JPH08239497A - 塗布層を有するスチレンポリマーフイルム、その製造方法およびハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ハロゲン化銀写真感光材料を重ね焼きしたと
きに生じる寸法ズレや画像ボケを防止する。そのため
に、シンジオタクチックスチレンポリマーを主成分と
し、下塗り層を有するスチレンポリマーフイルムおよび
その製造方法を開発する。 【解決手段】 下塗り層を有するスチレンポリマーフイ
ルムの波打ちの高さを１８ｍｍ以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シンジオタクチッ
ク構造を有するスチレンポリマーを主成分とし、塗布層
が設けられているスチレンポリマーフイルム、その製造
方法およびそれを支持体として用いたハロゲン化銀写真
感光材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にハロゲン化銀写真感光材料（以
下、感光材料あるいは感材と略することがある）は温湿
度、特に湿度が変化すると寸法が変化しやすいという欠
点を持っている。この寸法変化は、特に多色印刷のため
の網点画像や、精密な線画の再現が要求される印刷用感
材では、極めて重大な問題となる。このような寸法変化
は、ゼラチンのような保護コロイドを含む層（ハロゲン
化銀乳剤層を含む）および支持体の吸湿寸度変化によっ
て発生する。このため、寸法安定性の改良には、保護コ
ロイド層の改良と支持体の改良の両者が存在する。支持
体の寸法安定性を改良する方法として、従来一般に用い
られてきたポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ
と略す）から、より吸湿寸度安定性に優れた支持体に変
更する方法がある。例えば、特開平３−１３１８４３号
公報に記載されているシンジオタクチック構造を有する
スチレンポリマーを主成分とするフイルムは、高い寸法
安定性を有している。具体的には、このスチレンポリマ
ーフイルムは、ＰＥＴフイルムの約１０倍（寸法変化は
１／１０）の高い湿度寸法安定性を示す。しかし、この
スチレンポリマーフイルムに、最も寸法安定性を要求す
る印刷用感材の感光層、バック層を塗設し、実際の使用
形態に近い形、即ちテストチャートを露光して重ね焼き
を行ったところ、支持体単独あるいは感光層を付与した
フイルムのモデル評価（ピンゲージによる測長）の結果
とは逆に、ＰＥＴ支持体の感材よりも寸法ズレが大きく
なるという問題が発生した。さらに画像のボケが発生す
るという問題も発生した。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明者が上記の問題
をさらに検討したところ、シンジオタクチック構造を有
するスチレンポリマーを主成分とするフイルムに塗布層
を設けると、その処理工程を原因として、フイルムの平
面性が低下することが判明した。フイルムの平面性が低
下すると、重ね焼きのような画像形成処理において寸法
のズレが発生する。その結果として、ＰＥＴフイルムよ
りも寸法安定性の良いシンジオタクチック構造を有する
スチレンポリマーフイルムが、下塗り層を設けるとＰＥ
Ｔフイルムよりも寸法安定性が劣ってしまうという現象
が生じていたのである。本発明の目的は、下塗り層が設
けられていても、寸法安定性が良好であるシンジオタク
チック構造を有するスチレンポリマーを主成分するフイ
ルムを提供することである。また、本発明の目的は、下
塗り層が設けられていても、寸法安定性が良好であるシ
ンジオタクチック構造を有するスチレンポリマーフイル
ムを製造する方法を提供することもである。さらに、本
発明の目的は、重ね焼きをしたときに寸法ズレや画像ボ
ケの起きにくいハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とでもある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１０）のスチレンポリマーフイルム、その製
造方法およびハロゲン化銀写真感光材料により達成され
た。 （１）シンジオタクチック構造を有するスチレンポリマ
ーを主成分とし、塗布層が設けられているスチレンポリ
マーフイルムであって、フイルムの波打ちの高さが１８
ｍｍ以下であることを特徴とする塗布層を有するスチレ
ンポリマーフイルム。 （２）１１０℃におけるヤング率が、長手方向と幅方向
のいずれも５０乃至３００ｋｇ／ｍｍ² である（１）に
記載の塗布層を有するスチレンポリマーフイルム。 （３）１１０℃、１０分間熱処理前後における長手方向
と幅方向の寸法変化が０．８％以下である（１）に記載
のスチレンポリマーフイルム。

【０００５】（４）１１０℃におけるヤング率の面内偏
差が３０％以下である（２）に記載の塗布層を有するス
チレンポリマーフイルム。 （５）１１０℃、１０分間熱処理前後における寸法変化
の面内レンジが０．６％以下である（３）に記載の塗布
層を有するスチレンポリマーフイルム。 （６）９０℃と１１５℃における熱流速の差が０．０２
乃至０．０７Ｗ／ｇである請求項１に記載の塗布層を有
するスチレンポリマーフイルム。

【０００６】（７）（１）に規定する塗布層を有するス
チレンポリマーフイルムを製造する方法であって、シン
ジオタクチック構造を有するスチレンポリマーを主成分
とするフイルムに層を塗布する工程；そしてフイルム
を、ロール間の最大長さが０．１乃至１０ｍに設定され
ている複数のロールを用いて搬送しながら、塗布層を５
０乃至２００にて乾燥する工程を有することを特徴とす
る塗布層を有するスチレンポリマーフイルムの製造方
法。 （８）乾燥工程において、フイルムとロールが接触する
領域の最大の長さが３乃至２００ｃｍである（７）に記
載の製造方法。 （９）乾燥工程において、フイルムにかかる張力が２乃
至４０ｋｇ／ｍである（７）に記載の製造方法。 （１０）シンジオタクチック構造を有するスチレンポリ
マーを主成分とする支持体、下塗り層および／またはバ
ック層、および少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層が
設けられているハロゲン化銀写真感光材料であって、支
持体の波打ちの高さが１８ｍｍ以下であることを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。

【０００７】

【発明の実施の形態】ポリマーフイルムを写真用支持体
として使用するには、支持体と乳剤層の接着性確保のた
めに、これらの層の間に下塗り層を塗設する。本発明者
の研究によると、この塗設を行った後に、シンジオタク
チック構造を有するスチレンポリマーを主成分とするフ
イルム（以下ＳＰＳフイルムと略する）で、平面性が低
下しやすい。具体的には、長手方向に１〜５ｃｍ周期で
発生するトタン板状の波打ち（「筋張り故障」と称す
る）、幅方向に１０〜５０ｃｍ周期で発生する波状の変
形（「波打ち故障」と称する）、あるいはフイルム全面
に発生する直径１〜５ｍｍ程度の細かな凹凸（「ブツ故
障」と称する）が発生する。このように平面性が低下し
たフイルムを支持体として用いて、印刷用の重ね焼きを
行った場合、きっちりと重ね合わせることができず、上
述したようなテストパターンのズレや画像のボケが発生
することが明らかになった。即ち、印刷用感材では原稿
フイルムと重ね露光することが多いが、これらの平面性
故障が存在すると原稿フイルムときれいに重ね合わせる
ことができず、寸法ズレを発生する。このようなトラブ
ルはモデル寸法評価、即ちピンゲージによる測定では全
く予測できなかった。これはピンゲージ法ではフイルム
に一定張力を加えて測長するため、このような平面性の
低下は矯正されてしまい、見かけ上良好な寸法安定性が
得られるためである。

【０００８】このように平面性の低下に伴い発生した原
稿フイルムとの間の隙間は、画像のボケも引き起こす。
これも上記モデル評価からは全く予測できないものであ
った。本発明者は、以上のように重ね合わせ露光時の寸
法ずれや露光ボケの原因が、上記平面性の低下に起因す
ることを見いだした。このような故障の中で特に寸法ず
れや画像ボケに大きく影響するのが、波打ち故障であ
る。本発明に従い波打ちの高さを１８ｍｍ以下、好まし
くは１２ｍｍ以下、より好ましくは６ｍｍ以下、さらに
好ましくは５ｍｍ以下、最も好ましくは４ｍｍ以下にす
ることにより、寸法ズレや露光ボケを防止することがで
きる。

【０００９】波打ちの高さの測定方法については、図１
を参照しながら説明する。図１は、波打ち高さの測定方
法を示す断面模式図である。塗布層（３）が設けられて
いるフイルム（２）を、水平で平坦な台の上に張力をか
けないで静置する。台の表面に相当する基準線（１）と
フイルム（２）との隙間の高さ（ｈ）の平均の値を波打
ち高さとする。なお、波打ちは、図１に示すように、長
手方向（ＭＤ）に対して１０〜５０ｃｍの周期で発生す
る幅方向（ＴＤ）の波状の変形である。測定は、フイル
ムを１ｍサンプリングして実施する。

【００１０】波打ち故障は、フイルムに塗布層を設ける
際に発生する。本発明者の研究の結果、ＳＰＳ支持体が
ＰＥＴに比べ熱に伴う寸法変化しやすく、このため、層
を塗布した後の乾燥工程において、波打ち故障を含む様
々な平面性の低下が起きることが判明した。例えば、筋
張り故障は、フイルムの乾燥工程中の長手方向ヤング率
の低下に伴う伸び、およびその不均一性に由来してい
る。フイルムを写真用支持体とするには、乳剤層と支持
体の接着を確保する上で下塗り層が必須である。下塗り
層は、ゼラチンを主成分とするものが多い。このような
ゼラチンを溶解するには良溶媒の水が必要であり、その
乾燥には水の沸点を上回る温度、即ち少なくとも１１０
℃以上の温度を必要とする。しかし、１１０℃はＳＰＳ
支持体のガラス転移温度（Ｔｇ＝１００℃）を上回る。
ＳＰＳ支持体はＰＥＴ支持体に比べＴｇを越えた温度で
のヤング率の低下が著しく大きいため、乾燥工程中の張
力で容易に延伸される。またＳＰＳフイルムは、従来用
いられてきたＰＥＴフイルムに比べ、厚みむら、製膜む
らが発生しやすく、延伸工程では、この中の弱い部分か
ら進行（ネッキング現象）しやすい。その結果、より延
伸された部分は幅が狭くなり、延伸の少ないところでは
幅があまり狭くならない。

【００１１】これらの部分の幅を合わせるには、幅の広
い部分で幅方向のたるみが発生する。これが長手方向に
連続すると、筋が発生したようにな「筋張り故障」が発
生する。したがって、ネッキングの発生しやすい、高温
（１１０℃）でのヤング率の小さい支持体はこの故障が
発生しやすい。さらに、長手方向にヤング率のむらが存
在すると、不均一に伸ばされ易くいっそう発生しやす
い。この故障は当然熱収縮性も関与しており、熱収縮が
大きく、かつ局所的なばらつきが大きいと発生しやす
い。

【００１２】次に、波打ち故障は、ＳＰＳフイルムの収
縮挙動の幅方向の不均一性に由来する場合が多い。ポリ
マーフイルム、特に２軸延伸したフイルムでは幅方向で
延伸ムラが存在し、これに伴い収縮量が幅方向で不均一
となる。この結果、収縮量の小さいところが、その大き
な所に比べてたるみ、波打ち状になる。このようにして
「波打ち故障」が発生する。このように、塗布工程中は
幅方向に張力はかからず、熱収縮およびその異方性が主
な発生要因となる。（これが上記「筋張り」故障との差
異点である）

【００１３】さらに、ブツ故障は、ＳＰＳフイルムが、
乾燥工程中の搬送ロールに接触したときの熱収縮むらに
より発生する場合が多い。ＳＰＳフイルムがロールに接
触する場合、フイルムとロールの間の一部に空気が巻き
込まれる。そのため、フイルムには、直接ロールに接し
ている（空気が存在しない）部分とそうでない（空気が
存在する）部分がある。ロールの熱容量は大きいため、
ロールに接している部分は急激に熱を受け収縮する。一
方接していない部分は熱の供給が少ない分だけ熱収縮が
少なく、接している部分と比べると見かけ上伸びたよう
になる。この部分が泡状となる。従って、この故障は、
ＳＰＳ支持体の熱収縮性の大きさが原因となっている。

【００１４】このようなＳＰＳフイルムの乾燥中の平面
性の低下を防止する方法として、下記２つの改良手段が
考えられる。 （Ａ）フイルムの物性（高温下でのヤング率、熱収縮
性、およびこれらの面内の均一性）の改良 （Ｂ）乾燥工程の改良

【００１４】最初に、ＳＰＳフイルムの物性の改良につ
いて説明する。フイルムの物性として重要な点は、１１
０℃でのヤング率が高いこと、熱収縮性が小さいこと、
これらの面内異方性（むら）が小さい事、の３点であ
る。１１０℃におけるヤング率は、長手方向、幅方向い
ずれも５０乃至３００ｋｇ／ｍｍ² であることが好まし
く、７０乃至２５０ｋｇ／ｍｍ² であることがさらに好
ましく、９０乃至２２０ｋｇ／ｍｍ² であることが最も
好ましい。この範囲を下回ると、塗布層の乾燥工程中で
フイルムが延伸され、筋張り、波打ち故障が発生しやす
い。一方この範囲を上回るようにするには、フイルム内
の結晶化度を上げる必要がある。結晶化度が上がると、
それに伴いヘーズが上昇し、透明性が低下し写真用支持
体として好ましくない。また、上述の「筋張り」故障発
生機構からは、このヤング率は長手方向のみ高くすると
よいことになるが、このような縦／横で異方性が大きす
ぎる支持体は写真用支持体として使用しづらい。このた
め、幅方向の１１０℃ヤング率も長手方向同等〜３０％
弱い程度のものが、写真支持体として適当である。熱収
縮性については、１１０℃、１０分間熱処理前後の長手
方向、幅方向の寸法変化がいずれも０．８％以下が好ま
しく、０．６％以下がさらに好ましく、０．４％以下が
最も好ましい。この範囲を越えると、筋張り、波打ち、
ブツ故障を発生しやすく好ましくない。

