JPH08239355A - 芳香族アミド - Google Patents
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- JPH08239355A JPH08239355A JP7341548A JP34154895A JPH08239355A JP H08239355 A JPH08239355 A JP H08239355A JP 7341548 A JP7341548 A JP 7341548A JP 34154895 A JP34154895 A JP 34154895A JP H08239355 A JPH08239355 A JP H08239355A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エンジン付着物を防止し、抑制するための燃
料添加剤として有用なポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドを提供すること。 【解決手段】 式: 【化1】 [式中、Aはヒドロキシ、ニトロ、アミノ、N−アルキ
ルアミノ、N,N−ジアルキルアミノであり;R1 とR
2 は水素、ヒドロキシ、低級アルキル、又は低級アルコ
キシであり;R3 は水素又は低級アルキルであり;R4
は水素又は式: 【化2】 (式中、A1 はヒドロキシ、ニトロ、アミノ、N−アル
キルアミノ、N,N−ジアルキルアミノである)で示さ
れるアシル基であり;R6 とR7 は水素、ヒドロキシ、
低級アルキル、又は低級アルコキシであり;R5 はポリ
アルキル又はポリアルケニル基であり;nは0〜2の整
数であり;xは2〜5の整数である]で示される化合物
又はその燃料溶解性塩。
料添加剤として有用なポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドを提供すること。 【解決手段】 式: 【化1】 [式中、Aはヒドロキシ、ニトロ、アミノ、N−アルキ
ルアミノ、N,N−ジアルキルアミノであり;R1 とR
2 は水素、ヒドロキシ、低級アルキル、又は低級アルコ
キシであり;R3 は水素又は低級アルキルであり;R4
は水素又は式: 【化2】 (式中、A1 はヒドロキシ、ニトロ、アミノ、N−アル
キルアミノ、N,N−ジアルキルアミノである)で示さ
れるアシル基であり;R6 とR7 は水素、ヒドロキシ、
低級アルキル、又は低級アルコキシであり;R5 はポリ
アルキル又はポリアルケニル基であり;nは0〜2の整
数であり;xは2〜5の整数である]で示される化合物
又はその燃料溶解性塩。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は新規なヒドロキシ、
ニトロ及びアミノ芳香族化合物に関する。より詳しく
は、本発明は新規なポリアルキル及びポリアルケニルヒ
ドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族化合物と、エンジン
付着物を防止し、抑制するための燃料組成物へのそれら
の使用とに関する。
ニトロ及びアミノ芳香族化合物に関する。より詳しく
は、本発明は新規なポリアルキル及びポリアルケニルヒ
ドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族化合物と、エンジン
付着物を防止し、抑制するための燃料組成物へのそれら
の使用とに関する。
【0002】
【従来の技術】自動車エンジンが、炭化水素燃料の酸化
及び重合のために、例えばキャブレータポート、スロッ
トル体、燃料インジェクター、吸気孔及び吸気弁のよう
なエンジン要素の表面上に付着物を形成する傾向がある
ことは周知である。これらの付着物は、比較的少量で存
在する場合にも、例えば失速及びアクセレーション不良
のような、注目に値する運転性の問題をしばしば惹起す
る。さらに、エンジン付着物は自動車の燃料消費量と排
出汚染物の発生とを顕著に高める。それ故、このような
付着物を防止し、抑制するための、効果的な燃料清浄剤
(fuel detergent)又は“付着物抑制”添加剤の開発はか
なり重要であり、多くの、このような物質が当該技術分
野で知られている。
及び重合のために、例えばキャブレータポート、スロッ
トル体、燃料インジェクター、吸気孔及び吸気弁のよう
なエンジン要素の表面上に付着物を形成する傾向がある
ことは周知である。これらの付着物は、比較的少量で存
在する場合にも、例えば失速及びアクセレーション不良
のような、注目に値する運転性の問題をしばしば惹起す
る。さらに、エンジン付着物は自動車の燃料消費量と排
出汚染物の発生とを顕著に高める。それ故、このような
付着物を防止し、抑制するための、効果的な燃料清浄剤
(fuel detergent)又は“付着物抑制”添加剤の開発はか
なり重要であり、多くの、このような物質が当該技術分
野で知られている。
【0003】例えば、脂肪族炭化水素置換フェノール
は、燃料組成物に用いる場合に、エンジン付着物を減ず
ることが知られている。Kreuz等に1974年11
月19日に発行された米国特許第3,849,085号
は、脂肪族炭化水素ラジカルが約500〜3,500の
範囲内の平均分子量を有する高分子量の脂肪族炭化水素
置換フェノール 約0.01〜0.25容量%を含む、
ガソリン沸点範囲内の炭化水素混合物を含むモーター燃
料組成物を開示する。この特許は、少量の脂肪族炭化水
素置換フェノールを含むガソリン組成物が、ガソリンエ
ンジンの吸気弁及び吸気孔における付着物の形成を防止
又は抑制するのみでなく、エンジンマニホルド内での最
小の分解及び付着物形成で高い操作温度において作動す
るように設計されたエンジンにおける燃料組成物の性能
を強化することを教示する。
は、燃料組成物に用いる場合に、エンジン付着物を減ず
ることが知られている。Kreuz等に1974年11
月19日に発行された米国特許第3,849,085号
は、脂肪族炭化水素ラジカルが約500〜3,500の
範囲内の平均分子量を有する高分子量の脂肪族炭化水素
置換フェノール 約0.01〜0.25容量%を含む、
ガソリン沸点範囲内の炭化水素混合物を含むモーター燃
料組成物を開示する。この特許は、少量の脂肪族炭化水
素置換フェノールを含むガソリン組成物が、ガソリンエ
ンジンの吸気弁及び吸気孔における付着物の形成を防止
又は抑制するのみでなく、エンジンマニホルド内での最
小の分解及び付着物形成で高い操作温度において作動す
るように設計されたエンジンにおける燃料組成物の性能
を強化することを教示する。
【0004】同様に、Machleder等に1979
年1月16日に発行された米国特許第4,134,84
6号は、(1)脂肪族炭化水素置換フェノールと、エピ
クロロヒドリンと、第1級若しくは第2級モノアミン又
はポリアミンとの反応生成物と、(2)ポリアルキレン
フェノールとの混合物を含む燃料添加剤組成物を開示す
る。この特許は、このような組成物がキャブレータ、イ
ンダクション系及び燃焼室の良好な洗浄性を示し、さら
に、低濃度で炭化水素燃料中に用いる場合には、効果的
な錆抑制を示すことを教示する。
年1月16日に発行された米国特許第4,134,84
6号は、(1)脂肪族炭化水素置換フェノールと、エピ
クロロヒドリンと、第1級若しくは第2級モノアミン又
はポリアミンとの反応生成物と、(2)ポリアルキレン
フェノールとの混合物を含む燃料添加剤組成物を開示す
る。この特許は、このような組成物がキャブレータ、イ
ンダクション系及び燃焼室の良好な洗浄性を示し、さら
に、低濃度で炭化水素燃料中に用いる場合には、効果的
な錆抑制を示すことを教示する。
【0005】アミノフェノールも、燃料組成物中に用い
た場合に、洗剤/分散剤、酸化防止剤及び耐食剤(anti-
corrosion agent)として作用することが知られている。
例えば、R.M.Langeに1982年3月16日に
発行された米国特許第4,320,021号は、少なく
とも炭素数30の、少なくとも1個の実質的飽和炭化水
素ベース置換基(substantially saturated hydrocarbon
-based substituent)を有するアミノフェノールを開示
する。この特許のアミノフェノールは油を基剤とする潤
滑剤及び通常は液体の(normally liquid)燃料に有用
で、好ましい性質を与えると開示される。
た場合に、洗剤/分散剤、酸化防止剤及び耐食剤(anti-
corrosion agent)として作用することが知られている。
例えば、R.M.Langeに1982年3月16日に
発行された米国特許第4,320,021号は、少なく
とも炭素数30の、少なくとも1個の実質的飽和炭化水
素ベース置換基(substantially saturated hydrocarbon
-based substituent)を有するアミノフェノールを開示
する。この特許のアミノフェノールは油を基剤とする潤
滑剤及び通常は液体の(normally liquid)燃料に有用
で、好ましい性質を与えると開示される。
【0006】ニトロフェノールも燃料添加剤として用い
られている。例えば、K.E.Davisに1982年
8月31日に発行された米国特許第4,347,148
号は、少なくとも炭素数約40の、少なくとも1個の脂
肪族置換基を含むニトロフェノールを開示する。この特
許のニトロフェノールは、潤滑油及び燃料組成物のため
の洗剤、分散剤、酸化防止剤及び乳化破壊剤(demulsifi
er)として有用であると開示される。
られている。例えば、K.E.Davisに1982年
8月31日に発行された米国特許第4,347,148
号は、少なくとも炭素数約40の、少なくとも1個の脂
肪族置換基を含むニトロフェノールを開示する。この特
許のニトロフェノールは、潤滑油及び燃料組成物のため
の洗剤、分散剤、酸化防止剤及び乳化破壊剤(demulsifi
er)として有用であると開示される。
【0007】同様に、M.Dubeck等に1969年
3月25日に発行された米国特許第3,434,814
号は、主要量のガソリン沸点範囲の液体炭化水素と、排
気排出物とエンジン付着物とを減ずるために充分な、少
量の、アルキル、アリール、アラルキル、アルカノイル
オキシ、アルコキシ、ヒドロキシ又はハロゲン置換基を
有する芳香族ニトロ化合物とを含む液体炭化水素燃料組
成物を開示する。
3月25日に発行された米国特許第3,434,814
号は、主要量のガソリン沸点範囲の液体炭化水素と、排
気排出物とエンジン付着物とを減ずるために充分な、少
量の、アルキル、アリール、アラルキル、アルカノイル
オキシ、アルコキシ、ヒドロキシ又はハロゲン置換基を
有する芳香族ニトロ化合物とを含む液体炭化水素燃料組
成物を開示する。
【0008】アミノ安息香酸及びニトロ安息香酸のポリ
(オキシアルキレン)エステルも当該技術分野において
知られている。例えば、M.Matterに1955年
8月2日に発行された米国特許第2,714,607号
は、アミノ安息香酸、ニトロ安息香酸及び他の同素環式
酸のポリエトキシエステルを開示する。これらのポリエ
トキシエステルは優れた薬理学的性質を有し、麻酔薬、
鎮痙薬、興奮薬及び静菌薬として有用であると開示され
る。
(オキシアルキレン)エステルも当該技術分野において
知られている。例えば、M.Matterに1955年
8月2日に発行された米国特許第2,714,607号
は、アミノ安息香酸、ニトロ安息香酸及び他の同素環式
酸のポリエトキシエステルを開示する。これらのポリエ
トキシエステルは優れた薬理学的性質を有し、麻酔薬、
鎮痙薬、興奮薬及び静菌薬として有用であると開示され
る。
【0009】同様に、D.T.Reardan等に19
92年2月25日発行された米国特許第5,090,9
14号は、芳香族部分にアミノ又はヒドラジノカルボニ
ル置換基を有し、芳香族部分とポリ(オキシアルキレ
ン)部分との間にエステル、アミド、カルバメート、尿
素又はエーテル結合基を有するポリ(オキシアルキレ
ン)芳香族化合物を開示する。これらの化合物は例えば
タンパク質及び酵素のような高分子種を改質する(modif
y)ために有用であると開示される。
92年2月25日発行された米国特許第5,090,9
