JPH08236105A - リチウム二次電池正極の製造方法 - Google Patents
リチウム二次電池正極の製造方法Info
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- JPH08236105A JPH08236105A JP7039772A JP3977295A JPH08236105A JP H08236105 A JPH08236105 A JP H08236105A JP 7039772 A JP7039772 A JP 7039772A JP 3977295 A JP3977295 A JP 3977295A JP H08236105 A JPH08236105 A JP H08236105A
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- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 43
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 52
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 7
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 22
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 19
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 3
- 229910002102 lithium manganese oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VLXXBCXTUVRROQ-UHFFFAOYSA-N lithium;oxido-oxo-(oxomanganiooxy)manganese Chemical group [Li+].[O-][Mn](=O)O[Mn]=O VLXXBCXTUVRROQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QTHKJEYUQSLYTH-UHFFFAOYSA-N [Co]=O.[Ni].[Li] Chemical compound [Co]=O.[Ni].[Li] QTHKJEYUQSLYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RLTFLELMPUMVEH-UHFFFAOYSA-N [Li+].[O--].[O--].[O--].[V+5] Chemical compound [Li+].[O--].[O--].[O--].[V+5] RLTFLELMPUMVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000625 lithium cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000686 lithium vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BFZPBUKRYWOWDV-UHFFFAOYSA-N lithium;oxido(oxo)cobalt Chemical compound [Li+].[O-][Co]=O BFZPBUKRYWOWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BAEKJBILAYEFEI-UHFFFAOYSA-N lithium;oxotungsten Chemical compound [Li].[W]=O BAEKJBILAYEFEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 16
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 229910032387 LiCoO2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910014135 LiMn2 O4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910015030 LiNiCoO Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910012946 LiV2O5 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- -1 LiWO3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 20
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 16
