JPH0824569A

JPH0824569A - 排ガスの脱硫処理方法及び装置

Info

Publication number: JPH0824569A
Application number: JP6182970A
Authority: JP
Inventors: Takashi Kimura; 隆志木村; Kazushige Kawamura; 和茂川村; Mamoru Iwasaki; 守岩▲崎▼; Eiji Awai; 英司粟井; Masaru Takeda; 大武田
Original assignee: Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd; Chiyoda Corp
Current assignee: Chiyoda Corp
Priority date: 1994-07-11
Filing date: 1994-07-11
Publication date: 1996-01-30

Abstract

(57)【要約】【目的】排ガスに含まれている亜硫酸ガスを高効率で
かつ経済的に除去し得る排ガスの脱硫方法及び脱硫処理
装置を提供する。【構成】処理液と接触させた後の処理済み排ガスをラ
イザーに捕集して上方空間に高速で移送させる工程を有
する排ガスの脱硫処理方法において、ライザー内に液分
散機構を配設し、この液分散機構から上昇する排ガス中
に下方に向けて液体を液滴粒子として噴出させるに際
し、該液滴粒子が下方向に進行した後上方向に流路変更
するように噴出させることを特徴とする排ガスの脱硫方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、排ガスの脱硫処理方法
及び脱硫処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】排ガスを３つの室に区画された密閉槽の
第２室に導入し、この第２室から、多数のガス導入管を
介してその第２室の下方に位置する第１室の処理液中に
導入して処理した後、その処理済み排ガスを、第１室か
ら第２室を貫通し、その第２室の上方に位置する第３室
に連絡するライザーを介してその第３室に高速で移送さ
せる構造の排ガスの脱硫処理装置は知られている。一
方、空気中に放出させる排ガスについては、その中に含
まれる汚染物質に対する規制がますます厳しくなってき
ており、例えば、排ガス中のＳＯ₂濃度は２０ｐｐｍ以
下に保持することが要求されている。従って、このよう
な排ガスに関する規制の強化に伴って、排ガス処理装置
に対する性能の向上が強く要望されるようになってきて
おり、多くの研究がその性能向上に向けられている。し
かしながら、その性能向上は、経済的な制約もあり、実
際上ほぼ限界近くにきており、非常に解決困難な課題と
なっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、排ガスに含
まれている亜硫酸ガスを高効率でかつ経済的に除去し得
る排ガスの脱硫方法及び脱硫処理装置を提供することを
その課題とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、処理液と接触させた
後の処理済み排ガスをライザーに捕集して上方空間に高
速で移送させる工程を有する排ガスの脱硫処理方法にお
いて、ライザー内に液分散機構を配設し、この液分散機
構から上昇する排ガス中に下方に向けて液体を液滴粒子
として噴出させるに際し、該液滴粒子が下方向に進行し
た後上方向に流路変更するように噴出させることを特徴
とする排ガスの脱硫方法が提供される。

【０００５】また、本発明によれば、処理液と接触させ
た後の処理済み排ガスを捕集して上方空間に高速で移送
させるライザーを有する排ガスの脱硫装置において、排
ガスが上昇するライザー内に、噴出した液滴粒子が下方
向に進行した後上方向に流路変更するように液体を下方
向に噴出させる液分散機構を配設したことを特徴とする
排ガスの脱硫処理装置が提供される。

【０００６】次に本発明を図面を参照して詳述する。図
１は、本発明の排ガスの脱硫処理装置の模式図を示す。
図１において、１は排ガス処理装置の主体を構成する密
閉槽、２は排ガス供給管、３はガス導入管（スパージャ
ーパイプ）、４はライザー、５は第１室と第２室との間
の第１仕切板、６は第２室と第３室との間の第２仕切
板、７は排ガス衝突板、８〜１１及び１８、２０、２
０’は液分散機構、１２〜１５及び１９、２１は液供給
管、１６はガス排出管、１７はミストエリミネーター、
ａは第１室、ｂは第２室、ｃは第３室、Ｌは排ガス処理
液を各示す。

