JPH06207197A - １，１−ジクロロ−１−フルオロエタン及びギ酸メチルを主成分とする洗浄組成物 - Google Patents

１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン及びギ酸メチルを主成分とする洗浄組成物

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JPH06207197A
JPH06207197A JP3014463A JP1446391A JPH06207197A JP H06207197 A JPH06207197 A JP H06207197A JP 3014463 A JP3014463 A JP 3014463A JP 1446391 A JP1446391 A JP 1446391A JP H06207197 A JPH06207197 A JP H06207197A
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fluoroethane
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JP3014463A
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Daniel Desbiendras
ダニエル・デビヤンドウラ
Jean Jacques Martin
ジヤン−ジヤツク・マルタン
Pascal Michaud
パスカル・ミツシヨー
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（Ｆ14
1b）５５〜８０重量％及びギ酸メチル４５〜２０重量％
からなる組成物。 【効果】組成物は最低沸点共沸混合物（positive azeot
rope）（大気圧下での沸点２８．４℃）を形成する。該
組成物は所望により安定化することもでき、固体表面の
洗浄、特に印刷回路のフラックス除去及び機械部品の脱
脂に用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明はクロロフッ素化炭化水素の分野に
関し、更に詳しくは共沸状態を示す新規な組成物に関す
るものであり、該組成物は固体表面の洗浄及び脱脂剤と
して、特に印刷回路のフラックス除去及び低温洗浄に使
用し得る。
【０００２】１，１，２−トリクロロ−１，２，２−ト
リフルオロエタン（当該技術分野ではＦ113 として知ら
れている）が固体表面の洗浄及び脱脂用として工業的に
広く使用されている。たとえば、印刷回路に残存付着し
ているハンダフラックスを除去するために回路基板を洗
浄するという電子工学的用途の外に、重金属部品の脱脂
並びに例えばジャイロスコープ及び軍需又は航空宇宙産
業用の機材のような高品質、高精度の機械部品を洗浄す
る用途があげられる。その種々の用途において、Ｆ113
はたいていの場合他の有機溶媒（例えばメタノール）と
組合わされ、好ましくは、蒸留によって各成分に分ける
ことができず、還流下で気相と液相の組成が実質的に同
一であるような共沸混合物又は擬似共沸混合物の形態で
使用される。
【０００３】しかしながら、Ｆ113 は現在成層圏のオゾ
ンに作用してこれを分解すると考えられている完全にハ
ロゲン化されたクロロフルオロカーボンの１種である。
【０００４】本発明はこの問題の解決に寄与すべく、Ｆ
113 を主成分とする組成物に代えて、ギ酸メチル及び
１，１−ジクロロ−１−フルオロエタンを主成分とする
新規な組成物を提案するものである。当該分野でＦ141b
として知られている後者の化合物はオゾンに対する破壊
作用を事実上もたない。
【０００５】本発明で使用される組成物はＦ141b 55〜
80重量％とギ酸メチル２０〜４５％とからなっている。
【０００６】この範囲では、標準大気圧下（1.013 バー
ル）における沸点が２８．４℃である共沸状態が形成さ
れ、本発明の組成物は擬似共沸混合物の挙動を示す。す
なわち、気相と液相の組成が実質的に同一である。これ
は目的とする用途に対して特に有益である。好ましくは
Ｆ141bの含量は６１〜６５重量％の間で、またギ酸メチ
ルの含量は３５〜３９重量％の間で選択される。
【０００７】Ｆ141b／ギ酸メチル共沸混合物は、その沸
点（２８．４℃）が２つの成分の沸点（Ｆ141b：３２
℃，ギ酸メチル：３１．７℃）より低いので最低沸点を
有する共沸混合物（positive azeotrope）である。
【０００８】本発明の組成物はＦ113 を主成分とする公
知の組成物と同様に、例えばニトロメタン、プロピレン
オキシド又はこれらの化合物の混合物のような一般的な
安定剤を、その割合がＦ141b及びギ酸メチルの合計重量
に対して０．０１〜５％の範囲となるように加えること
によって、洗浄工程中に起る可能性のある加水分解及び
／又は遊離基の作用に対して有利に安定化され得る。
【０００９】本発明の組成物はＦ113 を主成分とする従
来の組成物と同様の手法を用いて、同様の用途に使用さ
れ得る。
【００１０】
【実施例】次の実施例は本発明を説明するものでありそ
れに制限を加えるものではない。
【００１１】実施例１：共沸混合物の検出 ギ酸メチル 100ｇ及びＦ141b 100ｇを蒸溜塔（３０段）
の底部に導入する。次に混合物を１時間還流させて平衡
系にする。定常温度（２８．４℃）に達した後、留分
（約５０ｇ）を取出し、ガスクロマトグラフィーによっ
て分析する。
【００１２】下記の表に示したテスト結果はＦ141b／ギ
酸メチル共沸混合物の存在を示している。
【００１３】
【表１】
【００１４】実施例２：共沸組成物の検定 Ｆ141b ６４重量％及びギ酸メチル３６重量％からなる
混合物 200ｇを断熱蒸溜塔（３０段）の底部に導入す
る。次に混合物を１時間還流させて平衡系にした後、留
分（約５０ｇ）を取り出し、蒸留塔底部残留分と共にガ
スクロマトグラフィーによって分析する。
【００１５】下記の表に示したテスト結果は、その沸点
が純粋な成分Ｆ141b及びギ酸メチルの沸点より低いので
最低沸点共沸混合物が存在していることを示している。
【００１６】
【表２】
【００１７】この共沸混合物はハンダフラックスを洗浄
したり、機械部品の脱脂をするのに使用するとＦ113 及
びメタノールを主成分とする組成物のそれと同様に良好
な結果を示す。
【００１８】実施例３ ：ニトロメタンで安定化した組成物 Ｆ141b ６４重量％、ギ酸メチル３５．９２％及び安定
剤としてのニトロメタン０．０８％を含む混合物 150ｇ
を超音波洗浄浴に導入する。この系を１時間還流させた
後、蒸気相のアリコートを取り出す。ガスクロマトグラ
フィーによる分析結果はニトロメタンの存在を示してお
り、これはこの混合物が蒸気相において安定化されてい
ることを示している。
【００１９】
【表３】
【００２０】実施例４ ：プロピレンオキシドで安定化した組成物 ニトロメタンをプロピレンオキシドに代え、実施例３と
同様にして次の結果を得る。
【００２１】
【表４】
【００２２】実施例５：二重安定化組成物 ニトロメタン０．１％及びプロピレンオキシド０．１％
を使用し、実施例３と同様にして次の結果を得る。
【００２３】
【表５】
【００２４】実施例６：ハンダフラックスの洗浄除去 Ｆ141b／ギ酸メチル共沸組成物２００ｇをAnnemasse 超
音波浴に導入し、次に混合物を沸騰温度にする。
【００２５】ハンダフラックスで被覆し、２２０℃のオ
ーブン中で３０秒間加熱したガラス板を、沸騰した超音
波液中に３分間浸漬し、次いで蒸気相で３分間すすぐ。
【００２６】空気中で乾燥後、低角度の光線を用いた検
査ではハンダフラックスが完全に残留しないことを示
す。このようにしてＦ113 ／メタノール（93.7％／ 6.3
％）組成物を用いた時と同様の結果が得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:30） (72)発明者 ジヤン−ジヤツク・マルタン フランス国、92270・ボア−コロンブ、ア ブニユ・ビテル、15 (72)発明者 パスカル・ミツシヨー フランス国、95210・サン−グラチイアン、 ブルバー・パストウール、35

