JPH08253799A - ヒドロフルオロアルケンの洗浄剤としての使用及び洗浄用組成物 - Google Patents
ヒドロフルオロアルケンの洗浄剤としての使用及び洗浄用組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 固体表面の洗浄剤として、オゾンに対して破
壊的な作用を有さず、洗剤の種々の用途においてＦ１１
３及びＦ１４１ｂに代わり得る製品を提供すること。 【解決手段】 成層圏のオゾンを破壊しない、式：Ｒf
−（ＣＨ2−ＣＦ2）n−ＣＨ＝ＣＦ2〔式中、ｎは１又は
２に等しく、Ｒfはペルフルオロアルキル基を表す〕の
ヒドロフルオロアルケンを、適宜有機溶媒と混合して固
体表面の洗浄剤として用いる。
壊的な作用を有さず、洗剤の種々の用途においてＦ１１
３及びＦ１４１ｂに代わり得る製品を提供すること。 【解決手段】 成層圏のオゾンを破壊しない、式：Ｒf
−（ＣＨ2−ＣＦ2）n−ＣＨ＝ＣＦ2〔式中、ｎは１又は
２に等しく、Ｒfはペルフルオロアルキル基を表す〕の
ヒドロフルオロアルケンを、適宜有機溶媒と混合して固
体表面の洗浄剤として用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フルオロ炭化水素
の分野、より具体的には、ヒドロフルオロアルケンの固
体表面の洗剤剤としての使用に関する。
の分野、より具体的には、ヒドロフルオロアルケンの固
体表面の洗剤剤としての使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタン（当該分野ではＦ１１３という名称
で知られている）は、その物理化学的特性、特に非引火
性、高湿潤性粉末、低溶解力及び低沸点のために、極め
て多様な性質の固体表面（金属、ガラス、プラスチック
又は複合固体）の洗浄及び脱脂用にいまもって工業的に
広く使用されている。エレクトロニクス分野では、Ｆ１
１３はプリント回路のフラックス除去及び低温洗浄にお
いて有用であることが特に知見された。Ｆ１１３の他の
用途としては、例えば、ジャイロスコープ及び軍用、航
空用又は医療用設備のような高品質且つ高精密金属部品
の脱脂、並びにデリケートな繊維及び皮の洗浄が挙げら
れる。
トリフルオロエタン（当該分野ではＦ１１３という名称
で知られている）は、その物理化学的特性、特に非引火
性、高湿潤性粉末、低溶解力及び低沸点のために、極め
て多様な性質の固体表面（金属、ガラス、プラスチック
又は複合固体）の洗浄及び脱脂用にいまもって工業的に
広く使用されている。エレクトロニクス分野では、Ｆ１
１３はプリント回路のフラックス除去及び低温洗浄にお
いて有用であることが特に知見された。Ｆ１１３の他の
用途としては、例えば、ジャイロスコープ及び軍用、航
空用又は医療用設備のような高品質且つ高精密金属部品
の脱脂、並びにデリケートな繊維及び皮の洗浄が挙げら
れる。
【０００３】Ｆ１１３の代わりに１，１−ジクロロ−１
−フルオロエタン（Ｆ１４１ｂという名称で知られてい
る）を使用するこれら種々の用途において、これらの溶
媒は、他の有機溶媒（例えばメタノール）と、特に、相
分離せず、還流しながら用いた場合に蒸気相においても
液相と実質的に同じ組成を有する共沸又は疑似共沸混合
物の形態で混合されることが多い。
−フルオロエタン（Ｆ１４１ｂという名称で知られてい
る）を使用するこれら種々の用途において、これらの溶
媒は、他の有機溶媒（例えばメタノール）と、特に、相
分離せず、還流しながら用いた場合に蒸気相においても
液相と実質的に同じ組成を有する共沸又は疑似共沸混合
物の形態で混合されることが多い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】残念なことには、成層
圏のオゾンを攻撃又は破壊するという疑いがもたれてい
るために、完全にハロゲン化されたクロロフルオロカー
ボンに属するＦ１１３は現在では禁止されており、クロ
ロフルオロヒドロカーボンに属するＦ１４１ｂは既に厳
密に規制されている。従って、オゾンに対して破壊的な
作用を有さず、種々の用途においてＦ１１３及びＦ１４
１ｂに代わり得る製品が求められている。
圏のオゾンを攻撃又は破壊するという疑いがもたれてい
るために、完全にハロゲン化されたクロロフルオロカー
ボンに属するＦ１１３は現在では禁止されており、クロ
ロフルオロヒドロカーボンに属するＦ１４１ｂは既に厳
密に規制されている。従って、オゾンに対して破壊的な
作用を有さず、種々の用途においてＦ１１３及びＦ１４
１ｂに代わり得る製品が求められている。
【０００５】
式（Ｉ）： Ｒf−（ＣＨ2−ＣＦ2）n−ＣＨ＝ＣＦ2 （Ｉ） 〔式中、ｎは１又は２に等しく、Ｒfは、１〜３個の炭
素原子を含む線状若しくは分枝ペルフルオロアルキル基
を表す〕のヒドロフルオロアルケンは、Ｆ１１３及びＦ
１４１ｂと同等の物理化学的特性を有しながら、成層圏
のオゾンを破壊する可能性がないことが見いだされた。
素原子を含む線状若しくは分枝ペルフルオロアルキル基
を表す〕のヒドロフルオロアルケンは、Ｆ１１３及びＦ
１４１ｂと同等の物理化学的特性を有しながら、成層圏
のオゾンを破壊する可能性がないことが見いだされた。
【０００６】従って、本発明の主題は、Ｆ１１３又はＦ
１４１ｂの代替物として式（Ｉ）のヒドロフルオロアル
ケンを種々の用途に用いることである。ヒドロフルオロ
アルケンをベースとする洗剤組成物も本発明の一部を構
成する。
１４１ｂの代替物として式（Ｉ）のヒドロフルオロアル