- 229910015643 LiMn 2 O 4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 6
- 230000037427 ion transport Effects 0.000 description 5
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910014143 LiMn2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N oxomanganese Chemical compound [Mn]=O VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013733 LiCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015645 LiMn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910014540 LiMn2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013100 LiNix Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000016027 Persea schiedeana Nutrition 0.000 description 1
- 244000261838 Persea schiedeana Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】電極基体上にリチウムを含む物質を蒸着してリ
チウムを含む金属酸化物膜を形成することによりリチウ
ム二次電池の正極を製造する方法であって、得られる正
極を電池として用いる場合、内部でのリチウムイオンの
移動度が低下し難く、且つ、放電電圧や放電時間等の所
望の電池特性を容易に得ることができ、しかも、この膜
を電極基体上に密着性良好に形成できる方法を提供す
る。 【構成】電極基体S上へのリチウムを含む物質3aの蒸
着と、基体Sへのイオンビーム照射とを併用して、基体
S上にリチウムを含む金属酸化物の膜を形成するリチウ
ム二次電池正極の製造方法。
チウムを含む金属酸化物膜を形成することによりリチウ
ム二次電池の正極を製造する方法であって、得られる正
極を電池として用いる場合、内部でのリチウムイオンの
移動度が低下し難く、且つ、放電電圧や放電時間等の所
望の電池特性を容易に得ることができ、しかも、この膜
を電極基体上に密着性良好に形成できる方法を提供す
る。 【構成】電極基体S上へのリチウムを含む物質3aの蒸
着と、基体Sへのイオンビーム照射とを併用して、基体
S上にリチウムを含む金属酸化物の膜を形成するリチウ
ム二次電池正極の製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リチウム二次電池の正
極、特に大電流放電時の放電エネルギ密度の高いリチウ
ム二次電池の正極の製造方法に関する。
極、特に大電流放電時の放電エネルギ密度の高いリチウ
ム二次電池の正極の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】リチウム二次電池の正極活物質は、充放
電の可逆性が良いこと、すなわちリチウムイオン(Li
+ )の出入りに伴う結晶構造の変化が小さいことが望ま
れる。このような物質として、チタン(Ti)、ニオブ
(Nb)、モリブデン(Mo)等の硫化物やセレン化
物、リチウムを含む金属酸化物等が用いられる。特に、
リチウムマンガン酸化物(LiMn2 O4 )等のリチウ
ムを含む金属酸化物は高いエネルギ密度を与えることが
知られている。LiMn2 O4 からなる正極は、従来、
2酸化マンガン(MnO2 )と水酸化リチウム(LiO
H)の粉体を混合し焼成して得られるLiMn2 O4 の
粉体に、結着剤と導電剤を混合し板状に成形して製造さ
れている。また、近年、真空蒸着法により正極基体上に
LiMn2 O 4 膜を形成する方法も用いられている。
電の可逆性が良いこと、すなわちリチウムイオン(Li
+ )の出入りに伴う結晶構造の変化が小さいことが望ま
れる。このような物質として、チタン(Ti)、ニオブ
(Nb)、モリブデン(Mo)等の硫化物やセレン化
物、リチウムを含む金属酸化物等が用いられる。特に、
リチウムマンガン酸化物(LiMn2 O4 )等のリチウ
ムを含む金属酸化物は高いエネルギ密度を与えることが
知られている。LiMn2 O4 からなる正極は、従来、
2酸化マンガン(MnO2 )と水酸化リチウム(LiO
H)の粉体を混合し焼成して得られるLiMn2 O4 の
粉体に、結着剤と導電剤を混合し板状に成形して製造さ
れている。また、近年、真空蒸着法により正極基体上に
