JPH08269023A - ５−置換テトラゾール化合物の製造法 - Google Patents
５−置換テトラゾール化合物の製造法Info
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- JPH08269023A JPH08269023A JP7069204A JP6920495A JPH08269023A JP H08269023 A JPH08269023 A JP H08269023A JP 7069204 A JP7069204 A JP 7069204A JP 6920495 A JP6920495 A JP 6920495A JP H08269023 A JPH08269023 A JP H08269023A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】５−置換テトラゾ−ル化合物の工業的有利な製
造法を提供する。 【構成】一般式Ｒ1 ＣＮ（Ｒ1 は、Ｘで置換されていて
もよいフェニル基を示す。ここでＸは、ハロゲン；ニト
ロ；Ｙで置換されていてもよいフェニル；フェニル基で
置換されていてもよいＣ１から２０のアルキル等、ここ
でＹは、Ｃ１から２０のアルキル、保護されていてもよ
い水酸基置換Ｃ１から２０のアルキル等を示す。）で示
されるニトリル類に触媒の存在下または非存在下にヒド
ラジンまたはその塩を反応させ、一般式Ｒ1 Ｃ（＝Ｎ
Ｈ）ＮＨＮＨ2 で示されるアミドラゾンを得た後、これ
を単離することなく、一般式ＹＮＯ2 （Ｙは水素、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、Ｃ１から２０のアルキ
ル）で示される亜硝酸化合物とを反応させる、一般式
（４）で示される５−置換テトラゾール化合物の製造
法。
造法を提供する。 【構成】一般式Ｒ1 ＣＮ（Ｒ1 は、Ｘで置換されていて
もよいフェニル基を示す。ここでＸは、ハロゲン；ニト
ロ；Ｙで置換されていてもよいフェニル；フェニル基で
置換されていてもよいＣ１から２０のアルキル等、ここ
でＹは、Ｃ１から２０のアルキル、保護されていてもよ
い水酸基置換Ｃ１から２０のアルキル等を示す。）で示
されるニトリル類に触媒の存在下または非存在下にヒド
ラジンまたはその塩を反応させ、一般式Ｒ1 Ｃ（＝Ｎ
Ｈ）ＮＨＮＨ2 で示されるアミドラゾンを得た後、これ
を単離することなく、一般式ＹＮＯ2 （Ｙは水素、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、Ｃ１から２０のアルキ
ル）で示される亜硝酸化合物とを反応させる、一般式
（４）で示される５−置換テトラゾール化合物の製造
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアジ化化合物を用いるこ
となく５−アリールテトラゾール類を工業的に有利に製
造する方法に関するものである。
となく５−アリールテトラゾール類を工業的に有利に製
造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】５−アリールテトラゾール類の合成法と
してはアリール基を有するニトリルにＮａＮ3 、トリア
ルキル錫アジドを用いる方法やトリメチルシリルアジド
と触媒量のジアルキル錫オキサイドまたはトリメチルア
ルミニウムの混合物を用いる方法等が知られている。
してはアリール基を有するニトリルにＮａＮ3 、トリア
ルキル錫アジドを用いる方法やトリメチルシリルアジド
と触媒量のジアルキル錫オキサイドまたはトリメチルア
ルミニウムの混合物を用いる方法等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アジ化
化合物は、水または酸と反応して有毒爆発性のアジ化水
素を発生したり、重金属と爆発性の塩を容易に生成する
ことが知られている。このようにアジ化化合物を用いる
プロセスは特に工業的スケールでは危険性が大きいとい
う問題があった。また、トリアルキル錫を用いる方法
は、トリアルキル錫の脂溶性のため生成物との分離が煩
雑であることと大量の錫含有廃棄物を生じるという問題
があった。
化合物は、水または酸と反応して有毒爆発性のアジ化水
素を発生したり、重金属と爆発性の塩を容易に生成する
ことが知られている。このようにアジ化化合物を用いる