ケンを種々の用途に用いることである。ヒドロフルオロ
アルケンをベースとする洗剤組成物も本発明の一部を構
成する。
【０００７】
【発明の実施の形態】式（Ｉ）の化合物は公知化合物で
ある〔例えば、米国特許第３，１０６，５８９号及び第
３，１１６，３３７号の各明細書；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．８２，２８６８−７１（１９６０）；Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ １９６４，第２０巻、４９７−５
０６ページを参照されたい〕。該化合物は、それ自体公
知の方法、例えば、実質的に： ・ 銅ベースの触媒及びエタノールアミンの存在下に、
対応ヨウ化ペルフルオロアルキルＲfＩに１，１−ジフ
ルオロエチレンを付加する段階、及び ・ 得られたヨウ化物Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n+1−Ｉをア
ルコールカリの存在下に脱ヨウ化水素する段階 からなる多段階法により工業的に得ることができる。
ある〔例えば、米国特許第３，１０６，５８９号及び第
３，１１６，３３７号の各明細書；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．８２，２８６８−７１（１９６０）；Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ １９６４，第２０巻、４９７−５
０６ページを参照されたい〕。該化合物は、それ自体公
知の方法、例えば、実質的に： ・ 銅ベースの触媒及びエタノールアミンの存在下に、
対応ヨウ化ペルフルオロアルキルＲfＩに１，１−ジフ
ルオロエチレンを付加する段階、及び ・ 得られたヨウ化物Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n+1−Ｉをア
ルコールカリの存在下に脱ヨウ化水素する段階 からなる多段階法により工業的に得ることができる。
【０００８】本発明の式（Ｉ）の化合物の中では、１，
１，３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−
ヘキセンＣＦ3ＣＦ2−ＣＨ2ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2が特に
好ましく、該化合物は、以下の表に示されているよう
に、オゾン破壊能力（ＯＤＰ）以外は、Ｆ１１３と同等
の特性を有している。
１，３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−
ヘキセンＣＦ3ＣＦ2−ＣＨ2ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2が特に
好ましく、該化合物は、以下の表に示されているよう
に、オゾン破壊能力（ＯＤＰ）以外は、Ｆ１１３と同等
の特性を有している。
【０００９】
【表１】
【００１０】Ｆ１１３又はＦ１４１ｂを用いる洗浄技術
並びにこれらの用途に用いられるＦ１１３又はＦ１４１
ｂを主成分とする種々の組成物は当業者には周知であ
り、文献に記載されている。従って、本発明の実施に際
しては、当業者はＦ１１３又はＦ１４１ｂを、等量の式
（Ｉ）のヒドロフルオロアルケン、好ましくは１，１，
３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキ
センに置き換えるだけでよい。
並びにこれらの用途に用いられるＦ１１３又はＦ１４１
ｂを主成分とする種々の組成物は当業者には周知であ
り、文献に記載されている。従って、本発明の実施に際
しては、当業者はＦ１１３又はＦ１４１ｂを、等量の式
（Ｉ）のヒドロフルオロアルケン、好ましくは１，１，
３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキ
センに置き換えるだけでよい。
【００１１】Ｆ１１３又はＦ１４１ｂの場合と同様に、
式（Ｉ）のヒドロフルオロアルケンは、単独でも、該化
合物同士の混合物、又は該化合物と室温では液状の他の
有機溶媒、例えば、メタノール、エタノール及びイソプ
ロパノールのようなアルコール、アセトンのようなケト
ン、酢酸メチル、酢酸エチル及びギ酸エチルのようなエ
ステル、並びに塩化メチレン、２−メチルペンタン、
２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘキサン及び１−ヘキセ
ンのような塩素化若しくは非塩素化炭化水素との混合物
としても用い得る。
式（Ｉ）のヒドロフルオロアルケンは、単独でも、該化
合物同士の混合物、又は該化合物と室温では液状の他の
有機溶媒、例えば、メタノール、エタノール及びイソプ
ロパノールのようなアルコール、アセトンのようなケト
ン、酢酸メチル、酢酸エチル及びギ酸エチルのようなエ
ステル、並びに塩化メチレン、２−メチルペンタン、
２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘキサン及び１−ヘキセ
ンのような塩素化若しくは非塩素化炭化水素との混合物
としても用い得る。
【００１２】洗浄操作に特に有利な混合物は、例えば、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノー
ル、ペンタノール、アミルアルコール又はイソアミルア