【００１４】以上のフイルムの物性値は、面内で均一で
あることが好ましい。１１０℃におけるヤング率の面内
偏差は、３０％以下が好ましく、２５％以下がさらに好
ましく、２０％以下が最も好ましい。１１０℃、１０分
間熱処理前後の面内レンジは、０．６％以下が好まし
く、０．４％以下がさらに好ましく、０．３％以下が最
も好ましい。これらの面内偏差および面内レンジは、フ
イルムの幅中央部を長手方向３０ｃｍ毎に５点、さらに
フイルムの幅方向を５等分した５点の合計１０点で、そ
れぞれ長手方向、幅方向のヤング率および熱収縮を測定
して得た値である。これらの測定点の最大値と最小値の
差の絶対値を最大値で割った値を、「面内偏差」とす
る。また、この最大値と最小値の差の絶対値を、「面内
レンジ」とする。

【００１５】さらに示差熱分析計を用いて測定した９０
℃における熱流速と１１５℃における熱流速の差が０．
０２乃至０．０７Ｗ／ｇであることが好ましく、０．０
３乃至０．０６Ｗ／ｇであることがさらに好ましく、
０．０３５乃至０．０５Ｗ／ｇであることが最も好まし
い。この特性値はＴｇを越える温度でのヤング率の目安
となる。この値がこの範囲を越えると、高温（１１０
℃）でのヤング率が低くなり好ましくない。一方この範
囲を下回ると、ヘーズが上昇し好ましくない。フイルム
のヘーズは、２％以下であることが好ましく、１．５％
以下であることがさらに好ましく、１％以下であること
が最も好ましい。この熱流速の差は、ＳＰＳフイルムの
ガラス転移温度（１００℃）前後の構造の差を示すもの
である。フイルム中には、結晶と非晶とその中間相が共
存している。ガラス転移温度で構造変化を示すのは非晶
部であり、この成分の構造変が、Ｔｇ前後の熱流速の差
となって現れる。従ってこれが多いと、Ｔｇを越えると
非晶部が融け急激に柔らかくなることを示している。

【００１５】熱流速の差を小さくするには、結晶を多く
する方法と中間相を多くする方法とがある。結晶を多く
すると、透明性の低下やヘーズの上昇が起きやすい。結
晶の量は、示差熱分析計（ＤＳＣ）を用い結晶融解ピ−
クの吸熱量を測定することで求められる。好ましい吸熱
量は１０乃至３０Ｊ／ｇ以下であり、１５乃至２８Ｊ／
ｇがさらに好ましく、１８乃至２６Ｊ／ｇが最も好まし
い。吸熱量は５〜１０ｍｇのサンプルを２０℃／分で昇
温しながら窒素気流下で測定する。中間相は、フイルム
中の非晶／非晶あるいは非晶／結晶構造間に橋渡し的に
存在する分子であり、結晶部ほどの堅固さは有していな
いが、Ｔｇ以上の温度でも急激に柔らかくなることは無
い。さらに中間相は、非晶部の運動を抑制する機能も有
する。

【００１６】フイルムの表面粗さ（Ｒａ）は、少なくと
も片面が０．００１乃至０．０２μｍであることが好ま
しく、０．００２乃至０．０１５μｍであることがさら
に好ましく、０．００３乃至０．０１０μｍであること
が最も好ましい。この範囲を下回ると、塗布乾燥中に接
触したフイルムとロール間の空気の抜けが悪く、残留し
た気泡が、「ブツ故障」の原因となる。一方、この範囲
を上回るフイルムはヘーズが高くなりやすく、写真用支
持体として好ましくない。ＳＰＳフイルムの厚みは、９
０乃至３００μｍが好ましく、９５乃至２５０μｍがさ
らに好ましく、１００乃至２００μｍが最も好ましい。
この範囲を下回ると、乾燥工程中の張力で伸ばされ易く
好ましくない。また、取扱い中に折れやクニックも発生
しやすい。この範囲を上回ると、スチフネス（腰の強
さ）が強くなりすぎ、自動現像機のような自動搬送機構
内でジャミングを発生しやすい。

【００１７】以上述べたようなフイルムの物性値は、フ
イルムに塗布層を設ける前に必要とされる規定である。
しかし、フイルムに塗布層を設ける処理を実施しても、
以上の物性値は、ほとんど変化しない（変化しても１０
％以内である）。従って、本発明では、塗布層を有する
（すなわち、塗布層を設けた後の）フイルムの物性値と
して、上記と同じ値を定義する。以上の物性値を有する
ＳＰＳフイルムは、下記の製膜工程によってえることが
できる。 （１）乾燥 ペレット化した原料を真空中あるいは空気中で加熱乾燥
し、吸着した水分を除去する。このとき乾燥温度をガラ
ス転移温度以上、融点以下の温度にすると効率が良い。

【００１８】（２）押し出し 乾燥後の原料ペレットを加熱溶融して押し出し、冷却、
固化させて製膜する。ここで用いられる押し出し成型機
は、一軸押し出し成形機、二軸押し出し成形機のいずれ
でもよく、またベント付き、ベントなしのいずれでもよ
い。なお、押し出し機には二次凝集粒子を粉砕、除去あ
るいはゴミ、異物除去のためにメッシュフィルターを使
用することが好ましい。また押し出し温度は、用いるポ
リマーの融点〜分解温度より５０℃高い温度の範囲で選
定しＴ−ダイ等を用いて行うのが好ましい。

【００１９】（３）未延伸シートの作成 上記押し出し成型後、得られた予備成形体（未延伸シー
ト）を冷却固化する。この際の冷媒は気体、液体、金属
ロール等各種のものを使用することができる。金属ロー
ル等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバー、タッ
チロール、静電印加等の方法を用いても良い。これらの
なかで、平面性の観点から静電印加法を用いるのが好ま
しい。冷却固化の温度は、原反シートのガラス転移温度
（Ｔｇ）−７０℃〜Ｔｇ、より好ましくはＴｇ−５０℃
〜Ｔｇ−２０℃の範囲である。

【００２０】（４）延伸 次に冷却、固化した未延伸シートを延伸する。縦、横の
均質性の要求される写真用支持体では、延伸は縦、横の
多軸延伸が好ましく、縦延伸−横延伸の逐次２軸延伸が
より好ましい。一方、これらの延伸の後再延伸を行う
と、縦、横の熱収縮、ヤング率等の異方性が大きくなり
易い上、ヘイズも高くなりやすく本発明では好ましくな
い。本発明ではこの延伸方法の改良により、１１０℃の
ヤング率が本発明の面内偏差、熱収縮性が本発明の面内
レンジの支持体を達成する。特にポイントになるのが、
縦延伸である。ここでの面内の不均一性が、この後の横
延伸で一層増幅されるためである。これはＳＰＳフイル
ムが、従来写真用に用いられてきたＰＥＴに比べ、極め
てネッキングを発生しやすいためである。即ち、縦延伸
後のフイルムにわずかでも厚みの不均一が存在すると、
そこから選択的に延伸され、その結果一層薄くなり、大
きな面内の不均一性を引き起こす。さらに、非晶相の生
成を制御し、本発明の熱流速の差を有する支持体を製膜
するためにも、この縦延伸工程がポイントになる。

【００２１】縦延伸工程のポイントは、加熱ヒーターと
延伸ロールの距離の制御である。通常の縦延伸は、ヒー
ターで加熱した支持体を周速の異なる２つのロールを通
して延伸する。縦延伸について、図２を引用しながら説
明する。図２は、好ましい縦延伸工程を示す断面模式図
である。搬送ロール（２３）により縦延伸装置に搬送さ
れたフイルム（２２）は、周速の小さいロール（２４）
と周速の大きいロール（２５）を通過することにより延
伸される。この延伸において、フイルムはヒーター（２
１ａ、２１ｂ、２１ｃ）により加熱される。重要な点
は、最後のヒーター（２１ｃ）と最後のロール（２５）
の間の距離（Ｌ）である。この距離を１０乃至５０ｃｍ
とすることが好ましく、１５乃至４０ｃｍとすることが
さらに好ましく、２０乃至３５ｃｍとすることが最も好
ましい。なお、この距離（Ｌ）は、図２に示すように、
ヒーター（２１ｃ）の中心部とロール（２５）の中心の
間の距離を測定する。ヒーターが２台以上設置されてい
る場合は、最後のロールに最も近いヒーターとロールと
の間の距離を測る。フイルムは、図２に示すように延伸
するが、図２の距離（Ｌ）が大きいと、より広い範囲で
延伸が行われる。すなわち、未延伸フイルム中に存在す
るわずかな厚みムラ等を反映した選択的な延伸が起きや
すい。一方この距離が狭いと、選択の余地がなく全体が
一気に延伸されるため、均一な延伸が進行しやすい。従
ってこの距離が上記範囲を上回ると面内不均一性の大き
なフイルムとなりやすい。一方この範囲を下回ると、延
伸倍率を上げることが困難となり、その結果ヤング率を
高くすることができない。さらに、ヒーターとロールの
との距離（Ｌ）が大きいと、非晶あるいは結晶相に絡ま
りを持っていた中間相まで伸ばされる。その結果、中間
相が非晶相に転化し、非晶相の多いフイルムとなり好ま
しくない。

【００２２】縦延伸に用いられるヒーターは、ハロゲン
ランプ、赤外線ランプ、バイコ−ルヒーター、セラミッ
クヒーター等の熱源を支持体の上や下に設置して加熱し
てもよく、また加熱ロールに接触させてもよく、また加
熱媒体（空気、窒素等の加熱気体等）を吹き付けて行っ
ても良い。また、ロールは、耐熱性を有し力学強度の高
い金属ロールやセラミックロールを用いることが好まし
い。ロールの直径は、５０乃至５００ｍｍが好ましく、
１００ｍｍ乃至３５０ｍｍがさらに好ましい。縦延伸温
度は、未延伸フイルムのガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ
＋５０℃であることが好ましく、Ｔｇ＋５℃〜Ｔｇ＋３
０℃であることがさらに好ましく、Ｔｇ＋１０℃〜Ｔｇ
＋２５℃であることが最も好ましい。縦延伸速度は、１
０００〜８０００％／分であることが好ましく、２００
０〜６０００％／分であることがさらに好ましく、２５
００〜４０００％／分であることが最も好ましい。縦延
伸倍率は２．８乃至４．５倍が好ましく、３乃至４．２
倍がさらに好ましく、３．２乃至４倍が最も好ましい。

【００２３】得られた縦延伸シートは、さらに横延伸す
る。横延伸を行う前に支持体を予熱することが支持体の
均一性を確保する上で好ましい。予熱温度は横延伸温度
−３０℃以上、横延伸温度＋３０℃以下が好ましく、横
延伸温度−２０℃以上、横延伸温度＋２０℃以下がより
好ましく、横延伸温度−１０℃以上、横延伸温度＋１０
℃以下がさらに好ましい。予熱時間は１秒乃至３分が好
ましく、５秒乃至２分がさらに好ましく、１０秒乃至１
分が最も好ましい。横延伸はテンターにより行うのが好
ましく、延伸倍率は２．８倍以上、４．５倍以下が好ま
しく、３倍以上、４．２倍以下がより好ましく、３．２
倍以上、４倍以下がさらに好ましい。横延伸温度は、未
延伸シートのガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋５０℃、
より好ましくはＴｇ＋５℃〜Ｔｇ＋３０℃、さらに好ま
しくはＴｇ＋１０℃〜Ｔｇ＋２５℃に設定すれば良い。
横延伸速度は、１０００〜８０００％／分、好ましくは
２０００〜６０００％／分、さらに好ましくは、２５０
０〜４０００％／分である。

【００２４】（５）熱固定 このようにして得た２軸延伸フイルムに対し熱固定を行
う。熱固定は緊張状態あるいは弛緩状態あるいは制限収
縮状態で１８０℃から２５０℃の間で１秒から１８０秒
実施するのが好ましく、１９０℃から２４０℃の間で５
秒から９０秒行うのがより好ましく、２００℃から２３
０℃の間で１０秒から６０秒行うのがさらに好ましい。
この温度を上回ると、ヘーズが高くなりやすく好ましく
ない。一方この温度を下回ると熱収縮が大きくなりやす
く、好ましくない。この時１％〜１０％緩和させながら
熱固定を行うと、熱収縮、ヘーズを下げる上でよりいっ
そう好ましい。

