JPH08229907A

JPH08229907A - セラミック板の製法

Info

Publication number: JPH08229907A
Application number: JP4096395A
Authority: JP
Inventors: Takatoshi Miyazawa; 貴俊宮澤; Mitsuru Yamada; 充山田; Terutsugu Okui; 輝次奥井
Original assignee: National House Industrial Co Ltd
Current assignee: National House Industrial Co Ltd
Priority date: 1995-02-28
Filing date: 1995-02-28
Publication date: 1996-09-10
Anticipated expiration: 2012-11-26
Also published as: JP2682963B2

Abstract

(57)【要約】【目的】経済的に板厚を均一にさせることができるセ
ラミック板の製法を提供する。【構成】焼成炉の内部および外部を走行する支持体１
の上方に配置される、少なくともベース層原料の供給器
および化粧層原料の供給器からベース層原料および化粧
層原料を順次積層し、えられた積層体を加熱して溶化一
体化させるセラミック板の製法であって、前記積層体に
おけるベース層２の周縁部２ａの少なくとも一縁部に盛
り上げ部１１を形成し、ついで当該ベース層２上に化粧
層原料を積層させてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はセラミック板の製法に関
する。さらに詳しくは、板厚を均一にさせることができ
るセラミック板の製法に関する。

【０００２】

【従来の技術】セラミック板は、軽量であり、耐火性や
断熱性などに優れているため建築材料として用いられつ
つある。かかるセラミック板は、図１１に示すように、
走行する支持体１００上に配置される供給器１０１、１
０２からそれぞれベース層原料１０３および化粧層原料
１０４を順次積層し、えられた積層体１０５を焼成炉１
０６に送り込み、ついで加熱して溶化一体化させてい
る。前記供給器１０１、１０２からの原料の供給は、ダ
ンパー１０７の開閉により行なわれ、所定の板厚さおよ
び板長さに積層するようにされている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記各
原料は粒状の形状をしており、また支持体１００が振動
して走行していることなどから、まず積層されるベース
層１０８の四方向の周縁部１０９が丸みを呈しやすい。
そのため、つぎにベース層１０８に供給される化粧層原
料１０４が、Ｒ矢印で示すように、周縁部１０９の周辺
で転がって離散しやすくなるため、原料歩留りが低いと
いう問題がある。また周縁部１０９における化粧層原料
１０４の粒密度が低くなりやすいため、板厚が周縁部１
０９で薄厚になる。その結果、板厚が不均一になりやす
いという問題がある。

【０００４】本発明は、叙上の事情に鑑み、経済的に板
厚を均一にさせることができるセラミック板の製法を提
供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明セラミック板の製
法は、少なくともベース層原料および化粧層原料を積層
し、えられた積層体を加熱して溶化一体化させるセラミ
ック板の製法であって、前記積層体における下層の周縁
部の少なくとも一縁部に盛り上げ部を形成し、ついで当
該下層上に上層を積層させてなることを特徴としてい
る。

【０００６】また本発明のセラミック板の製法は、焼成
炉の内部および外部を走行する支持体の上方に配置され
る、少なくともベース層原料の供給器および化粧層原料
の供給器からベース層原料および化粧層原料を順次積層
し、えられた積層体を加熱して溶化一体化させるセラミ
ック板の製法であって、前記積層体におけるベース層の
周縁部の少なくとも一縁部に盛り上げ部を形成し、つい
で当該ベース層上に化粧層原料を積層させてなることを
特徴としている。

【０００７】

【作用】本発明のセラミック板の製法によれば、ベース
層（下層）を積層させたのち、該ベース層の両側や前後
端の周縁部に盛り上げ部を形成し、ついで該盛り上げ部
の内側に化粧層（上層）を積層させるため、化粧層の原
料が盛り上げ部により周辺に転がり落ちない。その結
果、焼成後の板厚が均一になる。

【０００８】

【実施例】以下、添付図面に基づいて本発明のセラミッ
ク板の製法を説明する。

【０００９】図１は本発明のセラミック板の製法の第１
の実施例を示す説明図、図２は図１における幅寄せ機構
の動作を示す説明図、図３は図２の幅寄せ機構によりえ
られるベース層とそれに積層される化粧層とを示す説明
図、図４は本発明の製法の第２の実施例を示す説明図、
図５は本発明の製法の第３の実施例を示す説明図、図６
は本発明の製法の第４の実施例を示す説明図、図７は本
発明の製法の第５の実施例を示す説明図、図８は本発明
の製法の第６の実施例を示す説明図、図９は図８におけ
る開閉板の動作を示す説明図、図１０は本発明の製法の
第７の実施例を示す説明図である。