ルコールのような１〜８個の炭素原子を含む線状若しく
は分枝アルコールを用いて１，１，３，３，５，５，
６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセンにより形成さ
れた共沸又は疑似共沸組成物である。
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノー
ル、ペンタノール、アミルアルコール又はイソアミルア
ルコールのような１〜８個の炭素原子を含む線状若しく
は分枝アルコールを用いて１，１，３，３，５，５，
６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセンにより形成さ
れた共沸又は疑似共沸組成物である。
【００１３】所望ならば、Ｆ１１３又はＦ１４１ｂを主
成分とする公知の洗浄剤組成物におけるように、本発明
のヒドロフルオロアルケンを主成分とする洗浄剤組成物
は、該組成物に、例えばニトロアルカン（ニトロメタ
ン、ニトロエタン、ニトロプロパンなど）又はアセター
ルのような通常の安定剤を添加して、洗浄プロセス中に
起こり得る加水分解及び／又はラジカルな攻撃に対して
も安定化し得る。安定剤の割合は、組成物の総重量の
０．０１〜５％の範囲であってよい。
成分とする公知の洗浄剤組成物におけるように、本発明
のヒドロフルオロアルケンを主成分とする洗浄剤組成物
は、該組成物に、例えばニトロアルカン（ニトロメタ
ン、ニトロエタン、ニトロプロパンなど）又はアセター
ルのような通常の安定剤を添加して、洗浄プロセス中に
起こり得る加水分解及び／又はラジカルな攻撃に対して
も安定化し得る。安定剤の割合は、組成物の総重量の
０．０１〜５％の範囲であってよい。
【００１４】
【実施例】以下の実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例には限定されない。
発明はこれら実施例には限定されない。
【００１５】実施例１：Ｃ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝Ｃ
Ｆ2／メタノール共沸混合物 （ａ）共沸混合物の確認 １００ｇの化合物Ｃ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2及
び１００ｇのメタノールを蒸留カラム（３０プレート）
の沸騰容器に導入する。次いで該系を平衡にするために
混合物を１時間完全に還流させる。約４０ｇのフラクシ
ョンを恒温（５５．５℃）で回収し、ガスクロマトグラ
フィーにかけて分析する。
Ｆ2／メタノール共沸混合物 （ａ）共沸混合物の確認 １００ｇの化合物Ｃ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2及
び１００ｇのメタノールを蒸留カラム（３０プレート）
の沸騰容器に導入する。次いで該系を平衡にするために
混合物を１時間完全に還流させる。約４０ｇのフラクシ
ョンを恒温（５５．５℃）で回収し、ガスクロマトグラ
フィーにかけて分析する。
【００１６】以下の表に示されている結果を検討するこ
とにより、Ｃ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2／メタノ
ール共沸混合物の存在が示される。
とにより、Ｃ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2／メタノ
ール共沸混合物の存在が示される。
【００１７】
【表２】
【００１８】（ｂ）共沸組成物の確認 ８４．５重量％のＣ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2及
び１５．５重量％のメタノールからなる混合物２００ｇ
を断熱蒸留カラム（３０プレート）の沸騰容器に導入す
る。次いで、該系を平衡にするために、混合物を１時間
還流させ、次いで約５０ｇのフラクションを回収し、該
フラクション及び蒸留残渣をガスクロマトグラフィーに
かけて分析する。以下の表に示されている結果は、共沸
混合物の存在を示している。
び１５．５重量％のメタノールからなる混合物２００ｇ
を断熱蒸留カラム（３０プレート）の沸騰容器に導入す
る。次いで、該系を平衡にするために、混合物を１時間
還流させ、次いで約５０ｇのフラクションを回収し、該
フラクション及び蒸留残渣をガスクロマトグラフィーに
かけて分析する。以下の表に示されている結果は、共沸
混合物の存在を示している。
【００１９】
【表３】
【００２０】はんだフラックスの洗浄又は金属部品の脱
脂に用いると、この共沸混合物は良好な結果を示す。
脂に用いると、この共沸混合物は良好な結果を示す。
【００２１】実施例２〜８ 実施例１と同じようにプロセスを実施するが、但し、メ
タノールの代わりに他のアルコールを用いる。以下の表
は、共沸混合物の標準圧力（１．０１３バール）下での
沸点及び組成を示す。
タノールの代わりに他のアルコールを用いる。以下の表
は、共沸混合物の標準圧力（１．０１３バール）下での
沸点及び組成を示す。
【００２２】
【表４】
【００２３】実施例９：安定化組成物 ９３重量％のＣ2Ｆ5ＣＨ2−ＣＦ2−ＣＨ＝ＣＦ2、６重
量％の２−ブタノール及び安定剤として１重量％のニト
ロメタンを含む混合物１５０ｇを超音波洗浄槽に導入す
る。該系を１時間還流させた後、蒸気相のアリコートを
回収する。アリコートをガスクロマトグラフィーにかけ
て分析すると、混合物が蒸気相において安定化されてい