【０００７】図１に示した装置を用いて排ガスを脱硫処
理するには、排ガスを排ガス供給管２から第２室ｂに導
入するとともに、この第２室ｂからガス導入管３を介し
て第２室ｂの下方に隣接する第１室ａの処理液Ｌ中に放
出させて排ガスを処理液と接触させ、排ガス中の亜硫酸
ガスを排ガス処理液に吸収させて排ガスから除去する。
排ガス中の亜硫酸ガスが除去された排ガスはライザー４
内を上昇する。ライザー４において、その上端は第２仕
切板６の表面より突出しており、その第２仕切板６の表
面とそのライザー４の上端との間には、液体が滞留す
る。この滞留液はライザー４の上端からその周壁に沿っ
て第１室ａ内に流下するか又は配管を通して密閉槽１の
外部へ抜出される。ライザー４の横断面は円形や、正方
形、長方形等の各種の形状であることができる。ライザ
ー４内には、本発明による液分散機構（スプレーノズル
等）２０及び２０’が配設され、液体が下方に向けて噴
出されており、ライザー内を上昇する排ガスはこの液分
散機構から噴出された液滴粒子と接触するとともに、こ
の液滴粒子を含んだ状態でライザー４を上昇して第３室
ｃに入り、ライザーの上端上方に配設されている排ガス
衝突板７の下面に衝突する。ライザー４内に配設する液
分散機構は、図１に示すように２段に配設し得ることが
できる他、１段又は３段上に配設することもできる。

【０００８】液滴粒子を含む排ガスが排ガス衝突板７に
衝突すると、その排ガス中の液滴粒子は排ガスから分離
され、衝突板下面に付着し、その衝突板下面には液膜が
形成される。この液膜は、衝突板下面に沿って流下し、
その衝突板の周端部から流下する。ライザーを上昇する
排ガスは、このようにして下面に液膜が形成された衝突
板のその下面に衝突し、その液膜と接触する。この衝突
により排ガス中に残存する微量の亜硫酸ガスはその液膜
に捕捉され、排ガスから分離除去される。

【０００９】以上のようにして、ライザー４を上昇して
きた排ガスを、下面に液膜が形成された衝突板のその下
面に衝突させることにより、排ガス中に残存する亜硫酸
ガスの他、液滴粒子及び排ガス中に含まれる固体微粒子
等の汚染物質を排ガスから効率よく除去することがで
き、これによって排ガス処理効果は一層向上する。

【００１０】図１に示した液分散機構８〜１１におい
て、液分散機構１０は、衝突板の下面に液滴を吹付け
て、衝突板７の下面に常時液膜を形成させるためのもの
である。この液分散機構１０の配設により、ライザーを
上昇した排ガス中の液滴粒子量が少ない場合でも、衝突
板の下面に常時一定厚さの液膜を形成させることができ
る。液分散機構９、１１は、ライザーを上昇した排ガス
中に液体を噴霧するためのものである。この液分散機構
９、１１による液体の噴霧により、ライザーを上昇した
排ガスは、その液体の噴霧により形成された液滴粒子と
接触し、排ガス中に含まれる亜硫酸ガス等の汚染物質は
排ガス中から除去される。また、この液滴粒子は、排ガ
スに随伴されて衝突板に衝突することから、衝突板下面
に対して液膜の形成させる役割も果たす。液分散機構８
は、第３室ｃ内に液滴粒子を噴霧させるためのものであ
る。液分散機構８により第３室ｃ内に噴霧された液滴粒
子は、第３室ｃ内の衝突板に衝突したのちの排ガスと接
触し、排ガス中から汚染物質を除去する作用を示す。ま
た、前記液分散機構９、１１も、衝突板に衝突したのち
の排ガス中に液体を噴霧するように設置することもでき
る。また、ライザー上端と衝突板との距離はライザー内
を上昇する排ガスの流速によって変わるが、３００〜１
５００ｍｍが好しい。３００ｍｍ未満では排ガスの衝突
に際しての流路変更による圧力損失が大きく、経済的で
なく、１５００ｍｍを超えると衝突による効果が極く小
さくなる。