【００２５】次に、本発明で用いるシンジオタクチック
構造を有するスチレンポリマーについて説明を加える。
シンジオタクチック構造とは、炭素−炭素結合から形成
される主鎖に対して側鎖であるフェニル基やその誘導体
が交互に反対方向に位置する立体構造を意味する。その
立体規則性（タクティシティー）は、同位炭素による核
磁気共鳴法（¹³Ｃ−ＮＭＲ法）により定量されるのが一
般的でかつ精度に優れる。この¹³Ｃ−ＮＭＲ法により測
定される立体規則性は、連続する複数個の構成単位の存
在割合、例えば２個の場合はダイアッド、３個の場合は
トライアッド、５個の場合はペンダッドによって示すこ
とができる。本発明に言うシンジオタクチック構造を有
するスチレンポリマーとは、通常はラセミダイアッドで
７５％以上、１００％以下、好ましくは８５％以上、１
００％以下、若しくははラセミペンタヘッドで３０％以
上、１００％以下、好ましくは５０％以上、１００％以
下の立体規則性を有するものである。スチレンポリマー
とは、ポリスチレンおよびその誘導体、その共重合体お
よびそれを含む混合ポリマーを意味する。ポリスチレン
の誘導体には、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ハロ
ゲン化スチレン）、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレ
ン）、ポリ（アルコキシスチレン）およびポリ（ビニル
安息香酸エステル）が含まれる。ここでポリ（アルキル
スチレン）としては、ポリ（メチルスチレン）、ポリ
（エチルスチレン）、ポリ（プロピルスチレン）、ポリ
（ブチルスチレン）、ポリ（フェニルスチレン）、ポリ
（ビニルナフタレン）、ポリ（ビニルスチレン）、ポリ
（アセナフチン）などがある。ポリ（ハロゲン化スチレ
ン）としては、ポリ（クロロスチレン）、ポリ（ブロモ
スチレン）、ポリ（フルオロスチレン）などがある。ま
た、ポリ（アルコキシスチレン）としては、ポリ（メト
キシスチレン）、ポリ（エトキシスチレン）などがあ
る。これらのなかで、より好ましいものは、ポリ（スチ
レン）、ポリ（メチルスチレン）であり、さらに好まし
いのが、ポリ（スチレン）である。

【００２６】シンジオタクチック構造を有するスチレン
ポリマーは、上述のようなホモポリマー以外にも、共重
合体であってもよい。共重合体のコモノマー成分として
は、上述のスチレンポリマーを構成するモノマーのほ
か、オレフィンモノマー（例、エチレン、プロピレン、
ブテン、ヘキセン、オクテン）、ジエンモノマー（例、
ブタジエン、イソプレン）、環状オレフィンモノマー、
環状ジエンモノマーや極性ビニルモノマー（例、メタク
リル酸メチル、無水マレイン酸、アクリロニトリル）を
挙げることができる。これらの内、スチレンを主成分と
して、これにアルキルスチレン、水素化ポリスチレン、
ハロゲン化ポリスチレンを共重合したものが好ましい。
これらのなかでも、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルス
チレン、ｐ−タ−シャリ−ブチルスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−フルオロスチレ
ン、水素化ポリスチレンであり、特に好ましいのがｐ−
メチルスチレンである。共重合体中のスチレン以外のモ
ノマーの割合は、３０ｗｔ％以下であることが好まし
く、１乃至２０ｗｔ％であることがさらに好ましく、２
乃至１０ｗｔ％であることが最も好ましい。

【００２７】シンジオタクチック構造を有するスチレン
ポリマーと他のポリマーを混合して使用してもよい。好
ましいポリマーブレンド成分としては、上述のようなシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体や、ア
タクチック構造を有するスチレン系重合体が相溶性の観
点から好ましい。これらの中でとくに好ましいのが、シ
ンジオタクチック構造を有するポリスチレンを主成分と
し、これに、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレ
ン、ｐ−タ−シャリ−ブチルスチレン、ｐ−クロロスチ
レン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−フルオロスチレン、水
素化ポリスチレンからなるシンジオタクチック構造ある
いはアタクチック構造のホモポリマ−、あるいは／およ
び、これらのモノマ−の少なくとも一種とスチレンから
なるシンジオタクチック構造あるいはアタクチック構造
を有するコポリマ−をブレンドするのが好ましい。とく
に、シンジオタクチック構造を有するｐ−メチルスチレ
ンやシンジオタクチック構造を有するｐ−メチルスチレ
ンとスチレンの共重合体をシンジオタクチック構造を有
するポリスチレンとブレンドしたものが好ましい。この
ような成分を添加したフイルムは、ＳＰＳホモポリマー
からなるフイルムよりも、ヘーズ、熱収縮性を下げやす
く、いっそう好ましい。ポリマー混合物中のＳＰＳ以外
の成分の割合は、３０ｗｔ％以下であることが好まし
く、１乃至２０ｗｔ％であることがさらに好ましく、２
乃至１０ｗｔ％であることが最も好ましい。

【００２８】好ましいポリマー組成を下記に示す。ここ
で、syn-はシンジオタクチック、atc-はアタクチックを
示す。 （１）ホモポリマー Ｐ−１：ｓｙｎ−ポリ（スチレン） Ｐ−２：ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン） Ｐ−３：ｓｙｎ−ポリ（ｐ−クロロスチレン） Ｐ−４：ｓｙｎ−ポリ（水素化スチレン） （２）コポリマー 組成比（重量％） Ｐ−５：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−メチルスチレン） （95／5) Ｐ−６：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−メチルスチレン） (85／15) Ｐ−７：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−クロロスチレン） （95／5) Ｐ−８：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−クロロスチレン） (85／15) Ｐ−９：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／水素化スチレン） （95／5) Ｐ−10：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／水素化スチレン） (85／15) Ｐ−11：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／水素化スチレン／ｐ−メチルスチレン） (95/5/5)

【００２９】 （３）ポリマーブレンド 混合比（重量％） Ｐ−12：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチルスチレン） (95+5) Ｐ−13：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチルスチレン） (85+15) Ｐ−14：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−クロロスチレン）（95+5) Ｐ−15：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−クロロスチレン） (85+15) Ｐ−16：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（水素化スチレン） （95+5) Ｐ−17：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（水素化スチレン） (85+15) Ｐ−18：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（スチレン） （95+5) Ｐ−19：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（スチレン） (85+15) Ｐ−20：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（ｐ−メチルスチレン）（95+5) Ｐ−21：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（ｐ−メチルスチレン） (85+15) Ｐ−22：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（水素化スチレン） （95+5) Ｐ−23：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（水素化スチレン） (85+15) Ｐ−24：syn-ポリ（スチレン）＋atc-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチ ルスチレン） (95+5+5) Ｐ−25：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共 重合体(モル 比=10:90) ） (70+30) Ｐ−26：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共 重合体(モル 比=10:90) ） (50+50) Ｐ−27：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共 重合体(モル 比=5:95)） (70+30) Ｐ−28：syn-ポリ（スチレン）＋syn-ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共 重合体(モル 比=30:70) ） (90+10)

【００３０】これらのスチレンポリマーの分子量は、重
量平均分子量が１０万以上８０万以下のものが好まし
く、特に好ましくは、２０万以上６０万以下のものであ
る。さらに分子量分布は、重量平均分子（Ｍw)／数平均
分子量（Ｍn)が１．５以上、５以下、さらに好ましくは
２以上４以下が好ましい。このようなシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体は、例えば不活性炭化
水素溶媒中または、溶媒の不存在下に、チタン化合物及
び水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒と
して、スチレン系単量体（上記スチレン系重合体に対応
する単量体）を重合することにより製造することができ
る。（特開昭６２−１８７７０８号公報）。あるいは、
チタン化合物及びカチオンと複数の基が元素に結合した
アニオンとからなる化合物を触媒として重合することに
より製造することができる。（特開平４−２４９５０
４）。

【００３１】前述したＲａ値を有するフイルムを達成す
る上でのポイントは、フイルムに添加する微粒子を調製
する必要がある。フイルムに添加する微粒子には、シリ
カ、タルク、チタニア、アルミナ、炭酸カルシウム、酸
化カルシウム、塩化カルシウムおよびこれらの混合物の
ような無機微粒子、架橋ポリスチレン、架橋ポリメチル
メタクリレートのような有機微粒子が挙げられる。微粒
子の添加量は２０乃至３００ｐｐｍが好ましく、３０乃
至２００ｐｐｍがより好ましく、４０乃至１００ｐｐｍ
以下がさらに好ましい。また、微粒子の粒径は、０．０
１乃至５μｍが好ましく、０．０５乃至３μｍがより好
ましく、０．１乃至１μｍがさらに好ましい。微粒子の
形状は、球形、不定型（破砕型）、針状あるいは板状で
ある。球形または不定型（破砕型）の微粒子が特に好ま
しい。フイルムには、微粒子以外にも、酸化防止剤、帯
電防止剤や色素を配合することができる。製膜中のモノ
マー析出防止のためには、スチレンポリマー中の残量ス
チレン単量体の量を７０００ｐｐｍ以下に調製すること
が好ましい。

【００３２】次に塗布層の乾燥工程の改良について述べ
る。フイルムの平面性については、塗布層の乾燥工程に
おけるパスロール間の長さと乾燥温度が最も重要であ
る。パスロール間が長いと支持体はその間保持されず、
幅方向にいっそう熱収縮しやすい。一方長手方向は、こ
の距離が長いと張力による延伸をいっそう受け易い。こ
の結果「 筋張り故障」 が発生しやすい。一方パスロール
の間隔が短いと幅方向の収縮はパスロール上では抑制さ
れる上、張力による伸びも小さくなるため、この故障は
発生しにくい。さらに、熱収縮の幅方向不均一性に起因
する「 波打ち故障」 も、パスロールの間隔が長いと自由
に収縮できるため収縮量が大きくなり易く発生しやす
い。短いとパスロール上でこの波打ちが平坦に矯正され
る頻度が高くなり、発生しにくい。このように「 筋張り
故障」 、「 波打ち故障」 はパスロールの間隔を短くする
ことが効果的である。しかしパスロールの間隔が短すぎ
ると、経路が複雑となり、メインテナンス上好ましくな
い。好ましいパスロールの間隔は０．１乃至１０ｍ以
下、より好ましくは０．５乃至５ｍ、さらに好ましくは
１乃至３ｍである。

【００３３】パスロール長に加えて、乾燥温度も平面性
の故障を左右する大きな因子である。前述したように、
平面性の故障は乾燥中の熱収縮、熱伸張により引き起こ
されている。従って、なるべく低温で乾燥工程を実施す
るのが好ましい。ＳＰＳ支持体の熱収縮挙動を解析した
ところ、２００℃を越えると熱収縮が劇的に大きくな
り、この結果「 波打ち故障」 や「 筋張り故障」 の発生頻
度が急激に増加することを見いだした。好ましい温度範
囲は５０℃以上２００℃以下、より好ましくは６０℃以
上１７０℃以下、さらに好ましくは７０℃以上１４０℃
以下である。この温度範囲内では一定温度で乾燥させて
も、温度変化（昇温および／または降温）させながら乾
燥しても同様の効果が得られる。しかし、この温度以下
ではバック層あるいは／および下塗層の密着が低下し好
ましくない。一方この温度以上では平面性が低下しやす
い。このような乾燥温度の制御は常法によって実施する
ことができる。例えば、ニクロムヒーター、赤外線ラン
プ、ハロゲンランプ、水銀ランプのようなヒーターの出
力を制御して実施してもよい。また、乾燥ゾーン中に熱
風を吹き込みその温度あるいは風量で制御してもよい。

【００３４】さらに、乾燥中の張力も重要な因子であ
る。これが大きすぎると、搬送方向に支持体は伸張し、
長手方向との伸張／収縮量の差が大きくなり「 筋張り故
障」 を発生しやすい。また、幅方向の伸張ムラも大きく
なり「 波打ち故障」 も発生しやすい。好ましい張力は２
乃至４０ｋｇ／ｍ、より好ましい張力は３乃至３０ｋｇ
／ｍ、さらに好ましい張力は４乃至２０ｋｇ／ｍであ
る。この張力以下では支持体を安定して搬送することが
困難である。

【００３５】前述した「ブツ故障」に対しては、パスロ
ールと支持体の接触する長さを調製することが特に有効
である。ブツ故障は高温のロール表面と支持体の空気等
を巻き込んだ不均一な接触によって発生する。このた
め、パスロールとの接触長はなるべく短いほうが故障発
生を抑制する上で好ましい。一方短すぎると、搬送にト
ラブルを発生しやすい。好ましい接触長さは３乃至２０
０ｃｍ、より好ましくは５乃至１５０ｃｍ、さらに好ま
しくは１０乃至１００ｃｍである。このような接触長は
パスロールの直径とラップ角で決まるが、これらは「 ブ
ツ故障」 に対してあまり影響なく、専ら接触長さにより
影響される。また用いるパスロールは上述のような理由
からなるべく平滑なものが好ましい。材質はステンレ
ス、鉄、アルミ等の金属材料、熱硬化性樹脂等用いるこ
とができるが、高温下において安定して使用可能なステ
ンレスが好ましい。以上のように乾燥ゾ−ンを改良する
ことでＳＰＳ支持体の平面性故障を克服することができ
る。

