JPH0825945B2 - ビフエニル化合物 - Google Patents

ビフエニル化合物

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JPH0825945B2
JPH0825945B2 JP63128264A JP12826488A JPH0825945B2 JP H0825945 B2 JPH0825945 B2 JP H0825945B2 JP 63128264 A JP63128264 A JP 63128264A JP 12826488 A JP12826488 A JP 12826488A JP H0825945 B2 JPH0825945 B2 JP H0825945B2
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benzene
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和彦 土屋
淳 杉浦
賢治 鈴木
恒宣 藤井
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Kanto Chemical Co Inc
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Kanto Chemical Co Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は新規な液晶化合物並びにこの液晶化合物の少
なくとも一種を含有する液晶組成物に関する。更に詳し
く言えば、本発明は強誘電性液晶に関し、実用的な強誘
電性液晶組成物作成の際の成分として有用で、かつ、化
学的安定性に優れた新規なビフエニル化合物並びにこの
ビフエニル化合物の少なくとも一種を含有する液晶組成
物に関する。
〔従来技術〕
現在、各種表示素子が実用化されているが、中でも液
晶表示素子は受光型で目が疲れない、消費電力が極めて
少ない、薄型で有る等の優れた特徴を有しており、時
計、電卓、パーソナルワープロなどに広く利用されてい
るがこれらは、ネマチツク液晶を用いた表示素子であ
り、応答速度が遅いという欠点を有している。この欠点
を改善するため種々の研究がなされているが、この欠点
は、未だ充分には改善されていない。
そのためネマチツク液晶を用いる方式とは異なる別の
方式の研究も活発に行われている。その一つとして強誘
電性液晶を用いる方式がある。
強誘電性液晶はR.B.Meyerらにより見い出されたもの
であるが（J.Physique、36、Ｌ−69（1975）参照）、ネ
マチツク液晶に比べて格段に高速応答が可能であるとこ
ろから、これを用いた表示素子の研究が活発に行われて
いる（N.A.Clark、S.T.Lagerwall Appl.Phys.Lett、3
6、899（1980））。
この表示方式は、強誘電性液晶のカイラルスメクチツ
クＣ相（以下SmC＊相と略記する）、カイラルスメクチ
ツクＨ相（以下SmH＊相と略記する）を利用するもので
あるが、それらの相が室温付近に存在する液晶物質が望
まれている。
〔発明の目的〕
表示素子に用いる強誘電性液晶は、ネマチツク液晶の
場合と同様に、単体化合物そのものではなく、多数の強
誘電性液晶単体を混合した組成物として用いられてい
る。
一般に、適当に選ばれた単体化合物を混合し、所要の
物性を有する組成物を作成するのであるが、その組成成
分となり得る強誘電性液晶化合物は少なく、新規な化合
物の開発が強く望まれ、特に、室温付近に強誘電性液晶
相を有する物質の開発が要求されているが、本発明の目
的は、かかる要求に適する新規な物質を提供することに
ある。
〔発明の開示〕
本発明は、一般式、 （式中Ｒ＊は不斉炭素原子を有する炭素原子数４〜14の
アルキル基であり、X1,X2,X3,X4は、それらのうちいず
れか１つ又は２つがフツ素原子であるいは塩素原子であ
って他は水素原子でありＹはR,OR,COORまたはOCORを示
し、Ｒは炭素原子数３〜14のアルキル基である。ただ
し、X1がハロゲン原子である場合にはＹはＲでなく、ま
たX1あるいはX4がフッ素原子である場合にはＹはORでな
いものとする）で表される光学活性ビフエニル化合物並
びに、それらの化合物の少なくとも一つを含有すること
を特徴とする液晶組成物を提供するものである。本発明
に係わる新規な強誘電性液晶化合物は、それ自体単独で
室温域に広いSmC＊相を有するものであるが、上記式
（Ｉ）で表わされる化合物の混合物を作成するか、ある
いはそれらを他の組成物に添加することによりSmC＊相
の温度範囲をさらに拡張することができる。本発明に係
る新規なビフエニル誘導体は表示素子の動作温度範囲拡
張のために有効に使用できる物質である。
以下に本発明に係る新規化合物の合成経路を示し、ま
た、本発明に係る化合物の製造につき実施例等によりさ
らに詳しく説明する。
本発明に係る新規なビフエニル化合物は種々の経路で
合成することができるが、例えば次に示す経路により製
造することができる。
以下に実施例を掲げ、本発明に係る化合物ならびにそ
の製造の具体例を示す。例中の記述に使用される略号、
記号は下記のとおりである。
TLC:薄層クロマトグラフイー HPLC:高速液体クロマトグラフイー GCL:ガスクロマトグラフイー I.R.:赤外線吸収スペクトル Mass:質量スペクトル b.p.:沸点 m.p.:融点 C:結晶 SX,SmX:同定出来なかったスメクテイツク相 SC ＊,SmC＊：カイラルスメクテイツクＣ相 SA,SmA:スメクテイツクＡ相 Cho:コレステリツク相 I:等方性液体 ?:温度不明 なお、相転移温度については、その測定方法ならびに
測定物質の純度により、多少の数値の差異が見られるの
が通常である。本実施例における数値は、実験値の平均
で表わされている。
参考例 １ 反応容器に、デシルブロマイド19g、４−ブロモフエ
ノール15g、K2CO3 24gおよびシクロヘキサノン150mlを
仕込み、120〜130℃で９時間加熱撹拌した。
反応終了後、吸引過により固形物を過し、ろ液を
水洗した後、芒硝で乾燥した。シクロヘキサノンを留去
し、残留分を減圧蒸留すると４−ブロモ−デシルオキシ
ベンゼン24gが得られた。
b.p. 152〜163℃/1mmHg GLC 92％以上 反応容器に、（ｓ）−４−メチルヘキシルブロマイド
20g、２−フルオロフエノール12g、K2CO3 24gおよびシ
クロヘキサノン150mlを仕込み、120〜130℃で11時間加
熱撹拌した。
反応終了後、吸引過により固形物を過し、ろ液を
水洗し、芒硝で乾燥した。溶媒を留去し、残留分を減圧
蒸留すると（ｓ）−２−フルオロ−（４′−メチルヘキ
シル）オキシベンゼン22gが得られた。
b.p. 81〜90℃/0.6mmHg GLC 98％以上 反応容器に、上記（ｂ）で得られた（ｓ）−２−フル
オロ−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼン20gお
よびクロロホルム50mlを仕込み、撹拌しながらこれに、
室温下でBr2 16gを滴下した。
さらに４時間撹拌した後、反応混合物をNaOH水溶液に
注加し、遊離した有機層を水洗し、芒硝で乾燥した。
溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留すると（ｓ）−２−
フルオロ−４−ブロモ−（４′−メチルヘキシル）オキ
シベンゼン20gが得られた。
b.p. 88〜94℃/0.15mmHg GLC 97％以上 反応容器にMg0.84gを仕込み、これに、前記（ａ）で
得られた４−ブロモデシルオキシベンゼン11gのTHF20ml
溶液を適当量注加し、さらにI2の小片を加えて加温し、
反応を開始させた後、残りのTHF溶液をゆっくり還流さ
せながら撹拌下に滴下した。滴下後２時間還流しグリニ
ヤール試薬を作成した。
別の容器にCl2Pd（PPh3）20.2gおよびTHF50mlを仕込