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 １，１−ジクロロ−１−フルオロエタン
    ５５〜８０重量％及びギ酸メチル４５〜２０重量％から
    なる洗浄組成物。
  2. 【請求項２】 １，１−ジクロロ−１−フルオロエタン
    ６１〜６５重量％及びギ酸メチル３９〜３５重量％を含
    有する請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 大気圧下で沸点２８．４℃を有する共沸
    混合物の形態である請求項２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】 少なくとも１種の安定剤を含有する請求
    項１〜３のいずれか１つに記載の組成物。
  5. 【請求項５】 安定剤がニトロメタン，プロピレンオキ
    シド又はこれらの化合物の混合物である請求項４に記載
    の組成物。
  6. 【請求項６】 安定剤の割合が１，１−ジクロロ−１−
    フルオロエタン及びギ酸メチルの混合物全体の重量に対
    して０．０１〜５％である請求項４又は５に記載の組成
    物。
  7. 【請求項７】 請求項１〜６の１つに記載の組成物の固
    体表面洗浄用としての適用。
  8. 【請求項８】 印刷回路のフラックス除去用及び機械部
    品の脱脂用としての請求項７に記載の適用。
JP3014463A 1990-02-07 1991-02-05 １，１−ジクロロ−１−フルオロエタン及びギ酸メチルを主成分とする洗浄組成物 Pending JPH06207197A (ja)

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