ることを示唆するニトロメタンの存在が示される。
量％の２−ブタノール及び安定剤として１重量％のニト
ロメタンを含む混合物１５０ｇを超音波洗浄槽に導入す
る。該系を１時間還流させた後、蒸気相のアリコートを
回収する。アリコートをガスクロマトグラフィーにかけ
て分析すると、混合物が蒸気相において安定化されてい
ることを示唆するニトロメタンの存在が示される。
【００２４】
【表５】
【００２５】実施例１０：はんだフラックスの洗浄 実施例１の共沸組成物１２５ｍｌを、超音波発生機を備
えた小型の単一槽実験機に導入し、次いで液体を沸騰さ
せる。
えた小型の単一槽実験機に導入し、次いで液体を沸騰さ
せる。
【００２６】ロジンベースのはんだフラックス（Ａｌｐ
ｈａｍｅｔａｌ社製のフラックスＲ８Ｆ）でコーティン
グし、２３０℃で３０秒間アニーリングし、再冷却した
５種の標準テストサーキット（ＩＰＣ−Ｂ−２５モデ
ル）を超音波下に３分間沸騰液中に浸漬し、次いで蒸気
相中で３分間リンスする。
ｈａｍｅｔａｌ社製のフラックスＲ８Ｆ）でコーティン
グし、２３０℃で３０秒間アニーリングし、再冷却した
５種の標準テストサーキット（ＩＰＣ−Ｂ−２５モデ
ル）を超音波下に３分間沸騰液中に浸漬し、次いで蒸気
相中で３分間リンスする。
【００２７】風乾後、標準化手順ＩＰＣ−ＴＭ６５０の
第２．３．２５及び第２．３．２６、並びに標準ＭＩＬ
−ＳＴＤ−２０００に従ってイオン性残渣の量を測定し
て、洗浄の質を評価する。得られた値、１．７９μｇ
ｅｑ．ＮａＣｌ／ｃｍ2は、エレクトロニクス分野で許
容される閾値（２．５μｇ．ｅｑ．ＮａＣｌ／ｃｍ2）
をはるかに下回るものである。
第２．３．２５及び第２．３．２６、並びに標準ＭＩＬ
−ＳＴＤ−２０００に従ってイオン性残渣の量を測定し
て、洗浄の質を評価する。得られた値、１．７９μｇ
ｅｑ．ＮａＣｌ／ｃｍ2は、エレクトロニクス分野で許
容される閾値（２．５μｇ．ｅｑ．ＮａＣｌ／ｃｍ2）
をはるかに下回るものである。
Claims (8)
- 【請求項１】 式（Ｉ）： Ｒf−（ＣＨ2−ＣＦ2）n−ＣＨ＝ＣＦ2 （Ｉ） 〔式中、ｎは１又は２に等しく、Ｒfは、１〜３個の炭
素原子を含む線状若しくは分枝ペルフルオロアルキル基
を表す〕のヒドロフルオロアルケンの固体表面の洗浄剤
としての適用。 - 【請求項２】 ヒドロフルオロアルケンが１，１，３，
３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセン
である請求項１に記載の適用。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載のヒドロフルオロ
アルケンと、室温で液状の少なくとも１種の有機溶媒と
の混合物からなることを特徴とする固体表面洗浄用組成
物。 - 【請求項４】 溶媒が、アルコール、ケトン、エステ
ル、炭化水素及び塩素化炭化水素から選択される請求項
３に記載の組成物。 - 【請求項５】 １，１，３，３，５，５，６，６，６−
ノナフルオロ−１−ヘキセン及び１〜８個の炭素原子を
含む線状又は分枝アルコールからなる請求項４に記載の
組成物。 - 【請求項６】 少なくとも１種の安定剤をさらに含む請
求項３から５のいずれか一項に記載の組成物。 - 【請求項７】 安定剤がニトロアルカン又はアセタール
である請求項６に記載の組成物。 - 【請求項８】 安定剤の割合が、組成物の総重量の０．
０１〜５％である請求項６又は７に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9502752A FR2731436B1 (fr) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | Utilisation d'hydrofluoroalcenes comme agents de nettoyage, et compositions utilisables a cet effet |
| FR9502752 | 1995-03-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08253799A true JPH08253799A (ja) | 1996-10-01 |
Family
ID=9476896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8045083A Pending JPH08253799A (ja) | 1995-03-09 | 1996-03-01 | ヒドロフルオロアルケンの洗浄剤としての使用及び洗浄用組成物 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0731162A1 (ja) |
| JP (1) | JPH08253799A (ja) |
| KR (1) | KR960034383A (ja) |
| CN (1) | CN1136587A (ja) |
| AU (1) | AU4797596A (ja) |
| CA (1) | CA2169818A1 (ja) |
| FR (1) | FR2731436B1 (ja) |
| TW (1) | TW364014B (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002541282A (ja) * | 1999-04-01 | 2002-12-03 | アルカテル | 光ファイバを被覆するためのフッ素化ジオールに基づくポリウレタンアクリレートまたはビニル型高分子材料 |