み、N2気流下にこれに1Mの（iso−C4H9）2AlH/ヘキサン
溶液2mlを加えた。これに前記（ｃ）で得た（ｓ）−２
−フルオロ−４−ブロモ−（４′−メチルヘキシル）オ
キシベンゼン10gのTHF30ml溶液を加えた。これを加温
し、50〜55℃で、先に調製したグリニヤール試薬を滴下
し、同温度で２時間熟成した。反応液を希塩酸に注加
し、ベンゼンで抽出し、水洗した後、芒硝で乾燥した。
ベンゼンを留去し、残留分をヘキサン−ベンゼン（10:
1）を溶出液としてシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにて精製した。得られた結晶をアセトンから再結晶す
ることにより（ｓ）−４−デシルオキシ−３′−フルオ
ロ−４′−（４″−メチルヘキシル）オキシビフエニル
1.7gを得た。
この物の純度は、液体クロマトグラフイーにて、99％
以上であった。またこのものは、赤外線吸収スペクトル
およびマススペクトル分析で442に分子イオンピークが
認められたこと、並びに用いた原料の関係から目的物質
であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 ２ 反応器に、２−フルオロアニソール128g（1.016mo
l）、クロロホルム250mlを仕込み、室温撹拌下に臭素17
7g（1.106mol）を３時間以上かけて滴下した。反応液を
希NaOH水溶液に注加し、クロロホルム層を分取し、食塩
水にて洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、残留物を
減圧蒸留して２−フルオロ−４−ブロモアニソールを得
た。
収量 192g（収率92.3％） b.p. 107〜118℃/25〜31mmHg GLC 99％以上 窒素気流下、反応器にマグネシウム22g（0.905mo
l）、ヨウ素少量、THF50mlを仕込み、これにブロモベン
ゼン144g（0.917mol）のTHF150ml溶液を適当量注加し加
温した。反応開始後残りのTHF溶液を還流撹拌下に滴下
し、滴下後２時間還流してグリニヤール試薬を作成し
た。
別の容器にCl2Pd（PPh3）23.6g及びTHF100mlを仕込
み、窒素気流下に（iso−C4H2）2AlH/ヘキサンの１モル
溶液260mlを加え、さらに（ａ）で得られた２−フルオ
ロ−４−ブロモアニソール120g（0.585mol）のTHF150ml
溶液を加えた。
これを加温し50〜60℃で先に作成したグリニヤール試
薬を滴下し、同温度で２時間熟成した。反応終了後、反
応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗後、芒
硝で乾燥、溶媒を留去した。残留分をクロロホルム−ヘ
キサン混合溶媒から再結晶し、さらにヘキサンを溶出液
としてシリカゲルカラムクロマトグラフイーに精製し、
３−フルオロ−４−メトキシビフエニルを得た。
収量 96g（81.3％） GLC 98％以上 反応器に（ｂ）で得られた３−フルオロ−４−メトキ
シビフエニル95g（0.470mol）および塩化メチレン400ml
を仕込み、撹拌下、０℃以下で無水塩化アルミニウム94
g（0.705mol）を少しずつ加え、さらにアセチルクロラ
イド56g（0.705mol）を滴下した。滴下後徐々に昇温し
ながら６時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、有機
層を水洗、芒硝乾燥し、溶媒を留去した。残留分をクロ
ロホルムで再結晶して、３−フルオロ−４−メトキシ−
４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 114g（99.3％） GLC 99％以上 反応器に（ｃ）で得られた３−フルオロ−４−メトキ
シ−４′−アセチルビフエニル84g（0.344mol）、48％
臭化水素酸700mlおよび酢酸900mlを仕込み100〜110℃で
12時間加熱撹拌した。反応液を水に注加し、析出した結
晶を取し、水洗後、塩化メチレンを溶出液としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーで精製し３−フルオロ
−４−ヒドロキシ−４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 58g（73.2％） GLC 99％以上 反応器に（ｄ）で得られた３−フルオロ−４−ヒドロ
キシ−４′−アセチルビフエニル12.6g、（ｓ）−２−
メチルブチルブロマイド9.3g、炭酸カリウム15.1g及び
シクロヘキサノン200mlを仕込み、90〜100℃で20時間加
熱撹拌した。反応液を過して得られる固形物をベンゼ
ンで洗浄し、線液と液を合わせ、これを水洗後、芒硝
で乾燥した。
溶媒を留去し、残留分をアセトン−メタノールで再結
晶して（ｓ）−３−フルオロ−４−（２″−メチルブチ
ル）オキシ−４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 10.8g（65.5％） GLC 99％以上 反応器に（ｅ）で得られた（ｓ）−３−フルオロ−４
−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビフ
エニル8.0g、88％ギ酸36gおよび塩化メチレン90mlを仕
込み、室温撹拌下に無水酢酸16g、濃硫酸1.0ml、次いで
35％過酸化水素30gを順次滴下した。滴下後、TLC（Kies
elgel 60F254展開液ベンゼン）で原料が消失するまで還
流した。反応液を水に注加し、１時間撹拌後、洗液が中
性になるまで有機層を水洗し、芒硝で乾燥した。溶媒を
留去して得られる残留分にメタノール70ml、40％KOH水
溶液に20mlを加え、撹拌下に70℃で３時間反応させた。
反応液を水に注加し、塩酸酸性とした後、エーテルで抽
出した。抽出液を水洗し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去
し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて
精製して、（ｓ）−３−フルオロ−４−（２″−メチル
ブチル）−４′−ヒドロキシビフエニルを得た。
収量 5.2g（71.2％） GLC 98％以上 反応器に（ｆ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル1.5g、オクチルブロマイド2.0g、炭酸カリウム1.
35g、及びシクロヘキサノン25mlを仕込み、90〜100℃で
15時間反応させた。反応液を過し、得られる固形物を
ベンゼンで洗浄し、洗液と液を合わせ、これを水洗
後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去して得られる残留分を
アセトン−メタノールから再結晶し（ｓ）−３−フルオ
ロ−４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−オクチ
ルオキシビフエニルを得た。
収量 0.9g（47.6％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、及び、
マススペクトル分析で386に分子イオンピークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物質が
目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 ３、４、５ 参考例２−（ｇ）においてオクチルブロマイド2.0gに
替えて、ペンチルブロマイド1.8gまたはデシルブロマイ
ド2.2gあるいはドデシルブロマイド2.4gを用い、他は同
様に操作することにより、相当する下記に式で示す化合
物をそれぞれ収量1.0g（56.2％）、0.7g（34.5％）、1.