14号は、芳香族部分にアミノ又はヒドラジノカルボニ
ル置換基を有し、芳香族部分とポリ(オキシアルキレ
ン)部分との間にエステル、アミド、カルバメート、尿
素又はエーテル結合基を有するポリ(オキシアルキレ
ン)芳香族化合物を開示する。これらの化合物は例えば
タンパク質及び酵素のような高分子種を改質する(modif
y)ために有用であると開示される。
【0010】R.C.Baronに1980年9月22
日に発行された米国特許第4,328,322号は、例
えばポリ(エチレン)グリコールのような、オリゴマー
ポリオールのアミノ−及びニトロベンゾエートエステル
を開示する。これらの物質はポリイソシアネートとの反
応による合成ポリマーの製造に用いられる。
日に発行された米国特許第4,328,322号は、例
えばポリ(エチレン)グリコールのような、オリゴマー
ポリオールのアミノ−及びニトロベンゾエートエステル
を開示する。これらの物質はポリイソシアネートとの反
応による合成ポリマーの製造に用いられる。
【0011】さらに、Udelhofen等に1980
年11月4日に発行された米国特許第4,231,75
9号は、(1)アルキル基が約600〜約3,000の
数平均分子量を有する高分子量アルキル置換ヒドロキシ
芳香族化合物と、(2)アミンと、(3)アルデヒドと
のMannich縮合生成物を含む燃料添加剤組成物を
開示する。この特許は、このようなMannich縮合
生成物が単独で用いた場合にはキャブレータを浄化し、
炭化水素キャリヤー流体と共に用いた場合には吸気弁を
浄化することを開示する。
年11月4日に発行された米国特許第4,231,75
9号は、(1)アルキル基が約600〜約3,000の
数平均分子量を有する高分子量アルキル置換ヒドロキシ
芳香族化合物と、(2)アミンと、(3)アルデヒドと
のMannich縮合生成物を含む燃料添加剤組成物を
開示する。この特許は、このようなMannich縮合
生成物が単独で用いた場合にはキャブレータを浄化し、
炭化水素キャリヤー流体と共に用いた場合には吸気弁を
浄化することを開示する。
【0012】Franz等に1989年8月22日に発
行された米国特許第4,859,210号は(1)ポリ
ブチル若しくはポリイソブチル基が324〜3,000
の数平均分子量を有する1種以上のポリブチル若しくは
ポリイソブチルアルコール、又は(2)ポリブチル若し
くはポリイソブチルアルコールのポリ(アルコキシラー
ト)、又は(3)ポリブチル若しくはポリイソブチルア
ルコールのカルボキシレートエステルを含む燃料組成物
を開示する。この特許はさらに、燃料組成物がポリブチ
ル若しくはポリイソブチルアルコールのエステルを含む
場合には、エステル形成酸基が飽和又は不飽和、脂肪族
又は芳香族、非環式又は環式、モノ−又はポリカルボン
酸に由来することができることを開示する。
行された米国特許第4,859,210号は(1)ポリ
ブチル若しくはポリイソブチル基が324〜3,000
の数平均分子量を有する1種以上のポリブチル若しくは
ポリイソブチルアルコール、又は(2)ポリブチル若し
くはポリイソブチルアルコールのポリ(アルコキシラー
ト)、又は(3)ポリブチル若しくはポリイソブチルア
ルコールのカルボキシレートエステルを含む燃料組成物
を開示する。この特許はさらに、燃料組成物がポリブチ
ル若しくはポリイソブチルアルコールのエステルを含む
場合には、エステル形成酸基が飽和又は不飽和、脂肪族
又は芳香族、非環式又は環式、モノ−又はポリカルボン
酸に由来することができることを開示する。
【0013】Dexter等に1966年11月15日
に発行された米国特許第3,285,855号は、エス
テル部分が炭素数6〜30であるジアルキルヒドロキシ
安息香酸及びヒドロキシフェニル安息香酸のアルキルエ
ステルを開示する。この特許は、このようなエステル
が、酸化劣化を通常受けやすいポリプロピレン及び他の
有機物質の安定化に有用であることを開示する。ヒンダ
ードジアルキルヒドロキシフェニル基を含む、同様なア
ルキルエステルがRossに1993年3月23日に発
行された米国特許第5,196,565号に開示され
る。
に発行された米国特許第3,285,855号は、エス
テル部分が炭素数6〜30であるジアルキルヒドロキシ
安息香酸及びヒドロキシフェニル安息香酸のアルキルエ
ステルを開示する。この特許は、このようなエステル
が、酸化劣化を通常受けやすいポリプロピレン及び他の
有機物質の安定化に有用であることを開示する。ヒンダ
ードジアルキルヒドロキシフェニル基を含む、同様なア
ルキルエステルがRossに1993年3月23日に発
行された米国特許第5,196,565号に開示され
る。
【0014】Mollet等に1993年3月23日発
行された米国特許第5,196,142号は、エステル
部分が炭素数23までであるヒドロキシフェニルカルボ
ン酸のアルキルエステルを開示する。この特許は、この
ような化合物が乳化重合したポリマーを安定化するため
の酸化防止剤として有用であることを開示する。
行された米国特許第5,196,142号は、エステル
部分が炭素数23までであるヒドロキシフェニルカルボ
ン酸のアルキルエステルを開示する。この特許は、この
ような化合物が乳化重合したポリマーを安定化するため
の酸化防止剤として有用であることを開示する。
【0015】ある種のポリアルキル及びポリアルケニル
ヒドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族アミドが、燃料組
成物中の燃料添加剤として用いた場合に、エンジン付着
物、特に吸気弁付着物を良好に抑制することが、今回発
見された。
ヒドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族アミドが、燃料組
成物中の燃料添加剤として用いた場合に、エンジン付着
物、特に吸気弁付着物を良好に抑制することが、今回発
見された。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、エンジン付
着物、特に吸気弁付着物を防止し、抑制するための燃料
添加剤として有用である、新規なポリアルキル及びポリ
アルケニルヒドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族アミド
を提供する。
着物、特に吸気弁付着物を防止し、抑制するための燃料
添加剤として有用である、新規なポリアルキル及びポリ
アルケニルヒドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族アミド
を提供する。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明のポリアルキル及
びポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族
アミドは式:
びポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ及びアミノ芳香族
アミドは式:
【化7】 [式中、Aはヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基
が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキル
基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキルア
ミノであり;R1とR2はそれぞれ独立的に水素、ヒドロ
キシ、炭素数1〜6の低級アルキル、又は炭素数1〜6
の低級アルコキシであり;R3は水素又は炭素数1〜6
の低級アルキルであり;R4は水素又は式:
が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキル
基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキルア
ミノであり;R1とR2はそれぞれ独立的に水素、ヒドロ
キシ、炭素数1〜6の低級アルキル、又は炭素数1〜6
の低級アルコキシであり;R3は水素又は炭素数1〜6
の低級アルキルであり;R4は水素又は式:
【化8】 (式中、A1はヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル
基が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキ
ル基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキル
アミノである)で示されるアシル基であり;R6とR7は
それぞれ独立的に水素、ヒドロキシ、炭素数1〜6の低
級アルキル、又は炭素数1〜6の低級アルコキシであ
り;R5は約450〜5,000の範囲内の平均分子量
を有するポリアルキル又はポリアルケニル基であり;n
は0〜2の整数であり;xは2〜5の整数である]で示
される化合物又はその燃料溶解性塩である。
基が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキ
ル基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキル
アミノである)で示されるアシル基であり;R6とR7は
それぞれ独立的に水素、ヒドロキシ、炭素数1〜6の低
級アルキル、又は炭素数1〜6の低級アルコキシであ
り;R5は約450〜5,000の範囲内の平均分子量
を有するポリアルキル又はポリアルケニル基であり;n
は0〜2の整数であり;xは2〜5の整数である]で示
される化合物又はその燃料溶解性塩である。
【0018】本発明はさらに、ガソリン又はディーゼル
範囲内の沸点を有する炭化水素の主要量と、ポリアルキ
ル又はポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ又はアミノ芳
香族アミドの付着物抑制有効量とを含む燃料組成物を提
供する。
範囲内の沸点を有する炭化水素の主要量と、ポリアルキ
ル又はポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ又はアミノ芳
香族アミドの付着物抑制有効量とを含む燃料組成物を提
供する。
【0019】本発明はさらに、約150゜F〜400゜
F(約65℃〜205℃)の範囲内の沸点を有する、不
活性で安定な親油性有機溶媒と、本発明のポリアルキル
又はポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ又はアミノ芳香
族アミド 約10〜70重量%とを含む燃料濃縮物を提
供する。
F(約65℃〜205℃)の範囲内の沸点を有する、不
活性で安定な親油性有機溶媒と、本発明のポリアルキル
又はポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ又はアミノ芳香
族アミド 約10〜70重量%とを含む燃料濃縮物を提
供する。
【0020】本発明は、他の要素の中でも、ある種のポ
リアルキル又はポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ又は
アミノ芳香族アミドが、燃料組成物中の燃料添加剤とし
て用いた場合に、エンジン付着物、特に吸気弁付着物
と、付着物生成とを良好に抑制するという意外な発見に
基づく。
リアルキル又はポリアルケニルヒドロキシ、ニトロ又は
アミノ芳香族アミドが、燃料組成物中の燃料添加剤とし
て用いた場合に、エンジン付着物、特に吸気弁付着物
と、付着物生成とを良好に抑制するという意外な発見に
基づく。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明によって提供する
燃料添加剤は一般式:
燃料添加剤は一般式:
【化9】 [式中、A、R1、R2、R3、R4、R5、n及びxは上
記で定義した通りである]で示される化合物である。上
記式Iにおいて、Aは好ましくはヒドロキシ、ニトロ又
はアミノ基である。さらに好ましくは、Aはヒドロキシ
基である。好ましくは、R1は水素、ヒドロキシ、又は
炭素数1〜4の低級アルキルである。さらに好ましく