【００１０】まず、本発明の製法にかかわるセラミック
板は、ベース層を構成するベース層原料と、化粧層を構
成する化粧層原料をホッパーなどの供給器から順次供給
し、所定の厚さに積層させ、ついでえられた積層体を加
熱して溶化一体化させることによりうることができる。
本発明の製法は、ランニングコストを低下させるために
も、生産ラインの焼成炉のベルトなどの支持体上で行な
うのが好ましい。また比較的粗い粒で構成されたベース
層上に直接化粧層を積層するとベース層の凹凸が化粧層
表面に現れることがあるため、それを防止するため、前
記ベース層と化粧層とのあいだに、たとえばベース層と
同じ原料で比較的細かい粒の造粒物あるいは、粉末から
なる中間層を介在させたり、化粧層の上地層として、た
とえばガラス粉などを積層してもよい。

【００１１】つぎに本発明の製法の第１の実施例を示
す。図１に示すように、焼成炉の内部および外部を走行
する、たとえば耐熱性メッシュベルトの支持体１にベー
ス層原料を供給し、ベース層２を形成する。前記支持体
１上には、Ａ矢印で示す支持体１の走行方向に沿って２
つの幅寄せ機構３が配置されている。この幅寄せ機構３
は、枠組４に固定される直動装置５と、該直動装置５か
ら延びる直動軸６（図２参照）に中間板７を介して連結
される押圧板８とから構成されている。前記直動装置と
しては、エアシリンダーやボールねじを内蔵した直動モ
ータなどを用いることができる。また前記押圧板８は、
ベース層原料を潰さないようにゴムなどの弾性体９を挟
持板１０ａ、１０ｂで挟んだものを用いることができ
る。なお、本実施例では、幅寄せ機構をベース層２の両
側位置に配置させているが、本発明においては、これに
限られるものではなく、ベース層２の片側位置や走行方
向の前端側位置や後端側位置、またはこれらを組み合せ
た位置に適宜配置することができる。また本実施例で
は、ベース層２が断続的な積層とされているが、本発明
においては、これに限られるものではなく、連続的な積
層とすることができる。ただ、このばあい、前記幅寄せ
機構は、ベース層２の片側位置または両側位置に固定配
置させ、前記押圧板８の後端部８ａが、ベース層２の両
側周縁部２ａをかき取らないように外側へ曲げておくの
が望ましい。

【００１２】つぎに本発明の製法における前記幅寄せ機
構の動作について説明する。

【００１３】図１〜２に示すように、ベース層２が幅寄
せ機構３のあいだに搬送されると、直動装置５が作動
し、直動軸６により押圧板８の弾性体９を前進させる。
この前進によりベース層２の両側周縁部２ａのベース層
原料が内側に寄せ集められ、盛り上げ部１１が形成され
る。この盛り上げ部１１の高さが所定の位置、たとえば
化粧層を積層させるための高さになったとき、前記押圧
板８の弾性体９は後退される。

【００１４】ついで図３に示すように、ベース層２の左
右両側の周縁部２ａの盛り上げ部１１に囲まれる内側に
化粧層原料が供給され、ベース層２上の化粧層１２が積
層される。

【００１５】なお、押圧板８の前進および後退の動作
は、支持体１の移動速度（たとえば２５ｃｍ／分）に同
期するようにコントロールされている。

【００１６】つぎに本発明の第２の実施例を説明する。
図４に示すように、本実施例では、ベース層原料を供給
する供給器２５の前方で、かつベース層２２の両周縁部
２２ａの上方に小型供給器２６がそれぞれ配置されてい
る。小型供給器２６としては、公知のホッパーなどを用
いることができる。この小型供給器２６により、前記供
給器２５から連続的に積層されるベース層２２の両側周
縁部２２ａに盛り上げ部２１が形成される。このベース
層２２が、化粧層原料の供給器の下に搬送されると、ベ
ース層２２上の盛り上げ部２１の内側に化粧層が積層さ
れる。

【００１７】つぎに本発明の製法の第３の実施例を説明
する。図５に示すように、本実施例では、ベース層原料
を供給する供給器３５の下部前板３６の両側位置に前記
原料を多く吐出させるための切欠部３７が形成されてい
る。この切欠部３７により、ベース層原料の供給量が部
分的に増加するため、ベース層３２の両側周縁部３２ａ
に盛り上げ部３１が形成される。ついでベース層３２上
の盛り上げ部３１の内側に化粧層が積層される。なお、
前記切欠部３７の形状は、本発明においては、とくに限
定されるものではなく、半円形や矩形など適宜選定する
ことができる。