【００３６】上記のように、塗布層の乾燥温度はなるべ
く低いほうが好ましい。しかし乾燥温度を低くすると、
塗布層とフイルムとの密着不良が起きやすい。このため
に、表面処理を行ってからこれらの塗設を実施するのが
好ましい。好ましい表面処理はグロー放電処理、コロナ
処理、紫外線照射処理、火炎処理が挙げられる。この中
で最も好ましいのがグロー放電処理である。以下、これ
らの表面処理について説明を加える。グロー放電処理似
ついては、特公昭３５−７５７８号、同３６−１０３３
６号、同４５−２２００４号、同４５−２２００５号、
同４５−２４０４０号、同４６−４３４８０号、特開昭
５３−１２９２６２号の各公報、米国特許３０５７７９
２号、同３０５７７９５号、同３１７９４８２号、同３
２８８６３８号、同３３０９２９９号、同３４２４７３
５号、同３４６２３３５号、同３４７５３０７号、同３
７６１２９９号、同４０７２，７６９号、英国特許８９
１４６９号、同９９７０９３号の各明細書に記載されて
いる。グロー放電処理では、雰囲気に水蒸気を導入した
場合において最も優れた接着効果を得ることができる。
また、この手法は支持体の黄色化抑制、ブロッキング防
止にも非常に有効である。水蒸気の存在下でグロー放電
処理を実施する際の水蒸気分圧は、１０乃至１００％が
好ましく、さらに好ましくは４０乃至９０％である。１
０％未満では充分な接着性を得ることが困難となる。水
蒸気以外のガスは酸素、窒素等からなる空気である。

【００３７】さらに、表面処理すべき支持体を加熱した
状態で真空グロー放電処理を行うと、常温で処理するの
に比べ短時間の処理で接着性が向上し、有効である。予
熱温度は５０℃以上Ｔｇ以下が好ましく、６０℃以上Ｔ
ｇ以下がより好ましく、７０℃以上Ｔｇ以下がさらに好
ましい。Ｔｇ以上の温度で予熱すると接着が悪化する。
グロー放電処理時の真空度は０．００５〜２０Ｔｏｒｒ
とするのが好ましい。より好ましくは０．０２〜２Ｔｏ
ｒｒである。また、電圧は、５００〜５０００Ｖの間が
好ましい。より好ましくは５００〜３０００Ｖである。
使用する放電周波数は従来技術に見られるように、直流
から数１０００ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨ
ｚ、さらに好ましくは１ＫＨｚ〜１ＭＨｚである。放電
処理強度は、０．０１ＫＶ・Ａ・分／m2〜５ＫＶ・Ａ・
分／m²が好ましく、更に好ましくは０．１５ＫＶ・Ａ・
分／m2〜１ＫＶ・Ａ・分／m²で所望の接着性能が得られ
る。

【００３８】このようにして得られた支持体表面の光電
子分光法（ＸＰＳ）で調べるた酸素存在量（酸素の1sの
５２５〜５４５ｅＶに現れるシグナルのピ−ク面積をイ
オン化断面積＝２．８５で割った値）と炭素の存在量
（炭素の1sの３００〜２７０ｅＶに現れるシグナルのピ
−ク面積をイオン化断面積＝１で割った値）の比（酸素
存在量／炭素存在量）が０．０５以上、０．３０以下が
好ましく、０．０８以上、０．２５以下がより好まし
く、０．１０以上、０．２３以下がさらに好まし。ま
た、窒素存在量（窒素の1sの４１０〜３９０ｅＶに現れ
るシグナルのピ−ク面積をイオン化断面積＝１．７７で
割った値）と炭素の存在量（炭素の1sの３００〜２７０
ｅＶに現れるシグナルのピ−ク面積をイオン化断面積＝
１で割った値）の比（窒素存在量／炭素存在量）が０．
００５以上、０．０６以下が好ましく、０．００８以
上、０．０４以下がより好ましく、０．０１０以上、
０．０３以下がさらに好ましい。このようにして、グロ
ー放電処理を施こした支持体は、直ちに冷却ロールを用
いて温度を下げることが好ましい。

【００３９】コロナ処理についえは、特公昭４８−５０
４３号、同４７−５１９０５号、特開昭４７−２８０６
７号、同４９−８３７６７号、同５１−４１７７０号、
同５１−１３１５７６号の各公報に記載されている。放
電周波数は５０Ｈｚ〜５０００ｋＨｚ、好ましくは５ｋ
Ｈｚ〜数１００ｋＨｚが適当である。被処理物の処理強
度に関しては、０．００１ＫＶ・Ａ・分／m²〜５ＫＶ・
Ａ・分／m²、好ましくは０．０１ＫＶ・Ａ・分／m²〜１
ＫＶ・Ａ・分／m²が適当である。電極と誘電体ロールの
ギャップクリアランスは０．５〜２．５mm、好ましくは
１．０〜２．０mmが適当である。

【００４０】紫外線処理は、特公昭４３−２６０３号、
特公昭４３−２６０４号、特公昭４５−３８２８号の各
公報に記載がある。紫外線の光源となる水銀灯は、石英
管からなる高圧水銀灯または低圧水銀灯である。紫外線
の波長は、１８０〜３８０ｎｍの間であることが好まし
い。紫外線照射の方法については、３６５ｎｍを主波長
とする高圧水銀ランプであれば、照射光量２０〜１００
００（ｍＪ／cm² ）が好ましく、より好ましくは５０〜
２０００（ｍＪ／cm² ）である。２５４ｎｍを主波長と
する低圧水銀ランプの場合には、照射光量１００〜１０
０００（ｍＪ／cm² ）が好ましく、より好ましくは２０
０〜１５００（ｍＪ／cm² ）である。

【００４１】火焔処理は、天然ガスまたは液化プロパン
ガスを用いて実施できる。ガスと空気との混合比が重要
である。プロパンガスの場合、プロパンガス／空気の好
ましい混合比は、容積比で１／１４〜１／２２、好まし
くは１／１６〜１／１９である。また、天然ガスの場合
は、１／６〜１／１０、好ましくは１／７〜１／９であ
る。火焔処理の熱エネルギーは１〜５０Ｋｃａｌ／m²の
範囲に調製することが好ましく、３〜３０Ｋｃａｌ／m²
の範囲とすることがさらに好ましい。またバーナーの内
炎の先端と支持体の距離を４cm未満にするとより効果的
である。処理装置は春日電気（株）製フレーム処理装置
を用いることができる。また、火焔処理時に支持体を支
えるバックアップロールは中空型ロールで、冷却水を通
して水冷し、常に一定温度で処理するのがよい。

【００４２】次に、フイルムに設ける塗布層について説
明する。ハロゲン化銀写真感光材料では、表面処理した
フイルムに下塗り層および／またはバック層を設ける。
下塗り層としては、第１層として支持体によく接着する
層（以下、下塗り第１層と略す）を設け、その上に第２
層として下塗り第１層と写真層をよく接着する層（以
下、下塗り第２層と略す）を塗布するいわゆる重層法
と、支持体と写真層をよく接着する層を一層のみ塗布す
る単層法とがある。重層法における下塗り第１層では、
例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、酢
酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸
エステル、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無
水マレイン酸等の中から選ばれた単量体を出発原料とす
る共重合体、エポキシ樹脂、ゼラチン、ニトロセルロー
ス、ポリ酢酸ビニルなどが用いられる。また必要に応じ
て、トリアジン系、エポキシ系、メラミン系、ブロック
イソシアネートを含むイソシアネート系、アジリジン
系、オキサザリン系等の架橋剤、コロイダルシリカ等の
無機粒子、界面活性剤、増粘剤、染料、防腐剤などを添
加してもよい。これらについては、E.H.Immergut"Polym
er Handbook" VI１８７〜２３１、Intersciense Pub.Ne
w York １９６６や特開昭５０−３９５２８号、同５０
−４７１９６号、同５０−６３８８１号、同５１−１３
３５２６号、同６４−５３８号、同６３−１７４６９８
号、特願平１−２４０９６５号、特開平１−２４０９６
５号、同２−１８４８４４号、特開昭４８−８９８７０
号、同４８−９３６７２号の各公報に記載がある。下塗
り第２層では、主としてゼラチンが用いられる。

【００４３】単層法においては、支持体であるポリマー
フイルムを膨潤させ、下塗りポリマーと界面混合させる
ことによって良好な接着性を得る方法が多く用いられ
る。この下塗りポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン
誘導体、ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷ
ん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、
無水マレイン酸共重合体などの水溶性ポリマー、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等
のセルロースエステル、塩化ビニル含有共重合体、塩化
ビニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重
合体、酢酸ビニル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合
体等のラテックスポリマー、などが用いられる。これら
のうち好ましいのはゼラチンである。ゼラチンとして
は、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素
処理ゼラチン、ゼラチン誘導体及び変性ゼラチン等当業
界で一般に用いられているものはいずれも用いることが
できる。これらのゼラチンのうち、最も好ましく用いら
れるのは石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。こ
れらの単層法および重層法での乾燥温度は、上述の通り
５０℃以上１５０℃以下で行うことがポイントである。
フイルムに設ける塗布層（下塗り層、バック層）の厚さ
は、０．００１乃至５μｍであることが好ましく、０．
００５乃至１μｍであることがさらに好ましく、０．０
１乃至０．５μｍであることが最も好ましい。

【００４４】バック面の耐傷性付与、すべり性付与、カ
−ル補償、帯電防止能の付与等のためにバック層を塗設
する。バック層はは親水性コロイドをバインダ−として
もよく、疎水性ポリマーをバインダーとしてもよい。親
水性コロイドとして最も好ましいものはゼラチンであ
る。ゼラチンとしては、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸
処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチン誘導体及び
変性ゼラチン等当業界で一般に用いられているものはい
ずれも用いることができる。これらのゼラチンのうち、
最も好ましく用いられるのは石灰処理ゼラチン、酸処理
ゼラチンである。ゼラチン以外の親水性コロイドとして
コロイド状アルブミン、カゼイン等の蛋白質、寒天、ア
ルギン酸ナトリウム、デンプン誘導体等の糖誘導体、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス等のセルロース化合物、ポリビニルアルコール、ポリ
−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド等の合成
親水化合物等を挙げることができる。合成親水化合物の
場合、他の成分を共重合してもよい。これらの親水性コ
ロイドは、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して
用いてもよい。これらの親水性ポリマーを用いる場合、
より強固な密着性を付与するために、感光層と同じ下塗
を行った上にバック層を塗設することも好ましい。

【００４５】疎水性ポリマー層のバインダーとしてはポ
リメチルメタクリレート、エチルアクリレート等の（メ
タ）アクリル酸エステルポリマー、ポリエチレン等のオ
レフィン系ポリマー、スチレン系ポリマー、塩化ビニリ
デン、ウレタン系ポリマー、ブタジエン等のゴム系ポリ
マーなどが用いられる。この層は１層でも２層以上でも
よい。これらの層には必要に応じてマット剤、すべり
剤、帯電調整剤、界面活性剤、架橋剤、又後述する表面
抵抗率低減のための導電性物質などを添加してもよい。
このようなバック層は、１層でも多層でもよく、各層の
厚みは０．０２〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜７
μｍの範囲が好ましく、これらの層の全厚みは０〜５μ
ｍが好ましい。

【００４６】バック層には更にポリマーラテックスを添
加しても良い。本発明に用いられるポリマーラテックス
は平均粒径が２０ｍμ〜２００ｍμの水不溶性ポリマー
の水分散物で、好ましい使用量はバインダー１．０に対
して乾燥重量比で０．０１〜１．０で特に好ましくは
０．１〜０．８である。本発明に用いられるポリマーラ
テックスの好ましい例としてはアクリル酸のアルキルエ
ステル、ヒドロキシアルキルエステルまたはグリシジル
エステル、あるいはメタアクリル酸のアルキルエステ
ル、ヒドロキシアルキルエステル、またはグリシジルエ
ステルをモノマー単位として持ち、平均分子量が１０万
以上、特に好ましくは３０〜５０万のポリマーであり、
具体例は次式で示される。

【００４７】

【化１】

【００４８】このようなバック層塗設後の乾燥は、上述
のように５０℃以上１５０℃以下の温度で行うことがポ
イントである。このよにして調製した下塗層の上にハロ
ゲン化銀乳剤層を塗設する。本発明に用いられるハロゲ
ン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤は通常、水溶性
銀塩（例えば硝酸銀）溶液と水溶性ハロゲン塩（例えば
臭化カリウム）溶液とをゼラチンの如き水溶性高分子溶
液の存在下で混合してつくられる。ハロゲン化銀として
は塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀及び塩沃臭化銀
いづれも用いることが出来、その粒子形態、サイズ分布
に特に限定はない。