は、R1は水素又はヒドロキシである。最も好ましく
は、R1は水素である。R2とR3は好ましくは水素であ
る。
記で定義した通りである]で示される化合物である。上
記式Iにおいて、Aは好ましくはヒドロキシ、ニトロ又
はアミノ基である。さらに好ましくは、Aはヒドロキシ
基である。好ましくは、R1は水素、ヒドロキシ、又は
炭素数1〜4の低級アルキルである。さらに好ましく
は、R1は水素又はヒドロキシである。最も好ましく
は、R1は水素である。R2とR3は好ましくは水素であ
る。
【0022】R4は水素又は式:
【化10】 〔式中、A1 は好ましくはヒドロキシ、ニトロ又はアミ
ノ基である〕で示されるアシル基である。より好ましく
はA1 はヒドロキシ基である。好ましくはR6 は水素、
ヒドロキシ又は炭素数1〜4の低級アルキルである。よ
り好ましくはR6 は水素である。R7 は好ましくは水素
である。
ノ基である〕で示されるアシル基である。より好ましく
はA1 はヒドロキシ基である。好ましくはR6 は水素、
ヒドロキシ又は炭素数1〜4の低級アルキルである。よ
り好ましくはR6 は水素である。R7 は好ましくは水素
である。
【0023】好ましくは、R5 は約450〜5,00
0、より好ましくは約500〜3,000、最も好まし
くは約600〜2,000の範囲内の平均分子量を有す
るポリアルキル又はポリアルケニル基である。好ましく
は、nは0又は1である。好ましくは、xは2〜3の整
数である。より好ましくは、xは2である。
0、より好ましくは約500〜3,000、最も好まし
くは約600〜2,000の範囲内の平均分子量を有す
るポリアルキル又はポリアルケニル基である。好ましく
は、nは0又は1である。好ましくは、xは2〜3の整
数である。より好ましくは、xは2である。
【0024】ポリアルキル及びポリアルケニル芳香族ア
ミドの好ましい群は、R1とR6が水素、ヒドロキシ又は
炭素数1〜4の低級アルキルであり;R2、R3及びR7
が水素であり;nが1又は2であり;xが2であるよう
な式I化合物である。ポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドの他の好ましい群は、R1とR6が水素、ヒ
ドロキシ又は炭素数1〜4の低級アルキルであり;
R2、R3及びR7が水素であり;nが0である式I化合
物である。
ミドの好ましい群は、R1とR6が水素、ヒドロキシ又は
炭素数1〜4の低級アルキルであり;R2、R3及びR7
が水素であり;nが1又は2であり;xが2であるよう
な式I化合物である。ポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドの他の好ましい群は、R1とR6が水素、ヒ
ドロキシ又は炭素数1〜4の低級アルキルであり;
R2、R3及びR7が水素であり;nが0である式I化合
物である。
【0025】AとA1がN−アルキルアミノ基である場
合に、N−アルキルアミノ部分のアルキル基は好ましく
は炭素数1〜4である。さらに好ましくは、アルキル基
はメチル又はエチルである。例えば、特に好ましいN−
アルキルアミノ基はN−メチルアミノ基とN−エチルア
ミノ基である。最も好ましくは、アルキル基はメチル基
である。
合に、N−アルキルアミノ部分のアルキル基は好ましく
は炭素数1〜4である。さらに好ましくは、アルキル基
はメチル又はエチルである。例えば、特に好ましいN−
アルキルアミノ基はN−メチルアミノ基とN−エチルア
ミノ基である。最も好ましくは、アルキル基はメチル基
である。
【0026】同様に、AとA1がN,N−ジアルキルア
ミノ基である場合に、N,N−ジアルキルアミノ部分の
各アルキル基は好ましくは炭素数1〜4である。さらに
好ましくは、各アルキル基はメチル又はエチルのいずれ
かである。例えば、特に好ましいN,N−ジアルキルア
ミノ基はN,N−ジメチルアミノ基、N−エチル−N−
メチルアミノ基、及びN,N−ジエチルアミノ基であ
る。最も好ましくは、各アルキル基はメチル基である。
ミノ基である場合に、N,N−ジアルキルアミノ部分の
各アルキル基は好ましくは炭素数1〜4である。さらに
好ましくは、各アルキル基はメチル又はエチルのいずれ
かである。例えば、特に好ましいN,N−ジアルキルア
ミノ基はN,N−ジメチルアミノ基、N−エチル−N−
メチルアミノ基、及びN,N−ジエチルアミノ基であ
る。最も好ましくは、各アルキル基はメチル基である。
【0027】ポリアルキル及びポリアルケニル芳香族ア
ミドの他の好ましい群は、AとA1がヒドロキシであ
り、R1とR6が水素又はヒドロキシであり、R2、R3及
びR7が水素であり、nが1であり;xが2であるよう
な式I化合物である。ポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドの他の好ましい群は、Aがヒドロキシであ
り、R1が水素又はヒドロキシであり、R2とR3が水素
であり、nが0であるような式I化合物である。
ミドの他の好ましい群は、AとA1がヒドロキシであ
り、R1とR6が水素又はヒドロキシであり、R2、R3及
びR7が水素であり、nが1であり;xが2であるよう
な式I化合物である。ポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドの他の好ましい群は、Aがヒドロキシであ
り、R1が水素又はヒドロキシであり、R2とR3が水素
であり、nが0であるような式I化合物である。
【0028】本発明のポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドの芳香族部分中に存在するヒドロキシ、ニ
トロ、アミノ、N−アルキルアミノ又はN,N−ジアル
キルアミノ置換基がポリアルキル又はポリアルケニルア
ミド部分に関してメタ又はパラ位置に与えられることが
特に好ましい。R1とR6がヒドロキシ又は炭素数1〜4
の低級アルキルである場合に、ヒドロキシ又は低級アル
キル基がポリアルキル又はポリアルケニルアミド部分に
関してメタ又はパラ位置に、ヒドロキシ、ニトロ、アミ
ノ、N−アルキルアミノ又はN,N−ジアルキルアミノ
置換基に関してはオルトの位置にあることが特に好まし
い。
芳香族アミドの芳香族部分中に存在するヒドロキシ、ニ
トロ、アミノ、N−アルキルアミノ又はN,N−ジアル
キルアミノ置換基がポリアルキル又はポリアルケニルア
ミド部分に関してメタ又はパラ位置に与えられることが
特に好ましい。R1とR6がヒドロキシ又は炭素数1〜4
の低級アルキルである場合に、ヒドロキシ又は低級アル
キル基がポリアルキル又はポリアルケニルアミド部分に
関してメタ又はパラ位置に、ヒドロキシ、ニトロ、アミ
ノ、N−アルキルアミノ又はN,N−ジアルキルアミノ
置換基に関してはオルトの位置にあることが特に好まし
い。
【0029】本発明のポリアルキル及びポリアルケニル
芳香族アミドは一般に、通常のエンジン吸気弁操作温度
(約200℃〜250℃)において不揮発性であるため
に充分な分子量を有する。典型的に、本発明のポリアル
キル及びポリアルケニル芳香族アミドの分子量は約45
0〜約5,000、好ましくは500〜3,000、よ
り好ましくは600〜2,000の範囲である。
芳香族アミドは一般に、通常のエンジン吸気弁操作温度
(約200℃〜250℃)において不揮発性であるため
に充分な分子量を有する。典型的に、本発明のポリアル
キル及びポリアルケニル芳香族アミドの分子量は約45
0〜約5,000、好ましくは500〜3,000、よ
り好ましくは600〜2,000の範囲である。
【0030】本発明のポリアルキル及びポリアルケニル
ヒドロキシ芳香族アミドの燃料溶解性塩も付着物の防止
又は抑制に有用であると考えられる。このような塩はア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、
置換アンモニウム塩及びスルホニウム塩を含む。好まし
い金属塩はアルカリ金属塩、特にナトリウム塩とカリウ
ム塩、及び置換アンモニウム塩であり、特に例えばテト
ラブチルアンモニウム塩のようなテトラアルキル置換ア
ンモニウム塩が好ましい。
ヒドロキシ芳香族アミドの燃料溶解性塩も付着物の防止
又は抑制に有用であると考えられる。このような塩はア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、
置換アンモニウム塩及びスルホニウム塩を含む。好まし
い金属塩はアルカリ金属塩、特にナトリウム塩とカリウ
ム塩、及び置換アンモニウム塩であり、特に例えばテト
ラブチルアンモニウム塩のようなテトラアルキル置換ア
ンモニウム塩が好ましい。
【0031】本発明のポリアルキル及びポリアルケニル
アミノ芳香族アミドの燃料溶解性塩は、アミノ、N−ア
ルキルアミノ又はN,N−ジアルキルアミノ基を含む化
合物に関して、容易に製造可能であり、このような塩は
エンジン付着物の防止又は抑制に有用であると考えられ
る。適当な塩は、例えばアルキルスルホン酸又はアリー
ルスルホン酸のような有機強酸によってアミノ部分をプ
ロトン付加することによって得られる塩を含む。好まし
い塩はトルエンスルホン酸及びメタンスルホンン酸に由
来する。
アミノ芳香族アミドの燃料溶解性塩は、アミノ、N−ア
ルキルアミノ又はN,N−ジアルキルアミノ基を含む化
合物に関して、容易に製造可能であり、このような塩は
エンジン付着物の防止又は抑制に有用であると考えられ
る。適当な塩は、例えばアルキルスルホン酸又はアリー
ルスルホン酸のような有機強酸によってアミノ部分をプ
ロトン付加することによって得られる塩を含む。好まし
い塩はトルエンスルホン酸及びメタンスルホンン酸に由
来する。
【0032】定義 ここで用いる限り、下記用語は、特別に異なって述べな
い限り、次の意味を有する。“アミノ”なる用語は基:
−NH2を意味する。“N−アルキルアミノ”なる用語
は基:−NHRa[Raはアルキル基である]を意味す
る。“N,N−ジアルキルアミノ”なる用語は基:−N
RbRc[RbとRcはアルキル基である]を意味する。
“アルキル”なる用語は直鎖アルキル基と分枝鎖アルキ
ル基の両方を意味する。
い限り、次の意味を有する。“アミノ”なる用語は基:
−NH2を意味する。“N−アルキルアミノ”なる用語
は基:−NHRa[Raはアルキル基である]を意味す
る。“N,N−ジアルキルアミノ”なる用語は基:−N
RbRc[RbとRcはアルキル基である]を意味する。
“アルキル”なる用語は直鎖アルキル基と分枝鎖アルキ
ル基の両方を意味する。
【0033】“低級アルキル”なる用語は炭素数1〜約
6のアルキル基を意味し、第1級アルキル、第2級アル
キル及び第3級アルキル基を含む。典型的な低級アルキ
ル基は、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、
n−ペンチル、n−ヘキシル等を含む。“ポリアルキ
ル”及び“ポリアルケニル”なる用語は、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブチレン等のようなモノオレフィン、
特に1−モノオレフィンのポリマー又はコポリマーであ
るポリオレフィンに一般に由来するアルキル及びアルケ
ニル基を意味する。好ましくは、用いるモノオレフィン
が炭素数2〜約24、より好ましくは炭素数約3〜12
である。より好ましいモノオレフィンは、プロピレン、
ブチレン、特にイソブチレン、1−オクテン、及び1−
デセンを含む。このようなモノオレフィンから製造され
るポリオレフィンはポリプロピレン、ポリブテン、特に
ポリイソブテンを含み、ポリアルファオレフィンは1−
オクテン及び1−デセンから製造される。
6のアルキル基を意味し、第1級アルキル、第2級アル
キル及び第3級アルキル基を含む。典型的な低級アルキ
ル基は、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、
n−ペンチル、n−ヘキシル等を含む。“ポリアルキ
ル”及び“ポリアルケニル”なる用語は、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブチレン等のようなモノオレフィン、
特に1−モノオレフィンのポリマー又はコポリマーであ