【００１１】本発明は、ライザー４の中間部内に、下方
に向けて液を噴出させる液分散機構の配設を必須とする
ものであり、液分散機構８〜１１及び１８は必要に応じ
その全部又は一部を省略することができる。また、排ガ
ス衝突板７も必要に応じ省略することができるが、この
衝突板は、本発明の場合、ライザー４を上昇し、第３室
ｃ内に導入される排ガスは相当量の液滴粒子を含むの
で、この液滴粒子を排ガスから分離除去させる点から
は、衝突板の配設は好ましいものである。ライザー内に
配設した液分散機構から液体を下方に向けてライザー内
を上昇する排ガス中に噴霧させると、その下方に向けて
噴出された液滴粒子は、上昇する排ガスに対して対向流
として接触しながら一定距離下方向に進んだ後、その流
路を反転させ、上昇する排ガスに対して並行流として接
触しながら排ガスとともにライザー内を上昇する。そし
て、下方向流として進行する液滴粒子が上方向流に反転
する部分においては、液滴粒子に対し強い混合作用が働
き、液滴粒子同志の合一や液滴粒子の分割（微粒子化）
が起り、これによって液滴粒子の表面更新が行われ、排
ガスとの向流接触により表面反応性が低下した液滴粒子
は再び表面反応性の向上した液滴粒子となる。

【００１２】下方向への液滴粒子の進行距離Ｓ（液分散
機構から液滴粒子の反転部までの距離）は、液分散機構
からの液体の噴出速度と噴霧により形成される液滴粒子
の粒径（直径）に関係し、その噴出速度が大きく、ま
た、液滴粒子の粒径の大きい程、その進行距離Ｓは長く
なる。本発明においては、液滴粒子同志の合一や分割を
生じさせるのに好ましい液滴粒子流の反転や、液滴粒子
による排ガス中の汚染物質の捕捉効率の点から、その進
行距離Ｓは、５０ｍｍ以上、好ましくは２００〜２００
０ｍｍ、より好ましくは１０００〜２０００ｍｍの範囲
に規定するのがよい。また、液滴粒子の平均粒子径は微
細である方が好ましいが、噴出後の液滴粒子の衝突板や
流路変更部材等による捕集の容易性の点からは、５０μ
ｍ以上にするのがよい。一方、液滴粒子を湿式電気集塵
機で捕集する場合には、５０μｍより微細な平均粒子径
であってもよい。液滴粒子の進行距離Ｓとしては、例え
ば、平均粒子径８００μｍの液滴粒子の場合、噴出速度
を７ｍ／秒以上とすることにより、１０００ｍｍ以上の
進行距離Ｓを得ることができる。液滴粒子の粒径が大き
くなると、その粒子の重力も加わって、液滴粒子の進行
距離Ｓは長くなるので、液滴粒子の噴出速度をその液滴
粒子の粒径に応じて調節する。また、ライザー内のガス
上昇速度に応じて液噴出速度を調節する。前記のように
して、ライザー内に液滴粒子を下方向流として所定距離
進行させた後、その液滴粒子を上方向流に流路変更させ
ることにより、排ガス中からの脱硫効率を一層向上させ
ることができる。

【００１３】ライザー内における排ガスの上昇速度は、
通常３〜２０ｍ／秒であるが、本発明では、この範囲の
いずれの上昇速度においても、液滴粒子流を下方向から
上方向に反転させることができるように、ライザー内の
排ガス上昇速度が小さい時にも反転できるように設計さ
れた液分散機構を配設する。上記のように、ライザー内
における排ガスの上昇速度の変動は大きいので、実用上
では、液滴粒子の進行距離Ｓが上昇速度により異なるの
で、これによる脱硫率の変動が発生する。このため、排
ガスの負荷変動（ライザー内の排ガスの上昇速度など）
に対し、安定な脱硫性能を確保するため、複数の液分散
機構をライザー内に配設することが好ましい（図１には
２段の液分散機構を有する排煙脱硫装置を示した）。例
えば、ライザー内における排ガスの最高上昇速度が１０
ｍ／秒以下では、１段の液分散機構、１５ｍ／秒では２
段の液分散機構、２０ｍ／秒では３段の液分散機構を配
設するのがよい。

【００１４】前記液分散機構に供給する液体は、排ガス
処理液と同一組成又は類似の組成の液体であることがで
きる他、亜硫酸ガスに対して反応性を示す任意の液体で
あることができ、また、水、海水等の入手容易な任意の
液体であることができる。特に水の使用は、噴霧した液
滴粒子が処理した排ガス中に残存しても爆塵とならない
ので好ましい。液体としては、例えば、Ｃａ（ＯＨ）₂
やＣａＣＯ₃、Ｍｇ（ＯＨ）₂等のカルシウム化合物やマ
グネシウム化合物の水溶液やスラリー液；ＮａＯＨ、Ｋ
ＯＨ等のアルカリ金属水酸化物の水溶液；ＮａＨＣ
Ｏ₃、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＫＨＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃等のアルカリ金
属炭酸塩の水溶液；排ガスと処理液との反応により生成
した石こうを含むスラリーやこのスラリーから石こうを
分離した後の母液等を用いることができる。ライザーを
上昇する排ガス中に噴霧する液体量は、必要最少限の気
液接触を確保するために、ガス／液比で、通常、０．０
５リットル／Ｎｍ³以上必要であり、基本的にはガス／
液比は大きい方が好ましいが、実用的には、０．１〜
１．５の範囲である。