【００４９】ハロゲン化銀乳剤層は、感光性ハロゲン化
銀、化学増感剤、分光増感剤、カブリ防止剤、親水性コ
ロイド（特にゼラチン）、ゼラチン硬化剤、界面活性剤
など膜物理性改良剤、増粘剤、等を含有することが出来
る。これらについては、リサーチ・ディスクロージャー
誌、１７６巻１７６４３項（１９７８年１２月）の記
載、及び特開昭５２−１０８１３０号、同５２−１１４
３２８号、同５２−１２１３２１号、同５３−３２１７
号、同５３−４４０２５号明細書の記載等を参考にする
ことが出来る。これらのハロゲン化銀は親水性コロイド
層中に分散するのがこのましい。親水性コロイドは、バ
ック層のバインダ−として用いられているものと同様な
ものを用いることができる。このような親水性コロイド
層は、１層でも多層でもよく、各層の厚みは０．０２〜
１０μｍ、より好ましくは０．１〜７μｍの範囲が好ま
しく、これらの層の全厚みは１．５〜１０μｍが好まし
い。

【００５０】さらにバック層あるいは／および感光層中
に必要に応じて帯電防止剤を添加し、表面抵抗率を１０
12以下に低下させてもよい。表面抵抗率を低下させる手
段に特に制限はない。例えば、特開昭５８−６２６４８
号明細書、同５８−６２６４９号明細書、同５１−１１
５２９１号明細書等に開示されたＳｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｉ
ｎ、Ｖ等の酸化物の微粉末を添加する方法、特開昭５７
−２０４５４０号明細書、同５４−１３３３２４号明細
書等に開示されたポリマーを添加する方法、特開昭６４
−２６８４９号明細書、同６１−２４９０７号明細書等
に開示されている界面活性剤を添加する方法などがあ
る。これらの方法のうち好ましいものはＳｎＯ2 等の金
属酸化物を添加する方法である。

【００５１】金属酸化物の微粉末としては導電性の結晶
性酸化物又はその複合酸化物が好ましい。導電性の結晶
性酸化物又はその複合酸化物の微粒子としては体積抵抗
率が１０7 Ωcm以下、より好ましくは１０5 Ωcm以下の
ものが望ましい。またその粒子サイズは０．０１〜０．
７μ、特に０．０２〜０．５μであることが望ましい。
本発明に使用される導電性の結晶性金属酸化物あるいは
複合酸化物の微粒子の製造方法については特願昭５５−
４７６６３号の明細書に詳細に記載されている。第１に
金属酸化物微粒子で暁成により作製し、導電性を向上さ
せる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に焼成に
より金属酸化物微粒子を製造するときに導電性を向上さ
せる為の異種原子を共存させる方法、第３に焼成により
金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げ
て、酸素欠陥を導入する方法等が容易である。金属原子
を含む例としてはＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、ＴｉＯ
₂ に対してはＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ₂ に対してはＳｂ、
Ｎｂ、ハロゲン元素等があげられる。異種原子の添加量
は０．０１〜３０ｍｏｌ％の範囲が好ましいが０．１〜
１０ｍｏｌ％であれば特に好ましい。これらのうちＳｂ
を添加したＳｎＯ₂ 微粒子が最も好ましい。

【００５２】またハレーション防止、セーフライト安全
性向上、表裏判別性向上などの目的で、染色された非感
光性親水性コロイド層（以降染色層と表わす）を設けて
もよい。例えば、米国特許３４５５６９３号、同２５４
８５６４号、同４１２４３８６号、同３６２５６９４号
の各明細書、特開昭４７−１３９３５号、同５５−３３
１７２号、同５６−３６４１４号、同５７−１６１８５
３号、同５２−２９７２７号、同６１−１９８１４８
号、同６１−１７７４４７号、同６１−２１７０３９
号、同６１−２１９０３９号の各公報に記載の染料を媒
染剤に吸着せしめる方法、特開昭６１−２１３８３９
号、同６３−２０８８４６号、同６３−２９６０３９
号、特開平１−１５８４３９号の各公報に記載の耐拡散
型染料を用いる方法、特願平１−１４２６８８号明細書
に記載のオイルに溶解した染料を油滴状に乳化分散する
方法、米国特許２７１９０８８号、同２４９８８４１
号、同２４９６８４３号の各明細書、特開昭６０−４５
２３７号公報、特願平１−１３９６９１号明細書に記載
の染料を無機物表面に吸着せしめる方法、特願平１−１
１９８５１号明細書に記載の染料をポリマーに吸着せし
める方法、特開昭５６−１２６３９号、同５５−１５５
３５０号、同５５−１５５３５１号、同６３−２７８３
８号、同６３−１９７９４３号の各公報、欧州特許１５
６０１号、同２７４７２３号、同２７６５６６号、同２
９９４３５号、国際特許（ＷＯ）８８／０４７９４号、
特願平１−８７３６７号の各明細書に記載の水に不溶性
の染料固体を用いる方法などがある。これらの方法の中
で染料を固体のまま分散する方法が染料を特定層中に固
定し、現像処理後の残色が少ないという観点から好まし
い。

【００５３】

【実施例】

［実施例１］ （１）ポリマーの重合 反応容器に、反応溶媒としてトルエン６リットルおよび
テトラエトキシチタン５ミリモルおよびメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として５００ミリモル入れ、
５０℃においてモル比でスチレン４８．９４：ｐ−メチ
ルスチレン１．０６とを加え、２時間重合反応を行っ
た。反応終了後、生成物を塩酸とメタノールとの混合液
で洗浄して、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥する
ことにより共重合体６４０ｇを得た。この共重合体の重
量平均分子量（Ｍｗ）が４４万であり、数平均分子量
（Ｍｎ）が２４万であった。この共重合体中のｐ−メチ
ルスチレン単位の含有割合は５ｗｔ％であった。また、
この共重合体は12Ｃ−ＮＭＲによる分析から、１４５．
１１ｐｐｍ、１４５．２２ｐｐｍ、１４２．０９ｐｐｍ
に吸収が認められ、そのピーク面積から算出したスチレ
ン単位のラセミペンタッドでのシンジオタクティシティ
ーは７２％であった。このポリマーのガラス転移温度
（Ｔｇ）、融点（Ｔｍ）はそれぞれ９７℃、２５０℃で
あった。このポリマ−をＳＰＳ−１としする。同様にし
て、スチレンとｐ−メチルスチレンの仕込み比（モル
比）を５０／０、４７．８８／２．１２とし重合を行っ
た。これらをおのおのＳＰＳ−２，３とした。これらの
Ｍｗはそれぞれ４０万、４２万、Ｍｎはそれぞれ２２
万、２３万、シンジオタクティシティーはそれぞれ７
４、７１、Ｔｇはそれぞれ１００℃、９５℃、Ｔｍはそ
れぞれ２５７、２４８であった。このようにしてシンジ
オタクティック構造を有するスチレン系重合体、ＳＰＳ
−１、２および３（ｐ−メチルスチレン含率はそれぞれ
５、０および１０ｗｔ％）を得た。

【００５４】上記ＴｇおよびＴｍは、次のようにして求
めた。試料１０mgを示差熱分析計の中にセットしチッ素
気流中、２０℃／分で３３０℃まで昇温後、室温まで急
冷する。再び２０℃／分でチッ素気流中で昇温してゆ
き、ベースラインがシフトしはじめる温度と新たにベー
スラインを形成する温度の中点をＴｇとする。吸熱側に
現われる大きなピークの最大吸熱点の温度をＴｍとす
る。

【００５５】（２）支持体の製膜 ＳＰＳ−１、２および３を１５０℃にて減圧、乾燥後１
３０℃の熱風中攪拌しながら結晶化させた。このペレッ
トをこの結晶化ペレット中のモノマー含有量は１，１０
０〜９００ｐｐｍであった。この後、ＳＰＳ−１、ＳＰ
Ｓ−２はベント付単軸押出機を用いて３００℃で混練押
し出しを行った。またＳＰＳ−２とＳＰＳ−３をそれぞ
れの混合比が２／１になるようにベント付２軸押出機を
用いて３００℃で混練押し出しした。これらをを焼結金
属フィルターを通した後３２０℃に加熱したＴ−ダイか
ら押出した。この溶融状態のシートを静電印加法を用い
て、２軸延伸後表１に示した厚みになるようにキャステ
ィングを行った。このようにして得られた透明なシート
の結晶化度は９％であった。これを縦方向に１２０℃で
３．２倍、次いで横方向１２５℃で３．３倍に逐次２軸
延伸を行った。この後２４０℃で３０秒間５％の制限収
縮下で熱固定を行った。このようにしてＳＰＳ−１、Ｓ
ＰＳ−２のホモポリマーとＳＰＳ−２＋ＳＰＳ−３のポ
リマー（以後「 ＳＰＳ−２／３」 と称する）からなる支
持体を得た。また、参考用にＰＥＴを用いて、常法に従
いフイルムを製膜した。

【００５６】（３）支持体の表面処理 これらの支持体の両面に以下の条件でグロー放電処理を
施こした。断面が直径２cm、長さ１５０cmの円柱状で冷
媒流路となる中空部を持つ棒状電極を、１０cm間隔に４
本絶縁板状に固定した。この電極板を真空タンク内に固
定し、この電極面から１５cm離れ、電極面に正対するよ
うに２軸延伸フイルムを走行させ、２秒間の表面対処が
行われるように速度をコントロールした。フイルムが電
極を通過する直前に、フイルム直径５０cmの温度コント
ローラー付き加熱ロールに３／４周接触するように加熱
ロールを配置し、さらに加熱ロールと電極ゾーンの間の
フイルム面に熱電対温度計を接触させることによりフイ
ルム面温度を７０℃にコントロールした。真空槽内の圧
力は０．２Ｔｏｒｒ、雰囲気気体内のＨ2 Ｏ分圧は７５
％で行った。放電周波数は３０ＫＨｚ、出力２５００
Ｗ、処理強度は０．５ＫＶ・Ａ・分／m²で行った。放電
処理後の支持体が巻き取られる前に表面温度が３０℃に
なるように、直径５０cmの温度コントローラー付き冷却
ロールに接触させ巻き取った。

【００５７】（４）写真感材の作成 グロー放電処理をした支持体の両面に下記下塗りを塗設
した。 ──────────────────────────────────── 下塗り層 ──────────────────────────────────── ゼラチン １０．０重量部 水 ２４．０重量部 メターノール ９６１．０重量部 サリチル酸 ３．０重量部 ポリアマイド−エピクロルヒドリン樹脂（特開昭５１−３６１９号公報の合成 例１に記載） ０．５重量部 ノニオン性界面活性剤（特公平３−２７０９９号公報記載の化合物Ｉ−１３） １．０重量部 ────────────────────────────────────

【００５８】この塗布液をワイヤーバーを用いて１０ml
／m²塗布した。この後、下記第１表に示した条件で５分
間乾燥した。このときの張力はいずれの水準も１０ｋｇ
／ｍで行った。この後、支持体の面状を下記の方法で評
価した。結果を下記第１表に示す。

【００５９】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 支持体 ポリマー 層の塗布条件 塗布後の表面状態 番号 （１） （２） （３） （４） （５）（６）（７） ──────────────────────────────────── １−１ ＳＰＳ−１ １００ ２．０ １５ １２ ０ ２ ２ １−２ ＳＰＳ−１ ２１０ ２．０ １５ １２ ４ ４２ ５３ １−３ ＳＰＳ−１ １８５ ２．０ １５ １２ ０ １２ １１ １−４ ＳＰＳ−１ ６０ ２．０ １５ １２ ０ １ ０ １−５ ＳＰＳ−１ ４０ ２．０ １５ １２ ０ １ ０ １−６ ＳＰＳ−１ １００ ９．０ １５ １２ ０ １５ ５ １−７ ＳＰＳ−１ １００ 11．０ １５ １２ １ ２１ ６ １−８ ＳＰＳ−１ １００ ２．０ ２１０ １２ ０ ５ ３９ １−９ ＳＰＳ−１ １００ ２．０ １９０ １２ ０ ４ ２２ １−10 ＳＰＳ−１ １００ ２．０ １５ ３８ ０ １１ ９ １−11 ＳＰＳ−１ １００ ２．０ １５ ４０ ０ １７ １２ １−12 SPS-２＋３ １００ ２．０ １５ １２ ０ ３ ３ １−13 SPS-２＋３ ２１０ ２．０ １５ １２ ４ ４４ ６３ １−14 SPS-２＋３ １８５ ２．０ １５ １２ ０ １５ １７ １−15 SPS-２＋３ ６０ ２．０ １５ １２ ０ １ ０ １−16 SPS-２＋３ ４０ ２．０ １５ １２ ０ １ ０ １−17 SPS-２＋３ １００ ９．０ １５ １２ ０ １７ ６ １−18 SPS-２＋３ １００ 11．０ １５ １２ １ ２３ ７ １−19 SPS-２＋３ １００ ２．０ ２１０ １２ ０ ６ ４０ １−20 SPS-２＋３ １００ ２．０ １９０ １２ ０ ５ ２４ １−21 SPS-２＋３ １００ ２．０ １５ ３８ ０ １２ ９ １−22 SPS-２＋３ １００ ２．０ １５ ４２ ０ １８ １４ １−23 ＳＰＳ−２ １００ ２．０ １５ １２ ０ ２ ２ １−24 ＰＥＴ １００ ２．０ １５ １２ ０ ０ ０ ──────────────────────────────────── 註：（１）乾燥温度（℃） （２）パスロール間の最大長（ｍ） （３）パスロールとフイルムの最大接触長（ｃｍ） （４）搬送時にフイルムにかかる張力 （５）筋張り故障（個） フイルムの中央部を３０ｃｍ幅で１０ｍサンプリング
し、これを張力を加えずテ−ブル上で順の巻ほぐしなが
ら目視で発生個数を数える。この値を１０でわり、単位
長さあたりの発生個数とした。 （６）波打ち故障（ｍｍ） 支持体を１ｍサンプリングし無張力でテ￥ブルの上に置
く。この時に両端に発生している波打ちの高さを定規を
用いて全数測定する。この平均高さを求める。 （７）ブツ故障（個） 支持体を幅方向に等間隔で５点、５ｃｍ角にサンプリン
グする。これに発生しているブツを目視で数え、５点の
平均個数を求める。