るポリオレフィンに一般に由来するアルキル及びアルケ
ニル基を意味する。好ましくは、用いるモノオレフィン
が炭素数2〜約24、より好ましくは炭素数約3〜12
である。より好ましいモノオレフィンは、プロピレン、
ブチレン、特にイソブチレン、1−オクテン、及び1−
デセンを含む。このようなモノオレフィンから製造され
るポリオレフィンはポリプロピレン、ポリブテン、特に
ポリイソブテンを含み、ポリアルファオレフィンは1−
オクテン及び1−デセンから製造される。
【0034】一般合成方法 本発明のポリアルキル及びポリアルケニルヒドロキシ
ル、ニトロ及びアミノ芳香族アミドは下記の一般的な方
法及び操作によって製造することができる。典型的な又
は好ましいプロセス条件(例えば、反応温度、時間、反
応物質のモル比、溶媒、圧力等)が指定される場合に、
他に述べない限り、他のプロセス条件も使用可能である
ことを理解すべきである。最適反応条件は用いる特定の
反応物質又は溶媒によって変化するが、このような条件
は当業者が普通の最適化操作によって判定することがで
きる。
ル、ニトロ及びアミノ芳香族アミドは下記の一般的な方
法及び操作によって製造することができる。典型的な又
は好ましいプロセス条件(例えば、反応温度、時間、反
応物質のモル比、溶媒、圧力等)が指定される場合に、
他に述べない限り、他のプロセス条件も使用可能である
ことを理解すべきである。最適反応条件は用いる特定の
反応物質又は溶媒によって変化するが、このような条件
は当業者が普通の最適化操作によって判定することがで
きる。
【0035】さらに、当業者は、下記合成操作の実施中
にある一定の官能基をブロック又は保護することが必要
になりうることを理解するであろう。このような場合に
は、保護基が官能基を好ましくない反応から保護するた
めに、又は官能基の、他の官能基との若しくは所望の化
学的変換を実施するために用いる試薬との好ましくない
反応をブロックするために役立つ。特定の官能基に関す
る保護基の適当な選択は当業者に容易に明らかであろ
う。種々な保護基とそれらの導入及び除去は、例えば
T.W.GreeneとP.G.M.Wutsの,Pr
otectiveGroups in Organic
Synthesis,第2版,Wiley,ニューヨ
ーク,1991と、それに挙げられた参考文献とに記載
されている。
にある一定の官能基をブロック又は保護することが必要
になりうることを理解するであろう。このような場合に
は、保護基が官能基を好ましくない反応から保護するた
めに、又は官能基の、他の官能基との若しくは所望の化
学的変換を実施するために用いる試薬との好ましくない
反応をブロックするために役立つ。特定の官能基に関す
る保護基の適当な選択は当業者に容易に明らかであろ
う。種々な保護基とそれらの導入及び除去は、例えば
T.W.GreeneとP.G.M.Wutsの,Pr
otectiveGroups in Organic
Synthesis,第2版,Wiley,ニューヨ
ーク,1991と、それに挙げられた参考文献とに記載
されている。
【0036】本発明の合成操作では、ヒドロキシル基
を、必要な場合には、ベンジル又はtert−ブチルジ
メチルシリルエーテルとして保護することが好ましい。
これらの保護基の導入及び除去は当該技術分野において
充分に開示されている。アミノ基も保護を必要とするこ
とがあり、この保護は例えばベンジルオキシカルボニル
又はトリフルオロアセチル基のような一般的なアミノ保
護基を用いて達成される。さらに、以下でさらに詳述す
るように、芳香族部分にアミノ基を有する本発明のポリ
アルキル及びポリアルケニル芳香族アミドは一般に、対
応ニトロ誘導体から製造することができる。したがっ
て、下記操作の多くでは、ニトロ基がアミノ部分の保護
基として役立つ。
を、必要な場合には、ベンジル又はtert−ブチルジ
メチルシリルエーテルとして保護することが好ましい。
これらの保護基の導入及び除去は当該技術分野において
充分に開示されている。アミノ基も保護を必要とするこ
とがあり、この保護は例えばベンジルオキシカルボニル
又はトリフルオロアセチル基のような一般的なアミノ保
護基を用いて達成される。さらに、以下でさらに詳述す
るように、芳香族部分にアミノ基を有する本発明のポリ
アルキル及びポリアルケニル芳香族アミドは一般に、対
応ニトロ誘導体から製造することができる。したがっ
て、下記操作の多くでは、ニトロ基がアミノ部分の保護
基として役立つ。
【0037】式:
【化11】 [式中、A、R1、R2、R3、R4、R5、n及びxは上
記で定義した通りである]で示される本発明のポリアル
キル又はポリアルケニル芳香族アミドは、通常の反応条
件によって、式:
記で定義した通りである]で示される本発明のポリアル
キル又はポリアルケニル芳香族アミドは、通常の反応条
件によって、式:
【化12】 [式中、R1とR2は上記で定義した通りであり、R8は
ニトロ又は保護されたヒドロキシ若しくはアミノ基であ
り、Zは例えばクロリド又はブロミドのようなハライド
(halide)である]で示されるアシルハライドを、式:
ニトロ又は保護されたヒドロキシ若しくはアミノ基であ
り、Zは例えばクロリド又はブロミドのようなハライド
(halide)である]で示されるアシルハライドを、式:
【化13】 [式中、R3、R5、n及びxは上記で定義した通りであ
る]で示されるポリアルキル又はポリアルケニル置換ア
ミンと反応させることによって製造することができる。
る]で示されるポリアルキル又はポリアルケニル置換ア
ミンと反応させることによって製造することができる。
【0038】A.アシルハライドの製造 式IIのアシルハライドは対応芳香族カルボン酸から、
必要に応じて、ヒドロキシ基又はアミノ基を最初に保護
して、式:
必要に応じて、ヒドロキシ基又はアミノ基を最初に保護
して、式:
【化14】 [式中、R1とR2は上記で定義した通りであり、R8は
ニトロ又は適当に保護されたヒドロキシ若しくはアミノ
基である]で示されるカルボン酸を形成することによっ
て製造することができる。
ニトロ又は適当に保護されたヒドロキシ若しくはアミノ
基である]で示されるカルボン酸を形成することによっ
て製造することができる。
【0039】最初に保護してから、対応アシルハライド
に転化する芳香族カルボン酸は既知化合物であるか、又
は既知化合物から通常の操作によって製造することがで
きる。出発物質としての使用に適する代表的な芳香族カ
ルボン酸は、例えば、2−ヒドロキシ安息香酸、3−ヒ
ドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香酸、3,4−
ジヒドロキシ安息香酸、3,4,5−トリヒドロキシ安
息香酸、3−ヒドロキシ−4−メトキシ安息香酸、4−
ヒドロキシ−3−メトキシ安息香酸、3−t−ブチル−
4−ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシ安息香酸、2−ニトロ安息香酸、3−ニト
ロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、3−ヒドロキシ−4
−ニトロ安息香酸、4−ヒドロキシ−3−ニトロ安息香
酸、2−アミノ安息香酸(アントラニル酸)、3−アミ
ノ安息香酸、4−アミノ安息香酸、3−アミノ−4−ヒ
ドロキシ安息香酸、4−アミノ−3−ヒドロキシ安息香
酸、3−アミノ−4−メトキシ安息香酸、4−アミノ−
3−メトキシ安息香酸、4−アミノ−3−メチル安息香
酸、4−アミノ−3,5−ジ−t−ブチル安息香酸、3
−(N−メチルアミノ)安息香酸、4−(N−メチルア
ミノ)安息香酸、3−(N−エチルアミノ)安息香酸、
4−(N−エチルアミノ)安息香酸、3−(N,N−ジ
メチルアミノ)安息香酸、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)安息香酸等を含む。好ましい芳香族カルボン酸は3
−ヒドロキシ安息香酸、4−アミノ−3−ヒドロキシ安
息香酸、3−ニトロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、3
−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸、4−ヒドロキシ−
3−ニトロ安息香酸、3−アミノ安息香酸、4−アミノ
安息香酸、3−アミノ−4−ヒドロキシ安息香酸及び4
−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸を含む。
に転化する芳香族カルボン酸は既知化合物であるか、又
は既知化合物から通常の操作によって製造することがで
きる。出発物質としての使用に適する代表的な芳香族カ
ルボン酸は、例えば、2−ヒドロキシ安息香酸、3−ヒ
ドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香酸、3,4−
ジヒドロキシ安息香酸、3,4,5−トリヒドロキシ安
息香酸、3−ヒドロキシ−4−メトキシ安息香酸、4−
ヒドロキシ−3−メトキシ安息香酸、3−t−ブチル−
4−ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシ安息香酸、2−ニトロ安息香酸、3−ニト
ロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、3−ヒドロキシ−4
−ニトロ安息香酸、4−ヒドロキシ−3−ニトロ安息香
酸、2−アミノ安息香酸(アントラニル酸)、3−アミ
ノ安息香酸、4−アミノ安息香酸、3−アミノ−4−ヒ
ドロキシ安息香酸、4−アミノ−3−ヒドロキシ安息香
酸、3−アミノ−4−メトキシ安息香酸、4−アミノ−
3−メトキシ安息香酸、4−アミノ−3−メチル安息香
酸、4−アミノ−3,5−ジ−t−ブチル安息香酸、3
−(N−メチルアミノ)安息香酸、4−(N−メチルア
ミノ)安息香酸、3−(N−エチルアミノ)安息香酸、
4−(N−エチルアミノ)安息香酸、3−(N,N−ジ
メチルアミノ)安息香酸、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)安息香酸等を含む。好ましい芳香族カルボン酸は3
−ヒドロキシ安息香酸、4−アミノ−3−ヒドロキシ安
息香酸、3−ニトロ安息香酸、4−ニトロ安息香酸、3
−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸、4−ヒドロキシ−
3−ニトロ安息香酸、3−アミノ安息香酸、4−アミノ
安息香酸、3−アミノ−4−ヒドロキシ安息香酸及び4
−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸を含む。
【0040】芳香族カルボン酸がヒドロキシ基を含む場
合に、例えば、A又はR1がヒドロキシ基である場合
に、芳香族ヒドロキシ基の保護は周知の操作によって達
成することができる。特定のヒドロキシ芳香族カルボン
酸のために適した保護基の選択は当業者に明らかであろ
う。種々な保護基とそれらの導入及び除去は、例えば
T.W.GreeneとP.G.M.Wutsの,Pr
otective Groups in Organi
c Synthesis,第2版,Wiley,ニュー
ヨーク,1991と、それに挙げられた参考文献とに記
載されている。
合に、例えば、A又はR1がヒドロキシ基である場合
に、芳香族ヒドロキシ基の保護は周知の操作によって達
成することができる。特定のヒドロキシ芳香族カルボン
酸のために適した保護基の選択は当業者に明らかであろ
う。種々な保護基とそれらの導入及び除去は、例えば
T.W.GreeneとP.G.M.Wutsの,Pr
otective Groups in Organi
c Synthesis,第2版,Wiley,ニュー
ヨーク,1991と、それに挙げられた参考文献とに記
載されている。
【0041】芳香族ヒドロキシ基の脱保護も通常の操作
によって実施することができる。この脱保護工程の適当
な条件は合成に用いる保護基に依存するが、このような
条件は当業者に容易に明らかであると思われる。例え
ば、ベンジル保護基は1〜約4気圧の水素下での、例え