LiMn2 O 4 膜を形成する方法も用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに板状に成形して製造されたLiMn2 O4 正極は、
結晶欠陥や結晶粒界を多く含むため、またLiMn2 O
4 粉体に配合される結着剤及び導電剤が非晶質領域とし
て存在するため、これらの部分がリチウムイオンの移動
を抑制して、正極におけるリチウムイオンの移動度が低
下する。特に大電流放電を行おうとする場合は、結晶欠
陥、結晶粒界及び前記の非晶質領域がリチウムイオンの
移動度を律速し、大電流放電が困難になる。
うに板状に成形して製造されたLiMn2 O4 正極は、
結晶欠陥や結晶粒界を多く含むため、またLiMn2 O
4 粉体に配合される結着剤及び導電剤が非晶質領域とし
て存在するため、これらの部分がリチウムイオンの移動
を抑制して、正極におけるリチウムイオンの移動度が低
下する。特に大電流放電を行おうとする場合は、結晶欠
陥、結晶粒界及び前記の非晶質領域がリチウムイオンの
移動度を律速し、大電流放電が困難になる。
【0004】また、従来の真空蒸着法を用いた正極製造
方法によると、通常、電極基体上に膜厚100μm程度
のLiMn2 O4 膜を形成するが、該膜に発生する内部
応力により該膜は基体との密着性が劣り、電池使用時に
一部剥離し易い欠点を有し、実用に供し難いのが現状で
ある。また、この方法によると、形成される膜の結晶性
や結晶粒密度を制御できないため、放電電圧や放電時間
等の所望の電池特性を得るためには、成膜後に高温でア
ニール処理(熱処理)しなければならず、耐熱性の点で
基体の材質が制限される。
方法によると、通常、電極基体上に膜厚100μm程度
のLiMn2 O4 膜を形成するが、該膜に発生する内部
応力により該膜は基体との密着性が劣り、電池使用時に
一部剥離し易い欠点を有し、実用に供し難いのが現状で
ある。また、この方法によると、形成される膜の結晶性
や結晶粒密度を制御できないため、放電電圧や放電時間
等の所望の電池特性を得るためには、成膜後に高温でア
ニール処理(熱処理)しなければならず、耐熱性の点で
基体の材質が制限される。
【0005】そこで本発明は、電極基体上にリチウムを
含む物質を蒸着してリチウムを含む金属酸化物膜を形成
することによりリチウム二次電池の正極を製造する方法
であって、得られる正極を電池に用いる場合、内部での
リチウムイオンの移動度が低下し難く、且つ、放電電圧
や放電時間等の所望の電池特性を容易に得ることがで
き、しかも、該膜を該電極基体上に密着性良好に形成で
きる方法を提供することを課題とする。
含む物質を蒸着してリチウムを含む金属酸化物膜を形成
することによりリチウム二次電池の正極を製造する方法
であって、得られる正極を電池に用いる場合、内部での
リチウムイオンの移動度が低下し難く、且つ、放電電圧
や放電時間等の所望の電池特性を容易に得ることがで
き、しかも、該膜を該電極基体上に密着性良好に形成で
きる方法を提供することを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明のリチウム二次電池正極の製造方法は、電極基体上へ
のリチウムを含む物質の蒸着と、該基体へのイオンビー
ム照射を併用して、該基体上にリチウムを含む金属酸化
物の膜を形成することを特徴とする。基体へのイオンビ
ーム照射は基体上への物質蒸着と同時、又は交互に、又
は該蒸着後、又は該蒸着の前後等に行うことが考えられ
る。蒸着前にイオンビームを照射すると基体表面のクリ
ーニング、改質等も可能となる。
明のリチウム二次電池正極の製造方法は、電極基体上へ
のリチウムを含む物質の蒸着と、該基体へのイオンビー
ム照射を併用して、該基体上にリチウムを含む金属酸化
物の膜を形成することを特徴とする。基体へのイオンビ
ーム照射は基体上への物質蒸着と同時、又は交互に、又
は該蒸着後、又は該蒸着の前後等に行うことが考えられ
る。蒸着前にイオンビームを照射すると基体表面のクリ
ーニング、改質等も可能となる。
【0007】前記のリチウムを含む金属酸化物として
は、LiMn2 O4 、リチウムタングステン酸化物(L
ixWO3 )、リチウムコバルト酸化物(LiCo
O2 )、リチウムニッケルコバルト酸化物(LiNix
CoyO2 )、リチウムマンガン酸化物(LixMnO
2 )、リチウムバナジウム酸化物(LiV2 O5 )等を
挙げることができる。
は、LiMn2 O4 、リチウムタングステン酸化物(L
ixWO3 )、リチウムコバルト酸化物(LiCo
O2 )、リチウムニッケルコバルト酸化物(LiNix
CoyO2 )、リチウムマンガン酸化物(LixMnO
2 )、リチウムバナジウム酸化物(LiV2 O5 )等を
挙げることができる。
【0008】前記のリチウムを含む物質の蒸着は、電子
ビームにより蒸発物質を加熱して蒸発させる真空蒸着
法、又は抵抗により蒸発物質を加熱して蒸発させる真空
蒸着法、又はレーザにより蒸発物質を加熱して蒸発させ
