JPH08229477A - ペースト塗布装置における塗布位置の補正方法 - Google Patents
ペースト塗布装置における塗布位置の補正方法Info
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Abstract
ペースト塗布装置における塗布位置の補正方法を提供す
る。 【構成】 位置決め部1において位置決めしたTFTア
レイ基板上の個々の塗布対象箇所を例えばモニタカメラ
7により撮像し、この撮像された塗布対象箇所の中心位
置を視覚装置8において求め、この中心位置と予め定め
た基準位置との変位量を低減させるように塗布機構6に
よる塗布位置を個別に補正する。
Description
製造工程に使用される銀ペースト塗布装置におけるペー
スト塗布方法に関するものである。
m transistor)アレイ基板などを用いたものが知られて
いる。例えばTFTアレイ基板においては、その各電極
への通電のためのトランスファー電極は、当該TFTア
レイ基板上に形成された塗布対象箇所(トランスファー
パッド)への銀ペーストの塗布により形成される。
なるTFTアレイ基板を機械的に位置決め保持した後、
基板上の所定の位置に形成された位置決めマークをモニ
タカメラで撮影し、これを所定の基準位置と比較するこ
とによりTFTアレイ基板の位置ずれ量(変位量)を求
め、この変位量を低減させるように、塗布機構と塗布対
象箇所との相対位置を制御する制御機構の座標データを
補正するようにしているのが一般的である。
るのは、当該基板の切断精度、基板外形に対するパター
ンの印刷位置精度、位置決め機構の繰り返し精度などの
要因によって、外形基準で位置決めしただけでは基板上
の塗布対象箇所がばらつく可能性があるためである。但
し、位置決めマークと塗布対象箇所とは同じスクリーン
にて製版されているため、これらの位置関係については
ばらつきが生じない。そこで、従来は、外形基準で位置
決めした後に位置決めマークの変位量を求めれば、その
変位量から基板上の塗布対象箇所のパターンがどれだけ
基準位置から相対的にずれているかが判るという観点か
ら前記座標データの補正を行うものである。
は、特開平2−137339号公報に開示されたよう
に、位置決めマークを2組のモニタカメラにより撮像し
た結果から基板の変位量を求める技術、あるいは、特開
平1−122127号公報に開示されたように、ペース
トの塗布ヘッドに搭載したモニタカメラによって位置決
めマークを撮像し、同様にして基板の変位量を求める技
術、などが知られている。なお、これらの技術では、モ
ニタカメラにより位置決めマークを照明するための照明
装置を備えており、それ故に装置構成がやや複雑になっ
ている。
塗布位置の補正方法は、位置決めマークの変位量に基づ
いて前記制御機構の座標データをずらす手法なので、結
果的に全ての塗布対象箇所に対応する塗布位置が一様に
補正される。ところが、従来の補正方法では、例えば回
転ずれがあると、座標原点から距離が離れるほど補正の
誤差が強く影響して全ての塗布位置を正しい方向に補正
しきれない場合がある。また、補正した個々の塗布位置
が本当に所定の位置なのかの確認もできない。そのた
め、全ての塗布対象箇所に正しく銀ペーストを塗布でき
ない場合があり、TFTアレイ基板の歩留まりの向上を
図ることができない問題があった。
の塗布対象箇所の全てに対して正確にペーストを塗布す
るための補正方法を提供することにある。
明のペースト塗布装置における塗布位置の補正方法は、
加工対象となる基板を所定部位に位置決めする位置決め
手段,位置決めされた前記基板上の複数の塗布対象箇所
の各々にペーストを塗布するための塗布機構,及び前記
塗布機構と個々の塗布対象箇所に対応する塗布位置との
相対位置を制御する制御機構を備えたペースト塗布装置
に於いて前記基板上の一の塗布対象箇所を撮像する第1
の段階と、撮像された前記塗布対象箇所と予め定めた基
準位置との変位量を検出する第2の段階と、検出された
前記変位量を低減するように前記相対位置を補正する第
3の段階と、を有し、前記第1ないし第3の段階を個々
の塗布対象箇所について実行することを特徴とする。な
お、前記塗布位置の補正後に前記第1及び第2の段階を
再度実行するようにしても良い。
に、ペースト塗布後の前記塗布対象箇所におけるペース
トの塗布形状を撮像する第4の段階と、前記撮像された
塗布形状と予め定めた基準形状とを比較し、この比較結
果に基づいて前記塗布対象箇所におけるペースト塗布状
態を判定する第5の段階と、を付加する。
布対象箇所を例えばモニタカメラで撮像し、個々の塗布
対象箇所と予め定めた基準位置との変位量を例えば画像
処理によって求め、この求めた変位量を低減するように
相対位置を補正する。これにより従来のように全ての塗
布対象箇所に対応する塗布位置が一様に補正されるのと
異なり、塗布位置が個々に補正されるので、特定の塗布
位置については正しく補正されるが他の塗布位置につい
ては補正しきれないということがなくなる。そして補正
後に再度変位量の計測を行えば、塗布位置が所定の位置
に補正できたか否かの確認も可能になる。
メラによって、塗布対象箇所におけるペーストの塗布形
状を撮像し、撮像された塗布形状と基準形状との比較を
行うことにより当該塗布対象箇所におけるペーストの塗