ば炭素担体付き(on carbon)パラジウムのよ
うな触媒の存在下における水素化分解によって除去する
ことができる。典型的に、この脱保護反応は不活性溶
媒、好ましくは酢酸エチルと酢酸との混合物中で、約0
℃〜約40℃の温度において約1〜約24時間実施す
る。
によって実施することができる。この脱保護工程の適当
な条件は合成に用いる保護基に依存するが、このような
条件は当業者に容易に明らかであると思われる。例え
ば、ベンジル保護基は1〜約4気圧の水素下での、例え
ば炭素担体付き(on carbon)パラジウムのよ
うな触媒の存在下における水素化分解によって除去する
ことができる。典型的に、この脱保護反応は不活性溶
媒、好ましくは酢酸エチルと酢酸との混合物中で、約0
℃〜約40℃の温度において約1〜約24時間実施す
る。
【0042】芳香族部分にアミノ基を有する式Iのポリ
アルキル及びポリアルケニル芳香族アミド(すなわち、
この場合にはAがアミノ基である)を合成する場合に、
最初に対応ニトロ化合物を製造し(すなわち、この場合
にはAがニトロ基である)、次にこのニトロ基を通常の
操作によってアミノ基に還元することが一般に望まし
い。芳香族ニトロ基は当該技術分野において周知の幾つ
かの方法によってアミノ基に還元することができる。例
えば、芳香族ニトロ基を接触水素化条件下で;又は例え
ば希塩酸のような酸の存在下での例えば亜鉛、スズ、鉄
等のような還元性金属(reducing metal)の使用によって
還元することができる。
アルキル及びポリアルケニル芳香族アミド(すなわち、
この場合にはAがアミノ基である)を合成する場合に、
最初に対応ニトロ化合物を製造し(すなわち、この場合
にはAがニトロ基である)、次にこのニトロ基を通常の
操作によってアミノ基に還元することが一般に望まし
い。芳香族ニトロ基は当該技術分野において周知の幾つ
かの方法によってアミノ基に還元することができる。例
えば、芳香族ニトロ基を接触水素化条件下で;又は例え
ば希塩酸のような酸の存在下での例えば亜鉛、スズ、鉄
等のような還元性金属(reducing metal)の使用によって
還元することができる。
【0043】一般に、接触水素化によるニトロ基の還元
が好ましい。典型的に、この反応は1〜約4気圧の水素
を用いて、例えば炭素担体付きパラジウムのような白金
又はパラジウム触媒の存在下において実施される。この
反応は典型的に、例えばエタノール、酢酸エチル、トル
エン等のような不活性溶媒中で約0℃〜約100℃の温
度において約1〜24時間実施される。芳香族ニトロ基
の水素化は、例えばP.N.Rylander,Cat
alytic Hydrogenationin Or
ganic Synthesis,113〜137頁,
Academic Press(1979);及びOr
ganic Synthesis,総合巻I,第2版,
240〜241頁,John Wiley & Son
s社(1941);及びこれらに記載された参考文献に
おいてさらに詳細に考察されている。
が好ましい。典型的に、この反応は1〜約4気圧の水素
を用いて、例えば炭素担体付きパラジウムのような白金
又はパラジウム触媒の存在下において実施される。この
反応は典型的に、例えばエタノール、酢酸エチル、トル
エン等のような不活性溶媒中で約0℃〜約100℃の温
度において約1〜24時間実施される。芳香族ニトロ基
の水素化は、例えばP.N.Rylander,Cat
alytic Hydrogenationin Or
ganic Synthesis,113〜137頁,
Academic Press(1979);及びOr
ganic Synthesis,総合巻I,第2版,
240〜241頁,John Wiley & Son
s社(1941);及びこれらに記載された参考文献に
おいてさらに詳細に考察されている。
【0044】ヒドロキシ芳香族カルボン酸が、例えば
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸のよ
うに、ヒドロキシ基に隣接してバルキーな(bulky)アル
キル基を有する場合には、このようなヒドロキシ基がハ
ライド部分に対して実質的に不反応性であるように充分
に立体的に遮蔽される(hindered)ので、アシルハライド
の形成前にヒドロキシ基を保護することは一般に不要で
ある。次に、保護された芳香族カルボン酸を例えば塩化
チオニル、三塩化リン、三臭化リン又は五塩化リンのよ
うな無機ハロゲン化物と;又は塩化オキサリルと通常の
操作によって反応させることによって、式IIのアシル
ハライドを製造することができる。
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸のよ
うに、ヒドロキシ基に隣接してバルキーな(bulky)アル
キル基を有する場合には、このようなヒドロキシ基がハ
ライド部分に対して実質的に不反応性であるように充分
に立体的に遮蔽される(hindered)ので、アシルハライド
の形成前にヒドロキシ基を保護することは一般に不要で
ある。次に、保護された芳香族カルボン酸を例えば塩化
チオニル、三塩化リン、三臭化リン又は五塩化リンのよ
うな無機ハロゲン化物と;又は塩化オキサリルと通常の
操作によって反応させることによって、式IIのアシル
ハライドを製造することができる。
【0045】典型的に、この反応は約1〜5モル当量の
無機アシルハライド又は塩化オキサリルを用いて、ニー
ト(neat)で又は例えばジエチルエーテルのような不活性
溶媒中で、約20℃〜約80℃の範囲内の温度において
約1〜約48時間実施される。この反応には、例えば
N,N−ジメチルホルムアミドのような触媒も用いるこ
とができる。
無機アシルハライド又は塩化オキサリルを用いて、ニー
ト(neat)で又は例えばジエチルエーテルのような不活性
溶媒中で、約20℃〜約80℃の範囲内の温度において
約1〜約48時間実施される。この反応には、例えば
N,N−ジメチルホルムアミドのような触媒も用いるこ
とができる。
【0046】B.ポリアルキル又はポリアルケニル置換
アミンの製造 式IIIのポリアルキル又はポリアルケニル置換アミン
は、平均分子量約450〜5,000を有するポリオレ
フィンに由来する、ポリアルキルハライド又はポリアル
ケニルハライドと、アンモニア、炭素数1〜6の第1級
モノアミン及び窒素原子2〜3個と炭素原子2〜10個
とを有するポリアミンから選択される窒素含有化合物と
の反応生成物を含む。
アミンの製造 式IIIのポリアルキル又はポリアルケニル置換アミン
は、平均分子量約450〜5,000を有するポリオレ
フィンに由来する、ポリアルキルハライド又はポリアル
ケニルハライドと、アンモニア、炭素数1〜6の第1級
モノアミン及び窒素原子2〜3個と炭素原子2〜10個
とを有するポリアミンから選択される窒素含有化合物と
の反応生成物を含む。
【0047】上述したように、ポリアルキルアミン又は
ポリアルケニルアミン上のポリアルキル又はポリアルケ
ニル置換基は約450〜5,000、好ましくは約50
0〜5,000、より好ましくは約500〜約3,00
0、最も好ましくは約600〜2,000の範囲内の平
均分子量を有する。本発明に用いるポリアルキルアミン
又はポリアルケニルアミン上のポリアルキル又はポリア
ルケニル置換基は一般に、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブチレン等のようなモノオレフィン(特に、1−モ
ノオレフィン)のポリマー又はコポリマーであるポリオ
レフィンから誘導することができる。モノオレフィンは
好ましくは炭素数2〜約24であり、より好ましくは炭
素数約3〜12である。最も好ましいモノオレフィンは
プロピレン、ブチレン、特にイソブチレン、1−オクテ
ン及び1−デセンを含む。このようなモノオレフィンか
ら製造されるポリオレフィンはポリプロピレン、ポリブ
テン、特にポリイソブテン、並びに1−オクテン及び1
−デセンから製造されるポリアルファオレフィンを含
む。ポリイソブテンから製造されるポリオレフィンが最
も好ましい。
ポリアルケニルアミン上のポリアルキル又はポリアルケ
ニル置換基は約450〜5,000、好ましくは約50
0〜5,000、より好ましくは約500〜約3,00
0、最も好ましくは約600〜2,000の範囲内の平
均分子量を有する。本発明に用いるポリアルキルアミン
又はポリアルケニルアミン上のポリアルキル又はポリア
ルケニル置換基は一般に、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブチレン等のようなモノオレフィン(特に、1−モ
ノオレフィン)のポリマー又はコポリマーであるポリオ
レフィンから誘導することができる。モノオレフィンは
好ましくは炭素数2〜約24であり、より好ましくは炭
素数約3〜12である。最も好ましいモノオレフィンは
プロピレン、ブチレン、特にイソブチレン、1−オクテ
ン及び1−デセンを含む。このようなモノオレフィンか
ら製造されるポリオレフィンはポリプロピレン、ポリブ
テン、特にポリイソブテン、並びに1−オクテン及び1
−デセンから製造されるポリアルファオレフィンを含
む。ポリイソブテンから製造されるポリオレフィンが最
も好ましい。
【0048】適当なポリオレフィンの1種類は、全ポリ
オレフィン組成物の少なくとも約20%、好ましくは少
なくとも50%の量で存在するアルキルビニリデン異性
体を含むものである。好ましいアルキルビニリデン異性
体には、メチルビニリデン及びエチルビニリデンがあ
り、メチルビニリデン異性体がより好ましい。したがっ
て、本発明に使用可能である高分子量ポリオレフィンは
少なくとも約20%、好ましくは少なくとも50%、よ
り好ましくは少なくとも70%の、反応性の大きいメチ
ルビニリデン異性体を有するポリイソブテンを含む。適
当なポリイソブテンは、BF3触媒を用いて製造したポ
リイソブテンを含む。メチルビニリデン異性体が組成物
全体の高い割合を占める、このようなポリイソブテンの
製造が米国特許第4,152,499号及び第4,60
5,808号に開示される。
オレフィン組成物の少なくとも約20%、好ましくは少
なくとも50%の量で存在するアルキルビニリデン異性
体を含むものである。好ましいアルキルビニリデン異性
体には、メチルビニリデン及びエチルビニリデンがあ
り、メチルビニリデン異性体がより好ましい。したがっ
て、本発明に使用可能である高分子量ポリオレフィンは
少なくとも約20%、好ましくは少なくとも50%、よ
り好ましくは少なくとも70%の、反応性の大きいメチ
ルビニリデン異性体を有するポリイソブテンを含む。適
当なポリイソブテンは、BF3触媒を用いて製造したポ
リイソブテンを含む。メチルビニリデン異性体が組成物
全体の高い割合を占める、このようなポリイソブテンの
製造が米国特許第4,152,499号及び第4,60
5,808号に開示される。
【0049】高いアルキルビニリデン含量を有する適当
なポリイソブテンの例には、British Petr
oleumから入手可能な、Ultravis30(分
子量約1300を有し、約76%のメチルビニリデン含
量を有するポリイソブテン)がある。ポリアルキル又は
ポリアルケニル置換アミンのアミン成分はアンモニア、
第1級モノアミン又は末端アミノ窒素原子を有するポリ
アミンに由来することができる。本発明の化合物の製造
に有用な第1級モノアミンは窒素原子1個と炭素原子1
〜6個とを含む。適当なモノアミンの例はN−メチルア
ミン、N−エチルアミン、N−n−プロピルアミン、N
−イソプロピルアミン、N−n−ブチルアミン、N−イ
ソブチルアミン、N−sec−ブチルアミン、N−te
rt−ブチルアミン、N−n−ペンチルアミン、及びN
−n−ヘキシルアミンを含む。好ましい第1級アミンは
N−メチルアミン、N−エチルアミン及びN−n−プロ
ピルアミンである。
なポリイソブテンの例には、British Petr
oleumから入手可能な、Ultravis30(分
子量約1300を有し、約76%のメチルビニリデン含
量を有するポリイソブテン)がある。ポリアルキル又は
ポリアルケニル置換アミンのアミン成分はアンモニア、
第1級モノアミン又は末端アミノ窒素原子を有するポリ