る真空蒸着法、又は高周波により蒸発物質を誘導加熱し
て蒸発させる真空蒸着法、又はイオンビーム、マグネト
ロン、高周波等の手段によりターゲットをスパッタする
スパッタ蒸着法等を用いて行うことができる。前記のリ
チウムを含む物質の蒸着のための元になる前記蒸発物質
又はスパッタターゲットとなる物質が複数ある場合、各
物質を1つの蒸発源から蒸発させることも、或いはそれ
ぞれ別の蒸発源から蒸発させることも可能である。
ビームにより蒸発物質を加熱して蒸発させる真空蒸着
法、又は抵抗により蒸発物質を加熱して蒸発させる真空
蒸着法、又はレーザにより蒸発物質を加熱して蒸発させ
る真空蒸着法、又は高周波により蒸発物質を誘導加熱し
て蒸発させる真空蒸着法、又はイオンビーム、マグネト
ロン、高周波等の手段によりターゲットをスパッタする
スパッタ蒸着法等を用いて行うことができる。前記のリ
チウムを含む物質の蒸着のための元になる前記蒸発物質
又はスパッタターゲットとなる物質が複数ある場合、各
物質を1つの蒸発源から蒸発させることも、或いはそれ
ぞれ別の蒸発源から蒸発させることも可能である。
【0009】前記イオンビーム照射においては、通常、
原料ガスからイオンと共に生成されるラジカルも照射さ
れる。前記照射するイオンビームは、不活性ガス(ヘリ
ウム(He)ガス、ネオン(Ne)ガス、アルゴン(A
r)ガス、クリプトン(Kr)ガス、キセノン(Xe)
ガス)又は酸素(O2 )ガス又は前記不活性ガスと酸素
ガスとの混合ガス等を原料として得られるイオンビーム
であることが考えられる。
原料ガスからイオンと共に生成されるラジカルも照射さ
れる。前記照射するイオンビームは、不活性ガス(ヘリ
ウム(He)ガス、ネオン(Ne)ガス、アルゴン(A
r)ガス、クリプトン(Kr)ガス、キセノン(Xe)
ガス)又は酸素(O2 )ガス又は前記不活性ガスと酸素
ガスとの混合ガス等を原料として得られるイオンビーム
であることが考えられる。
【0010】前記イオンビームの照射は、リチウムを含
む物質の蒸着と同時、交互、又は該物質蒸着後、又は該
物質蒸着の前後等に行うが、物質蒸着と同時又は交互に
行う場合には物質蒸着の初期にのみイオンビームを照射
してもよい。また、基体へのイオンビームの入射角度は
基体表面に対して10°〜90°程度とすることが考え
られる。
む物質の蒸着と同時、交互、又は該物質蒸着後、又は該
物質蒸着の前後等に行うが、物質蒸着と同時又は交互に
行う場合には物質蒸着の初期にのみイオンビームを照射
してもよい。また、基体へのイオンビームの入射角度は
基体表面に対して10°〜90°程度とすることが考え
られる。
【0011】前記イオンビーム照射における加速エネル
ギは、100eV〜50keV程度とすることが考えら
れる。これは、100eVより小さいと十分な膜密着力
を得ることができないからであり、50keVより大き
いと結晶構造の破壊及び欠陥を伴うからである。また、
基体に到達する蒸発物質の分子数と照射イオン数の比
(蒸発物質/イオン輸送比)は、それには限定されない
が、0.5〜200程度とすることが考えられる。これ
は0.5より小さいと膜中欠陥が増大し、膜成長が困難
となるからであり、200より大きいとイオン照射の効
果が得られないからである。
ギは、100eV〜50keV程度とすることが考えら
れる。これは、100eVより小さいと十分な膜密着力
を得ることができないからであり、50keVより大き
いと結晶構造の破壊及び欠陥を伴うからである。また、
基体に到達する蒸発物質の分子数と照射イオン数の比
(蒸発物質/イオン輸送比)は、それには限定されない
が、0.5〜200程度とすることが考えられる。これ
は0.5より小さいと膜中欠陥が増大し、膜成長が困難
となるからであり、200より大きいとイオン照射の効
果が得られないからである。
【0012】前記の範囲内でイオンビームの加速エネル
ギ及び蒸発物質/イオン輸送比を制御することにより、
得られる膜の内部応力を制御し、また結晶性及び結晶粒
密度を所望のものにすることができる。また、成膜中
に、前記範囲内でイオンビームの加速エネルギを大きく
することにより、電解液と接触する膜表面のみについて
結晶構造をアモルファス化することもでき、これによっ
て結晶構造の疲労破壊強度を高めることができる。
ギ及び蒸発物質/イオン輸送比を制御することにより、
得られる膜の内部応力を制御し、また結晶性及び結晶粒
密度を所望のものにすることができる。また、成膜中
に、前記範囲内でイオンビームの加速エネルギを大きく
することにより、電解液と接触する膜表面のみについて
結晶構造をアモルファス化することもでき、これによっ
て結晶構造の疲労破壊強度を高めることができる。
【0013】前記電極基体は、電池に用いられる電極で
あれば特に限定されず、材質としては、ニッケル(N
i)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、ステンレス
スチール(SUS)、炭素(C)等の導電性の材質を挙
