル塩酸塩を
得た。エタノール−エーテルから再結晶した。無色結
晶。融点２０７〜２１０℃。 元素分析 Ｃ₃₀Ｈ₃₉Ｎ₂Ｏ₆Ｃl・１／２Ｈ₂Ｏとして 計算値:Ｃ,６３.４３;Ｈ,７.１０;Ｎ,４.９３ 分析値:Ｃ,６３.１５;Ｈ,７.０２;Ｎ,４.８０

【０１２４】実施例１６ 実施例１４と同様にして、２−(Ｎ,Ｎ−ジペンチルアミ
ノメチル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７
−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル２塩酸塩
を得た。ジクロロメタン−酢酸エチルから再結晶した。
黄色粉末。融点９３〜９５℃。 元素分析 Ｃ₃₃Ｈ₄₈Ｎ₂Ｏ₆Ｃl₂・３／２Ｈ₂Ｏとして 計算値:Ｃ,５９.４５;Ｈ,７.７１;Ｎ,４.２０ 分析値:Ｃ,５９.５８;Ｈ,７.８８;Ｎ,４.１４

【０１２５】実施例１７ 実施例１と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−ジメトキシ−２−ピペリジノメチルキノリ
ン−３−カルボン酸エチルを得た。エタノールから再結
晶した。無色プリズム晶。融点１４８〜１４９℃。

【０１２６】実施例１８ 実施例１と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−ジメトキシ−２−ピロリジノメチルキノリ
ン−３−カルボン酸エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色プリズム晶。融点１３９〜１４
０℃。

【０１２７】実施例１９ ２−ブロモメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸プロピ
ルエステル(１.５g)、ピペリジン(１.２７g)およびジク
ロロメタン(３０ml)の混合物を室温で２日間かきまぜ
た。反応混合物を水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後溶媒を留去し
た。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、クロロホルム−酢酸エチル(１０:１,v／v)で溶出す
る部分から、４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７
−ジメトキシ−２−ピペリジノメチルキノリン−３−カ
ルボン酸プロピルエステル(０.８g,５３％)を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点１２９〜１３１℃。

【０１２８】実施例２０ 実施例１９と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェ
ニル)−６,７−ジメトキシ−２−ピペリジノメチルキノ
リン−３−カルボン酸ブチルエステルを得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点１５４
〜１５５℃。

【０１２９】実施例２１〜実施例２８ 実施例５と同様にして表３の化合物を得た。

【０１３０】

【表３】

【０１３１】１) １／２水和物。 ２) １／４水和物。 ３) 不定形固体。ＮＭＲ(δ ppm in ＣＤＣl₃):０.９
７(３Ｈ,t,Ｊ＝７Ｈz),３.５９(４Ｈ,s),３.７８(３Ｈ,
s),３.８８(３Ｈ,s),３.９７(３Ｈ,s),３.９９(２Ｈ,q,
Ｊ＝７Ｈz),４.０４(３Ｈ,s),４.１３(２Ｈ,s),６.８４
−７.０２(４Ｈ,m),７.１０−７.４０(１０Ｈ,m),７.４
２(１Ｈ,s).

【０１３２】実施例２９ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキナゾリン(２.０g)、ピペリジン
(２.２７g)およびエタノール(４０ml)−ジクロロメタン
(１０ml)の混合物を室温で３日間かきまぜた。反応混合
物を減圧下に濃縮し、残留物にジクロロメタン(５０ml)
を加えた。ジクロロメタン層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)
後溶媒を留去した。残留物はシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチル(１:１,v
／v)で溶出する部分から、４−(３,４−ジメトキシフェ
ニル)−６,７−ジメトキシ−２−ピペリジノメチルキナ
ゾリン(１.４６g,６５％)を得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点１３０〜１３２
℃。

【０１３３】実施例３０ 実施例２９と同様にして、４−(３,４−ジメトキシフェ
ニル)−６,７−ジメトキシ−２−モルホリノメチルキナ
ゾリンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。
無色プリズム晶。融点１４８〜１５０℃。

【０１３４】実施例３１ 実施例２９と同様にして、２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ
メチル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−
ジメトキシキナゾリンを得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点１１１〜１１３
℃。

【０１３５】実施例３２ 実施例２９と同様にして、２−ブロモメチル−４−
（３,４−ジメトキシフェニル）−６,７−ジメトキシキ
ノリン−３−カルボン酸エチルとＮ−エチル−Ｎ−プロ
ピルアミンとの反応により、２−（Ｎ−エチル−Ｎ−プ
ロピルアミノメチル）−４−（３,４−ジメトキシフェ
ニル）−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸
エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。
無色プリズム晶。融点１０５〜１０６℃。