アミンに由来することができる。本発明の化合物の製造
に有用な第1級モノアミンは窒素原子1個と炭素原子1
〜6個とを含む。適当なモノアミンの例はN−メチルア
ミン、N−エチルアミン、N−n−プロピルアミン、N
−イソプロピルアミン、N−n−ブチルアミン、N−イ
ソブチルアミン、N−sec−ブチルアミン、N−te
rt−ブチルアミン、N−n−ペンチルアミン、及びN
−n−ヘキシルアミンを含む。好ましい第1級アミンは
N−メチルアミン、N−エチルアミン及びN−n−プロ
ピルアミンである。
【0050】アミン成分がポリアミンに由来する場合
に、このポリアミンはアルキレンジアミン又はジアルキ
レントリアミンである。アルキレン基は炭素数2〜5、
好ましくは炭素数2〜3である。このようなポリアミン
の例はエチレンジアミン、プロピレンジアミン、イソプ
ロピレンジアミン、ブチレンジアミン、イソブチレンジ
アミン、ペンチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
ジプロピレントリアミン、ジイソプロピレントリアミ
ン、ジブチレントリアミン、ジイソブチレントリアミン
及びジペンチレントリアミンを含む。好ましいポリアミ
ンはエチレンジアミンとジエチレントリアミンである。
に、このポリアミンはアルキレンジアミン又はジアルキ
レントリアミンである。アルキレン基は炭素数2〜5、
好ましくは炭素数2〜3である。このようなポリアミン
の例はエチレンジアミン、プロピレンジアミン、イソプ
ロピレンジアミン、ブチレンジアミン、イソブチレンジ
アミン、ペンチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
ジプロピレントリアミン、ジイソプロピレントリアミ
ン、ジブチレントリアミン、ジイソブチレントリアミン
及びジペンチレントリアミンを含む。好ましいポリアミ
ンはエチレンジアミンとジエチレントリアミンである。
【0051】特に好ましいポリアルキル又はポリアルケ
ニル置換アミンはポリイソブテニルエチレンジアミン
と、ポリイソブチル基が実質的に飽和され、アミン部分
がアンモニアから誘導されるポリイソブチルアミンであ
る。本発明の芳香族ポリアミドの製造に用いられるポリ
アルキル又はポリアルケニル置換アミンは、当該技術分
野で周知の通常の方法によって製造される。このような
ポリアルキル置換アミンとそれらの製造は米国特許第
3,438,757号、第3,565,804号、第
3,574,576号、第3,898,056号、第
3,960,515号及び第4,832,702号に開
示されており、これらの特許の開示は、全ての目的に関
して、本明細書に援用される。
ニル置換アミンはポリイソブテニルエチレンジアミン
と、ポリイソブチル基が実質的に飽和され、アミン部分
がアンモニアから誘導されるポリイソブチルアミンであ
る。本発明の芳香族ポリアミドの製造に用いられるポリ
アルキル又はポリアルケニル置換アミンは、当該技術分
野で周知の通常の方法によって製造される。このような
ポリアルキル置換アミンとそれらの製造は米国特許第
3,438,757号、第3,565,804号、第
3,574,576号、第3,898,056号、第
3,960,515号及び第4,832,702号に開
示されており、これらの特許の開示は、全ての目的に関
して、本明細書に援用される。
【0052】C.ポリアルキル又はポリアルケニル芳香
族アミドの製造 式IIのアシルハライドと、式IIIのポリアルキル又
はポリアルケニル置換アミンとの反応は、式Iのポリア
ルキル又はポリアルケニル芳香族アミドを形成する。典
型的に、この反応はポリアルキル又はポリアルケニル置
換アミンを約1.0〜約3.5モル当量の式IIアシル
ハライドと、例えばトルエン、ジクロロメタン、ジエチ
ルエーテル等のような不活性溶媒中で約25℃〜約15
0℃の範囲内の温度において接触させることによって実
施する。この反応は一般に約0.5〜約48時間内に完
成する。この反応は反応中に発生する酸を中和すること
ができる、充分な量のアミン(例えば、トリエチルアミ
ン、ジ(イソプロピル)エチルアミン、ピリジン又は4
−ジメチルアミノ−ピリジン)の存在下で実施する。
族アミドの製造 式IIのアシルハライドと、式IIIのポリアルキル又
はポリアルケニル置換アミンとの反応は、式Iのポリア
ルキル又はポリアルケニル芳香族アミドを形成する。典
型的に、この反応はポリアルキル又はポリアルケニル置
換アミンを約1.0〜約3.5モル当量の式IIアシル
ハライドと、例えばトルエン、ジクロロメタン、ジエチ
ルエーテル等のような不活性溶媒中で約25℃〜約15
0℃の範囲内の温度において接触させることによって実
施する。この反応は一般に約0.5〜約48時間内に完
成する。この反応は反応中に発生する酸を中和すること
ができる、充分な量のアミン(例えば、トリエチルアミ
ン、ジ(イソプロピル)エチルアミン、ピリジン又は4
−ジメチルアミノ−ピリジン)の存在下で実施する。
【0053】燃料組成物 本発明のポリアルキル又はポリアルケニル芳香族アミド
は、エンジン付着物、特に吸気弁付着物を防止し、抑制
するために、炭化水素燃料中の添加剤として有用であ
る。所望の付着物抑制を達成するために必要な添加剤の
適当な濃度は、使用燃料の種類、エンジンの種類、及び
他の燃料添加剤の存在に依存して変化する。一般に、炭
化水素燃料中の本発明のポリアルキル又はポリアルケニ
ル芳香族アミドの濃度は約50〜約2500重量百万分
率(ppm)、好ましくは75〜1,000ppmの範
囲内である。他の付着物抑制添加剤が存在する場合に
は、本発明の添加剤の使用量は少なくてよい。
は、エンジン付着物、特に吸気弁付着物を防止し、抑制
するために、炭化水素燃料中の添加剤として有用であ
る。所望の付着物抑制を達成するために必要な添加剤の
適当な濃度は、使用燃料の種類、エンジンの種類、及び
他の燃料添加剤の存在に依存して変化する。一般に、炭
化水素燃料中の本発明のポリアルキル又はポリアルケニ
ル芳香族アミドの濃度は約50〜約2500重量百万分
率(ppm)、好ましくは75〜1,000ppmの範
囲内である。他の付着物抑制添加剤が存在する場合に
は、本発明の添加剤の使用量は少なくてよい。
【0054】本発明のポリアルキル又はポリアルケニル
芳香族アミドを、約150゜F〜400゜F(約65℃
〜205℃)の範囲内の沸点を有する、不活性で安定な
親油性(すなわち、ガソリンに溶解する)有機溶媒を用
いた濃縮物として配合することができる。例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン又は高沸点芳香族化合物若し
くは芳香族シンナーのような、脂肪族又は芳香族炭化水
素溶媒を用いることが好ましい。炭化水素溶媒と組合せ
た、例えばイソプロパノール、イソブチルカルビノー
ル、n−ブタノール等のような、炭素数約3〜8の脂肪
族アルコールも本発明の添加剤と共に用いるために適す
る。濃縮物中の添加剤の量は一般に約10〜約70重量
%、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは20
〜40重量%の範囲内である。
芳香族アミドを、約150゜F〜400゜F(約65℃
〜205℃)の範囲内の沸点を有する、不活性で安定な
親油性(すなわち、ガソリンに溶解する)有機溶媒を用
いた濃縮物として配合することができる。例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン又は高沸点芳香族化合物若し
くは芳香族シンナーのような、脂肪族又は芳香族炭化水
素溶媒を用いることが好ましい。炭化水素溶媒と組合せ
た、例えばイソプロパノール、イソブチルカルビノー
ル、n−ブタノール等のような、炭素数約3〜8の脂肪
族アルコールも本発明の添加剤と共に用いるために適す
る。濃縮物中の添加剤の量は一般に約10〜約70重量
%、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは20
〜40重量%の範囲内である。
【0055】ガソリン燃料には、本発明の添加剤と共
に、例えばt−ブチルメチルエーテルのようなオキシゲ
ネート(oxygenate)、例えばメチルシクロペンタジエニ
ルマンガントリカルボニルのようなアンチノック剤、及
び例えばヒドロカルビルアミン、ヒドロカルビルポリ
(オキシアルキレン)アミン又はスクシンイミドのよう
な、他の分散剤/清浄剤を含めた、他の燃料添加剤を用
いることができる。さらに、酸化防止剤、金属奪活剤(d
eactivator)、乳化破壊剤も存在することができる。ジ
ーゼル燃料ニは、例えば凝固点降下剤(pour point depre
ssant)、流動改良剤、セタン改良剤(cetane improver)
等のような、他の周知の添加剤も使用可能である。
に、例えばt−ブチルメチルエーテルのようなオキシゲ
ネート(oxygenate)、例えばメチルシクロペンタジエニ
ルマンガントリカルボニルのようなアンチノック剤、及
び例えばヒドロカルビルアミン、ヒドロカルビルポリ
(オキシアルキレン)アミン又はスクシンイミドのよう
な、他の分散剤/清浄剤を含めた、他の燃料添加剤を用
いることができる。さらに、酸化防止剤、金属奪活剤(d
eactivator)、乳化破壊剤も存在することができる。ジ
ーゼル燃料ニは、例えば凝固点降下剤(pour point depre
ssant)、流動改良剤、セタン改良剤(cetane improver)
等のような、他の周知の添加剤も使用可能である。
【0056】本発明のポリアルキル又はポリアルケニル
芳香族アミドと共に、燃料溶解性で不揮発性のキャリヤ
ー流体又は油も使用可能である。このキャリヤー流体
は、燃料添加剤組成物の不揮発性残渣(NVR)又は無
溶剤液体画分を実質的に高めるが、オクタン価要求値上
昇にあまり寄与しない、化学的に不活性な炭化水素溶解
性液体ビヒクルである。キャリヤー流体は、例えば鉱
油、精製石油、水素化及び非水素化ポリアルファオレフ
ィンを含めた合成ポリアルカンとアルケン、並びに例え
ばLewisへの米国特許第4,191,537号とC
ampbellへの米国特許第4,877,416号と
に記載されているような合成ポリオキシアルキレン誘導
油のような、天然油又は合成油、並びに例えば、それぞ
れ、RobinsonとVogel等への米国特許第
3,756,793号と第5,004,478号とに、
かつ1990年3月7日及び1990年8月16日にそ
れぞれ公開されたヨーロッパ特許出願第356,726
号と第382,159号とに記載されているようなポリ
エステルであることができる。
芳香族アミドと共に、燃料溶解性で不揮発性のキャリヤ
ー流体又は油も使用可能である。このキャリヤー流体
は、燃料添加剤組成物の不揮発性残渣(NVR)又は無
溶剤液体画分を実質的に高めるが、オクタン価要求値上
昇にあまり寄与しない、化学的に不活性な炭化水素溶解
性液体ビヒクルである。キャリヤー流体は、例えば鉱
油、精製石油、水素化及び非水素化ポリアルファオレフ
ィンを含めた合成ポリアルカンとアルケン、並びに例え
ばLewisへの米国特許第4,191,537号とC
ampbellへの米国特許第4,877,416号と
に記載されているような合成ポリオキシアルキレン誘導
油のような、天然油又は合成油、並びに例えば、それぞ
れ、RobinsonとVogel等への米国特許第
3,756,793号と第5,004,478号とに、
かつ1990年3月7日及び1990年8月16日にそ
れぞれ公開されたヨーロッパ特許出願第356,726
号と第382,159号とに記載されているようなポリ
エステルであることができる。
【0057】これらのキャリヤー流体は本発明の燃料添
加剤に対するキャリヤーとして作用し、付着物の除去及
び阻止を助けると考えられる。キャリヤー流体はまた、
本発明のポリアルキル又はポリアルケニル芳香族化合物
と組合せて用いた場合に、相乗作用的な付着物抑制性を
も示す。キャリヤー流体は典型的に炭化水素燃料の約1
00〜約5000重量ppm、好ましくは燃料の400
〜3,000ppmの範囲内の量で用いられる。キャリ
ヤー流体対付着物抑制添加剤の比は好ましくは約0.