げることができ、その形状は板状、フィルム状、発泡体
状、不織布状等であることが考えられ、特に限定はな
い。
あれば特に限定されず、材質としては、ニッケル(N
i)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、ステンレス
スチール(SUS)、炭素(C)等の導電性の材質を挙
げることができ、その形状は板状、フィルム状、発泡体
状、不織布状等であることが考えられ、特に限定はな
い。
【0014】
【作用】本発明のリチウム二次電池正極の製造方法によ
ると、電極基体上へのリチウムを含む物質の蒸着と、該
基体へのイオンビーム照射を併用することで、該基体上
にリチウムを含む金属酸化物の膜が形成される。イオン
ビーム照射時のイオン加速エネルギ及び(又は)蒸発物
質/イオン輸送比を制御することにより、形成される正
極活物質膜の結晶性及び結晶粒密度を制御することがで
き、これにより得られる正極を用いた電池では、放電電
圧や放電時間等の所望の電池特性を容易に得ることがで
きる。
ると、電極基体上へのリチウムを含む物質の蒸着と、該
基体へのイオンビーム照射を併用することで、該基体上
にリチウムを含む金属酸化物の膜が形成される。イオン
ビーム照射時のイオン加速エネルギ及び(又は)蒸発物
質/イオン輸送比を制御することにより、形成される正
極活物質膜の結晶性及び結晶粒密度を制御することがで
き、これにより得られる正極を用いた電池では、放電電
圧や放電時間等の所望の電池特性を容易に得ることがで
きる。
【0015】また、従来の蒸着法を用いた正極活物質膜
形成による正極の製造方法においては、得られる膜の結
晶性が低いため、成膜後、該膜を高温でアニール処理し
て所望の結晶性を得なければならなかったが、本発明方
法においては、結晶性を容易に制御できるため、成膜後
のアニール処理を行う必要がある場合にも、該処理を低
温で行うだけで所望の結晶性を得ることができる。そし
て、それにより耐熱性の低い材質形状等の電極基体も採
用することができ、電極基体をより広い範囲から選ぶこ
とができるようになると共にアニール処理に要するコス
トを低減できる。
形成による正極の製造方法においては、得られる膜の結
晶性が低いため、成膜後、該膜を高温でアニール処理し
て所望の結晶性を得なければならなかったが、本発明方
法においては、結晶性を容易に制御できるため、成膜後
のアニール処理を行う必要がある場合にも、該処理を低
温で行うだけで所望の結晶性を得ることができる。そし
て、それにより耐熱性の低い材質形状等の電極基体も採
用することができ、電極基体をより広い範囲から選ぶこ
とができるようになると共にアニール処理に要するコス
トを低減できる。
【0016】また、成膜温度、イオン照射条件及び処理
時間等を最適化することでアニール処理を省略できる可
能性もある。また、イオンビーム照射時の加速エネルギ
を高くすることにより電解液と接触する膜表面のみにつ
いて結晶構造をアモルファス化することもでき、それに
より結晶構造の疲労破壊強度を高くすることができる。
時間等を最適化することでアニール処理を省略できる可
能性もある。また、イオンビーム照射時の加速エネルギ
を高くすることにより電解液と接触する膜表面のみにつ
いて結晶構造をアモルファス化することもでき、それに
より結晶構造の疲労破壊強度を高くすることができる。
【0017】また、イオンビーム照射により、形成され
る膜と基体との界面に該両者の構成原子からなる混合層
が形成されるため、これによって該膜の密着性が向上す
る。また、イオンビーム照射時の加速エネルギを制御す
ることで膜の結晶性を制御し、それにより膜の内部応力
を緩和できるとともに、この点でも該膜の基体への密着
性を向上させることができる。さらに、膜の内部応力を
緩和できるので電極基体が導電性フィルムのときでも該
フィルム上への正極活物質膜の形成が可能となる。
る膜と基体との界面に該両者の構成原子からなる混合層
が形成されるため、これによって該膜の密着性が向上す
る。また、イオンビーム照射時の加速エネルギを制御す
ることで膜の結晶性を制御し、それにより膜の内部応力
を緩和できるとともに、この点でも該膜の基体への密着
性を向上させることができる。さらに、膜の内部応力を
緩和できるので電極基体が導電性フィルムのときでも該
フィルム上への正極活物質膜の形成が可能となる。
【0018】また、従来の、正極活物質を板状に成形し
て正極を製造する場合に見られるような結着剤や導電剤
等の不純物からなる非晶質領域が存在せず、また、該従
来法に比べて、結晶成長を制御することで結晶欠陥や結
晶粒界を少なくすることができるため、電池として使用
する場合にリチウムイオンの移動度の低下が抑制され
る。
て正極を製造する場合に見られるような結着剤や導電剤
等の不純物からなる非晶質領域が存在せず、また、該従
来法に比べて、結晶成長を制御することで結晶欠陥や結
晶粒界を少なくすることができるため、電池として使用
する場合にリチウムイオンの移動度の低下が抑制され
る。