布状態の適否を把握することができる。
板を製造する場合を例に挙げて本発明の実施例を図面を
参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例の
ペースト塗布装置の外観斜視図である。このペースト塗
布装置は、位置決め部1、搬送コンベア2、排出コンベ
ア3、位置決め機構4、直交型ロボット5、塗布機構
6、モニタカメラ7、視覚装置8、などから構成され
る。
程から搬送されたTFTアレイ基板を銀ペースト塗布の
ために機械的に位置決めして固定するものであり、搬送
コンベア2は、前工程からのTFTアレイ基板を矢印の
方向に搬送するものである。排出コンベア3は、銀ペー
スト塗布後のTFTアレイ基板を次工程に排出するもの
である。
御機構からの制御により、塗布機構6及びモニタカメラ
7の水平方向(X、Y軸方向)および垂直方向(Z軸方
向)における移動の制御をするものであり、例えば、3
軸直交座標型ロボットとして市販されているものが使用
される。塗布機構6については、後で図2を用いて詳し
く説明する。
像素子)などが用いられ、位置決め部1に載置されたT
FTアレイ基板上の塗布対象箇所と銀ペースト塗布後の
塗布形状とを撮像してそれぞれ画像認識するもので、そ
の信号は視覚装置8に送信される。視覚装置8は、この
送信された信号に基づいて、塗布対象箇所の所定ポイン
ト、例えば中心位置を演算して求めるとともに、銀ペー
スト塗布後は画像認識された塗布形状と予め定められた
基準形状とを比較する。形状の比較は、例えば面積比較
により行う。そして、塗布形状の面積が基準面積よりも
小さい場合には、後述するように、塗布機構6による塗
布処理を行う。
ット5に取り付けられた塗布機構ベース21、並びに塗
布機構ベース21にスライドレール12を介して取り付
けられたシリンジベース13などから構成される。これ
により、シリンジベース13は塗布機構ベース21に対
して垂直方向に移動可能となる。また、シリンジベース
13には、シリンジホルダ14によって、銀ペースト入
りのシリンジ16が保持される。シリンジ16には塗布
ノズル17が装着される。塗布機構ベース21とシリン
ジベース13との間には、引っ張りばね15が取り付け
られている。この引っ張りばね15の作用により、シリ
ンジベース13には常に下向きの荷重がかけられてい
る。塗布機構ベース21には、センサホルダ20によっ
て接触検出センサ19が保持されている。接触センサ1
9の先端はシリンジベース13に接しており、これによ
り、シリンジベース13の変位を検知することができ
る。すなわち、塗布ノズル17がTFTアレイ基板11
に接触した場合には、シリンジベース13がスライドし
て、接触検出センサ19が作動する。
して説明する。なお、図3は、位置決め機構4によっ
て、TFTアレイ基板11が位置決め部1上の所定の位
置に位置決めされた状態を示したものである。すなわ
ち、図示しない前工程(上流)からTFTアレイ基板1
1を搬入し(ステップ(以下、Sと略称する)1)、こ
れを位置決め部1の所定部位に導いて外型の位置決めを
行う(S2)。次に、直交型ロボット5に塗布機構6と
共に取り付けられたモニタカメラ7をこの位置決めされ
たTFTアレイ基板11上の一の塗布対象箇所に対応す
る塗布位置まで移動させ、当該箇所を撮像して位置計測
を行う(S3)。そして、この撮像に基づいて、視覚装
置8に於いて塗布対象箇所の中心位置を演算により求め
る。
変位量が補正可能な範囲か否かの判定を行い(S4)、
範囲外であればS2からS4の処理を所定回数繰り返
す。繰り返し後の計測結果が不十分であればエラー停止
する(S6)。一方、S4に於いて補正可能範囲内と判
定したときは、上記演算された中心位置と基準位置との
変位量に基づいて、制御機構による塗布機能の位置補正
(座標補正)を行う(S7)。正しく補正されたか否か
を確認する場合は、上記S3及びS4の処理を実行すれ
ば良い。
17から該当個所への銀ペーストの塗布を行う(S
8)。その後、塗布結果の良否を判定し(S9)、不良
であれば、所定回数だけS8からS9の処理を繰り返
す。そして、所定回数の繰り返し後も塗布結果が不良で
あればエラー停止する(S11)。なお、この塗布不良
の判定については、後述する。
終了したかを判定し(S12)、終了した場合には、次
の工程(ポジション)にTFTアレイ基板11を搬出す
る(S14)。未了の場合には、塗布ノズル17を次の
塗布対象箇所に移動し、同様の手順で当該箇所の塗布処
理を行う(S13)。図5に、上記の塗布良否の判定手
順を示す。この図を参照すると、まず、モニタカメラ7
により撮像された塗布形状に基づき、視覚装置8におい
て塗布状態を画像認識し(S15)、この塗布形状の面
積から銀ペーストの塗布の適否を判断し、正常に塗布さ
れているか否かを判定する(S16)。そして、不良と
判定した場合には、塗布機構6によって当該箇所におけ
る銀ペーストの塗布を行う(S17)。その後、再びモ
ニタカメラ7により撮像し(S18)、正常に塗布され
たかを視覚装置8により判定する(S19)。
における銀ペーストの塗布に適用する例についての説明
であるが、同様なペースト塗布を行う他の基板の加工に
ついても本発明を適用できることは勿論である。
によれば、塗布対象箇所に対応する塗布位置の補正が各