5:1から約10:1までの範囲内であり、より好まし
くは1:1から4:1までの範囲内であり、最も好まし
くは約2:1である。キャリヤー流体は、燃料濃縮物に
用いる場合に、一般に約20〜約60重量%、好ましく
は30〜50重量%の範囲内の量で存在する。
加剤に対するキャリヤーとして作用し、付着物の除去及
び阻止を助けると考えられる。キャリヤー流体はまた、
本発明のポリアルキル又はポリアルケニル芳香族化合物
と組合せて用いた場合に、相乗作用的な付着物抑制性を
も示す。キャリヤー流体は典型的に炭化水素燃料の約1
00〜約5000重量ppm、好ましくは燃料の400
〜3,000ppmの範囲内の量で用いられる。キャリ
ヤー流体対付着物抑制添加剤の比は好ましくは約0.
5:1から約10:1までの範囲内であり、より好まし
くは1:1から4:1までの範囲内であり、最も好まし
くは約2:1である。キャリヤー流体は、燃料濃縮物に
用いる場合に、一般に約20〜約60重量%、好ましく
は30〜50重量%の範囲内の量で存在する。
【0058】
【実施例】下記実施例は本発明の特定の実施態様と、そ
の合成製造方法とを説明するために提供するものであ
り;発明の範囲を限定するものと解釈すべきではない。
の合成製造方法とを説明するために提供するものであ
り;発明の範囲を限定するものと解釈すべきではない。
【0059】実施例1 4−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの製造 マグネチックスターラーと乾燥管とを備えたフラスコ
に、4−ベンジルオキシ安息香酸(30.0g)と、無
水ジクロロメタン(200ml)と、塩化オキザリル
(28.7ml)とを加えた。生じた混合物を室温にお
いて16時間撹拌し、溶媒を真空除去して、所望の酸塩
化物43.2gを白色固体として得た。
に、4−ベンジルオキシ安息香酸(30.0g)と、無
水ジクロロメタン(200ml)と、塩化オキザリル
(28.7ml)とを加えた。生じた混合物を室温にお
いて16時間撹拌し、溶媒を真空除去して、所望の酸塩
化物43.2gを白色固体として得た。
【0060】実施例2 ポリイソブテニルエチレンジアミンのビス−N,N’−
4−ベンジルオキシベンズアミドの製造
4−ベンジルオキシベンズアミドの製造
【化15】 平均23イソブチル単位を有するポリイソブテニルエチ
レンジアミン(本質的に、米国特許第3,960,51
5号の実施例3に記載の通りに製造)をシリカゲル上で
クロマトグラフィー(ヘキサン/ジエチルエーテル
(1:1)によって溶出させ、続いてヘキサン/ジエチ
ルエーテル/メタノール/イソプロピルアミン(40:
40:15:5)によって溶出)した。4−ベンジルオ
キシベンゾイルクロリド(73.7g、実施例1におけ
るように製造)を、クロマトグラフィーしたポリイソブ
テニルエチレンジアミン(193.2g)及び無水トル
エン(2リットル)と混合した。次に、トリエチルアミ
ン(43.6ml)及び4−ジメチルアミノピリジン
(8.7g)を加え、生じる混合物を窒素下で16時間
還流加熱した。反応を室温に冷却し、3リットルのヘキ
サンで希釈した。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液で2回洗浄し、ブラインで1回洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、溶媒を真空
除去し、黒色油状物(264.4g)を得た。油状物を
シリカゲル上でクロマトグラフィ−(ヘキサン/ジエチ
ルエ−テル/イソプロピルアミン(49:49:2)で
溶出)し、所望の生成物(155.0g)を褐色油状物
として得た。
レンジアミン(本質的に、米国特許第3,960,51
5号の実施例3に記載の通りに製造)をシリカゲル上で
クロマトグラフィー(ヘキサン/ジエチルエーテル
(1:1)によって溶出させ、続いてヘキサン/ジエチ
ルエーテル/メタノール/イソプロピルアミン(40:
40:15:5)によって溶出)した。4−ベンジルオ
キシベンゾイルクロリド(73.7g、実施例1におけ
るように製造)を、クロマトグラフィーしたポリイソブ
テニルエチレンジアミン(193.2g)及び無水トル
エン(2リットル)と混合した。次に、トリエチルアミ
ン(43.6ml)及び4−ジメチルアミノピリジン
(8.7g)を加え、生じる混合物を窒素下で16時間
還流加熱した。反応を室温に冷却し、3リットルのヘキ
サンで希釈した。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液で2回洗浄し、ブラインで1回洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、溶媒を真空
除去し、黒色油状物(264.4g)を得た。油状物を
シリカゲル上でクロマトグラフィ−(ヘキサン/ジエチ
ルエ−テル/イソプロピルアミン(49:49:2)で
溶出)し、所望の生成物(155.0g)を褐色油状物
として得た。
【0061】実施例3 ポリイソブチルエチレンジアミンのビス−N,N’−4
−ヒドロキシベンズアミドの製造
−ヒドロキシベンズアミドの製造
【化16】 炭素担体付(on charcoal)10%パラジウ
ム(15.0g)を含有する、酢酸エチル(300m
l)、酢酸(300ml)及びトルエン(100ml)
中の実施例2生成物(155.0g)の溶液をParr
低圧水素化装置で35−40psiにおいて16時間水
素化分解した。触媒濾過し、残渣の酢酸をトルエンで真
空除去し、所望の生成物(138.8g)を褐色油状物
として得た。R(ニート)1609cm-1;1H NM
R(CDCl3,D2O)δ 7.5−7.7(m,4
H),6.5−6.8(m,4H),3.6−4.2
(m,6H),0.6−1.6(m,183H)。
ム(15.0g)を含有する、酢酸エチル(300m
l)、酢酸(300ml)及びトルエン(100ml)
中の実施例2生成物(155.0g)の溶液をParr
低圧水素化装置で35−40psiにおいて16時間水
素化分解した。触媒濾過し、残渣の酢酸をトルエンで真
空除去し、所望の生成物(138.8g)を褐色油状物
として得た。R(ニート)1609cm-1;1H NM
R(CDCl3,D2O)δ 7.5−7.7(m,4
H),6.5−6.8(m,4H),3.6−4.2
(m,6H),0.6−1.6(m,183H)。
【0062】実施例4 ポリイソブテニルエチレンジアミンのビス−N,N’−
4−ニトロベンズアミドの製造
4−ニトロベンズアミドの製造
【化17】 平均23イソブチル単位を有するポリイソブテニルエチ
レンジアミン(本質的に、米国特許第3,960,51
5号の実施例3に記載の通りに製造)をシリカゲル上で
クロマトグラフィー(ヘキサン/ジエチルエーテル
(1:1)によって溶出させ、続いてヘキサン/ジエチ
ルエーテル/メタノール/イソプロピルアミン(40:
40:15:5)によって溶出)した。4−ニトロベン
ゾイルクロリド(5.7g)を、クロマトグラフィーし
たポリイソブテニルエチレンジアミン(20.0g)及
び無水トルエン(200ml)と混合した。次に、トリ
エチルアミン(5.1ml)を加え、生じる混合物を窒
素下で16時間還流加熱した。反応を室温に冷却し、6
00mlのヘキサンで希釈した。有機層を炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液で2回洗浄し、ブラインで1回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過
し、溶媒を真空除去し、褐色油状物(23.7g)を得
た。1H NMR(CDCl3,D2O)δ 8.1−
8.35(m,8H),5.4−5.6(m,1H),
3.5−4.2(m,6H),0.6−1.8(m,1
80H)。
レンジアミン(本質的に、米国特許第3,960,51
5号の実施例3に記載の通りに製造)をシリカゲル上で
クロマトグラフィー(ヘキサン/ジエチルエーテル
(1:1)によって溶出させ、続いてヘキサン/ジエチ
ルエーテル/メタノール/イソプロピルアミン(40:
40:15:5)によって溶出)した。4−ニトロベン
ゾイルクロリド(5.7g)を、クロマトグラフィーし
たポリイソブテニルエチレンジアミン(20.0g)及
び無水トルエン(200ml)と混合した。次に、トリ
エチルアミン(5.1ml)を加え、生じる混合物を窒
素下で16時間還流加熱した。反応を室温に冷却し、6
00mlのヘキサンで希釈した。有機層を炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液で2回洗浄し、ブラインで1回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過
し、溶媒を真空除去し、褐色油状物(23.7g)を得
た。1H NMR(CDCl3,D2O)δ 8.1−
8.35(m,8H),5.4−5.6(m,1H),
3.5−4.2(m,6H),0.6−1.8(m,1
80H)。
【0063】実施例5 ポリイソブチルエチレンジアミンのビス−N,N’−4
−アミノベンズアミドの製造
−アミノベンズアミドの製造
【化18】 炭素担体付10%パラジウム(4.0g)を含有する、
酢酸エチル(200ml)及びトルエン(50ml)中
の実施例4生成物(18.7g)の溶液をParr低圧
水素化装置で35−40psiにおいて16時間水素化
分解した。触媒を濾過し、残渣の酢酸をトルエンで真空
除去し、所望の生成物(15.4g)を褐色油状物とし
て得た。1H NMR(CDCl3,D2O)δ 7.4
−7.7(m,4H),6.5−6.8(m,4H),
3.4−4.0(m,6H),0.6−1.6(m,1
83H)。
酢酸エチル(200ml)及びトルエン(50ml)中
の実施例4生成物(18.7g)の溶液をParr低圧
水素化装置で35−40psiにおいて16時間水素化
分解した。触媒を濾過し、残渣の酢酸をトルエンで真空
除去し、所望の生成物(15.4g)を褐色油状物とし
て得た。1H NMR(CDCl3,D2O)δ 7.4
−7.7(m,4H),6.5−6.8(m,4H),
3.4−4.0(m,6H),0.6−1.6(m,1
83H)。
【0064】実施例6 単シリンダエンジン試験 試験化合物をガソリンに混入し、それらの付着物(depos
it)減少能力をASTM/CFR単シリンダエンジン試
験において評価した。Waukesha CFR単シリ
ンダエンジンを用いた。各ランを15時間実施し、その
時間の終わりに、吸気弁を取り外し、ヘキサンで洗浄
し、秤量した。予め測定した汚れていない弁(clean val
ve)の重量をランの終了時の弁の重量から控除した。両
方の重量の差が付着物の重量である。付着物の少ない量
は優れた添加剤であることを実証する。試験の操作条件
は次の通りであった:水ジャケット温度 200゜F
(93.3℃);真空 12mmHg(12 in H
g);空気−燃料比 12;イグニション・スパーク・
タイミング 40゜BTC;エンジン速度 1,800
rpm;クランク室油 市販30Wオイル。各試験化合
物に関して、吸気弁上の炭素質付着物量(mg)を表1
に報告する。
it)減少能力をASTM/CFR単シリンダエンジン試
験において評価した。Waukesha CFR単シリ
ンダエンジンを用いた。各ランを15時間実施し、その
時間の終わりに、吸気弁を取り外し、ヘキサンで洗浄
し、秤量した。予め測定した汚れていない弁(clean val
ve)の重量をランの終了時の弁の重量から控除した。両
方の重量の差が付着物の重量である。付着物の少ない量
は優れた添加剤であることを実証する。試験の操作条件
は次の通りであった:水ジャケット温度 200゜F