【００１５】ライザー４内に噴出させる液体としては、
アルカリ金属水酸化物を含む水溶液の使用が好ましい。
このようなアルカリ性の強いアルカリ金属水酸化物の水
溶液を用いるときには、アルカリ金属水酸化物は、排ガ
ス中に含まれているＣＯ₂を吸収して炭酸塩として吸収
液中に溶解し、ｐＨ緩衝作用を発現し、亜硫酸ガスの吸
収に適した高いｐＨ条件で排ガスは液滴粒子と接触する
ことから、排ガス中の亜硫酸ガスを効率よく、しかも排
ガス中の亜硫酸ガス濃度が極めて低濃度になるまで吸収
除去することができ、その上、その使用量が少なくてす
むという利点が得られる。また、アルカリ金属の炭酸塩
や水酸化物等の水溶液を用いる場合には、カルシウム化
合物を含む水溶液やスラリー液を用いる場合に見られた
ような配管内面へのスケール発生の問題を回避すること
ができるという利点もある。

【００１６】ライザー内の液分散機構２０、２０’に液
体を供給する場合、第１室ａ内の処理液Ｌの所定量を抜
出し、これをそのまま又はこれを濾過や遠心分離して得
られる母液をその液分散機構に供給することができる。
また、第３室ｃの床面を形成する第２仕切板６の表面に
は、液分散機構２０、２０’から噴出された液体、液分
散機構９〜１１及び１８を用いるときには、それらの液
分散機構から噴出された液体が滞留しているが、本発明
ではこの滞留液を抜出し、ライザー内に配設された液分
散機構２０、２０’あるいは他の液分散機構に循環供給
することができる。

【００１７】前記第１室ａ内の処理液Ｌや第２仕切板６
の表面上の滞留液を配管を介して液分散機構２０、２
０’に循環供給させる場合、それらの液体は、先ず、液
貯槽に導入し、ここで一時的に貯留した後、配管を介し
て液分散機構２０、２０’及び／又は他の液分散機構８
〜１１、１８等に供給するのが好ましい。この場合、液
貯槽に入る前又は後の配管内を流れる液の一部を抜出
し、これを第１室ａの処理液中に導入させるとともに、
その液貯槽には、補充用の液体を供給するのが好まし
い。このようにして、液貯槽の前又は後の配管から液体
の一部を抜出し、第１室ａの処理液Ｌ中に導入するとき
には、液分散機構２０、２０’及びその他の液分散機構
に供給する液体の成分組成を常に所定の範囲に保持する
ことができるとともに、その液体中に残存する亜硫酸ガ
ス除去能力を第１室ａ内の処理液Ｌに移行させることが
でき、処理液Ｌの亜硫酸ガス除去能力を高めることがで
きる。

【００１８】排ガス衝突板７の形状は、平板状でもよい
が、液膜の形成が容易で排ガス中の亜硫酸ガスが容易に
分離されるように、周端部よりも中央部が上方に突出し
た形状、例えば、図１に示したような形状の他、陣笠状
等の形状であることができる。また、衝突板に対して
は、衝突板の中央部に、液体を衝突板の下方に液幕状又
は噴霧状で分散させる液分散機構を配設することができ
る。図２に、液体を液幕状に分散させる液体分散機構を
衝突板に配設した例にして示す。この液分散機構は、衝
突板の中央部下方に開口する液体導入管２３と、その液
体導入管の開口部を包囲する短筒２４と、その短筒の先
端開口に配設した液分散板２５から構成される。液分散
板２５としては、液体を放射状に分散させる構造のもの
であればよく、例えば、図３及び図４に示す構造のもの
等であることができる。また分散板２５は、回転モータ
に接続し、回転させることにより、分散された液体の噴
出し速度を高めることもできる。これによって、気液接
触の効率を高めることができる。