5g（70％）で得た。
これらの化合物の純度は液体クロマトグラフイーに
て、99％以上であった。また、赤外線吸収スペクトル測
定、および、マススペクトル分析でそれぞれ344、414、
442に分子イオンピークが認められたこと、並びに用い
た原料の関係から得られたこれらの物質が目的物である
ことを確認した。
これらをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、偏
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 ６ 参考例２−（ｅ）において（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド9.3gの替わりに（ｓ）−４−メチルヘキシル
ブロマイド10.7gを用いて同様に操作して（ｓ）−３−
フルオロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′
−アセチルビフエニル収量15g（70％）を得た。この9.2
gを参考例２−（ｆ）において（ｓ）−３−フルオロ−
４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビ
フエニル8.0gの替わりに用い、他は同様に操作して
（ｓ）−３−フルオロ−４−（４″−メチルヘキシル）
オキシ−４′−ヒドロキシビフエニルを得た。
収量 5.7g（66.8％）を得た。
GLC 97％以上 反応器に上記（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４
−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ヒドロキシ
ビフエニル1.5g、オクチルブロマイド1.1g、炭酸カリウ
ム1.71g、およびシクロヘキサノン20mlを仕込み、90〜1
00℃で15時間反応させた。反応液を過し、得られる固
形物をベンゼンで洗浄し、洗液と液を合わせ、これを
水洗後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去して得られる残留
分をアセトン−メタノールから再結晶し（ｓ）−３−フ
ルオロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−
オクチルオキシビフエニルを得た。
収量 1.0g（48.1％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で414に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 ７ 参考例６−（ｂ）においてオクチルブロマイド1.1gに
替えてペンチルブロマイド0.85gを用い、他は同様に操
作して（ｓ）−３−フルオロ−４−（４″−メチルヘキ
シル）オキシ−４′−ペンチルオキシビフエニルを得
た。
収量 1.4g（76.8％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で372に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 ８ 参考例２−（ｅ）において（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド9.3gに替えて（ｓ）−６−メチルオクチルブ
ロマイド12.7gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−３
−フルオロ−４−（６″−メチルオクチル）オキシ−
４′−アセチルビフエニル収量13.1g（67％）を得た。
この10gを参考例２−（ｆ）における（ｓ）−３−フル
オロ−４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセ
チルビフエニル8.0gに替えて用い、他は同様に操作して
（ｓ）−３−フルオロ−４−（６″−メチルオクチル）
オキシ−４′−ヒドロキシビフエニル収量2.7g（29％）
を得た。
GLC 99％以上 反応器に上記（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４
−（４″−メチルオクチル）オキシ−４′−ヒドロキシ
ビフエニル1.0g、オクチルブロマイド1.2g、炭酸カリウ
ム1.0g、及びシクロヘキサノン25mlを仕込み、90〜100
℃で15時間反応させた。反応液を過し、得られる固形
物をベンゼンで洗浄し、洗液と液を合わせ、これを水
洗後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去して得られる残留分
をアセトン−メタノールから再結晶し（ｓ）−３−フル
オロ−４−（４″−メチルオクチル）オキシ−４′−オ
クチルオキシビフエニルを得た。
収量 0.84g（63.2％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で442に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 ９、10 参考例８−（ｂ）においてオクチルブロマイド1.2gに
替えて、それぞれヘキシルブロマイド1.0gあるいはデシ
ルブロマイド0.8gを用い、他は同様に操作して対応する
（ｓ）−３−フルオロ−４−（６″−メチルオクチル）
オキシ−４′−ヘキシルオキシビフエニル1.1g（収率88
％）および（ｓ）−３−フルオロ−４−（６″−メチル
オクチル）オキシ−４′−デシルオキシビフエニル0.65
g（収率93％）を得た。
これらの純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析でそれぞれ414、470に分子イオ
ンピークが認められたこと、並びに用いた原料の関係か
ら得られた物質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 11 参考例２−（ｅ）において（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド9.3gに替えて（ｓ）−１−メチルブチルトシ
レート14.9gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−３−
フルオロ−４−（１″−メチルブチル）オキシ−４′−
アセチルビフエニル10.2g（収率62％）を得た。この8g
を参考例２−（ｆ）における（ｓ）−３−フルオロ−４
−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビフ
エニル8gに替えて用い、他は同様に操作して（ｓ）−３
−フルオロ−４−（１″−メチルブチル）オキシ−４′
−ヒドロキシビフエニル5.0g（収率65.3％）を得た。GL
C 79％以上 反応器に（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４−
（１″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル1.0g、オクチルブロマイド1.4g、炭酸カリウム1.
0g、およびシクロヘキサノン25mlを仕込み、90〜100℃
で15時間反応させた。反応液を過し、得られる固形物
をベンゼンで洗浄し、洗液と液を合わせ、これを水洗
後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去して得られる残留分を
アセトン−メタノールから再結晶し（ｓ）−３−フルオ
ロ−４−（１″−メチルブチル）オキシ−４′−オクチ
ルオキシビフエニルを得た。
収量 0.6g（43.2％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で386に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 12、13 参考例11−（ｂ）においてオクチルブロマイド1.4gに
替えて、それぞれデシルブロマイド1.6gあるいはテトラ
デシルブロマイド2.0gを用い、他は同様に操作して対応
する（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチルブチ
ル）オキシ−４′−デシルオキシビフエニル0.7g（収率
47％）および（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチ
ルブチル）オキシ−４″−テトラデシルオキシビフエニ
ル0.8g（収率47％）を得た。
これらの純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析でそれぞれ414、470に分子イオ
ンピークが認められたこと、並びに用いた原料の関係か
ら得られた物質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 14 参考例２−（ｅ）において（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド9.3gに替えて（ｓ）−１−メチルヘプチルト
シレート18gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−３−
フルオロ−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′
−アセチルビフエニル9.1g（収率46.8％）を得た。この
9.1gを参考例２−（ｆ）における（ｓ）−３−フルオロ
−４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチル
ビフエニル8.0gに替えて用い、他は同様に操作して
（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチルヘプチル）
オキシ−４′−ヒドロキシビフエニル3.2g（収率37.9
％）を得た。
反応器に上記（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４
−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−ヒドロキシ
ビフエニル1.4g、ヘキシルブロマイド2.0g、炭酸カリウ
ム1.9g、およびシクロヘキサノン25mlを仕込み、90〜10
0℃で15時間反応させた。反応液を過し、得られる固
形物をベンゼンで洗浄し、洗液と液を合わせ、これを
洗浄後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去してえられる残留