プロセスは特に工業的スケールでは危険性が大きいとい
う問題があった。また、トリアルキル錫を用いる方法
は、トリアルキル錫の脂溶性のため生成物との分離が煩
雑であることと大量の錫含有廃棄物を生じるという問題
があった。
【０００４】
【課題を解決するするための手段】本発明者らは、かか
る問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ニトリル
化合物よりアミドラゾン化合物を経由することによりア
ジ化化合物を使用することなく安全にテトラゾール化合
物を製造できることを見いだし更に種々の検討を加えて
本発明に至った。すなわち本発明は、一般式（１） Ｒ1 ＣＮ （１） （式中、Ｒ1 は、Ｘで置換されていてもよいフェニル基
を示す。ここでＸは、ハロゲン原子；ニトロ基；Ｙで置
換されていてもよいフェニル基；フェニル基で置換され
ていてもよい炭素数１から２０のアルキル基；フェニル
基で置換されていてもよい炭素数１から２０のアルコキ
シ基を示す。ここでＹは、炭素数１から２０のアルキル
基、保護されていてもよい水酸基置換炭素数１から２０
のアルキル基、保護されていてもよいアミノ基置換炭素
数１から２０のアルキル基、またはハロゲン原子で置換
されていてもよい炭素数１から２０のアルキル基、保護
されていてもよい水酸基置換炭素数１から２０のアルコ
キシ基、保護されていてもよいアミノ基置換炭素数１か
ら２０のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていてもよい炭素数１から２０のアルコキシ基を示
す。）で示されるニトリル類に触媒の存在下または非存
在下にヒドラジンまたはその塩を反応させ一般式（２） （式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表わす。）で示され
るアミドラゾンを得た後、これを単離することなく一般
式（３） ＹＮＯ2 （式中、Ｙは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土
類金属原子または炭素数１から２０のアルキル基を示
す。）で示される亜硝酸化合物とを反応させることを特
徴とする一般式（４） （式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を表わす。）で示される
５−置換テトラゾール化合物の工業的に有利な製造法を
提供するものである。
る問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ニトリル
化合物よりアミドラゾン化合物を経由することによりア
ジ化化合物を使用することなく安全にテトラゾール化合
物を製造できることを見いだし更に種々の検討を加えて
本発明に至った。すなわち本発明は、一般式（１） Ｒ1 ＣＮ （１） （式中、Ｒ1 は、Ｘで置換されていてもよいフェニル基
を示す。ここでＸは、ハロゲン原子；ニトロ基；Ｙで置
換されていてもよいフェニル基；フェニル基で置換され
ていてもよい炭素数１から２０のアルキル基；フェニル
基で置換されていてもよい炭素数１から２０のアルコキ
シ基を示す。ここでＹは、炭素数１から２０のアルキル
基、保護されていてもよい水酸基置換炭素数１から２０
のアルキル基、保護されていてもよいアミノ基置換炭素
数１から２０のアルキル基、またはハロゲン原子で置換
されていてもよい炭素数１から２０のアルキル基、保護
されていてもよい水酸基置換炭素数１から２０のアルコ
キシ基、保護されていてもよいアミノ基置換炭素数１か
ら２０のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていてもよい炭素数１から２０のアルコキシ基を示
す。）で示されるニトリル類に触媒の存在下または非存
在下にヒドラジンまたはその塩を反応させ一般式（２） （式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表わす。）で示され
るアミドラゾンを得た後、これを単離することなく一般
式（３） ＹＮＯ2 （式中、Ｙは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土
類金属原子または炭素数１から２０のアルキル基を示
す。）で示される亜硝酸化合物とを反応させることを特