(93.3℃);真空 12mmHg(12 in H
g);空気−燃料比 12;イグニション・スパーク・
タイミング 40゜BTC;エンジン速度 1,800
rpm;クランク室油 市販30Wオイル。各試験化合
物に関して、吸気弁上の炭素質付着物量(mg)を表1
に報告する。
【0065】 表1 吸気弁付着物重量(mg) サンプル1 ラン1 ラン2 平均 ベース燃料 302.6 321.2 307.4 実施例3 5.7 7.2 6.5 実施例4 112.1 127.4 118.3実施例5 265.1 260.1 262.6 1 200ppma(parts per million active)において。 上記単シリンダエンジン試験に用いたベース燃料は、燃
料清浄剤(fuel detergent)を含まないレギュラーオクタ
ン無鉛ガソリンであった。試験化合物を200ppma
の濃度になるように、ベース燃料と混合した。
料清浄剤(fuel detergent)を含まないレギュラーオクタ
ン無鉛ガソリンであった。試験化合物を200ppma
の濃度になるように、ベース燃料と混合した。
【0066】表1のデータは、ベース燃料に比べて、本
発明のポリアルキル及びポリアルケニル芳香族アミド
(実施例3、4及び5)によって吸気弁付着物の顕著な
減少が生ずることを説明する。
発明のポリアルキル及びポリアルケニル芳香族アミド
(実施例3、4及び5)によって吸気弁付着物の顕著な
減少が生ずることを説明する。
Claims (52)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、Aはヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基
が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキル
基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキルア
ミノであり;R1とR2はそれぞれ独立的に水素、ヒドロ
キシ、炭素数1〜6の低級アルキル、又は炭素数1〜6
の低級アルコキシであり;R3 は水素又は炭素数1〜6
の低級アルキルであり;R4は水素又は式: 【化2】 (式中、A1はヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル
基が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキ
ル部分が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキ
ルアミノである)で示されるアシル基であり;R6とR7
はそれぞれ独立的に水素、ヒドロキシ、炭素数1〜6の
低級アルキル、又は炭素数1〜6の低級アルコキシであ
り;R5は約450〜5,000の範囲内の平均分子量
を有するポリアルキル又はポリアルケニル基であり;n
は0〜2の整数であり;xは2〜5の整数である]で示
される化合物又はその燃料溶解性塩。 - 【請求項2】 AとA1がそれぞれ独立的にヒドロキ
シ、ニトロ又はアミノである請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 AとA1がそれぞれヒドロキシである請
求項2記載の化合物。 - 【請求項4】 AとA1がそれぞれニトロである請求項
2記載の化合物。 - 【請求項5】 R1とR6がそれぞれ独立的に水素、ヒド
ロキシ、又は炭素数1〜6の低級アルキルである請求項
1記載の化合物。 - 【請求項6】 R1とR6がそれぞれ独立的に水素又はヒ
ドロキシである請求項5記載の化合物。 - 【請求項7】 R1とR6が水素である請求項6記載の化
合物。 - 【請求項8】 AとA1がそれぞれヒドロキシである請
求項7記載の化合物。 - 【請求項9】 R2とR7が水素である請求項1記載の化
合物。 - 【請求項10】 R3が水素である請求項9記載の化合
物。 - 【請求項11】 R5が約500〜3,000の範囲内
の平均分子量を有するポリアルキル又はポリアルケニル
基である請求項1記載の化合物。 - 【請求項12】 R5が約600〜2,000の範囲内
の平均分子量を有するポリアルキル又はポリアルケニル
基である請求項11記載の化合物。 - 【請求項13】 R5がポリプロピレン、ポリブテン、
又は1−オクテン若しくは1−デセンのポリアルファオ
レフィンオリゴマーに由来するポリアルキル又はポリア
ルケニル基である請求項12記載の化合物。 - 【請求項14】 R5がポリイソブテンに由来する請求
項13記載の化合物。 - 【請求項15】 nが0又は1であり、xが2である請
求項1記載の化合物。 - 【請求項16】 nが1であり、xが2である請求項1
記載の化合物。 - 【請求項17】 nが0である請求項1記載の化合物。
- 【請求項18】 ガソリン又はディーゼル範囲内の沸点
を有する炭化水素の主要量と、式: 【化3】 〔式中、Aはヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基
が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキル
基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキルア
ミノであり;R1とR2はそれぞれ独立的に水素、ヒドロ
キシ、炭素数1〜6の低級アルキル、又は炭素数1〜6
の低級アルコキシであり;R3は水素又は炭素数1〜6
の低級アルキルであり;R4は水素又は式: 【化4】 (式中、A1はヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル
基が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキ
ル基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキル
アミノである)で示されるアシル基であり;R6とR7は
それぞれ独立的に水素、ヒドロキシ、炭素数1〜6の低
級アルキル、又は炭素数1〜6の低級アルコキシであ
り;R5は約450〜5,000の範囲内の平均分子量
を有するポリアルキル又はポリアルケニル基であり;n
は0〜2の整数であり;xは2〜5の整数である]で示
される化合物又はその燃料溶解性塩の有効清浄剤量とを
含む燃料組成物。 - 【請求項19】 AとA1がそれぞれ独立的にヒドロキ
シ、ニトロ又はアミノである請求項18記載の燃料組成
物。 - 【請求項20】 AとA1がそれぞれヒドロキシである
請求項18記載の燃料組成物。 - 【請求項21】 AとA1がそれぞれニトロである請求
項18記載の燃料組成物。 - 【請求項22】 R1とR6がそれぞれ独立的に水素、ヒ
ドロキシ、又は炭素数1〜6の低級アルキルである請求
項18記載の燃料組成物。 - 【請求項23】 R1とR6がそれぞれ独立的に水素又は
ヒドロキシである請求項22記載の燃料組成物。 - 【請求項24】 R1とR6が水素である請求項23記載
の燃料組成物。 - 【請求項25】 AとA1がそれぞれヒドロキシである
請求項24記載の燃料組成物。 - 【請求項26】 R2とR7が水素である請求項18記載
の燃料組成物。 - 【請求項27】 R3が水素である請求項18記載の燃
料組成物。 - 【請求項28】 R5が約500〜3,000の範囲内
の平均分子量を有するポリアルキル又はポリアルケニル
基である請求項18記載の燃料組成物。 - 【請求項29】 R5が約600〜2,000の範囲内
の平均分子量を有するポリアルキル又はポリアルケニル
基である請求項28記載の燃料組成物。 - 【請求項30】 R5がポリプロピレン、ポリブテン、
又は1−オクテン若しくは1−デセンのポリアルファオ
レフィンオリゴマーに由来するポリアルキル又はポリア
ルケニル基である請求項29記載の燃料組成物。 - 【請求項31】 R5がポリイソブテンに由来する請求
項30記載の燃料組成物。 - 【請求項32】 nが0又は1であり、xが2である請
求項18記載の燃料組成物。 - 【請求項33】 nが1であり、xが2である請求項1
8記載の燃料組成物。 - 【請求項34】 nが0である請求項18記載の燃料組
成物。 - 【請求項35】 約50〜約2,500重量ppmの前
記化合物を含む請求項18記載の燃料組成物。 - 【請求項36】 約150゜F〜400゜F(65℃〜
205℃)の範囲内の沸点を有する、不活性で安定な親
油性有機溶媒と、式: 【化5】 [式中、Aはヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基
が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキル
基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキルア
ミノであり;R1とR2はそれぞれ独立的に水素、ヒドロ
キシ、炭素数1〜6の低級アルキル、又は炭素数1〜6
の低級アルコキシであり;R3は水素又は炭素数1〜6
の低級アルキルであり;R4は水素又は式: 【化6】 (式中、A1はヒドロキシ、ニトロ、アミノ、アルキル
基が炭素数1〜6であるN−アルキルアミノ、各アルキ
ル基が独立的に炭素数1〜6であるN,N−ジアルキル
アミノである)で示されるアシル基であり;R6とR7は
それぞれ独立的に水素、ヒドロキシ、炭素数1〜6の低
級アルキル、又は炭素数1〜6の低級アルコキシであ
り;R5は約450〜5,000の範囲内の平均分子量
を有するポリアルキル又はポリアルケニル基であり;n
は0〜2の整数であり;xは2〜5の整数である]で示
される化合物又はその燃料溶解性塩 約10〜約70重
量%とを含む燃料濃縮物。 - 【請求項37】 AとA1がそれぞれ独立的にヒドロキ
シ、ニトロ又はアミノである請求項36記載の燃料濃縮
物。 - 【請求項38】 AとA1がそれぞれヒドロキシである
請求項37記載の燃料濃縮物。 - 【請求項39】 AとA1がそれぞれニトロである請求
項38記載の燃料濃縮物。 - 【請求項40】 R1とR6がそれぞれ独立的に水素、ヒ
ドロキシ、又は炭素数1〜6の低級アルキルである請求
項36記載の燃料濃縮物。 - 【請求項41】 R1とR6がそれぞれ独立的に水素又は
ヒドロキシである請求項36記載の燃料濃縮物。 - 【請求項42】 R1とR6が水素である請求項36記載
の燃料濃縮物。 - 【請求項43】 AとA1がそれぞれヒドロキシである
請求項42記載の燃料濃縮物。 - 【請求項44】 R2とR7が水素である請求項36記載
の燃料濃縮物。 - 【請求項45】 R3が水素である請求項36記載の燃
料濃縮物。 - 【請求項46】 R5が約500〜3,000の範囲内
の平均分子量を有するポリアルキル又はポリアルケニル
基である請求項36記載の燃料濃縮物。 - 【請求項47】 R5が約600〜2,000の範囲内
の平均分子量を有するポリアルキル又はポリアルケニル
基である請求項46記載の燃料濃縮物。 - 【請求項48】 R5がポリプロピレン、ポリブテン、
又は1−オクテン若しくは1−デセンのポリアルファオ
レフィンオリゴマーに由来するポリアルキル又はポリア
ルケニル基である請求項47記載の燃料濃縮物。 - 【請求項49】 R5がポリイソブテンに由来する請求
項48記載の燃料濃縮物。 - 【請求項50】 nが0又は1であり、xが2である請
求項36記載の燃料濃縮物。 - 【請求項51】 nが1であり、xが2である請求項3
6記載の燃料濃縮物。 - 【請求項52】 nが0である請求項36記載の燃料濃
縮物。
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