分をアセトン−メタノールから再結晶し（ｓ）−３−フ
ルオロ−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−
ヘキシルオキシビフエニルを得た。
収量 1.2g（69％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で400に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 15 参考例14−（ｂ）においてヘキシルブロマイド2.0gに
替えて、デシルブロマイド1.8gを用い、他は同様に操作
して（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチルヘプチ
ル）オキシ−４′−デシルオキシビフエニル1.2g（収率
60％）を得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で456に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 １ 参考例１−（ｂ）における２−フルオロフエノールに
替えて３−フルオロフエノールを用いて同様に操作し、
（ｓ）−３−フルオロ−（４′−メチルヘキシル）オキ
シベンゼン20gを得た。
b.p. 109〜110℃/5mmHg GLC 99％以上 参考１−（ｃ）において（ｓ）−２−フルオロ−
（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンの代わりに前
記（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−（４′−メチル
ヘキシル）オキシベンゼンを用い、同様にして（ｓ）−
３−フルオロ−４−ブロモ−（４′−メチルヘキシル）
オキシベンゼン21gを得た。
b.p. 114〜121℃/mmHg GLC 76％（他は位置異性臭素化物） 参考例１−（ｄ）における（ｓ）−２−フルオロ−４
−ブロモ−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンの
代わりに前記（ｂ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４−
（ブロモ−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンを
用いて同様に行い（ｓ）−４−デシルオキシ−２′−フ
ルオロ−４′−（４″−メチルヘキシル）オキシビフエ
ニル1.2gを得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で442に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 ２ 反応器に４−ブロモフエノール48.4g、（ｓ）−４−
メチルヘキシルブロマイド50g、K2CO2 65g、シクロヘキ
サノン700mlを仕込み、120〜130℃で原料が消失（ガス
クロマトグラフで確認）するまで反応した。６時間を要
した。
反応液を水に注加し、エーテル抽出後、希NaOH水溶液
で洗浄し、次いで水洗して中性とした。無水芒硝で乾燥
後、エーテルを留去し、残留分を減圧蒸留して（ｓ）−
４−ブロモ−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼン
68gを得た。
b.p. 120〜123℃/0.5mmHg GLC 93％以上 参考例１−（ａ）において４−ブロモフエノールの代
わりに３−フルオロフエノールを用い同様に行い３−フ
ルオロ−デシルオキシベンゼン19.5gを得た。
b.p. 105〜108℃/0.3mmHg GLC 99％以上 参考例１−（ｃ）における（ｓ）−２−フルオロ−
（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンの代わりに
（ｂ）で得た３−フルオロ−デシルオキシベンゼンを用
いて同様に行い３−フルオロ−４−ブロモ−デシルオキ
シベンゼン18gを得た。
b.p. 103〜110℃/0.5mmHg GLC 84％（他は位置異性臭素化物） 参考例１−（ｄ）において４−ブロモ−デシルオキシ
ベンゼンの代わりに前記（ａ）で得られた（ｓ）−４−
ブロモ−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンを、
また（ｓ）−３−フルオロ−４−ブロモ（４′−メチル
ヘキシル）オキシベンゼンの代わりに前記（ｃ）で得ら
れた３−フルオロ−４−ブロモ−デシルオキシベンゼン
を用い、他は同様に行い（ｓ）−４−（４″−メチルヘ
キシル）オキシ−２′−フルオロ−４′−デシルオキシ
ビフエニル0.33gを得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で442に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 ３ 参考例１−（ｂ）における（ｓ）−４−メチルヘキシ
ルブロマイドに替えてオクチルブロマイドを、２−フル
オロフエノールに替えて３−フルオロフエノールを用
い、他は同様に操作して３−フルオロ−オクチルオキシ
ベンゼン18gを得た。
参考例１−（ｃ）における２−フルオロ−（４′−メ
チルヘキシル）オキシベンゼンに替えて（ａ）で得られ
る３−フルオロ−オクチルオキシベンゼンを用い、他は
同様に操作して３−フルオロ−４−ブロム−オクチルオ
キシベンゼン18gを得た。b.p.139〜142℃/0.9mmHg 参考例１−（ｄ）における４−ブロム−デシルオキベ
ンゼンに替えて実施例２−（ａ）で得られる（ｓ）−４
−ブロム−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼン
を、（ｓ）−２−フルオロ−４−ブロム−（４′−メチ
ルヘキシル）オキシベンゼンに替えて（ｂ）で得られる
３−フルオロ−４−ブロム−オクチルオキシベンゼンを
用い、他は同様に操作して（ｓ）−４−（４″−メチル
ヘキシル）−２′−フルオロ−４′−オクチルオキシベ
ンゼンを得た。
収量 0.5g（3.7％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で414に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 16 参考例１−（ｂ）における（ｓ）−４−メチルヘキシ
ルブロマイドに替えてデシルブロマイドを用い、他は同
様に操作して２−フルオロ−デシルオキシベンゼン20g
を得た。
参考例１−（ｃ）における（ｓ）−２−フルオロ−
（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンに替えて
（ａ）で得られる２−フルオロ−デシルオキシベンゼン
を用い、他は同様に操作して２−フルオロ−４−ブロム
−デシルオキシベンゼン17.2gを得た。
b.p. 147℃/0.7mmHg GLC 98％以上 参考例１−（ｄ）における４−ブロモ−デシルオキシ
ベンゼンに替えて実施例２−（ａ）で得られる（ｓ）−
４−ブロム−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼン
を、（ｓ）−２−フルオロ−４−ブロモ−（４′−メチ
ルヘキシル）オキシベンゼンに替えて（ｂ）で得られる
２−フルオロ−４−ブロモ−デシルオキシベンゼンを用
い、他は同様に操作して（ｓ）−４−（４″−メチルヘ
キシル）オキシ−３′−フルオロ−４′−デシルオキシ
ビフエニル1.2gを得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で442に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
参考例 17 参考例１−（ｂ）における（ｓ）−４−メチルヘキシ
ルブロマイドに替えてオクチルブロマイドを用い、他は
同様に操作して２−フルオロ−オクチルオキシベンゼン
22gを得た。
参考例１−（ｃ）における（ｓ）−２−フルオロ−
（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンに替えて
（ａ）で得られる２−フルオロ−オクチルオキシベンゼ
ンを用い、他は同様に操作して２−フルオロ−４−ブロ
ム−デシルオキシベンゼン19.3gを得た。
b.p.122〜130℃/0.3〜1.0mmHg 参考例１−（ｄ）における４−ブロモ−デシルオキシ
ベンゼンに替えて実施例２−（ａ）で得られる（ｓ）−
４−ブロム−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼン
を、（ｓ）−２−フルオロ−４−ブロモ−（４′−メチ
ルヘキシル）オキシベンゼンに替えて（ｂ）で得られる
２−フルオロ−４−ブロモ−オクチルオキシベンゼンを
用い、他は同様に操作して（ｓ）−４−（４″−メチル
ヘキシル）オキシ−３′−フルオロ−４′−オクチルオ
キシビフエニル4.4gを得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で414に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 ４ 参考例１−（ｄ）における４−ブロモ−デシルオキシ
ベンゼンに替えて参考例１−（ｃ）で得られる（ｓ）−
２−フルオロ−４−ブロム−（４′−メチルヘキシル）
オキシベンゼンを、（ｓ）−２−フルオロ−４−ブロモ
−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンに替えて参
考例16−（ｂ）で得られる２−フルオロ−４−ブロモ−
デシルオキシベンゼンを用い、他は同様に操作して
（ｓ）−3,3′−ジフルオロ−４−（４″−メチルヘキ
シル）オキシ−４′−デシルオキシビフエニル1.07gを
得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で460に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を第１に示
す。
実施例 ５ 参考例１−（ｄ）における４−ブロモ−デシルオキシ
ベンゼンに替えて実施例２−（ａ）で得られる（ｓ）−
２−フルオロ−４−ブロム−（４′−メチルヘキシル）
オキシベンゼンを、（ｓ）−２−フルオロ−４−ブロモ
−（４′−メチルヘキシル）オキシベンゼンに替えて実
施例２−（ｃ）で得られる３−フルオロ−４−ブロモ−