徴とする一般式（４） （式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を表わす。）で示される
５−置換テトラゾール化合物の工業的に有利な製造法を
提供するものである。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
用いられるニトリル類（１）で水酸基の保護基として
は、通常水酸基の保護基として用いられるものが利用さ
れ以下のものが例示される。アセチル、プロピオニル、
ペンチリルのごとき脂肪族アシル基、塩素原子、臭素原
子のごときハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、
ブチルのごときアルキル基もしくはメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシのごときアルコキシ基で置換
されていても良いベンジル基、トリメチルシリル基、ト
リエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチ
ルベンジルシリル基、メチルジベンジルシリル基、トリ
ベンジルシリル基、ジメチルブチルシリル基、メチルジ
フェニルシリル基、トリフェニルシリル基のごときトリ
アルキルシリル基、ジアルキルフェニルシリル基、アル
キルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、アラ
ルキルジアルキルシリル基、ジアラルキルアルキルシリ
ル基、トリアラルキルシリル基であり、かかるフェニル
基、アラルキル基はハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基などで置換されていても良い。さらにテトラヒド
ロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、エトキシエチ
ル、プロポキシエチルのごとき１−（アルコキシ）エチ
ル基のごときエーテル類が例示される。
用いられるニトリル類（１）で水酸基の保護基として
は、通常水酸基の保護基として用いられるものが利用さ
れ以下のものが例示される。アセチル、プロピオニル、
ペンチリルのごとき脂肪族アシル基、塩素原子、臭素原
子のごときハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、
ブチルのごときアルキル基もしくはメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシのごときアルコキシ基で置換
されていても良いベンジル基、トリメチルシリル基、ト
リエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチ
ルベンジルシリル基、メチルジベンジルシリル基、トリ
ベンジルシリル基、ジメチルブチルシリル基、メチルジ
フェニルシリル基、トリフェニルシリル基のごときトリ
アルキルシリル基、ジアルキルフェニルシリル基、アル
キルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、アラ
ルキルジアルキルシリル基、ジアラルキルアルキルシリ
ル基、トリアラルキルシリル基であり、かかるフェニル
基、アラルキル基はハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基などで置換されていても良い。さらにテトラヒド
ロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、エトキシエチ
ル、プロポキシエチルのごとき１−（アルコキシ）エチ
ル基のごときエーテル類が例示される。
【０００６】また、アミノ基の保護基としては、通常ア
ミノ基の保護基として用いられるものが利用され以下の
ものが例示される。メチルカーバメイト基、２，２，２
−トリクロロエチルカーバメート基、１，１−ジメチル
−２−クロロエチルカーバメイト基、シクロブチルカー
バメイト基、１−アダマンチルカーバメイト基、８−キ
ノリルカーバメイト基、ターシャリブトキシカーバメイ
ト基等のカーバメイト基、メトキシメチル基等のアルコ
キシメチル基、Ｎ−ジフェニルホスフィニル基、Ｎ−ジ
メチルチオホスフィニル基等のホスフィニル基、２，
４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、メタン