々個別的に行われるため、基板上に複数の塗布対象箇所
が存在してもペーストを各箇所に正確に塗布することが
可能となる効果がある。また、塗布結果の判定も行われ
るので、ペースト塗布後の基板の歩留まり率が格段に向
上する効果もある。
成を示す外観斜視図。
布機構の正面図、(b)は同じく側面図。
布をするTFTアレイ基板の一例を示した説明図。
ローチャート。
を示したフローチャート。
Claims (3)
- 【請求項1】 加工対象となる基板を所定部位に位置決
めする位置決め手段,位置決めされた前記基板上の複数
の塗布対象箇所の各々にペーストを塗布するための塗布
機構,及び前記塗布機構と個々の塗布対象箇所に対応す
る塗布位置との相対位置を制御する制御機構を備えたペ
ースト塗布装置に於いて前記基板上の一の塗布対象箇所
を撮像する第1の段階と、 撮像された前記塗布対象箇所と予め定めた基準位置との
変位量を検出する第2の段階と、 検出された前記変位量を低減するように前記相対位置を
補正する第3の段階と、を有し、 前記第1ないし第3の段階を個々の塗布対象箇所につい
て実行することを特徴とするペースト塗布装置における
塗布位置の補正方法。 - 【請求項2】 前記塗布位置の補正後に前記第1及び第
2の段階を再度実行することを特徴とする請求項1記載
の補正方法。 - 【請求項3】 ペースト塗布後の前記塗布対象箇所にお
けるペーストの塗布形状を撮像する第4の段階と、 前記撮像された塗布形状と予め定めた基準形状とを比較
し、この比較結果に基づいて前記塗布対象箇所における
ペースト塗布状態を判定する第5の段階と、 を有することを特徴とする請求項1又は2記載の補正方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3535095A JP2949562B2 (ja) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | ペースト塗布装置における塗布位置の補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3535095A JP2949562B2 (ja) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | ペースト塗布装置における塗布位置の補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08229477A true JPH08229477A (ja) | 1996-09-10 |
| JP2949562B2 JP2949562B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=12439422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3535095A Expired - Fee Related JP2949562B2 (ja) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | ペースト塗布装置における塗布位置の補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2949562B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011045850A (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-10 | Casio Computer Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP2012139666A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Panasonic Corp | ペーストの塗布方法 |
| JP2019153701A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 制御システム、基板製造システム、制御方法、及びプログラム |
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| JPH06334319A (ja) * | 1993-05-27 | 1994-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 接着剤塗布装置 |
-
1995
- 1995-02-23 JP JP3535095A patent/JP2949562B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2019153701A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 制御システム、基板製造システム、制御方法、及びプログラム |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2949562B2 (ja) | 1999-09-13 |
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