【００１９】本発明においては、ライザー４の上方に配
設した排ガス衝突板７に代えて、排ガス流路変更部材を
用いることもできる。排ガス流路変更部材は、その先端
が第２仕切板６の表面とライザー４の上端との間に位置
するガス案内壁を有する下端開口した中空構造体からな
るものである。このような中空構造の排ガス流路変更部
材においては、ライザー４を上昇してきた排ガスは、そ
の中空成形体の下端開口からその内部に入り、その下面
に衝突するとともに、その流路をガス案内壁により案内
される下降流となり、第３室ｃの床面を形成する第２仕
切板６の上面に滞留する液体（滞留液）と接触する。こ
の場合の下降流となった排ガスと第２仕切板上に滞留す
る液体との接触には、排ガスが液体中に導入され、気泡
となって液体中を上昇することにより行われる接触や、
下降流となった排ガスが液体表面に衝突することにより
行われる接触が包含される。

【００２０】排ガス流路変更部材において、その排ガス
衝突面は平面や曲面であることができ、また、ガス案内
壁面も平面や曲面であることができ、その先端部にはガ
ス噴出用の孔や切欠きを形成することができる。さら
に、ガス案内壁はガス衝突面の周囲に連続又は不連続状
に形成させることができる。図５〜図１２にその構造例
とともに、その配置状態図を示す。これらの図におい
て、２６は排ガス流路変更部材を示す。

【００２１】図５に示したものは、下端開口した中空球
状体構造のものであり、その中空球状体の中央部Ａが排
ガス衝突部を形成し、その中央部Ａより下方に延びる曲
面部Ｂがガス案内壁を形成する。また図５において、６
は第２仕切板、４はライザー、Ｃはその上端、Ｌ₂は液
体を示す。図５に示した排ガス流路変更部材において
は、ガス案内壁の先端は、第２吸収液体Ｌ₂の液面と同
一レベル又はそれよりやや下方あるいはやや上方に位置
させることができる。

【００２２】図６に示したものは、下端開口した箱状体
のものであり、その上板Ａが排ガス衝突部を形成し、そ
の上板の周縁から下方に延びる側壁Ｂがガス案内壁を形
成する。また、図６において、６は第２仕切板、４はラ
イザー、Ｃはその上端、Ｌ₂は液体を示す。図６に示し
た排ガス流路変更部材においては、ガス案内壁の先端は
液体Ｌ₂の液面と同一レベル又はそれよりやや下方ある
いはやや上方に位置させることができる。

【００２３】図７に示したものは、下端開口した中空構
造体のものであり、その中央部Ａが排ガス衝突部を形成
し、その中央部より下方に延びる曲面部Ｂがガス案内壁
を形成する。この中空構造体は、上方に突出した４つの
曲面を有するもので、その斜視図を図７（ｂ）に示す。
また、図７において、６は第２仕切板、４はライザー、
Ｃはその上端、Ｌ₂は液体を示す。図７に示した排ガス
流路変更部材においては、ガス案内壁の先端は液体Ｌ₂
の液面と同一レベル又はそれよりやや下方あるいはやや
上方に位置させることができる。

【００２４】図８に示したものは、下端開口した中空球
状体のものであり、その中央部Ａが排ガス衝突部を形成
し、その中央部から下方に延びる曲面部Ｂがガス案内壁
を形成する。この中空球状体は、そのガス案内壁の先端
が内側方向に向けて曲成されており、このため、中空球
状体内に導入された排ガスは渦流を形成し、吸収液をそ
の中空球状内部に巻上げる作用を示す。なお、吸収液の
巻上げ作用は、前記図５〜図７に示したものにおいて
も、そのガス案内壁の先端部を同様に内側に向けて曲成
することにより得ることができる。また、図８におい
て、６は第２仕切板、４はライザー、Ｃはその上端、Ｌ
₂は液体を示す。図８に示した排ガス流路変更部材にお
いては、ガス案内壁の先端は液体Ｌ₂の液面と同一レベ
ル又はそれよりやや下方あるいはやや上方に位置させる
ことができる。

【００２５】図９に示したものは、下端開口し、中央部
が曲面に形成された中空構造体のものであり、その中央
部Ａが排ガス衝突部を形成し、その中央部から下方に延
びる曲面部Ｂがガス案内壁を形成する。この中空構造体
は、そのガス案内壁の先端部が外側に向けて曲成されて
おり、このため、中央構造体の下端開口から排ガスが吹
出す際の圧力損失が小さいという利点がある。また、図
９において、６は第２仕切板、４はライザー、Ｃはその
上端、Ｌ₂は液体を示す。図９に示した排ガス流路変更
部材においては、ガス案内壁の先端は液体Ｌ₂の液面と
同一レベル又はそれよりやや下方あるいはやや上方に位
置させることができる。