スルホニル基等のスルホニル基が挙げられる。また、該
アミノ基は、イミダゾリル環、ベンズイミダゾール環、
プリン環、ピリミジン環、トリアゾール環等複素環を構
成しているものが挙げられる。
ミノ基の保護基として用いられるものが利用され以下の
ものが例示される。メチルカーバメイト基、２，２，２
−トリクロロエチルカーバメート基、１，１−ジメチル
−２−クロロエチルカーバメイト基、シクロブチルカー
バメイト基、１−アダマンチルカーバメイト基、８−キ
ノリルカーバメイト基、ターシャリブトキシカーバメイ
ト基等のカーバメイト基、メトキシメチル基等のアルコ
キシメチル基、Ｎ−ジフェニルホスフィニル基、Ｎ−ジ
メチルチオホスフィニル基等のホスフィニル基、２，
４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、メタン
スルホニル基等のスルホニル基が挙げられる。また、該
アミノ基は、イミダゾリル環、ベンズイミダゾール環、
プリン環、ピリミジン環、トリアゾール環等複素環を構
成しているものが挙げられる。
【０００７】本発明に用いられるニトリル類（１）とし
ては、例えば、ベンゾニトリル、３−ブロモ−ベンゾニ
トリル、２−クロロ−ベンゾニトリル、２−ブロモ−ベ
ンゾニトリル、２−フルオロ−ベンゾニトリル、２−シ
アノ−１，１’−ビフェニル、２−シアノ−４’−メチ
ル−１，１’−ビフェニル、２−シアノ−４’−クロロ
メチル−１，１’−ビフェニル、２−シアノ−４’−メ
トキシメチル−１，１’−ビフェニル等のアリール基を
有するニトリル類が挙げられる。
ては、例えば、ベンゾニトリル、３−ブロモ−ベンゾニ
トリル、２−クロロ−ベンゾニトリル、２−ブロモ−ベ
ンゾニトリル、２−フルオロ−ベンゾニトリル、２−シ
アノ−１，１’−ビフェニル、２−シアノ−４’−メチ
ル−１，１’−ビフェニル、２−シアノ−４’−クロロ
メチル−１，１’−ビフェニル、２−シアノ−４’−メ
トキシメチル−１，１’−ビフェニル等のアリール基を
有するニトリル類が挙げられる。
【０００８】本発明に用いられるヒドラジン類として
は、無水ヒドラジン、ヒドラジン水溶液、またはヒドラ
ジン塩酸塩、ヒドラジン硫酸塩等のヒドラジンの塩類が
用いられ、その使用量はニトリル類（１）に対して通常
１〜２０モル倍である。本発明は触媒の存在下、または
非存在下で反応を行うが、用いられる触媒として、例え
ば、メチラート、エチラートなどのアルコラート類、ナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属、ナトリウムア
ミド、リチウムアミド、ナトリウムヒドラジドなどのア
ルカリ金属アミド、水素化リチウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カルシウムなどのアルカリ金属またはアルカ
リ土類金属の水素化物、硫化水素、メチルメルカプタ
ン、エチルメルカプタン、ブチルメルカプタン、硫化ナ
トリウム、硫化アンモニウムなどの硫化物またはその塩
類、チオシアン酸カリウムなどのチオシアン酸塩、ピリ
ジン、ピコリン、２−メチル−５−エチル−ピリジン、
トリエチルアミンなどの有機アミン類、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド等の相関移動触媒類の単独または
混合物が挙げられる。好ましくはアルコラート類、硫化
水素、硫化水素と塩基の混合物が挙げられる。
は、無水ヒドラジン、ヒドラジン水溶液、またはヒドラ
ジン塩酸塩、ヒドラジン硫酸塩等のヒドラジンの塩類が
用いられ、その使用量はニトリル類（１）に対して通常
１〜２０モル倍である。本発明は触媒の存在下、または
非存在下で反応を行うが、用いられる触媒として、例え
ば、メチラート、エチラートなどのアルコラート類、ナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属、ナトリウムア
ミド、リチウムアミド、ナトリウムヒドラジドなどのア
ルカリ金属アミド、水素化リチウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カルシウムなどのアルカリ金属またはアルカ
リ土類金属の水素化物、硫化水素、メチルメルカプタ
ン、エチルメルカプタン、ブチルメルカプタン、硫化ナ