【０１３６】実施例３３ ２−（２−ブロモエチル）−４−（３,４−ジメトキシ
フェニル）−６,７−ジメトキシキナゾリン（０.４８６
g）、ジエチルアミン（０.４１g）およびジクロロメタ
ン（１０ml）の混合物を還流下に６時間かきまぜた。反
応混合物を水に注いでジクロロメタンで抽出した。ジク
ロロメタン層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ₄）後溶媒を留去
した。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−酢酸エチル（１：１，ｖ／ｖ）で
溶出する部分から、２−[２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)
エチル]−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−
ジメトキシキナゾリン（０.０４０g，８％）を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点１６４〜１６６℃。

【０１３７】実施例３４ ２−クロロメチル−４−（３,４−ジメトキシフェニ
ル）−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エ
チル（３.０g）、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルアミ
ン（２.２８g）およびエタノール（４５ml）の混合物を
還流下に６時間かきまぜた。反応混合物を水に注いでジ
クロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層は、水洗、
乾燥（ＭgＳＯ₄）後溶媒を留去した。残留物はシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶
出する部分から、２−(Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチ
ルアミノメチル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−
６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
（２.８０g，８０％）を得た。エタノールから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１７２〜１７４℃。

【０１３８】実施例３５〜実施例４１ 実施例３４と同様にして表４の化合物を得た。

【０１３９】

【表４】

【０１４０】実施例４２ 実施例１４と同様にして、２−クロロメチル−４−（３
−イソプロポキシ−４−メトキシフェニル）−６,７−
ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチルとジエチル
アミンとの反応により、２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメ
チル)−４−(３−イソプロポキシ−４−メトキシフェニ
ル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチ
ル２塩酸塩を得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶し
た。黄色粉末。融点１２２〜１２４℃。 元素分析 Ｃ₂₉Ｈ₄₀Ｎ₂Ｏ₆Ｃl₂・１／２Ｈ₂Ｏとして 計算値：Ｃ，５８.７８；Ｈ，６.９７；Ｎ，４.７３ 分析値：Ｃ，５８.８４；Ｈ，７.００；Ｎ，４.６９

【０１４１】実施例４３ 実施例３３と同様にして、６−クロロ−２−クロロメチ
ル−４−（４−クロロフェニル）キノリン−３−カルボ
ン酸エチルとジエチルアミンとの反応により、６−クロ
ロ−４−（４−クロロフェニル）−２−(Ｎ,Ｎ−ジエチ
ルアミノメチル)キノリン−３−カルボン酸エチルを得
た。エタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１３２〜１３３℃。

【０１４２】実施例４４ 実施例３３と同様にして、６−クロロ−２−クロロメチ
ル−４−フェニルキノリン−３−カルボン酸エチルとジ
エチルアミンとの反応により、６−クロロ−２−(Ｎ,Ｎ
−ジエチルアミノメチル)−４−フェニルキノリン−３
−カルボン酸エチルを得た。エタノールから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１０７〜１０８℃。

【０１４３】実施例４５ 実施例３３と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジクロロフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−
３−カルボン酸エチルとジエチルアミンとの反応によ
り、４−(３,４−ジクロロフェニル)−２−(Ｎ,Ｎ−ジ
エチルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３
−カルボン酸エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点１５７−１５８℃。

【０１４４】実施例４６ 実施例３３と同様にして、２−クロロメチル−４−(４
−クロロフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−
カルボン酸エチルとジエチルアミンとの反応により、４
−(４−クロロフェニル)−２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ
メチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸
エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。
無色プリズム晶。融点８２−８３℃。

【０１４５】実施例４７ 実施例３３と同様にして、２−クロロメチル−４−(４
−フルオロフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３
−カルボン酸エチルとジエチルアミンとの反応により、
４−(４−フルオロフェニル)−２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルア
ミノメチル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボ
ン酸エチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１０２−１０３℃。

【０１４６】実施例４８ 実施例３３と同様にして、２−クロロメチル−４−(４
−メトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３
−カルボン酸エチルとジエチルアミンとの反応により、
２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル)−６,７−ジメトキ
シ−４−(４−メトキシフェニル)キノリン−３−カルボ
ン酸エチルを得た。。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶
した。無色プリズム晶。融点１１８−１１９℃。