【００２６】図１０に示したものは、下端開口した中空
球状体構造のものであり、その中央部Ａが排ガス衝突部
を形成し、その中央部から下方に延びる曲面部Ｂがガス
案内壁を形成する。この中空球状体においては、そのガ
ス案内壁の先端部に円形状の多数のガス噴出孔Ｐを有
し、排ガスはこのガス噴出孔より液体Ｌ₂中に噴出す
る。また、図１０において、３は第２仕切板、４はライ
ザー、Ｃはその上端、Ｌ₂は液体を示す。図１０に示し
た排ガス流路変更部材においては、ガス案内壁の先端及
びガス噴出孔Ｐは液体Ｌ₂中に位置する。

【００２７】図１１に示したものは、図１０に示したも
のと同様に、下端開口した中空球状体構造のものであ
り、その中央部Ａが排ガス衝突部を形成し、その中央部
から下方に延びる曲面部Ｂがガス案内壁を形成する。こ
の中空球状体においては、そのガス案内壁の先端に多数
の切欠部Ｑを有し、排ガスはこの切欠部Ｑより液体Ｌ₂
中に噴出する。また、図１１において、６は第２仕切
板、４はライザー、Ｃはその上端、Ｌ₂は液体を示す。
図１１に示した排ガス流路変更部材においては、ガス案
内壁の先端及びその切欠部Ｑは液体Ｌ₂中に位置する。

【００２８】図１２に示したものは、横断面が長方形状
のライザーに対して配設された下端開口した箱状体のも
のであり、その上板Ａが排ガス衝突部を形成し、その上
板の周縁から下方に延びる側壁Ｂ₁及びＢ₂がガス案内壁
を形成する。この箱状体において、その表面積の小さい
方の側壁Ｂ₂は必要に応じて省略することができる。ま
た、図１２において、３は第２仕切板、４はライザー、
Ｃはその上端、Ｌ₂は液体を示す。図１２に示した排ガ
ス流路変更部材においては、ガス案内壁の先端は液体Ｌ
₂の液面と同一レベル又はそれよりやや下方あるいはや
や上方に位置させることができる。また、図１２に示す
排ガス流路変更部材において、その側壁Ｂ₁及びＢ₂の先
端部分には、図１０及び図１１に示すように、ガス噴出
用の孔や切欠きを形成することができる。この場合に
は、その側壁Ｂ₁及びＢ₂の先端及びそのガス噴出用の孔
や切欠部は液体Ｌ₂中に位置させる。

【００２９】排ガス流路変更部材２６は、ライザー４を
上昇する排ガスをその下面で受け、そのガス案内壁によ
り下降流に変更させ、第２仕切板上に滞留する液体Ｌ₂
と接触させる作用を有するものである。この排ガス流路
変更部材２６の作用により、排ガス中に含まれる亜硫酸
ガスは、流路変更した排ガスと液体Ｌ₂との接触によ
り、液体中に吸収除去される。

【００３０】排ガス流路変更部材２６に対しては、前記
排ガス衝突板の場合と同様に、その中央下部に、液体を
排ガス流路変更部材の下方に液幕状又は噴霧状で分散さ
せる液分散機構を配設することができる。

【００３１】

【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。本発明の装置が実施例に示すものに限定されないこ
とはいうまでもない。たとえば、ガス排出管１６は第３
室ｃから水平方向に排ガスが抜き出されるように設ける
こともできる。

【００３２】実施例１図１に示す構造の本発明の排煙脱硫装置を用いて排ガス
の処理を行った。但し、液分散機構８〜１１及び１８は
省略した。また、比較のために、液分散機構２０、２
０’からの液の噴出を上方向にした以外は同一構造の装
置を用いて排ガスの処理を行った。この場合の排ガス処
理条件は次の通りである。