トリウム、硫化アンモニウムなどの硫化物またはその塩
類、チオシアン酸カリウムなどのチオシアン酸塩、ピリ
ジン、ピコリン、２−メチル−５−エチル−ピリジン、
トリエチルアミンなどの有機アミン類、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド等の相関移動触媒類の単独または
混合物が挙げられる。好ましくはアルコラート類、硫化
水素、硫化水素と塩基の混合物が挙げられる。
【０００９】触媒の使用量はニトリル類（１）に対し通
常、０．００１から５モル倍量である。勿論これ以上の
量を使用しても問題はないが、大量使用するメリットは
特にない。本発明は通常、有機溶媒存在下で行われる
が、用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、ヘ
キサン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ニトロ
ベンゼン、ニトロメタン等のニトロ化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジ
メチルホルムアミド等のアミド類、またはメタノール、
エタノール等のアルコール類およびそれらの混合物が用
いられその使用量については特に限定されない。
常、０．００１から５モル倍量である。勿論これ以上の
量を使用しても問題はないが、大量使用するメリットは
特にない。本発明は通常、有機溶媒存在下で行われる
が、用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、ヘ
キサン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ニトロ
ベンゼン、ニトロメタン等のニトロ化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジ
メチルホルムアミド等のアミド類、またはメタノール、
エタノール等のアルコール類およびそれらの混合物が用
いられその使用量については特に限定されない。
【００１０】反応温度は、通常、−５０〜１５０℃であ
り、好ましくは−５０℃から１００℃である。 反応の
終了は、通常、液体クロマトグラフィー等の分析手段に
より確認することができ、通常ニトリル類（１）の消失
をもって反応終点とすることができる。反応終了後、反
応混合物に一般式（３）で示される亜硝酸化合物または
それらの混合物を加えテトラゾール化する。
り、好ましくは−５０℃から１００℃である。 反応の
終了は、通常、液体クロマトグラフィー等の分析手段に
より確認することができ、通常ニトリル類（１）の消失
をもって反応終点とすることができる。反応終了後、反
応混合物に一般式（３）で示される亜硝酸化合物または
それらの混合物を加えテトラゾール化する。
【００１１】一般式（３）で示される亜硝酸化合物とし
ては、例えば、亜硝酸、または亜硝酸ナトリウム、亜硝
酸カリウム、亜硝酸カルシウム等の亜硝酸のアルカリ金
属塩もしくはアルカリ土類金属塩と塩酸、酢酸、メタン
スルホン酸等の酸の混合物、または亜硝酸エチル、亜硝
酸イソアミル等の亜硝酸アルキルまたはそれらの混合物
が挙げられる。亜硝酸化合物（３）の使用量は、アミド
ラゾン（２）に対して、通常、１〜５０モル倍である。
この反応の反応温度は、通常、−５０〜１５０℃であ
り、好ましくは−５０から５０℃である。液体クロマト
グラフィー等の分析手段により反応の終了を確認後、抽
出、濾過等通常の操作により目的物である５−置換テト
ラゾール化合物（１）得ることができる。
ては、例えば、亜硝酸、または亜硝酸ナトリウム、亜硝
酸カリウム、亜硝酸カルシウム等の亜硝酸のアルカリ金
属塩もしくはアルカリ土類金属塩と塩酸、酢酸、メタン
スルホン酸等の酸の混合物、または亜硝酸エチル、亜硝
酸イソアミル等の亜硝酸アルキルまたはそれらの混合物
が挙げられる。亜硝酸化合物（３）の使用量は、アミド
ラゾン（２）に対して、通常、１〜５０モル倍である。
この反応の反応温度は、通常、−５０〜１５０℃であ
り、好ましくは−５０から５０℃である。液体クロマト
グラフィー等の分析手段により反応の終了を確認後、抽
出、濾過等通常の操作により目的物である５−置換テト
ラゾール化合物（１）得ることができる。
【００１２】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、温和な条件下