【0019】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明のリチウム二次電池正極の製造方法
の実施に用いる成膜装置の概略構成を示す図である。こ
の装置は、真空容器1を有し、容器1内には被成膜電極
基体Sを支持するホルダ2、並びにこれに対向する位置
に、蒸発源3及びイオン源4が設置されている。また基
体ホルダ2付近には、例えば水晶振動子式膜厚モニタ等
の膜厚モニタ5、及び例えばファラデーカップ等のイオ
ン電流測定器6が配置されている。また容器1には排気
装置7が付設されて容器1内を所定の真空度にすること
ができる。
する。図1は本発明のリチウム二次電池正極の製造方法
の実施に用いる成膜装置の概略構成を示す図である。こ
の装置は、真空容器1を有し、容器1内には被成膜電極
基体Sを支持するホルダ2、並びにこれに対向する位置
に、蒸発源3及びイオン源4が設置されている。また基
体ホルダ2付近には、例えば水晶振動子式膜厚モニタ等
の膜厚モニタ5、及び例えばファラデーカップ等のイオ
ン電流測定器6が配置されている。また容器1には排気
装置7が付設されて容器1内を所定の真空度にすること
ができる。
【0020】この装置を用いて、本発明のリチウム二次
電池正極の製造方法を実施するにあたっては、電極基体
Sをホルダ2に支持させた後、真空容器1内を所定の真
空度にする。次いで、基体Sに向けて蒸発源3から目的
とする膜の構成原子を含む蒸発物質3aを真空蒸着さ
せ、それと同時、又は交互、又は該蒸着後、又は該蒸着
の前後等にイオン源4から不活性ガス又は酸素ガス又は
不活性ガスと酸素ガスの混合ガスから得られるイオンビ
ームを当該蒸着面に照射してリチウムを含む金属酸化物
の膜を形成する。
電池正極の製造方法を実施するにあたっては、電極基体
Sをホルダ2に支持させた後、真空容器1内を所定の真
空度にする。次いで、基体Sに向けて蒸発源3から目的
とする膜の構成原子を含む蒸発物質3aを真空蒸着さ
せ、それと同時、又は交互、又は該蒸着後、又は該蒸着
の前後等にイオン源4から不活性ガス又は酸素ガス又は
不活性ガスと酸素ガスの混合ガスから得られるイオンビ
ームを当該蒸着面に照射してリチウムを含む金属酸化物
の膜を形成する。
【0021】前記成膜操作において、前記イオンビーム
照射は物質3aの真空蒸着の初期にのみ行ってもよい。
また、イオンビーム加速エネルギは100eV〜50k
eVとし、基体Sに対するイオンビームの入射角度は1
0°〜90°とする。また、蒸発物質/イオン輸送比は
0.5〜200とする。該輸送比の制御は、膜厚モニタ
5で基体Sへの蒸発物質3aの蒸着量を計測し、イオン
電流測定器6で基体Sへ照射されるイオンの個数を計測
することで行う。
照射は物質3aの真空蒸着の初期にのみ行ってもよい。
また、イオンビーム加速エネルギは100eV〜50k
eVとし、基体Sに対するイオンビームの入射角度は1
0°〜90°とする。また、蒸発物質/イオン輸送比は
0.5〜200とする。該輸送比の制御は、膜厚モニタ
5で基体Sへの蒸発物質3aの蒸着量を計測し、イオン
電流測定器6で基体Sへ照射されるイオンの個数を計測
することで行う。
【0022】この方法によると、イオン源4によるイオ
ンビームの加速エネルギ及び(又は)蒸発物質/イオン
輸送比を制御することにより、形成される膜の結晶性及
び結晶粒密度を制御することができるため、膜形成され
た正極を用いた電池は所望の電池特性を有するものとな
り、この点で電池設計も容易になる。また同様に、形成
される膜の結晶性の制御が容易であることから、成膜後
にアニール処理を行う場合でも、その処理温度を低温化
することができ、電極基体の選択許容範囲が広がると共
にアニール処理に要するコストを低減できる。
ンビームの加速エネルギ及び(又は)蒸発物質/イオン
輸送比を制御することにより、形成される膜の結晶性及
び結晶粒密度を制御することができるため、膜形成され
た正極を用いた電池は所望の電池特性を有するものとな
り、この点で電池設計も容易になる。また同様に、形成
される膜の結晶性の制御が容易であることから、成膜後
にアニール処理を行う場合でも、その処理温度を低温化
することができ、電極基体の選択許容範囲が広がると共
にアニール処理に要するコストを低減できる。
【0023】また、イオンビーム照射により膜と基体S
の界面に混合層が形成されることによって膜の密着性が
向上する。また、形成される膜の結晶性を制御できるた
め、該膜の内部応力を緩和することができる。そしてこ
の点でも膜の基体への密着性を向上させることができ
る。また、従来の正極活物質を板状に成形して正極を製
造する場合にみられるような、結着剤や導電剤等の不純
物からなる非晶質領域が存在せず、また結晶成長を制御
することで結晶欠陥や結晶粒界を少なくすることができ
るため、正極使用時のリチウムイオンの移動度が向上
し、それだけ大電流放電時の放電エネルギ密度を高くで
きる。
の界面に混合層が形成されることによって膜の密着性が