デシルオキシベンゼンを用い、他は同様に操作して
（ｓ）−3,2′−ジフルオロ−４−（４″−メチルヘキ
シル）オキシ−４′−デシルオキシビフエニル1.12gを
得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で460に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 ６ 反応容器にNaOH 4.6g、水40mlを仕込み、臭素6.5gを
撹拌下に５℃以下で滴下した。滴下後、1.5時間10℃以
下で撹拌し次亜臭素酸水溶液を作成した。別の容器に参
考例２−（ｅ）で得られる（ｓ）−３−フルオロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビフエ
ニル1.95g、ジオキサン25mlを仕込み、先に作成した次
亜臭素酸水溶液を室温撹拌下に滴下した。滴下後、50〜
60℃で３時間加熱撹拌した。反応液を亜硫酸ナトリウム
水溶液に注加し、塩酸酸性とした後、析出した結晶を
取し、水洗、乾燥して、（ｓ）−３−フルオロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ビフエニルカル
ボン酸を得た。
収量 1.6g（81.6％） 反応器に（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ビフエニルカル
ボン酸1.6g、ベンゼン50mlを仕込み、室温撹拌下に塩化
チオニル2gを滴下し、６時間還流した。反応終了後、過
剰の塩化チオニル及びベンゼンを留去し、残留物にベン
ゼンを加えて再度ベンゼンを留去することを繰り返し行
い粗製酸クロライド1.6gを得た。
別の容器にオクチルアルコール0.8g、ベンゼン20ml、
ピリジン1.0gを仕込み、室温撹拌下、先に合成した酸ク
ロライドのベンゼン20ml溶液を滴下し、７時間還流し
た。反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出、水洗、芒硝
で乾燥し、溶媒を留去した。残留分をヘキサン−ベンゼ
ン（4:1）を溶出液としてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーにて精製し、更にエタノールから再結晶して
（ｓ）−３−フルオロ−４−（２″−メチルブチル）オ
キシ−４′−ビフエニルカルボン酸オクチルエステルを
得た。
収量 1.0g（44.2％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で414に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を第１に示
す。
実施例 ７ 反応容器にNaOH21.9g、水100mlを仕込み、臭素29gを
撹拌下に５℃以下で滴下した。滴下後、1.5時間10℃以
下で撹拌し次亜臭素酸水溶液を作成した。別の容器に参
考例８−（ａ）の中間体として得られる（ｓ）−３−フ
ルオロ−４−（６″−メチルオクチル）オキシ−４′−
アセチルビフエニル11.0gおよびジオキサン100mlを仕込
み、先に作成した次亜臭素酸水溶液を室温撹拌下に滴下
した。滴下後、50〜60℃で３時間加熱撹拌した。反応液
を亜硫酸ナトリウム水溶液に注加し、塩酸酸性とした
後、析出した結晶を取し、水洗、乾燥して、（ｓ）−
３−フルオロ−４−（６″−メチルオクチル）オキシ−
４′−ビフエニルカルボン酸を得た。
収量 9.85g（88.7％） 反応器に（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４−
（６″−メチルオクチル）オキシ−４′−ビフエニルカ
ルボン酸4.5g、ベンゼン50mlを仕込み、室温撹拌下に塩
化チオニル5gを滴下し、11時間還流した。反応終了後、
過剰の塩化チオニル及びベンゼンを留去し、残留物にベ
ンゼンを加えて再度ベンゼンを留去することを繰り返し
行い粗製酸クロライド4.66gを得た。
別の容器にオクチルアルコール0.55g、ベンゼン20m
l、ピリジン0.43gを仕込み、室温撹拌下、先に合成した
酸クロライドのベンゼン20ml溶液を滴下し、13時間還流
した。反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出、水洗、芒
硝で乾燥し、溶媒を留去した。残留分をヘキサン−ベン
ゼン（4:1）を溶出液としてシリカゲルカラムクロマト
グラフイーにて精製し、更にエタノールから再結晶して
（ｓ）−３−フルオロ−４−（６″−メチルオクチル）
オキシ−４′−ビフエニルカルボン酸オクチルエステル
を得た。
収量 0.76g（49％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、98％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で470に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82にはさみ、偏
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 ８、９、10 Ｒ＝C4H9（実施例８）、C6H13（実施例９）、C10H
21（実施例10） 実施例７−（ｂ）において、オクタノール0.55gに替
えてブタノール0.31g、又はヘキサノール0.43g、或いは
デシルアルコール0.66gを用い、他は同様に操作してそ
れぞれ対応する（ｓ）−３−フルオロ−４−（６″−メ
チルオクチル）オキシ−４′−ビフエニルカルボン酸ブ
チルエステル0.61g（47.3％）、（ｓ）−３−フルオロ
−４−（６″−メチルオクチル）オキシ−４′−ビフエ
ニルカルボン酸ヘキシルエステル0.95g（47.3％）、
（ｓ）−３−フルオロ−４−（６″−メチルオクチル）
オキシ−４′−ビフエニルカルボン酸デシルエステル1.
04g（57.9％）を得た。
これらの純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析でそれぞれ414、442、498に分
子イオンピークが認められたこと、並びに用いた原料の
関係から得られた物質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 11 反応容器にNaOH8.8g、水30mlを仕込み、臭素14gを撹
拌下に５℃以下で滴下した。滴下後、1.5時間10℃以下
で撹拌し次亜臭素酸水溶液を作成した。別の容器に参考
例14−（ａ）の中間体として得られる（ｓ）−３−フル
オロ−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−ア
セチルビフエニル4.06g、ジオキサン75mlを仕込み、先
に作成した次亜臭素酸水溶液を室温撹拌下に滴下した。
滴下後、50〜60℃で５時間加熱撹拌した。
反応液を亜硫酸ナトリウム水溶液に注加し、塩酸酸性
とした後、析出した結晶を取し、水洗、乾燥して、
（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチルヘプチル）
オキシ−４′−ビフエニルカルボン酸を得た。
収量 4.07g（99.8％） 反応器に（ａ）で得た（ｓ）−３−フルオロ−４−
（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−ビフエニルカ
ルボン酸3.9g、ベンゼン50mlを仕込み、室温撹拌下に塩
化チオニル4gを滴下し、12時間還流した。反応終了後、
過剰の塩化チオニル及びベンゼンを留去し、残留物にベ
ンゼンを加えて再度ベンゼンを留去することを繰り返し
行い粗製酸クロライド4.55gを得た。
別の容器にオクチルアルコール0.47g、ベンゼン20m
l、ピリジン0.52gを仕込み、室温撹拌下、先に合成した
酸クロライド1.2gのベンゼン20ml溶液を滴下し、７時間
還流した。反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出、水
洗、芒硝で乾燥し、溶媒を留去した。残留分をヘキサン
−ベンゼン（4:1）を溶出液としてシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーにて精製し、更にエタノールから再結
晶して（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチルヘプ
チル）オキシ−４′−ビフエニルカルボン酸オクチルエ
ステルを得た。
収量 1.16g（収率77％） この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で456に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 12、13 Ｒ＝C6H13（実施例12）、C10H21（実施例13） 実施例11−（ｂ）において、オクタノール0.47gに替
えてヘキサノール0.37g、あるいはデシルアルコール0.5
8gを用い、他は同様に操作してそれぞれ対応する（ｓ）
−３−フルオロ−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ
−４′−ビフエニルカルボン酸ヘキシルエステル0.75g
（64.6％）、（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチ
ルヘプチル）オキシ−４′−ビフエニルカルボン酸デシ
ルエステル1.28g（78.0％）を得た。
これらの純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析でそれぞれ428、484に分子イオ
ンピークが認められたこと、並びに用いた原料の関係か
ら得られた物質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 14 参考例２−（ｆ）で得られる（ｓ）−３−フルオロ−
４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシ
ビフエニル1.01g、ピリジン0.65g、ベンゼン20mlを反応
器に仕込み、室温撹拌下、ノナン酸クロライド0.82gの
ベンゼン5ml溶液を滴下し、４時間還流撹拌した。反応
液を水に注加し、ベンゼン抽出、水洗、アンモニア水処
理、水洗、芒硝乾燥後、ベンゼンを留去した。残留分を
ヘキサン−ベンゼン（2:1）を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにて精製し（ｓ）−３−フル