【００１８】つぎに本発明の製法の第４の実施例を説明
する。図６に示すように、本実施例では、前記第１の実
施例における幅寄せ機構にかえて、供給器４５の下部前
板４６の両側位置に、開口部４７から吐出されるベース
層原料をベース層４２の内側にかき寄せるための一対の
羽根４８からなる幅寄せ機構が設けられている。この羽
根４８により、本実施例は、前記第３の実施例と同様
に、ベース層原料が連続的に積層されるのと同時に、ベ
ース層４２の両側周縁部４２ａに盛り上げ部４１が形成
される。ついでベース層４２上の盛り上げ部４１の内側
に化粧層が積層される。なお、前記盛り上げ部４１の形
状は、前記羽根４８の傾きを変えることにより、適宜選
定することができる。

【００１９】つぎに本発明の製法の第５の実施例を説明
する。図７に示すように、本実施例では、支持体１上に
ベース層原料を連続的に積層されたベース層５２を所定
寸法の長さに分離させるための分離機構５３が設けられ
ている。この分離機構５３は、断面が略Ｖ字形状のカッ
ター５４と、該カッター５４を昇降させるための昇降装
置５５とから構成されている。昇降装置５５は、固定ア
ングル５６に取り付けられており、また、カッター５４
の上昇および下降を案内させるためのガイド棒５７がブ
ッシュ５８を介して固定アングル５６に挿通されてい
る。前記カッター５４の断面は、本実施例では、略Ｖ字
形状としているが、本発明においては、これに限られる
ものではなく、Ｕ字形状やＯ字形状など、先端が両側へ
連続的に拡がる他の形状であってもよい。また前記昇降
装置５５としては、たとえば昇降シリンダなどを用いる
ことができる。

【００２０】前記分離機構５３は、図７に示すように、
昇降装置５５によりカッター５４が下降し、連続的なベ
ース層５２を横方向に切断する。このときカッター５４
の側面５４ａは、逆ハの字状に拡がっているため、切断
時、ベース層原料が前記側面５４ａに沿って寄せ上げら
れる。その結果、分離される各ベース層５２の前端周縁
部５２ａおよび後端周縁部５２ｂには、それぞれ盛り上
げ部５１が形成される。ついでベース層５２上の盛り上
げ部５１の内側に化粧層が積層される。

【００２１】なお、前記分離機構５３の昇降および下降
速度を大きくすると図７に示されるように当該分離機構
５３の前後（支持体の移動方向に関して前後）に盛り上
げ部を形成することができるが、逆に、速度を小さくす
ると、分離機構５３の上流側（図７において手前側）に
は盛り上げ部が形成されずに下流側にのみ形成される。

【００２２】つぎに本発明の製法の第６の実施例を説明
する。図８に示すように、本実施例は、前記第３の実施
例における切欠部にかえて、ベース層原料の供給量を部
分的に増減させるために、供給器６５の前端吐出部６６
の前方に配され、ベース層原料の供給量を調節する開閉
板６７と、該開閉板６７を昇降させるための昇降装置６
８とから構成されている。この昇降装置６８としては、
たとえば昇降シリンダなどを用いることができる。本実
施例では、図８に示すように、ベース層６２が所定の積
層厚さになるように、開閉板６７を上昇させている。つ
いでベース層６２が所定寸法の長さになる直前に、図９
（ａ）に示すように前記開閉板６７を所定位置まで上昇
させ、吐出部６６から供給されるベース層原料を増加さ
せる。そののち、図９（ｂ）に示すように、ベース層原
料の供給量を減少させるために、前記開閉板６７を下降
させ、ベース層６２の後端周縁部６２ｂに盛り上げ部６
１を形成させる。つぎに、前記開閉板６７を上昇および
下降させることにより、つぎに分離されるベース層の前
端周縁部、たとえば図８に示される６２ａに、盛り上げ
部６１を形成させることができる。ついでベース層６２
上の盛り上げ部６１の内側に化粧層が積層される。

【００２３】つぎに本発明の製法の第７の実施例を説明
する。図１０に示すように、本実施例では、前記第６の
実施例における開閉板のかわりに、供給器７５自体によ
り、ベース層原料の供給量を部分的に増減させている。