| JP2009513348A (ja) * | 2005-11-01 | 2009-04-02 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 不飽和フッ素化炭化水素類を含む溶媒組成物 |
| JP2014028371A (ja) * | 2006-02-28 | 2014-02-13 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | クリーニング用途向けのフッ素化化合物を含む共沸組成物 |
| JP2016186077A (ja) * | 2008-12-17 | 2016-10-27 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 洗浄組成物及び方法 |
| JP2018150556A (ja) * | 2005-06-24 | 2018-09-27 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドＨｏｎｅｙｗｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ． | フッ素置換オレフィンを含有する組成物 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6610790B2 (en) | 2000-04-19 | 2003-08-26 | Dupont Dow Elastomers L.L.C. | Fluoroelastomer composition having excellent processability |
| ES2794405T3 (es) * | 2002-10-25 | 2020-11-18 | Honeywell Int Inc | Uso de composiciones que comprenden HFO-1234ze o HFO-1234yf como composición refrigerante |
| US20070098646A1 (en) | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Nappa Mario J | Aerosol propellants comprising unsaturated fluorocarbons |
| SG183037A1 (en) | 2007-04-27 | 2012-08-30 | Du Pont | Azeotropic and azeotrope-like compositions of z-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene |
| CA2684290C (en) | 2007-06-12 | 2016-09-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotropic and azeotrope-like compositions of e-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene |
| MX2010002471A (es) | 2007-09-06 | 2010-03-26 | Du Pont | Composiciones azeotropicas y similares a azeotropos de e-1,1,1,4,4,5,5,5-octafluoro-2-penteno. |
| AU2008331468B2 (en) | 2007-11-29 | 2015-02-05 | The Chemours Company Fc, Llc. | Compositions and use of cis-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene foam-forming composition in the preparation of polyisocyanate-based foams |
| KR20160015399A (ko) | 2007-12-19 | 2016-02-12 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | Ｚ-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐 함유 공비 또는 공비-유사 혼합물을 함유하는 폼-형성 조성물 및 폴리아이소시아네이트-기재 폼의 제조에서의 그의 용도 |
| US8821749B2 (en) | 2010-04-26 | 2014-09-02 | E I Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like compositions of E-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene and 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene |
| CN111892995B (zh) * | 2020-08-10 | 2021-09-07 | 深圳市创智成功科技有限公司 | 一种芯片封装工艺用助焊剂清洗剂 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU635362B2 (en) * | 1989-12-07 | 1993-03-18 | Daikin Industries, Ltd. | Cleaning composition |
| FR2658532B1 (fr) * | 1990-02-20 | 1992-05-15 | Atochem | Application des (perfluoroalkyl)-ethylenes comme agents de nettoyage ou de sechage, et compositions utilisables a cet effet. |
| JP2870095B2 (ja) * | 1990-03-06 | 1999-03-10 | 旭硝子株式会社 | ジクロロペンタフルオロプロパン系組成物 |
| US5037573A (en) * | 1990-10-03 | 1991-08-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Binary azeotropic compositions of 1,1-dichloro-1-fluoroethane and n-perfluorobutylethylene |
| EP0525266B1 (fr) * | 1991-07-31 | 1994-09-14 | Elf Atochem S.A. | Composition à base de (N. perfluorobutyl)-éthylène pour le nettoyage de surfaces solides |
| US5268122A (en) * | 1991-08-28 | 1993-12-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Gem-dihydropolyfluoroalkanes and monohydropolyfluoroalkenes, processes for their production, and use of gem-dihydropolyfluoroalkanes in cleaning compositions |
-
1995
- 1995-03-09 FR FR9502752A patent/FR2731436B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-02-09 EP EP96400269A patent/EP0731162A1/fr not_active Ceased
- 1996-02-19 CA CA002169818A patent/CA2169818A1/fr not_active Abandoned
- 1996-02-27 TW TW085102229A patent/TW364014B/zh active
- 1996-03-01 JP JP8045083A patent/JPH08253799A/ja active Pending
- 1996-03-08 CN CN96101888A patent/CN1136587A/zh active Pending
- 1996-03-08 AU AU47975/96A patent/AU4797596A/en not_active Abandoned
- 1996-03-08 KR KR1019960006193A patent/KR960034383A/ko not_active Withdrawn
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| JP2018150556A (ja) * | 2005-06-24 | 2018-09-27 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドＨｏｎｅｙｗｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ． | フッ素置換オレフィンを含有する組成物 |
| JP2019203134A (ja) * | 2005-06-24 | 2019-11-28 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドＨｏｎｅｙｗｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ． | フッ素置換オレフィンを含有する組成物 |
| JP2021004370A (ja) * | 2005-06-24 | 2021-01-14 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドＨｏｎｅｙｗｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ． | フッ素置換オレフィンを含有する組成物 |
| JP2022172289A (ja) * | 2005-06-24 | 2022-11-15 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | フッ素置換オレフィンを含有する組成物 |
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