オロ−４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ノナ
ノイルオキシビフエニル0.66g（43.1％）を得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、および
マススペクトル分析で415に分子イオンピークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物質が
目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 15 実施例14におけるノナン酸クロライド0.82gに替えて
ドデカン酸クロライド1.01gを用い、他は同様に操作す
ることにより（ｓ）−３−フルオロ−４−（２″−メチ
ルブチル）オキシ−４′−ドデカノイルオキシビフエニ
ル1.23g（55.8％）を得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で457に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 16 参考例６−（ａ）で得られる（ｓ）−３−フルオロ−
４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ヒドロキ
シビフエニル1.5g、ピリジン1.13g、ベンゼン3mlを反応
器に仕込み、室温撹拌下、ノナン酸クロライド1.06gの
ベンゼン10ml溶液を滴下し、14時間還流撹拌した。反応
液を水に注加し、ベンゼン抽出、水洗、アンモニア水処
理、水洗、芒硝乾燥後、ベンゼンを留去した。残留分を
ヘキサン−ベンゼン（2:1）を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにて精製し（ｓ）−３−フル
オロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ノ
ナノイルオキシビフエニル0.51g（23.2％）を得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、98％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で442に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 17、18 Ｒ＝C6H13（実施例17）、C11H23（実施例18） 実施例16におけるノナノイルクロライド1.06gに替え
て、ヘプタノイルクロライド0.91gまたはドデカノイル
クロライド1.30gを用い他は同様に操作して、それぞれ
対応する（ｓ）−３−フルオロ−４−（４″−メチルヘ
キシル）オキシ−４′−ヘプタノイルオキシビフエニル
1.16g（56.3％）、（ｓ）−３−フルオロ−４−（４″
−メチルヘキシル）オキシ−４′−ドデカノイルオキシ
ビフエニル0.93g（38.8％）を得た。
これらの純度はHPLCにて、99％以上であった。また、
赤外線吸収スペクトル測定、および、マススペクトル分
析でそれぞれ414、484に分子イオンピークが認められた
こと、並びに用いた原料の関係から得られた物質が目的
物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージPF−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 19 参考例11−（ａ）で得られる（ｓ）−３−フルオロ−
４−（１″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシ
ビフエニル1.01g、ピリジン0.65g、ベンゼン20mlを反応
器に仕込み、室温撹拌下、ノナン酸クロライド0.82gの
ベンゼン5ml溶液を滴下し、４時間還流撹拌した。反応
液を水に注加し、ベンゼン抽出、水洗、アンモニア水処
理、水洗、芒硝乾燥後、ベンゼンを留去した。残留分を
ヘキサン−ベンゼン（2:1）を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにて精製し（ｓ）−３−フル
オロ−４−（１″−メチルブチル）オキシ−４′−ノナ
ノイルオキシビフエニル0.57g（37％）を得た。
この物の純度は液体クロマトグラフイーにて、99％以
上であった。また、赤外線吸収スペクトル測定、およ
び、マススペクトル分析で414に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から得られた物
質が目的物であることを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 20、21 実施例19におけるノナノイルクロライド0.82gに替え
て、ドデカノイルクロライド1.0g又はヘプタノイルクロ
ライド0.62gを用い他は同様に操作して、それぞれ対応
する（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチルブチ
ル）オキシ−４′−ドデカノイルオキシビフエニレ0.49
g（29％）、（ｓ）−３−フルオロ−４−（１″−メチ
ルブチル）オキシ−４′−ヘプタノイルクロライド0.39
g（28％）を得た。
これらの純度はHPLCにて、99％以上であった。また、
赤外線吸収スペクトル測定、および、マススペクトル分
析で456、386に分子イオンピーク認められたこと、並び
に用いた原料の関係から得られた物質が目的物であるこ
とを確認した。
このものをメトラーホツトステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示
す。
実施例 22 反応器に４−ヒドロキシ−４′−アセチルビフエニル
230g、臭化エチル164g、炭酸カリ276g及びシクロヘキサ
ノン1.7を仕込み、65〜70℃で３時間、次いで95〜100
℃で６時間撹拌反応後、反応液を過して得られる固形
物をベンゼンで洗浄し、洗液と液を合わせ、これを水
洗後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去し、残留物をアセト
ン−メタノール混合溶媒で再結晶して４−エトキシ−
４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 240g（93％） GLC 90.1％ 反応器に（ａ）で得た４−エトキシ−４′−アセチル
ビフエニル240g、酢酸1.8、濃塩酸25ml及びジクロラ
ミン−T125gを仕込み、100℃で、原料が消失（GLCで確
認）するまで適宜ジクロラミン−Ｔ、濃塩酸を添加し撹
拌反応した。56時間を要した。
反応液を水に注加し、洗液が中性になるまでデカンテ
ーシヨンにより水洗後、塩化メチレンで抽出し、芒硝で
乾燥した後、溶媒を留去し、エタノール−メチルエチル
ケトン混合溶媒で再結晶し、更にヘキサンで再結晶して
３−クロロ−４−エトキシ−４′−アセチルビフエニル
を得た。
収量 78g（28％） GLC 80％ 反応器に（ｂ）で得た３−クロロ−４−エトキシ−
４′−アセチルビフエニル78g、48％臭化水素酸780ml及
び酢酸1.2を仕込み、100〜110℃で23時間加熱撹拌し
た。反応液を水に注加し、析出した結晶を取し、水洗
後、塩化メチレンを溶出液としたシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーで精製し３−クロロ−４−ヒドロキシ−
４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 27.9g（40％） GLC 98％ 反応器に（ｃ）で得た３−クロロ−４−ヒドロキシ−
４′−アセチルビフエル7.5g、（ｓ）−２−メチルブチ
ルブロマイド6.8g、炭酸カリ6.2g及びシクロヘキサノン
150mlを仕込み、90〜100℃で23時間加熱撹拌した。反応
液を過して得られる固形物をベンゼンで洗浄し、液
と合わせ、これを水洗後、芒硝で乾燥した。溶媒を留去
し、残留物をアセトン−メタノールで再結晶して（ｓ）
−３−クロロ−４−（２″−メチルブチル）オキシ−
４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 6.9g（73％） GLC 98.5％ 反応器に（ｄ）で得た（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビフエ
ニル6.9g、88％ギ酸40g及び塩化メチレン80mlを仕込
み、室温撹拌下に無水酢酸15g、濃硫酸1ml、次いで35％
過酸化水素15gを順次滴下した。滴下後、TLC（Kieselge
l 60F 254、展開液ベンゼン）で原料が消失するまて適
宜35％過酸化水素を添加し、撹拌還流した。反応液を水
に注加し、１時間撹拌後、洗液が中性になるまで有機層
を水洗し、芒硝で乾燥した。溶媒を留去して得られる残
留物にエタノール80ml、35％苛性カリ水溶液15mlを加
え、５時間還流撹拌した。反応液を水に注加し、塩酸酸
性とした後、エーテルで抽出した。この抽出液を水洗
し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにて精製し（ｓ）−３−クロ
ロ−４−（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロ
キシビフエニルを得た。
収量 4.5g（68.4％） 反応器に（ｅ）で得た（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル0.8g、ピリジ1ml、ベンゼン25mlを仕込み、室温
撹拌下、ヘプタノイルクロライド0.6gのベンゼン5ml溶
液を滴下し、４時間還流撹拌した。反応液を水に注加
し、ベンゼン抽出、水洗、アンモニア水処理、水洗、芒
硝乾燥後、ベンゼンを留去して得られる残留物をヘキサ
ン−ベンゼン（2:1）溶出液としたシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーにて精製し（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヘプタノイルオ
キシビフエニルを得た。
収量 0.58g（50％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で402に分子イオンピークが認ら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 23 実施例22−（ｆ）に於けるヘプタノイルクロライド0.