【００３３】（１）供給排ガスの性状ＳＯ₂濃度：７２０ｐｐｍガス量：１０，０００Ｎｍ³／ｈ温度：９０℃ （２）ライザー入口部での排ガスの性状ＳＯ₂濃度：５７ｐｐｍ温度：４６℃ （３）ライザー内を上昇する排ガス速度：１２ｍ／秒（４）ライザー中に配設した液分散機構２０、２０’の
操作条件供給液：ＮａＨＣＯ₃を、０．０１５ｍｏｌ／ｌ含
むｐＨ７．５の水溶液液分散機構から噴出された液滴粒
子の平均粒径：５００μｍ液体噴出速度：６ｍ／秒液滴粒子の下方向へ進む距離Ｓ：６００ｍｍ（５）排ガス処理液ＣａＣＯ₃を０．５重量％含むスラリー液、温度４６℃

【００３４】以上の条件で排ガスを処理し、ガス排出管
のミストエリミネーター１７を通過後の排ガスの性状を
調べて、本発明の装置と従来公知の装置（比較装置）と
の性能比較を行った。その結果を表１に示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】実施例２実施例１において、供給液を排ガス処理液ＬにＣａＣＯ
₃を加え、ｐＨ６．５としたスラリーとした以外は同一
条件で運転を行った。その結果、ミストエリミネーター
１７を通過後の排ガス中のＳＯ₂濃度は１８ｐｐｍであ
った。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、従来法では達成困難な
高脱硫率を格別の処理コストの増加を必要とせずに、低
消費動力で得ることができ、その産業的意義は多大であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の装置の模式図を示す。

【図２】液体分散機構を配設した衝突板の模式図を示
す。

【図３】分散板の１つの例についての斜視図を示す。

【図４】分散板の他の例についての斜視図を示す。

【図５】排ガス流路変更部材の１つの例についての構造
説明図とその配置状態図を示す。

【図６】排ガス流路変更部材の他の例についての構造説
明図とその配置状態図を示す。

【図７】排ガス流路変更部材のさらに他の例についての
構造説明図とその配置状態図を示す。

【図８】排ガス流路変更部材のさらに他の例についての
構造説明図とその配置状態図を示す。

【図９】排ガス流路変更部材のさらに他の例についての
構造説明図とその配置状態図とその配置状態図を示す。

【図１０】排ガス流路変更部材のさらに他の例について
の構造説明図とその配置状態図を示す。

【図１１】排ガス流路変更部材のさらに他の例について
の構造説明図とその配置状態図を示す。

【図１２】液分散機構を配設した排ガス流路変更部材の
説明図を示す。

【符号の説明】

１密閉槽２排ガス供給管３ガス導入管４ライザー５第１仕切板６第２仕切板７排ガス衝突板８〜１１、１８、２０液分散機構１２〜１５、１９、２１、２３液供給管１６ガス排出管１７ミストエリミネーター２５液分散板２６排ガス流路変更部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ０１Ｄ 53/18 Ｅ 53/34 ＺＡＢＢ０１Ｄ 53/34 １２５Ｃ (72)発明者岩▲崎▼ 守神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番１号千代田化工建設株式会社内 (72)発明者粟井英司神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番１号千代田化工建設株式会社内 (72)発明者武田大神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番１号千代田化工建設株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理液と接触させた後の処理済み排ガス
をライザーに捕集して上方空間に高速で移送させる工程
を有する排ガスの脱硫処理方法において、ライザー内に
液分散機構を配設し、この液分散機構から上昇する排ガ
ス中に下方に向けて液体を液滴粒子として噴出させるに
際し、該液滴粒子が下方向に進行した後上方向に流路変
更するように噴出させることを特徴とする排ガスの脱硫
方法。
【請求項２】ライザーの出口上方に排ガス衝突板又は
排ガス流路変更部材を配設し、ライザーを上昇してきた
液滴粒子を含む排ガスをその衝突板又は排ガス流路変更
部材の下面に衝突させる請求項１の方法。
【請求項３】液体がアルカリ金属水酸化物の水溶液で
ある請求項１又は２のいずれかの方法。
【請求項４】処理液と接触させた後の処理済み排ガス
を捕集して上方空間に高速で移送させるライザーを有す
る排ガスの脱硫装置において、排ガスが上昇するライザ
ー内に、噴出した液滴粒子が下方向に進行した後上方向
に流路変更するように液体を下方向に噴出させる液分散
機構を配設したことを特徴とする排ガスの脱硫処理装
置。
【請求項５】ライザーの出口上方に排ガス衝突板又は
排ガス流路変更部材を配設した請求項４の装置。