向上する。また、形成される膜の結晶性を制御できるた
め、該膜の内部応力を緩和することができる。そしてこ
の点でも膜の基体への密着性を向上させることができ
る。また、従来の正極活物質を板状に成形して正極を製
造する場合にみられるような、結着剤や導電剤等の不純
物からなる非晶質領域が存在せず、また結晶成長を制御
することで結晶欠陥や結晶粒界を少なくすることができ
るため、正極使用時のリチウムイオンの移動度が向上
し、それだけ大電流放電時の放電エネルギ密度を高くで
きる。
【0024】次に、図1に示す装置による本発明方法実
施の具体例について説明する。 実験例 ステンレススチール(SUS)よりなる電極基体Sをホ
ルダ2に設置し、当初真空容器1内を1×10-6Tor
r以下の真空度とした。その後、酸化リチウム(Li2
O)及び1酸化マンガン(MnO)を混合した蒸発物質
3aを電子ビーム蒸発源3を用いて蒸気化し、基体S上
に成膜した。それと同時にイオン源4からArイオンビ
ームを基体Sに対して垂直に、加速エネルギを1keV
〜10keVとして照射した。このとき、容器1内は酸
素分圧1×10-6Torr〜5×10-4Torrに保っ
た。Li2 O及びMnOの蒸着量(分子数)に対するA
rイオン数の比(Li2 O+MnO/Ar)は5〜70
とした。また、成膜中の基体Sの温度は室温〜500℃
に保った。
施の具体例について説明する。 実験例 ステンレススチール(SUS)よりなる電極基体Sをホ
ルダ2に設置し、当初真空容器1内を1×10-6Tor
r以下の真空度とした。その後、酸化リチウム(Li2
O)及び1酸化マンガン(MnO)を混合した蒸発物質
3aを電子ビーム蒸発源3を用いて蒸気化し、基体S上
に成膜した。それと同時にイオン源4からArイオンビ
ームを基体Sに対して垂直に、加速エネルギを1keV
〜10keVとして照射した。このとき、容器1内は酸
素分圧1×10-6Torr〜5×10-4Torrに保っ
た。Li2 O及びMnOの蒸着量(分子数)に対するA
rイオン数の比(Li2 O+MnO/Ar)は5〜70
とした。また、成膜中の基体Sの温度は室温〜500℃
に保った。
【0025】これにより基体S上に膜厚1μm〜50μ
mのLiMn2 O4 膜を形成し、それに伴い、基体Sと
LiMn2 O4 膜との界面に厚さ1μm〜5μmの混合
層が形成された。LiMn2 O4 膜が形成された電極基
体Sを500℃で10時間アニール処理して得られる正
極は、電池として用いた場合に剥離が見られなかった。
また、形成されたLiMn2 O4 膜は、立方晶の結晶構
造をとり、結晶性は前記のイオンビームの加速エネルギ
及びLi2 O+MnO/Ar輸送比の範囲内で制御さ
れ、その結果、得られる正極を用いたリチウム二次電池
は放電電圧2.5V〜4.5Vの範囲で放電容量200
mA・h/gの電池特性を示した。
mのLiMn2 O4 膜を形成し、それに伴い、基体Sと
LiMn2 O4 膜との界面に厚さ1μm〜5μmの混合
層が形成された。LiMn2 O4 膜が形成された電極基
体Sを500℃で10時間アニール処理して得られる正
極は、電池として用いた場合に剥離が見られなかった。
また、形成されたLiMn2 O4 膜は、立方晶の結晶構
造をとり、結晶性は前記のイオンビームの加速エネルギ
及びLi2 O+MnO/Ar輸送比の範囲内で制御さ
れ、その結果、得られる正極を用いたリチウム二次電池
は放電電圧2.5V〜4.5Vの範囲で放電容量200
mA・h/gの電池特性を示した。
【0026】
【発明の効果】本発明によると、電極基体上にリチウム
を含む物質を蒸着してリチウムを含む金属酸化物膜を形
成することによりリチウム二次電池の正極を製造する方
法であって、得られる正極を電池として用いる場合、内
部でのリチウムイオンの移動度が低下し難く、且つ、放
電電圧や放電時間等の所望の電池特性を容易に得ること
ができ、しかも、該膜を該電極基体上に密着性良好に形
成できる方法を提供することができる。
を含む物質を蒸着してリチウムを含む金属酸化物膜を形
成することによりリチウム二次電池の正極を製造する方
法であって、得られる正極を電池として用いる場合、内
部でのリチウムイオンの移動度が低下し難く、且つ、放
電電圧や放電時間等の所望の電池特性を容易に得ること
ができ、しかも、該膜を該電極基体上に密着性良好に形
成できる方法を提供することができる。
【図1】本発明方法の実施に用いる成膜装置の1例の概
略構成を示す図である。
略構成を示す図である。
1 真空容器 2 基体ホルダ 3 蒸発源 3a リチウムを含む蒸発物質 4 イオン源 5 膜厚モニタ 6 イオン電流測定器 7 排気装置 S 基体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩本 泰志 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内 (72)発明者 西山 哲 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 電極基体上へのリチウムを含む物質の蒸