6gに替えて、ノナノイルクロライド0.7gを用い、他は同
様に操作して（ｓ）−３−クロロ−４−（２″−メチル
ブチル）オキシ−４′−ノナノイルオキシビフエニルを
得た。
収量 0.75g（65％） この物の純度はHPLCにて98％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で430に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 24 実施例22−（ｆ）に於けるヘプタノイルクロライド0.
6gに替えて、ドデカノイルクロライド0.88gを用い、他
は同様に操作して（ｓ）−３−クロロ−４−（２″−メ
チルブチル）オキシ−４′−ドデカノイルオキシビフエ
ニルを得た。
収量 0.73g（56％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で472に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 25 実施例22−（ｄ）に於ける（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド6.8gに替えて（ｓ）−４−メチルヘキシルブ
ロマイド8.1gを用い、他は同様に操作して、（ｓ）−３
−クロロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′
−アセチルビフエニルを得た。
収量 9.2g（89％） GLC 99.2％ 実施例22−（ｅ）に於ける（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビフエ
ニル6.9gに替えて（ａ）で得た（ｓ）−３−クロロ−４
−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−アセチルビ
フエニル7.6gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−３−
クロロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−
ヒドロキシビフエニルを得た。
収量 3.7g（53.4％） GLC 96％ 実施例22−（ｆ）に於ける（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル0.8gに替えて（ｂ）で得た（ｓ）−３−クロロ−
４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ヒドロキ
シビフエニル0.9gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−
３−クロロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−
４′−ヘプタノイルオキシビフエニルを得た。
収量 0.78g（64％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で430に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 26 実施例22−（ｆ）に於ける（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル0.8gに替えて（ｂ）で得た（ｓ）−３−クロロ−
４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ヒドロキ
シビフエニル0.9gを、又ヘプタノイルクロライド0.6gに
替えてノナノイルクロライド0.7gを用い、他は同様に操
作して（ｓ）−３−クロロ−４−（４″−メチルヘキシ
ル）オキシ−４′−ノナノイルオキシビフエニルを得
た。
収量 0.91g（71％） この物の純度はHPLCにて98％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で458に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 27 実施例22−（ｆ）に於ける（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル0.8gに替えて（ｂ）で得た（ｓ）−３−クロロ−
４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ヒドロキ
シビフエニル0.9gを、又ヘプタノイルクロライド0.6gに
替えてドデカノイルクロライド0.9gを用い、他は同様に
操作して（ｓ）−３−クロロ−４−（４″−メチルヘキ
シル）オキシ−４′−ドデカノイルオキシビフエニルを
得た。
収量 0.96g（68.5％） この物の純度はHPLCにて98％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で500に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 28 反応器に実施例25−（ｂ）で得た（ｓ）−３−クロロ
−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−ヒドロ
キシビフエニル1.0g、オクチルブロマイド1.4g、炭酸カ
リ1.0gおよびシクロヘキサノン25mlを仕込み、70〜80℃
で13時間撹拌反応後、反応液を過して得られる固形物
をベンゼンで洗浄し、液と合わせ、これを水洗後、芒
硝で乾燥した。溶媒を留去し、残留物をアセトン−メタ
ノール−ベンゼン混合溶媒で再結晶して（ｓ）−３−ク
ロロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−４′−オ
クチルオキシビフエニルを得た。
収量 1.1g（81.5％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で430に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 29 実施例28に於けるオクチルブロマイド1.4gに替えてデ
シルブロマイド1.6gを用い、他は同様に操作して（ｓ）
−３−クロロ−４−（４″−メチルヘキシル）オキシ−
４′−デシルオキシビフエニルを得た。
収量 1.12g（78.6％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で458に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 30 反応器に実施例22−（ｃ）で得た３−クロロ−４−ヒ
ドロキシ−４′−アセチルビフエニル9.4g、（ｓ）−１
−メチルヘプチルブロマイド15.0g、炭酸カリ10gおよ
び、シクロヘキサノン150mlを仕込み、80〜90℃で13時
間加熱撹拌した。反応液を過して得られる固形物をベ
ンゼン洗浄し、液と合わせ、これを水洗後、芒硝で乾
燥した。溶媒を留去し、残留物〔粗（ｓ）−３−クロロ
−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−アセチ
ルビフエニルGLC 93％〕を得た。これをそのまま次工程
原料とした。
反応器に（ａ）で得た残留物〔粗（ｓ）−３−クロロ
−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−アセチ
ルビフエニル、88％ギ酸50g及び塩化メチレン120mlを仕
込み、室温撹拌下に無水酢酸21g、濃硫酸1ml、次いで35
％過酸化水素21gを順次滴下した。滴下後、TLC（Kiesel
gel 60F254、展開液ベンゼン）で原料が消失するまで35
％過酸化水素を適宜添加し、撹拌還流した。反応液を水
に注加し、１時間撹拌後、洗液が中性になるまで有機層
を水洗し、芒硝で乾燥した。溶媒を留去して得られる残
留物にエタノール100ml、35％苛性カリ水溶液20mlを加
え、５時間還流撹拌した。反応液を水に注加し、塩酸酸
性とした後、エーテルで抽出した。この抽出液を水洗
し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにて精製し（ｓ）−３−クロ
ロ−４−（１″−メチルヘプチル）オキシ−４′−ヒド
ロキシビフエニルを得た。
収量 5.4g（46.7％（ａ）からの全収率） GLC 99.8％ 実施例22−（ｆ）に於ける（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−ヒドロキシビフ
エニル0.8gに替えて（ｂ）で得た（ｓ）−３−クロロ−
４−（１″−メチルヘプシル）オキシ−４′−ヒドロキ