【００２４】まず図１０（ａ）に示すように、供給器７
５からベース層原料が供給され、所定厚さのベース層７
２が積層される。ついでベース層７２が所定寸法の長さ
になる直前に、図１０（ｂ）および（ｃ）に示すよう
に、供給器７５を上昇および下降させることにより、ベ
ース層原料の供給量を増減し、ベース層７２の後端周縁
部７２ｂに盛り上げ部７１を形成させる。つぎに、図１
０（ｄ）および（ｅ）に示すように、前記供給器７５を
上昇および下降させることにより、ベース層原料の供給
量を増減し、つぎに分離されるベース層７２の前端周縁
部７２ａに盛り上げ部７１を形成させる。ついでベース
層７２上の盛り上げ部７１の内側に化粧層が積層され
る。なお、前記供給器７５を昇降させる昇降装置として
は、たとえば昇降モータや昇降シリンダなどを用いるこ
とができる。

【００２５】なお、本発明の製法における盛り上げ部
は、実施例１〜７に示される対向二辺の周縁部のみに形
成されるものに限られるものではなく、二辺以外に一辺
や三辺および四辺の周縁部のすべてに形成することもで
きる。

【００２６】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明のセラミッ
ク板の製法によれば、少なくともベース層の周縁部に、
化粧層原料を確実に積層させるための盛り上げ部を形成
させているため、従来より、化粧層原料を無駄なく、ベ
ース層に積層させることができるとともに、えられる積
層体を加熱して溶化一体化させ、周縁部の板厚まで均一
なセラミック板をうることができる。したがって、生産
コストや製品品質を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセラミック板の製法の第１の実施例を
示す説明図である。

【図２】図１における幅寄せ機構の動作を示す説明図で
ある。

【図３】図２の幅寄せ機構によりえられるベース層とそ
れに積層される化粧層とを示す説明図である。

【図４】本発明の製法の第２の実施例を示す説明図であ
る。

【図５】本発明の製法の第３の実施例を示す説明図であ
る。

【図６】本発明の製法の第４の実施例を示す説明図であ
る。

【図７】本発明の製法の第５の実施例を示す説明図であ
る。

【図８】本発明の製法の第６の実施例を示す説明図であ
る。

【図９】図８における開閉板の動作を示す説明図であ
る。

【図１０】本発明の製法の第７の実施例を示す説明図で
ある。

【図１１】従来のセラミック板の製法を示す説明図であ
る。

【符号の説明】

１支持体２、２２、３２、４２、５２、６２、７２ベース層２ａ、２２ａ、３２ａ、４２ａ、５２ａ、６２ａ、６２
ｂ、７２ａ、７２ｂ周縁部１１、２１、３１、４１、５１、６１、７１盛り上げ
部１２化粧層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくともベース層原料および化粧層原
料を積層し、えられた積層体を加熱して溶化一体化させ
るセラミック板の製法であって、前記積層体における下
層の周縁部の少なくとも一縁部に盛り上げ部を形成し、
ついで当該下層上に上層を積層させてなることを特徴と
するセラミック板の製法。
【請求項２】焼成炉の内部および外部を走行する支持
体の上方に配置される、少なくともベース層原料の供給
器および化粧層原料の供給器からベース層原料および化
粧層原料を順次積層し、えられた積層体を加熱して溶化
一体化させるセラミック板の製法であって、前記積層体
におけるベース層の周縁部の少なくとも一縁部に盛り上
げ部を形成し、ついで当該ベース層上に化粧層原料を積
層させてなることを特徴とするセラミック板の製法。
【請求項３】前記盛り上げ部が前記ベース層原料の供
給量を部分的に増減することにより形成される請求項２
記載の製法。
【請求項４】前記盛り上げ部が前記ベース層の幅寄せ
機構により形成される請求項２記載の製法。
【請求項５】前記盛り上げ部が前記ベース層の周縁部
上に配置される供給器により形成される請求項２記載の
製法。
【請求項６】前記盛り上げ部が前記ベース層原料の供
給器における吐出部の両側に形成される切欠部により形
成される請求項３記載の製法。
【請求項７】前記盛り上げ部が前記ベース層原料の供
給器における吐出部に配される開閉板により形成される
請求項３記載の製法。
【請求項８】前記盛り上げ部が前記ベース層原料の供
給器の上昇および下降により形成される請求項３記載の
製法。
【請求項９】前記盛り上げ部が前記ベース層の分離機
構により形成される請求項２記載の製法。
【請求項１０】前記幅寄せ機構が前記支持体上に配置
される直動装置と押圧板とからなる請求項４記載の製
法。
【請求項１１】前記幅寄せ機構が前記ベース層原料の
供給器における吐出部の両側端に設けられる羽根からな
る請求項４記載の製法。