【００６０】この支持体の下塗り層の反対側に下記組成
の導電層及びバック層を塗布し４０℃で５分間乾燥し
た。 ──────────────────────────────────── 導電層 ──────────────────────────────────── ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ（９／１重量比、平均粒径０．２５μｍ） ２００ｍｇ／ｍ² ゼラチン（Ｃａ²⁺含有量：３０００ｐｐｍ） ７７ｍｇ／ｍ² 化合物−１１ ７ｍｇ／ｍ² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム ４０ｍｇ／ｍ² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ９ｍｇ／ｍ² ────────────────────────────────────

【００６１】 ──────────────────────────────────── バック層 ──────────────────────────────────── ゼラチン（Ｃａ²⁺含有量３０ｐｐｍ） ３．６ｇ／ｍ² 化合物−１１ ３ｍｇ／ｍ² ポリメチルメタクリレ−ト微粒子（平均粒径３．４μｍ） ５０ｍｇ／ｍ² 化合物−１２ ４０ｍｇ／ｍ² 化合物−１３ ４０ｍｇ／ｍ² 化合物−１４ ８０ｍｇ／ｍ² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ７５ｍｇ／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナ−トナトリウム ２０ｍｇ／ｍ² 化合物−１５ ５ｍｇ／ｍ² Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニル−Ｎ−プロピルグリシンポタジウム ７ｍｇ／ｍ² 硫酸ナトリウム ５０ｍｇ／ｍ² 酢酸ナトリウム ８５ｍｇ／ｍ² １，２−ビス（ビニルスルホニルアセトアミド）エタン １５０ｍｇ／ｍ²

【００６２】

【化２】

【００６３】

【化３】

【００６４】次いで、支持体の反対側の面に、下記組成
の乳剤層、保護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 ──────────────────────────────────── Ｉ液 ──────────────────────────────────── 水 １０００ｍｌ ゼラチン ２０ｇ 塩化ナトリウム ２０ｇ １，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｇ ベンゼンスルホン酸ナトリウム ６ｍｇ

【００６５】 ──────────────────────────────────── II液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 硝酸銀 １００ｇ ────────────────────────────────────

【００６６】 ──────────────────────────────────── III液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 塩化ナトリウム ３０．５ｇ 臭化カリウム １４ｇ ヘキサクロロイリジウム（III ）酸カリウム（０．００１％水溶液） １５ｍｌ ヘキサブロモジウム（III ）酸アンモニウム（０．００１％水溶液） １．５ｍｌ ────────────────────────────────────

【００６７】３８℃、ｐＨ＝４．５に保たれたＩ液にII
液とIII 液を撹拌しながら同時に１０分間にわたって加
え、０．１６μｍの微粒子を形成した。続いて下記IV
液、Ｖ液を１０分間にわたって加えた。さらにヨウ化カ
リウム０．１５ｇを加え粒子形成を終了した。

【００６８】 ──────────────────────────────────── IV液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 硝酸銀 １００ｇ ────────────────────────────────────

【００６９】 ──────────────────────────────────── Ｖ液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 塩化ナトリウム ３０．５ｇ 臭化カリウム １４ｇ Ｋ₄ Ｆｅ（ＣＮ）₆ １×１０^-5モル／モルＡｇ ────────────────────────────────────

【００７０】その後常法に従って、フロキュレーション
法によって、水洗し、ゼラチン４０ｇを加えた。この乳
剤を、ｐＨ＝５．３、ｐＡｇ＝７．５に調節し、チオ硫
酸ナトリウム５．２ｍｇ、塩化金酸１０．０ｍｇとＮ，
Ｎ−ジメチルセレノ尿素を２．０ｍｇ加え、ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム２．０ｍｇを加え、５５℃で最適感
度になるように化学増感し、最終的に塩化銀８０モル％
を含む、平均粒子径０．２０μｍのヨウ塩臭化銀立方体
粒子乳剤を調製した。次いで増感色素を５×１０-4モル
／モルＡｇ加えて、オルソ増感した。さらにカブリ防止
剤として、ハイドロキノン、１−フェニル−５−メルカ
プトテトラゾールをＡｇ１モル当たりそれぞれ２．５
ｇ、５０ｍｇ、コロイダルシリカ（日産化学製スノ−テ
ックスＣ、平均粒径０．０１５μｍ）をゼラチンに対
し、３０重量％加え、可塑剤としてポリエチルアクリレ
ートラテックス（０．０５μｍ）をゼラチンに対し、４
０重量％、硬膜剤として、１，１’−ビス（ビニルスル
ホニル）メタンを１００ｍｇ／ｍ² 加えた。この塗布液
をＡｇ３．９ｇ／ｍ² 、ゼラチン１．８ｇ／ｍ² になる
様に塗布した。

【００７１】

【化４】

【００７２】 ──────────────────────────────────── 保護層下層 ｍ² 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン ０．７ｇ ベンゼンスルホン酸ナトリウム ４ｍｇ １，５−ジヒドロキシ−２−ベンズアルドキシム ２５ｍｇ ポリエチルアクリレ−トラテックス １２５ｍｇ ────────────────────────────────────

【００７３】 ──────────────────────────────────── 保護層上層 ｍ² 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン ０．５ｇ ポリメチルメタクリレ−ト微粒子（平均粒径２．５μｍ） ４０ｍｇ 化合物−１６（滑り剤のゼラチン分散物） ６０ｍｇ コロイダルシリカ（日産化学製スノ−テックスＣ） ６０ｍｇ 化合物−１７ ５ｍｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２２ｍｇ ──────────────────────────────────── この試料の動摩擦係数はすべて０．２２±０．０３（２
５℃６０％ＲＨ、サファイヤ針φ＝１ｍｍ、荷重１００
ｇ、スピ−ド６０ｃｍ／ｍｉｎ）であった。

【００７４】

【化５】

【００７５】（５）写真感材の評価 このようにして得られた試料を塗布後１０日間２５℃６
０％ＲＨ下で保管した後、２５℃６０％ＲＨ下で裁断・
加工した後、下記評価を実施した。 （５−１）湿度寸法ズレ 高湿に置いた感材（６０％ＲＨ）を低湿（２０％ＲＨ）
にした露光機内に置き、この中での放置時間を変えて露
光する。直ちに露光したものは感材は収縮せず、長時間
（１時間）放置後は十分感材が収縮する。この２つの感
材の露光点の距離を測長することで湿度寸法安定性を評
価する。 （感材の露光）２５．５ｃｍ幅に裁断した感光材料を、
２５℃６０％ＲＨに調湿後マガジンに装填した。これを
２５℃２０％ＲＨの一定環境下に設置したスキャナ−露
光機（マグナセット３５０：富士写真フイルム製）にセ
ット後直ちにに第１版を露光した。露光は０．５ｍｍの
正方形をフイルムの四隅（幅方向：２５０ｍｍ間隔、長
手方向６００ｍｍ間隔）に露光した。この１時間後に同
様にして第２版を露光した。 （感材の現像処理）現像液、定着液として、富士写真フ
イルム製ＳＲ−Ｄ１およびＳＲ−Ｆ１を用いて、自動現
像機ＦＧ−６６０Ｆ（富士写真フイルム製）で３８℃２
０秒の現像処理を実施した。

【００７６】感材の寸法評価 現像後の感材を２５℃６０％ＲＨの一定環境下で、第１
版と第２版の正方形（Ａ：最初の露光した点）を基準点
として重ね合わせた後、下記のように他の３つの正方形
どうしのズレた距離を測長した。 (1) Ｂ点（幅方向のズレを示す）：正方形Ａの幅方向２
５０ｍｍに露光した正方形をＢ点とする。第１版と第２
版のＢ点の正方形の幅方向のズレを測定する。 (2) Ｃ点（長さ方向のズレを示す）：正方形Ａの長さ方
向６００ｍｍに露光した正方形をＣ点とする。第１版と
第２版のＣ点の正方形の長手方向のズレを測定する。 (3) Ｄ点（幅方向、長手方向のズレを示す）：正方形Ａ
の対角線方向に露光した正方形をＤ点とする。第１版と
第２版の正方形の長手方向のズレ：Ｄl 、幅方向のズ
レ：Ｄw を測定する。

【００７７】(5-2) 画像ボケの評価 感材の平面性が悪いと、上に重ね合わせた原稿フイルム
との間に隙間ができる。この隙間が画像ボケを引き起こ
す。網点の密度が高いところで露光すると、画像ボケに
より網点どうしがくっつくため、肉眼で確認できる。 （露光）網点画像が１０％の平網原稿フイルムを用いて
密着露光用プリンタ−で原稿フイルム（３５ｃｍ×４０
ｃｍ）とサンプルフイルムを合わせて真空密着露光し
た。これを１水準につき１０枚のフイルムについて実施
した。 （現像）上記寸法評価の項と同様に行った。 （評価）網点画像のくっつきの発生している箇所を１０
枚のフイルムに対して目視で計測した。

【００７８】(5-3) 密着性の評価 乳剤面に５ｍｍ間隔で剃刀で碁盤目状に切れ込みを入れ
た後、粘着テ−プを張り付け１８０度方向にすばやくひ
きはがし、密着レベルを評価した。剥離した面積が、５
％以下のものをＡ、５％を越え１０％以下のものをＢ、
１０％を越えるものをＣとした。許容されるのはＡとＢ
である。以上の結果を下記第２表に示す。

【００７９】

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 支持体 層間の 重ね焼き時の寸法ズレ 番号 密着性 幅方向Ｂ 幅方向Ｄ 長手方法Ｃ 長手方向Ｄ 画像ボケ ──────────────────────────────────── １−１ Ａ ２０μｍ ２５μｍ ４２μｍ ４９μｍ ０ １−２ Ａ １５０μｍ １８５μｍ ３００μｍ ３５０μｍ ３６ １−３ Ａ ４５μｍ ５０μｍ ８２μｍ ９１μｍ ０ １−４ Ｂ １６μｍ ２０μｍ ３０μｍ ３５μｍ ０ １−５ Ｃ １５μｍ ２１μｍ ３２μｍ ３４μｍ ０ １−６ Ａ ４０μｍ ４２μｍ ８２μｍ ９０μｍ ０ １−７ Ａ ８５μｍ ９０μｍ １７５μｍ １９０μｍ ８ １−８ Ａ ４５μｍ ４８μｍ ９０μｍ ９６μｍ ０ １−９ Ａ ３２μｍ ３５μｍ ６２μｍ ７２μｍ ０ １−10 Ａ ３８μｍ ３９μｍ ８２μｍ ８６μｍ ０ １−11 Ａ ４８μｍ ５０μｍ ８８μｍ ９０μｍ ０ １−12 Ａ ２２μｍ ２７μｍ ４６μｍ ５２μｍ ０ １−13 Ａ １６５μｍ １９０μｍ ３３５μｍ ３７５μｍ ４２ １−14 Ａ ４８μｍ ５２μｍ ８５μｍ ９０μｍ ０ １−15 Ｂ １９μｍ ２３μｍ ３３μｍ ３８μｍ ０ １−16 Ｃ １８μｍ ２２μｍ ３５μｍ ３６μｍ ０ １−17 Ａ ４１μｍ ４４μｍ ８３μｍ ９２μｍ ０ １−18 Ａ ８８μｍ ９２μｍ １１７μｍ １９５μｍ ０ １−19 Ａ ４７μｍ ４９μｍ ９５μｍ ９９μｍ ０ １−20 Ａ ３４μｍ ３７μｍ ６４μｍ ７４μｍ ０ １−21 Ａ ３９μｍ ４２μｍ ８５μｍ ８８μｍ ０ １−22 Ａ ４７μｍ ５２μｍ ８９μｍ １０μｍ ０ １−23 Ａ ２０μｍ ２４μｍ ４４μｍ ４８μｍ ０ １−24 Ａ ６５μｍ ６９μｍ １２５μｍ １５０μｍ ０ ────────────────────────────────────

【００８０】（６）結果 本発明を実施した水準は比較例のＰＥＴ（水準１−２
４）に比べて、重ね合わせを行ってもズレが極めて小さ
く良好な値を示した。さらに、重ね焼きしても画像のボ
ケに伴う網点のくっつきも発生せず良好な結果が得られ
た。一方本発明の範囲を越えた温度、パスロ−ル間長さ
で乾燥したものは、寸法ズレや画像のボケが発生した。
また本発明の乾燥温度を下回った条件では、乳剤の密着
不良が発生した。さらに、パスロ−ルとの接触している
長さの最大値、張力を本発明の範囲内で実施すること
で、さらに重ね焼き時の寸法ズレを改良できる。