シビフエニル0.93gを、又ヘプタノイルクロライド0.6g
に替えてノナノイルクロライド0.7gを用い、他は同様に
操作して（ｓ）−３−クロロ−４−（１″−メチルヘプ
シル）オキシ−４′−ノナノイルオキシビフエニルを得
た。
収量 0.41g（30.8％） この物の純度はHPLCにて98％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で472に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 31 実施例22−（ｄ）に於ける（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド6.8gに替えてオクチルブロマイド8.7gを用
い、他は同様に操作して３−クロロ−４−オクチルオキ
シ−４′−アセチルビフエニルを得た。
収量 8.5g（79％） GLC 93.5％ 実施例22−（ｅ）に於ける（ｓ）−３−クロロ−４−
（２″−メチルブチル）オキシ−４′−アセチルビフエ
ニル6.9gに替えて（ａ）で得た３−クロロ−４−オクチ
ルオキシ−４′−アセチルビフエニル7.9gを用い、他は
同様に操作して３−クロロ−４−オクチルオキシ−４′
−ヒドロキシビフエニルを得た。
収量 5.3g（72.7％） 反応器に実施例（ｂ）で得た３−クロロ−４−オクチ
ルオキシ−４′−ヒドロキシビフエニル1.0g、（ｓ）−
２−メチルブチルブロマイド0.8g、炭酸カリ1.0g及びシ
クロヘキサノン25mlを仕込み、80〜90℃で13時間撹拌反
応後、反応液を過して得られる固形物をベンゼンで洗
浄し、液と合わせ、これを水洗後、芒硝で乾燥した。
溶媒を留去し、残留物をアセトン−メタノール−ベンゼ
ン混合溶媒で再結晶して（ｓ）−３−クロロ−４−オク
チルオキシ−４′−（２″−メチルブチル）オキシビフ
エニルを得た。
収量 0.6g（50％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で402に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 32 実施例31−（ｃ）に於ける（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド0.8gに替えて（ｓ）−４−メチルヘキシルブ
ロマイド0.95gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−３
−クロロ−４−オクチルオキシ−４′−（４″−メチル
ヘキシル）オキシビフエニルを得た。
収量 1.1g（85％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で430に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 33 実施例31−（ｃ）に於ける（ｓ）−２−メチルブチル
ブロマイド0.8gに替えて（ｓ）−６−メチルオクチルブ
ロマイド1.1gを用い、他は同様に操作して（ｓ）−３−
クロロ−４−オクチルオキシ−４′−（６″−メチルオ
クチル）オキシビフエニルを得た。
収量 0.78g（57％） この物の純度はHPLCにて99％以上であった。また、IR
測定、およびMass分析で458に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表１に示す。
実施例 34 本発明の参考例６、および実施例21で得られた化合物
を用いて、以下の方法で応答速度を測定した。即ち、２
枚の酸化インジウム透明電極付きのガラス基板上にポリ
ビニルアルコールの薄膜をコーテイングし、一定方向に
ラビング操作を行いその一方の基板にはネガ型フオトレ
ジストを用いて３μの厚さのスペーサー形成し、もう一
方の基板とラビング方向が平行になるように評価素子を
組み立て、これを２組作製した。これに参考例６、およ
び実施例21で得られた化合物をそれぞれ等方性液体状態
にて減圧封入して液晶素子を作製した。
この液晶素子をホツトステージ付偏光顕微鏡に設置
し、等方性液体状態から毎分0.1度の割合で降温して顕
微鏡視野内領域にモノドメインを得た後、200Hzの矩形
波を印加した時の透過光強度変化をフオトダイオード、
フオトセンサーアンプ、デイジタルストレージスコープ
を用いて測定した。
その結果を下記に示す。
実施例 35 参考例１で得られた化合物と実施例17で得られた化合
物とを重量比で1:1の割合で混合して液晶組成物を調製
した。この組成物は、降温時71℃でＩからSmC＊へ、29.
5℃でSmC＊からＣへ変化し、SmC＊相の温度幅は41.5度
であった。この液晶組成物を表面にポリビニルアルコー
ルを塗布し、ラビング処理した２枚の透明電極を有する
ガラス基板を用い、ラビング方向が平行でセル厚が３μ
ｍとなるよう作製した液晶セルに封入し、等方性液体か
らSmC＊まで徐冷した。
この液晶素子を２枚の偏光板にはさみ、20V、20Hzの
三角波を印加したところ、明瞭なスイツチング動作が確
認された。
この液晶組成物は、電気光学素子に利用できる強誘電
性液晶組成物である。
実施例 36 参考例１で得られた化合物と実施例27で得られた化合
物とを重量比1:1の割合で混合して液晶組成物を調整し
この組成物をメトラーホツトステージFP−82に挟み、偏
光顕微鏡下で相変化を観察したところ38〜63℃の温度範
囲にSmC＊が存在し、それぞれ単独の場合に比べSmC＊相
温度範囲が拡張された。
この組成物を表面にポリビニルアルコールを塗布し、
ラビング処理した２枚の透明電極を有するガラス基板を
用い、ラビング方向が平行でセル厚が３μｍとなるよう
作製した液晶セルに封入し、等方性液体からSmC＊まで
徐冷した。この液晶セルを２枚の偏光板に挟み、20V、2
0Hzの三角波を印加したところ、明瞭なスイツチング動
作が確認された。これらのことから、この液晶組成物
は、電気光学素子に利用できる強誘電性液晶組成物であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 恒宣 埼玉県草加市稲荷１丁目７番１号 関東化 学株式会社中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−137983（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−154637（ＪＰ，Ａ)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 （式中Ｒ＊は不斉炭素原子を有する炭素原子数４〜14の
    アルキル基であり、X1,X2,X3,X4は、それらのうちいず
    れか１つ又は２つがフツ素原子あるいは塩素原子であっ
    て他は水素原子でありＹはR,OR,COORまたはOCORを示
    し、Ｒは炭素原子数３〜14のアルキル基である。ただ
    し、X1はハロゲン原子である場合にはＹはＲでなく、ま
    たX1あるいはX4がフッ素原子である場合にはＹはORでな
    いものとする）で表される光学活性ビフエニル化合物。
  2. 【請求項２】前記一般式（Ｉ）におけるX1,X2,X3および
    X4のうちのいずれか１つ又は２つがフツ素原子で他が水
    素原子である請求項１に記載のビフエニル化合物。
  3. 【請求項３】前記一般式（Ｉ）におけるX1,X2,X3および
    X4のうちのいずれか１つ又は２つが塩素原子で他が水素
    原子である請求項１に記載のビフエニル化合物。
  4. 【請求項４】一般式 （式中Ｒ＊は不斉炭素原子を有する炭素原子数４〜14の
    アルキル基であり、X1,X2,X3,X4は、そのうちのいずれ
    か１つ又は２つがフツ素原子、または塩素原子であっ
    て、他は水素原子であり、ＹはR,OR,COORまたはOCORを
    示し、Ｒは炭素原子数３〜14のアルキル基である。ただ
    し、X1がハロゲン原子である場合にはＹはＲでなく、ま
    たX1あるいはX4がフッ素原子である場合にはＹはORでな
    いものとする）で表される光学活性ビフエニル化合物の
    少なくとも１種を含有することを特徴とする液晶組成
    物。
  5. 【請求項５】前記一般式（Ｉ）におけるX1,X2,X3および
    X4のうちのいずれか１つ又は２つがフツ素原子で他が水
    素原子である請求項４に記載の液晶組成物。
  6. 【請求項６】前記一般式（Ｉ）におけるX1,X2,X3および
    X4のうちのいずれか１つ又は２つが塩素原子で他が水素
    原子である請求項４に記載の液晶組成物。
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