【０１４７】実施例４９ ２−アミノ−４,５,３',４'−テトラメトキシベンゾフ
ェノン塩酸塩(７.７g)、６−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)
−３−オキソヘキサン酸エチル(５.０g)およびエタノー
ル(１００ml)の混合物を還流下に４時間かきまぜた。反
応混合物を減圧下に濃縮し、残留物をクロロホルムに溶
解した。クロロホルム層は、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液および水で洗浄、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒を
留去した。残留物は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム−メタノール(２０:１,v／v)
で溶出する部分から２−[３−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)
プロピル]−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７
−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル(１.５１
g,１４％)を得た。エタノール−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点９６−９８℃。

【０１４８】実施例５０ 実施例４９と同様にして、２−アミノ−４,５,３',４'
−テトラメトキシベンゾフェノン塩酸塩と７−(Ｎ,Ｎ−
ジエチルアミノ)−３−オキソヘプタン酸エチルとの反
応により、２−[４−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)ブチル]
−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキ
シキノリン−３−カルボン酸エチルを得た。酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点１７
１−１７２℃。

【０１４９】実施例５１ ２−(２−ブロモエチル)−４−(３,４−ジメトキシフェ
ニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エ
チル(０.４５g)、ジエチルアミン(０.３２６g)およびジ
クロロメタン(１０ml)の混合物を還流下に１４時間かき
まぜた。反応混合物は水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に
溶媒を留去した。残留物は、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(２０:
１,v／v)で溶出する部分から２−[２−(Ｎ,Ｎ−ジエチ
ルアミノ)エチル]−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
(０.１１３g,２６％)を得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点７６−７８℃。

【０１５０】実施例５２ 実施例３３と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン
−３−カルボン酸エチル １−オキシドとジエチルアミ
ンとの反応により、２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチ
ル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメ
トキシキノリン−３−カルボン酸エチル１−オキシドを
得た。エタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融
点１４３−１４４℃。

【０１５１】実施例５３ 実施例３３と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン
−３−カルボン酸エチルとジイソペンチルアミンとの反
応により、４−(３,４−ジメトキシフェニル)−２−
(Ｎ,Ｎ−ジイソペンチルアミノメチル)−６,７−ジメト
キシキノリン−３−カルボン酸エチルを得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点１
１４−１１５℃。

【０１５２】実施例５４ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキナゾリン(１０.０g)、エチルア
ミン(７０％水溶液、２０６g)およびエタノール(２００
ml)−ジクロロメタン(２００ml)の混合物を室温で１３
時間かきまぜた。反応混合物は減圧下に濃縮し、残留物
をジクロロメタンに溶解した。ジクロロメタン層は水
洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に溶媒を留去、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホ
ルム−エタノール(５:１,v／v)で溶出する部分から２−
(Ｎ−エチルアミノメチル)−４−(３,４−ジメトキシフ
ェニル)−６,７−ジメトキシキナゾリン(５.７g,５５
％)を得た。エタノールから再結晶した。無色プリズム
晶。融点１２８−１３０℃。

【０１５３】実施例５５ 実施例３４と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン
−３−カルボン酸エチルとＮ−メチルアニリンとの反応
により、４−(３,４−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルアミノメチル)−６,７−ジメトキ
シキノリン−３−カルボン酸エチルを得た。ジクロロメ
タン−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１９４−１９６℃。

【０１５４】実施例５６ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキナゾリン(１.７８g)、tert−ブ
チルアミン(１７.４g)およびジクロロメタン(４０ml)の
混合物を室温で１３時間かきまぜた。反応混合物は、水
洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に濃縮した。残留物は、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメ
タン−エタノール(３０:１,v／v)で溶出する部分から、
２−(tert−ブチルアミノメチル)−４−(３,４−ジメト
キシフェニル)−６,７−ジメトキシキナゾリン(０.７７
g,４０％)を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点１２０−１２２℃。

【０１５５】実施例５７ 実施例５６と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキナゾリ
ンとsec−ブチルアミンとの反応により、２−(sec−ブ
チルアミノメチル)−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキナゾリンを得た。酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点１１８
−１２０℃。

【０１５６】実施例５８ 実施例５６と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキナゾリ
ンとＮ−メチルアニリンとの反応により、４−(３,４−
ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシ−２−(Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルアミノメチル)キナゾリンを得
た。エタノールから再結晶した。無色針状晶。融点１４
１−１４３℃。