【００８１】［実施例２］ （１）ポリマーの重合 実施例１に記載のシンジオタクティック構造を有するス
チレン系重合体、ＳＰＳ−１、２および３（ｐ−メチル
スチレン含率はそれぞれ５、０および１０ｗｔ％）を得
た。これに第３表に示した微粒子を添加した。 （２）支持体の製膜 ＳＰＳ−１，２，３を１５０℃にて減圧、乾燥後１３０
℃の熱風中攪拌しながら結晶化させた。このペレットを
この結晶化ペレット中のモノマー含有量は１，１００〜
９００ｐｐｍであった。この後、ＳＰＳ−１、ＳＰＳ−
２はベント付単軸押出機を用いて３００℃で混練押し出
しを行った。またＳＰＳ−２とＳＰＳ−３をそれぞれの
混合比が２／１になるようにベント付２軸押出機を用い
て３００℃で混練押し出した。これらを焼結金属フィル
タ−を通した後、３２０℃に加熱したＴ−ダイから押出
した。この溶融状態のシートを静電印加法を用いて、２
軸延伸、熱固定後の厚みが表２に示した値になるように
キャスティングを行った。このようにして得られた透明
なシートの結晶化度は９％であった。これを周速の異な
る２つのロ−ルの間を通過させ縦方向に延伸した。支持
体の加熱は赤外線ヒ−タを用い、これと周速の速い方の
ロ−ル（Ｂ−ロ−ル）の間の距離を表２に示した値とし
た。延伸温度は１２０℃、延伸倍率は第３表に示した。
これを１２５℃で３０秒予熱した後、１２５℃下で第３
表に示した倍率で横延伸を行った。ただし、２−１４の
み横延伸後、縦方向に１３０℃で１．３倍再延伸した。
この後、下記第３表に示した温度で３０秒熱固定を実施
した。この時、第３表に示した量だけ幅方向に緩和させ
た。

【００８２】

【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── 支持体 ポリマー 厚さ 添加微粒子 縦延伸 横延伸 熱固定 番号 （μｍ） 粒径 量 距離 倍率 倍率 温度 緩和率 ──────────────────────────────────── ２−１ SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−２ SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ ４．３ ４．４ ２３０ ８ ２−３ SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ ２．７ ２．７ ２３０ ８ ２−４ SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ６０ ２．８ ２．９ ２３０ ８ ２−５ SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ６０ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−６ SPS-１ １７５ なし − ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−７ SPS-2+3 １７５ ５．１ 350 ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−８ SPS-２ １７５ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−９ SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−10 SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−11 SPS-１ ８５ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−12 SPS-１ １００ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２３０ ８ ２−13 SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ ３．７ ４．０ ２６０ ０ ２−14 SPS-１ １７５ ０．２ ６０ ２８ 3.7×1.3 ４．０ ２６０ ０ ──────────────────────────────────── （註） 添加粒子の平均粒径：μｍ 添加粒子の量：ｐｐｍ 縦延伸間距離：ｃｍ 熱固定温度：℃ 熱固定緩和率：％

【００８３】このようにして得た２軸延伸ＳＰＳ支持体
に対し、１１０℃での熱収縮およびヤング率、熱流速の
差、ヘーズを測定した。またこれらの支持体の２５℃、
６０％RHから２５℃、２０％RHへの湿度寸法変化から湿
度寸法変化率を求めたが、本発明の支持体はいずれも
０．５〜１．５×１０-6／%RH の良好な値を示した。 (2) １１０℃でのヤング率 恒温層を有する引っ張り試験機を用い、１１０℃下、引
っ張り速度５００ｍｍ／分、チャック間距離１００ｍ
ｍ、サンプル幅１０ｍｍで測定する。これを幅方向等間
隔５点、長手方向３０ｃｍ毎５点（幅中央で測定）の１
０点でそれぞれ長手方向、幅方向の値を測定。それぞれ
各１０点の平均値を求めた。また、面内偏差は、長手方
向１０点、幅方向１０点、合計２０点の最大値と最小値
を用い、面内偏差（％）＝１００×｛( 最大値) −( 最
小値) ｝／( 最大値) （％）として求めた。

【００８４】(3) 熱寸法変化 ２５ｃｍ×５ｃｍにサンプリングした後、２０ｃｍ間隔
で孔をあけ、ピンゲ−ジを用い２５℃下で測長する。
（これをＬ1 とする）この後１１０℃で、無張力下、１
０分間放置する。これを２５℃下に３時間以上放置した
あと再びピンゲ−ジで測長する。（これをＬ2 ）とす
る。100 ×（Ｌ2 −Ｌ1 ）／Ｌ1(%)の絶対値を熱寸法変
化率とする。これを幅方向等間隔５点、長手方向３０ｃ
ｍ毎５点（幅中央で測定）の１０点でそれぞれ長手方
向、幅方向の値を測定。それぞれ各１０点の平均値を求
めた。また、面内偏レンジは、長手方向１０点、幅方向
１０点、合計２０点の最大値と最小値を用い、面内レン
ジ（％）＝｛( 最大値) −( 最小値) ｝として求めた。 (4) 熱流速の差 示差熱分析計（ＤＳＣ）を用いて測定する。フイルムサ
ンプル５ｍｇ〜１０ｍｇを精秤し、これをパンの中に入
れた後、窒素気流下で２０℃／分で昇温しながら測定
し、９０℃における熱流速と１１５℃における熱流速の
差を求める。 (5) 表面粗さ（Ｒａ） 小坂研究所製表面粗さ測定器（ＳＥ−３ＦＫ）を用い、
触針の先端半径は２μｍ、荷重は３０ｍｇ、測定長さは
２．５ｍｍ、カットオフは８０μｍで測定し、測定値を
μｍで表す。以上の結果を第４表に示す。

【００８５】

【表４】 第４表 ──────────────────────────────────── 支持体 １１０℃ヤング率 １１０℃熱収縮 熱流速 ヘーズ 番号 ＬＤ ＴＤ 偏差 ＬＤ ＴＤ レンジ の差 （％） ──────────────────────────────────── ２−１ １９０ １６０ １８ ０．３ ０．４ ０．１ ０．０４９ ０．４ ２−２ ３３０ ３１０ ７ ０．９ １．４ ０．５ ０．０１８ ５．９ ２−３ ４１ ４５ １２ ０．２ ０．３ ０．２ ０．０５９ ２．２ ２−４ ５２ ５４ １１ ０．３ ０．４ ０．２ ０．０７２ ２．１ ２−５ １８０ １３０ ３２ ０．２ ０．７ ０．９ ０．０５５ ０．７ ２−６ ２００ １７０ １６ ０．２ ０．３ ０．２ ０．０４５ ０．１ ２−７ ２４０ １９０ １７ ０．３ ０．２ ０．２ ０．０４２ ２．６ ２−８ １５０ １３０ １４ ０．３ ０．７ ０．５ ０．０４２ ０．７ ２−９ ２１０ １５０ ３２ ０．３ ０．７ ０．１ ０．０３７ １．８ ２−10 １９０ １６０ １８ ０．３ ０．４ ０．２ ０．０４９ ０．４ ２−11 １８０ １６０ １１ ０．３ ０．４ ０．１ ０．０４６ ０．２ ２−12 １８５ １６０ ９ ０．３ ０．３ ０．３ ０．０４８ ０．３ ２−13 ２００ １８０ １５ ０．７ ０．７ ０．７ ０．０５２ ３．４ ２−14 ２３０ ２００ １９ ０．９ ０．５ ０．５ ０．０３５ ３．４ ──────────────────────────────────── （註） ヤング率：ｋｇ／ｍｍ² ヤング率の面内偏差：％ 熱収縮およびその面内レンジ：％ 熱流速の差：Ｗ／ｇ ヘーズ：％

【００８６】（３）支持体の表面処理 これらの支持体の両面に実施例１に記載のグロー放電処
理を施こした。 （４）支持体の下塗り グロー放電処理をした支持体の両面に実施例１に記載の
下塗りを塗設した。この塗布液をワイヤーバーを用いて
１０ｍｌ／ｍ2 塗布した。この後、乾燥温度１１０℃、
乾燥ゾ−ンのパスロ−ル間最大長２ｍ、支持体のパスロ
−ル最大接触長１５ｃｍ、張力１２ｋｇ／ｍで５分間乾
燥した。この後、波打ち高さを上述の方法に従って評価
した。さらに下塗り後の平面性（筋張り故障、ブツ故
障）を実施例１と同様に評価した。結果を第５表に示
す。

【００８７】（５）写真感材の作成 下塗り後の支持体に対し、下記２種類のバック層、感光
層を塗設した。 （イ）バック層／感光層＝イ（第５表の記号） ２−１０以外の全試料に対し、下記バック層、感光層を
塗設した。 (1) バック層の塗設 支持体の一方の側に支持体から近い順に下記処方の導電
層及びバック層をスライドコーターを用いて同時に塗布
した。 ──────────────────────────────────── (1-1) 導電層 ──────────────────────────────────── ゼラチン（Ｃａ²⁺含有量：３０００ｐｐｍ） １００mg／m² 化合物−Ａ １mg／m² ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム １１mg／m² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １５mg／m² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １０mg／m² ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ（９／１重量比、平均粒径０．２５μｍ） ２００mg／m² ────────────────────────────────────

【００８８】 ──────────────────────────────────── (1-2) バック層 ──────────────────────────────────── ゼラチン（Ｃａ²⁺含有量：３０ｐｐｍ） １．５ｇ／m² ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径３．４μｍ） ２０mg／m² 化合物−Ａ ４mg／m² 染料− ６０mg／m² 染料− ４０mg／m² 染料− ３２mg／m² ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム ２０mg／m² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ８０mg／m² 酢酸 ７mg／m² 硫酸ナトリウム ２００mg／m² 化合物−Ｃ ８mg／m² 化合物−Ｄ ９mg／m² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １６mg／m² １，３−ビス（ビニルスルホニル）−プロパノール−２ ゼラチンの１．８wt％ ────────────────────────────────────

【００８９】

【化６】

【００９０】(2) 感光層の塗設 ついで、もう一方の面に支持体から近い順に非感光性
層、乳剤層、保護層をスライドコーターを用いて同時に
塗設して乾燥した。 ──────────────────────────────────── (2-1) 非感光層 ──────────────────────────────────── ゼラチン １．０ｇ／m² 化合物−Ａ ２mg／m² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １５mg／m² ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ７mg／m² １，３−ビス（ビニルスルホニル）−プロパノール−２ １５mg／m² ポリエチルアクリレートラテックス（粒径０．０５μｍ） ６００mg／m² ────────────────────────────────────

【００９１】(2-2) 乳剤層 Ａｇ １モル当り３．５×１０-7モルのロジウムを含
む、臭化銀３０モル％、塩化銀７０モル％のハロゲン化
銀乳剤を当業界でよく知られた常法で調製し、可溶性塩
類を除去した後、ゼラチンを加えた。この乳剤にＡｇ
１モル当りチオ硫酸ナトリウム６mg、塩化金酸８．５mg
加え、６０℃５０分間の化学増感を行った。得られた乳
剤の平均粒子サイズは０．２５μの立方体粒子で乳剤１
kg当りのＡｇは１２５ｇ、ゼラチンは５３ｇであった。
この乳剤にオルソ増感色素として、１−（２−ヒドロキ
シエトキシエチル）−３−（ピリジン−２−イル）−５
−〔（３−スルホブチル−５−クロロ−２−ベンゾオキ
サゾリニデン）エチリデン〕−２−チオヒダントインカ
リウム塩１１mg／m²を加え、さらにα−リボ酸７mg／
m²、ハイドロキノン２７mg／m²、化合物−３mg／m²、
１−フェニル−５−メルカプト−テトラゾール１mg／
m²、化合物−１mg／m²、化合物−６mg／m²、化合物
−４mg／m²、化合物−２mg／m²、安定剤として６−
メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−テトラザ
インデン８mg／m²、硬膜剤として、１，３−ビス（ビニ
ルスルホニル）−プロパノール−２ ４０mg／m²を加
え、さらにエチルアクリレートラテックス（平均粒子サ
イズ０．０５μｍ）９００mg／m²、増粘剤としてポリス
チレンスルホン酸ナトリウム塩４０mg／m²を加えた。こ
の塗布液を銀量３．５ｇ／m²、ゼラチン１．６ｇ／m²に
なる様に塗布した。

【００９２】

【化７】

【００９３】 ──────────────────────────────────── (2-3) 保護層処方 ──────────────────────────────────── ゼラチン １．０ｇ／m² ポリメチルメタアクリレート微粒子（平均粒径２．５μｍ） ４０mg／m² 化合物−Ｂ ５０mg／m² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ４０mg／m² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ８mg／m² ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン １８mg／m² ────────────────────────────────────