着と、該基体へのイオンビーム照射を併用して、該基体
上にリチウムを含む金属酸化物の膜を形成することを特
徴とするリチウム二次電池正極の製造方法。 - 【請求項2】 前記のリチウムを含む金属酸化物が、リ
チウムマンガン酸化物、リチウムタングステン酸化物、
リチウムコバルト酸化物、リチウムニッケルコバルト酸
化物、リチウムバナジウム酸化物よりなる群から選ばれ
た物質である請求項1記載のリチウム二次電池正極の製
造方法。 - 【請求項3】 前記照射するイオンビームが、不活性ガ
ス又は酸素ガス又は不活性ガスと酸素ガスの混合ガスを
原料ガスとして得られるイオンビームである請求項1又
は2記載のリチウム二次電池正極の製造方法。 - 【請求項4】 前記照射するイオンビームの加速エネル
ギを100eV〜50keVの範囲にあるものとする請
求項1から3の何れかに記載のリチウム二次電池正極の
製造方法。 - 【請求項5】 前記のリチウムを含む物質の蒸着を、電
子ビームにより蒸発物質を加熱して蒸発させる真空蒸着
法、又は抵抗により蒸発物質を加熱して蒸発させる真空
蒸着法、又はレーザにより蒸発物質を加熱して蒸発させ
る真空蒸着法、又は高周波により蒸発物質を誘導加熱し
て蒸発させる真空蒸着法、又はスパッタ蒸着法により行
う請求項1から4の何れかに記載のリチウム二次電池正
極の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7039772A JPH08236105A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | リチウム二次電池正極の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7039772A JPH08236105A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | リチウム二次電池正極の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08236105A true JPH08236105A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=12562232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7039772A Withdrawn JPH08236105A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | リチウム二次電池正極の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08236105A (ja) |
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| KR20160054255A (ko) * | 2014-11-06 | 2016-05-16 | 한국과학기술연구원 | 레이저를 이용한 박막 전지용 양극 제조 방법, 그 방법으로 제조된 박막 전지용 양극 및 이를 포함하는 박막 전지 |
| US9853325B2 (en) | 2011-06-29 | 2017-12-26 | Space Charge, LLC | Rugged, gel-free, lithium-free, high energy density solid-state electrochemical energy storage devices |
| US10601074B2 (en) | 2011-06-29 | 2020-03-24 | Space Charge, LLC | Rugged, gel-free, lithium-free, high energy density solid-state electrochemical energy storage devices |
| US10658705B2 (en) | 2018-03-07 | 2020-05-19 | Space Charge, LLC | Thin-film solid-state energy storage devices |
| US11527774B2 (en) | 2011-06-29 | 2022-12-13 | Space Charge, LLC | Electrochemical energy storage devices |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP7039772A patent/JPH08236105A/ja not_active Withdrawn
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