【０１５７】実施例５９ 実施例５６と同様にして、２−クロロメチル−４−(３,
４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキナゾリ
ンとアニリンとの反応により、２−アニリノメチル−４
−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキ
ナゾリンを得た。エタノールから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点１９９−２００℃。

【０１５８】実施例６０ ２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェニル)
−６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル
(１.０g)、２−(メチルアミノ)ピリジン(０.９５g)およ
び２−メトキシエタノール(３０ml）の混合物を還流下
に１７時間かきませた。反応混合物は減圧下に濃縮し、
残留物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル
層は、水洗、乾燥(ＭgＳＯ₄)後減圧下に濃縮した。残留
物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサン−酢酸エチル(３：２,v／v)で溶出する部分か
ら、４−(３,４−ジメトキシフェニル)−６,７−ジメト
キシ−２−[Ｎ−メチル−Ｎ−(２−ピリジル)アミノメ
チル]キノリン−３−カルボン酸エチル(０.１g,９％)を
得た。ジクロロメタン−エタノールから再結晶した。淡
黄色プリズム晶。融点１７４−１７５℃。

【０１５９】実施例６１ ジフェニルアミン(０.４９７g)のＮ,Ｎ−ジメチルホル
ムアミド(１０ml)溶液に水素化ナトリウム(油性,６０
％,０.１２９g)を加え、室温で２０分間かきまぜた。つ
いで、２−クロロメチル−４−(３,４−ジメトキシフェ
ニル)−６,７−ジメトキシキナゾリン(１.０g)を加え、
１００℃で４時間かきまぜた。反応混合物は、水に注い
で酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥
(ＭgＳＯ₄)後減圧下に濃縮した。残留物は、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサ
ン(１：1,v／v)で溶出する部分から、２−(Ｎ,Ｎ−ジフ
ェニルアミノメチル)−４−(３,４−ジメトキシフェニ
ル)−６,７−ジメトキシキナゾリン(０.２７g,２０％)
を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点２１５−２１６℃。

【０１６０】

【発明の効果】本発明によれば、キノリンまたはキナゾ
リン誘導体を含んでなる抗炎症剤が提供される。本発明
の抗炎症剤は、特に関節炎治療剤として著効を奏する。
また、本発明の抗炎症剤は低毒性であり、安全に投与す
ることができる。さらに、本発明によれば、抗炎症作用
を有する新規キノリンまたはキナゾリン誘導体が提供さ
れる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 491/056 7019−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 491/056