【００９４】

【化８】

【００９５】（ロ）バック層／感光層＝ロ（第５表に記
載の記号） 試料番号２−１０に対し、下記バック層、感光層を塗設
した。 (1) バック層の塗設 支持体の一方の側に支持体から近い順に下記処方の導電
層及びバック層をスライドコーターを用いて同時に塗布
し、４０℃で５分間乾燥した。 ──────────────────────────────────── (1-1) 導電層 ──────────────────────────────────── ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ（９／１重量比、平均粒径０．２５μｍ） ２００ｍｇ／ｍ² ゼラチン（Ｃａ²⁺含有量：３０００ｐｐｍ） ７７ｍｇ／ｍ² 化合物−１１ ７ｍｇ／ｍ² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナ−トナトリウム ４０ｍｇ／ｍ² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ９ｍｇ／ｍ² ────────────────────────────────────

【００９６】 ──────────────────────────────────── (2) バック層 ──────────────────────────────────── ゼラチン（Ｃａ²⁺含有量：３０ｐｐｍ） ３．６ｇ／ｍ² 化合物−１１ ３ｍｇ／ｍ² ポリメチルメタクリレ−ト微粒子（平均粒径３．４μｍ） ５０ｍｇ／ｍ² 化合物−１２ ４０ｍｇ／ｍ² 化合物−１３ ４０ｍｇ／ｍ² 化合物−１４ ８０ｍｇ／ｍ² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ７５ｍｇ／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナ−トナトリウム ２０ｍｇ／ｍ² 化合物−１５ ５ｍｇ／ｍ² Ｎ−パ−フルオロオクタンスルホニル−Ｎ−プロピルグリシンポタジウム ７ｍｇ／ｍ² 硫酸ナトリウム ５０ｍｇ／ｍ² 酢酸ナトリウム ８５ｍｇ／ｍ² １，２−ビス（ビニルスルホニルアセトアミド）エタン １５０ｍｇ／ｍ² ────────────────────────────────────

【００９７】

【化９】

【００９８】(2) 感光層の塗設 次いで、支持体の反対側の面に、下記組成の乳剤層、保
護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 (2-1) 乳剤層 ──────────────────────────────────── Ｉ液 ──────────────────────────────────── 水 １０００ｍｌ ゼラチン ２０ｇ 塩化ナトリウム ２０ｇ １，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｇ ベンゼンスルホン酸ナトリウム ６ｍｇ ────────────────────────────────────

【００９９】 ──────────────────────────────────── II液 水 ４００ｍｌ 硝酸銀 １００ｇ ────────────────────────────────────

【０１００】 ──────────────────────────────────── III 液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 塩化ナトリウム ３０．５ｇ 臭化カリウム １４ｇ ヘキサクロロイリジウム（III ）酸カリウム（０．００１％水溶液） １５ｍｌ ヘキサブロモジウム（III ）酸アンモニウム（０．００１％水溶液） １．５ｍｌ ────────────────────────────────────

【０１０１】３８℃、ｐＨ＝４．５に保たれたＩ液にII
液とIII 液を撹拌しながら同時に１０分間にわたって加
え、０．１６μｍの微粒子を形成した。続いて下記IV
液、Ｖ液を１０分間にわたって加えた。さらにヨウ化カ
リウム０．１５ｇを加え粒子形成を終了した。 ──────────────────────────────────── IV液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 硝酸銀 １００ｇ ────────────────────────────────────

【０１０２】 ──────────────────────────────────── Ｖ液 ──────────────────────────────────── 水 ４００ｍｌ 塩化ナトリウム ３０．５ｇ 臭化カリウム １４ｇ Ｋ₄ Ｆｅ（ＣＮ）₆ １×１０-5モル／モルＡｇ ────────────────────────────────────

【０１０３】その後常法に従って、フロキュレ−ション
法によって、水洗し、ゼラチン４０ｇを加えた。この乳
剤を、ｐＨ＝５．３、ｐＡｇ＝７．５に調節し、チオ硫
酸ナトリウム５．２ｍｇ，塩化金酸１０．０ｍｇとＮ，
Ｎ−ジメチルセレノ尿素を２．０ｍｇ加え、ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム２．０ｍｇを加え、５５℃で最適感
度になるように化学増感し、最終的に塩化銀８０モル％
を含む、平均粒子径０．２０μｍのヨウ塩臭化銀立方体
粒子乳剤を調製した。次いで増感色素 を５×１０^-4モ
ル／モルＡｇ加えて、オルソ増感した。さらにカブリ防
止剤として、ハイドロキノン、１−フェニル−５−メル
カプトテトラゾ−ルをＡｇ１モル当たりそれぞれ２．５
ｇ、５０ｍｇ、コロイダルシリカ（日産化学製スノ−テ
ックスＣ、平均粒径０．０１５μｍ）をゼラチンに対
し、３０重量％加え、可塑剤としてポリエチルアクリレ
−トラテックス（０．０５μｍ）をゼラチンに対し、４
０重量％、硬膜剤として、１，１’−ビス（ビニルスル
ホニル）メタンを１００ｍｇ／ｍ² 加えた。この塗布液
をＡｇ３．９ｇ／ｍ² 、ゼラチン１．８ｇ／ｍ² になる
様に塗布した。

【０１０４】

【化１０】

【０１０５】 ──────────────────────────────────── (2-2) 保護層下層 ｍ² 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン ０．７ｇ ベンゼンスルホン酸ナトリウム ４ｍｇ １，５−ジヒドロキシ−２−ベンズアルドキシム ２５ｍｇ ポリエチルアクリレートラテックス １２５ｍｇ ────────────────────────────────────

【０１０６】 ──────────────────────────────────── (2-3) 保護層上層 ｍ² 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン ０．５ｇ ポリメチルメタクリレ−ト微粒子（平均粒径２．５μｍ） ４０ｍｇ 化合物−１６（滑り剤のゼラチン分散物） ６０ｍｇ コロイダルシリカ（日産化学製スノ−テックスＣ） ６０ｍｇ 化合物−１７ ５ｍｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２２ｍｇ ──────────────────────────────────── この試料の動摩擦係数はすべて０．２２±０．０３（２
５℃６０％ＲＨ、サファイヤ針φ＝１ｍｍ、荷重１００
ｇ、スピ−ド６０ｃｍ／ｍｉｎ）であった。

【０１０７】

【化１１】

【０１０８】（６）写真感材の評価 このようにして得られた感材試料を塗布後１０日間２５
℃６０％ＲＨ下で保管した後、２５℃６０％ＲＨ下で裁
断・加工した後、下記のように評価した。 (5-1) 寸法ズレ （感材の露光）大全サイズにスリットしたサンプルを２
５℃６０％ＲＨ下で防湿袋に一晩調湿した。これを開封
し直ちに２５℃２０％ＲＨ下でＬＰＰ−３６８０ 型露
光器を用い、フラッドベッドで露光した。この時長手方
向３０ｃｍ×幅方向３０ｃｍの四隅に５ｍｍ□のマ−ク
を焼き付けた。

【０１０９】（感材の現像処理）現像液、定着液とし
て、富士写真フイルム製ＨＳ−５およびＬＦ−５を用い
て、自動現像機ＦＧ−６６０Ｆ（富士写真フイルム製）
で３２℃６０秒の現像した後４２℃で６０秒乾燥した。 （感材の寸法評価）現像後の感材を２５℃６０％ＲＨの
一定環境下で、ミツトヨＦＪ８０５を用い上記４点の露
光点の間距離を測長した。この値と露光時の距離との差
を寸法ズレを平均し、表２に示した。 (5-2) 画像ボケの評価 実施例１と同様にして評価した。以上の結果を第５表に
示す。

【０１１０】

【表５】 第５表 ──────────────────────────────────── 支持体 塗布後の表面状態 感材／ 感光材料特性 番号 （５）（６）（７） バック層 寸法変化 画像ボケ ──────────────────────────────────── ２−１ ０ ０ ０ イ １５μｍ ０個 ２−２ ８ ８ ４２ イ ８８μｍ ２５個 ２−３ １０ ９ ０ イ ９６μｍ ３３個 ２−４ １２ ９ ０ イ ９３μｍ ３８個 ２−５ １ ２ ４ イ ６５μｍ ０個 ２−６ ０ ０ ３ イ ２３μｍ ０個 ２−７ ０ ０ ０ イ １８μｍ ０個 ２−８ １ ２ ０ イ ６０μｍ ０個 ２−９ １ ２ ０ イ ５１μｍ ０個 ２−10 ０ ０ ０ ロ １５μｍ ０個 ２−11 １ ３ ０ イ ４５μｍ ０個 ２−12 ０ ０ ０ イ ２０μｍ ０個 ２−13 ３ ５ ５ イ ５５μｍ ０個 ２−14 １０ ８ ２５ イ ８５μｍ ２２個 ──────────────────────────────────── 註：（５）筋張り故障（個） 測定方法は実施例１と同じ （６）波打ち故障（ｍｍ） 測定方法は実施例１と同じ （７）ブツ故障（個） 測定方法は実施例１と同じ

【０１１１】（６）結果 本発明の１１０℃でのヤング率、熱収縮特性、熱流速の
差を有する支持体を用いることのより、下塗り後の平面
性に優れ、寸法特性、重ね焼き特性に優れた感材を提供
することができる。さらに、これらの特性の面内偏差、
面内レンジを小さくしたり、本発明の厚みの支持体を用
いたり、支持体中に微粒子を添加することで、いっそう
優れた平面性、感材特性、ヘイズを達成した。熱固定は
２５０℃以下で実施した試料はすべてヘーズが低く、良
好であった。再延伸を行った試料は熱収縮、ヘイズが高
く、その結果波打ち高さも本発明の範囲を上回ってい
る。また、支持体厚みを３１０μｍとした以外は、本発
明の試料と全く同様にして調製したサンプルを評価した
が、自動現像機で発生するジャミングのため許容されな
かった。

【０１１２】

【発明の効果】本発明に従い、重ね焼きしたときに寸法
ズレや画像ボケの起きにくいハロゲン化銀写真感光材料
が得られた。これは、シンジオタクチック構造を有する
スチレンポリマーを主成分とし、下塗り層を有するスチ
レンポリマーフイルムおよびその製造方法の改良により
得られる効果である。

【図面の簡単な説明】

【図１】波打ち高さの測定方法を説明する断面模式図で
ある。

【図２】縦延伸工程の断面模式図である。

【符号の説明】

ｈ 波打ち高さ ＭＤ 長手方向 ＴＤ 幅方向 １ 基準線 ２ スチレンポリマーフイルム ３ 塗布層 ２１ａ、２１ｂ、２１ｃ ヒーター ２２ スチレンポリマーフイルム ２３ 搬送ロール ２４ 低周速延伸ロール ２５ 高周速延伸ロ−ル Ｌ 延伸間距離

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
   ンポリマーを主成分とし、塗布層が設けられているスチ
   レンポリマーフイルムであって、フイルムの波打ちの高
   さが１８ｍｍ以下であることを特徴とする塗布層を有す
   るスチレンポリマーフイルム。
2. 【請求項２】 １１０℃におけるヤング率が、長手方向
   と幅方向のいずれも５０乃至３００ｋｇ／ｍｍ² である
   請求項１に記載の塗布層を有するスチレンポリマーフイ
   ルム。
3. 【請求項３】 １１０℃、１０分間熱処理前後における
   長手方向と幅方向の寸法変化が０．８％以下である請求
   項１に記載のスチレンポリマーフイルム。
4. 【請求項４】 １１０℃におけるヤング率の面内偏差が
   ３０％以下である請求項２に記載の塗布層を有するスチ
   レンポリマーフイルム。
5. 【請求項５】 １１０℃、１０分間熱処理前後における
   寸法変化の面内レンジが０．６％以下である請求項３に
   記載の塗布層を有するスチレンポリマーフイルム。
6. 【請求項６】 ９０℃と１１５℃における熱流速の差が
   ０．０２乃至０．０７Ｗ／ｇである請求項１に記載の塗
   布層を有するスチレンポリマーフイルム。
7. 【請求項７】 請求項１に規定する塗布層を有するスチ
   レンポリマーフイルムを製造する方法であって、 シンジオタクチック構造を有するスチレンポリマーを主
   成分とするフイルムに層を塗布する工程；そしてフイル
   ムを、ロール間の最大長さが０．１乃至１０ｍに設定さ
   れている複数のロールを用いて搬送しながら、塗布層を
   ５０乃至２００にて乾燥する工程を有することを特徴と
   する塗布層を有するスチレンポリマーフイルムの製造方
   法。
8. 【請求項８】 乾燥工程において、フイルムとロールが
   接触する領域の最大の長さが３乃至２００ｃｍである請
   求項７に記載の製造方法。
9. 【請求項９】 乾燥工程において、フイルムにかかる張
   力が２乃至４０ｋｇ／ｍである請求項７に記載の製造方
   法。
10. 【請求項１０】 シンジオタクチック構造を有するスチ
    レンポリマーを主成分とする支持体、下塗り層および／
    またはバック層、および少なくとも一層のハロゲン化銀
    乳剤層が設けられているハロゲン化銀写真感光材料であ
    って、 支持体の波打ちの高さが１８ｍｍ以下であることを特徴
    とするハロゲン化銀写真感光材料。