Claims (33)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 [式中、Ｙは窒素原子またはＣ−Ｇ（Ｇはエステル化さ
   れていてもよいカルボキシル基を示す。）を、Ｒ¹およ
   びＲ²は、それぞれ水素、置換されていてもよい炭化水
   素残基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ
   ¹とＲ²は互いに結合して飽和環を形成していてもよい。
   Ａ環およびＢ環はそれぞれ置換基を有していてもよい。
   ｎは１から４の整数を、ｋは０または１を示す。]で表
   される化合物またはその塩を含有してなる抗炎症剤。
2. 【請求項２】 Ｒ¹およびＲ²で表される置換されていて
   もよい炭化水素残基が、置換されていてもよいアルキル
   基である請求項１記載の抗炎症剤。
3. 【請求項３】 Ｒ¹およびＲ²が互いに結合して置換され
   ていてもよい５〜７員飽和環を形成している請求項１記
   載の抗炎症剤。
4. 【請求項４】 ｎが１または２である請求項１記載の抗
   炎症剤。
5. 【請求項５】 ＹがＣ−Ｇである請求項１記載の抗炎症
   剤。
6. 【請求項６】 ＧがＣ_1-6アルキルオキシカルボニルで
   ある請求項５記載の抗炎症剤。
7. 【請求項７】 Ｇがエトキシカルボニルである請求項６
   記載の抗炎症剤。
8. 【請求項８】 Ｙが窒素原子である請求項１記載の抗炎
   症剤。
9. 【請求項９】 Ａ環の置換基がキノリン環またはキナゾ
   リン環の６位および７位に位置する低級アルキレンジオ
   キシである請求項１記載の抗炎症剤。
10. 【請求項１０】 Ａ環の置換基がキノリン環またはキナ
    ゾリン環の６位および７位に位置するメチレンジオキシ
    である請求項９記載の抗炎症剤。
11. 【請求項１１】 Ａ環がアルコキシ基で置換されている
    請求項１記載の抗炎症剤。
12. 【請求項１２】 Ａ環がメトキシで置換されている請求
    項１１記載の抗炎症剤。
13. 【請求項１３】 Ａ環が、同一または異なるアルコキシ
    基で二置換されている請求項１記載の抗炎症剤。
14. 【請求項１４】 Ａ環がメトキシで二置換されている請
    求項１記載の抗炎症剤。
15. 【請求項１５】 Ａ環が、キノリン環またはキナゾリン
    環の６位および７位でメトキシにより二置換されている
    請求項１４記載の抗炎症剤。
16. 【請求項１６】 Ｂ環の置換基が低級アルキレンジオキ
    シである請求項１記載の抗炎症剤。
17. 【請求項１７】 Ｂ環の置換基がメチレンジオキシであ
    る請求項１６記載の抗炎症剤。
18. 【請求項１８】 Ｂ環の置換基がアルコキシ基である請
    求項１記載の抗炎症剤。
19. 【請求項１９】 Ｂ環の置換基がメトキシである請求項
    １８記載の抗炎症剤。
20. 【請求項２０】 Ｂ環が同一または異なるアルコキシ基
    で二置換されている請求項１記載の抗炎症剤。
21. 【請求項２１】 Ｂ環がメトキシで二置換されている請
    求項２０記載の抗炎症剤。
22. 【請求項２２】 Ｂ環が３位および４位でメトキシによ
    り二置換されている請求項１記載の抗炎症剤。
23. 【請求項２３】 ｋが０である請求項１記載の抗炎症
    剤。
24. 【請求項２４】 式（Ｉ）で表される化合物が、 ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−sec−ブ
    チル−Ｎ−プロピルアミノメチル)−６,７−ジメトキシ
    キノリン−３−カルボン酸エチル、 ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−tert−ブ
    チル−Ｎ−エチルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキ
    ノリン−３−カルボン酸エチル、 ２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル)−４−(３,４−ジ
    メトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−
    カルボン酸エチル、または４−(３,４−ジメトキシフェ
    ニル)−２−(Ｎ−エチルアミノメチル)−６,７−ジメト
    キシキナゾリンである請求項１記載の抗炎症剤。
25. 【請求項２５】 一般式（Ｉ'）： 【化２】 [式中、Ｙは窒素原子またはＣ−Ｇ（Ｇはエステル化さ
    れていてもよいカルボキシル基を示す。）を、Ｒ¹およ
    びＲ²は、それぞれ水素、置換されていてもよい炭化水
    素残基または置換されていてもよい複素環基を示し、Ｒ
    ¹とＲ²は互いに結合して飽和環を形成していてもよい。
    Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立してアルコキシ基を示す。
    Ｂ環は置換基を有していてもよい。ｎは１から４の整数
    を、ｋは０または１を示す。]で表される化合物または
    その塩。
26. 【請求項２６】 Ｒ³およびＲ⁴がそれぞれメトキシであ
    る請求項２５記載の化合物。
27. 【請求項２７】 Ｒ³およびＲ⁴がそれぞれキノリン環ま
    たはキナゾリン環の６位および７位に位置するメトキシ
    である請求項２５記載の化合物。
28. 【請求項２８】 Ｂ環の置換基がアルコキシ基である請
    求項２５記載の化合物。
29. 【請求項２９】 Ｂ環の置換基がメトキシである請求項
    ２５記載の化合物。
30. 【請求項３０】 Ｂ環が同一または異なるアルコキシ基
    で二置換されている請求項２５記載の化合物。
31. 【請求項３１】 Ｂ環がメトキシで二置換されている請
    求項２５記載の化合物。
32. 【請求項３２】 Ｂ環が３位および４位でメトキシによ
    り二置換されている請求項２５記載の化合物。
33. 【請求項３３】 ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−
    ２−(Ｎ−sec−ブチル−Ｎ−プロピルアミノメチル)−
    ６,７−ジメトキシキノリン−３−カルボン酸エチル、 ４−(３,４−ジメトキシフェニル)−２−(Ｎ−tert−ブ
    チル−Ｎ−エチルアミノメチル)−６,７−ジメトキシキ
    ノリン−３−カルボン酸エチル、 ２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル)−４−(３,４−ジ
    メトキシフェニル)−６,７−ジメトキシキノリン−３−
    カルボン酸エチル、または４−(３,４−ジメトキシフェ
    ニル)−２−(Ｎ−エチルアミノメチル)−６,７−ジメト
    キシキナゾリンである請求項２５記載の化合物。