で反応を進行せしめることができ工業的有利にテトラゾ
ール化合物（１）を得ることができる。
で反応を進行せしめることができ工業的有利にテトラゾ
ール化合物（１）を得ることができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。 実施例１ ２−クロロ−ベンゾニトリル７１．２ｍｍｏｌをメタノ
ール５０ｍｌに溶解させ、ヒドラジン３５６ｍｍｏｌと
２８％メチラート３５．６ｍｍｏｌを加え、還流温度で
５時間保温した。反応混合物を減圧下濃縮しその残留物
を１５％塩酸水５０ｍｌに溶解させた後、亜硝酸ナトリ
ウム７４．８ｍｍｏｌを加え反応させた。 酢酸エチル
で抽出し５−（２−クロロフェニル）−テトラゾールを
得た。収率 ７０％
が、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。 実施例１ ２−クロロ−ベンゾニトリル７１．２ｍｍｏｌをメタノ
ール５０ｍｌに溶解させ、ヒドラジン３５６ｍｍｏｌと
２８％メチラート３５．６ｍｍｏｌを加え、還流温度で
５時間保温した。反応混合物を減圧下濃縮しその残留物
を１５％塩酸水５０ｍｌに溶解させた後、亜硝酸ナトリ
ウム７４．８ｍｍｏｌを加え反応させた。 酢酸エチル
で抽出し５−（２−クロロフェニル）−テトラゾールを
得た。収率 ７０％
【００１４】実施例２ ２−シアノ−４’−メチル−１，１’−ビフェニル２
６．９ｍｍｏｌをエタノール１５０ｍｌに溶解させヒド
ラジン２７０ｍｍｏｌと２８％メチラート７７．７ｍｍ
ｏｌを加え、５０℃で４８時間保温した。 反応混合物
を減圧下濃縮しその残留物をエタノール１００ｍｌに溶
解させ、亜硝酸ナトリウム５５ｍｍｏｌと濃塩酸１１０
ｍｍｏｌを０℃で加えた。０℃から５℃で２時間保温し
た後反応混合物を濃縮し２−（テトラゾール−５−イ
ル）−４’−メチル−１，１’−ビフェニルを得た。収
率 ４６％
６．９ｍｍｏｌをエタノール１５０ｍｌに溶解させヒド
ラジン２７０ｍｍｏｌと２８％メチラート７７．７ｍｍ
ｏｌを加え、５０℃で４８時間保温した。 反応混合物
を減圧下濃縮しその残留物をエタノール１００ｍｌに溶
解させ、亜硝酸ナトリウム５５ｍｍｏｌと濃塩酸１１０
ｍｍｏｌを０℃で加えた。０℃から５℃で２時間保温し
た後反応混合物を濃縮し２−（テトラゾール−５−イ
ル）−４’−メチル−１，１’−ビフェニルを得た。収
率 ４６％
【００１５】実施例３ ２−クロロ−ベンゾニトリル３５．６ｍｍｏｌをメタノ
ール５０ｍｌに溶解させ、室温でトリエチルアミン３
５．６ｍｍｏｌと硫化水素１０５ｍｍｏｌを加えた後無
水ヒドラジン１８０ｍｍｏｌを加え、還流温度で４８時
間保温した。反応混合物を減圧下留去しその残留物を５
％塩酸水５０ｍｌに溶解させ０℃で亜硝酸ナトリウム７
５ｍｍｏｌを加え反応させた。反応終了後、酢酸エチル
により抽出する事により５−（２−クロロフェニル）テ
トラゾールを得た。 収率５４％
ール５０ｍｌに溶解させ、室温でトリエチルアミン３
５．６ｍｍｏｌと硫化水素１０５ｍｍｏｌを加えた後無
水ヒドラジン１８０ｍｍｏｌを加え、還流温度で４８時
間保温した。反応混合物を減圧下留去しその残留物を５
％塩酸水５０ｍｌに溶解させ０℃で亜硝酸ナトリウム７
５ｍｍｏｌを加え反応させた。反応終了後、酢酸エチル
により抽出する事により５−（２−クロロフェニル）テ
トラゾールを得た。 収率５４％
【００１６】実施例４ 実施例１または３において、２−クロロベンゾニトリル
の代わりに２−ブロモベンゾニトリル、３−ブロモベン
ゾニトリル、２−ニトロベンゾニトリル、３−ニトロベ
ンゾニトリルを用いる事により対応するテトラゾール化
合物；５−（２−ブロモフェニル）−テトラゾ−ル、５
−（３−ブロモフェニル）−テトラゾ−ル、５−（２−
ニトロフェニル）−テトラゾ−ル、５−（３−ニトロフ
ェニル）−テトラゾ−ルを得ることができる。
の代わりに２−ブロモベンゾニトリル、３−ブロモベン
ゾニトリル、２−ニトロベンゾニトリル、３−ニトロベ
ンゾニトリルを用いる事により対応するテトラゾール化
合物；５−（２−ブロモフェニル）−テトラゾ−ル、５
−（３−ブロモフェニル）−テトラゾ−ル、５−（２−
ニトロフェニル）−テトラゾ−ル、５−（３−ニトロフ
ェニル）−テトラゾ−ルを得ることができる。
【００１７】実施例５ ２−シアノ−４’−メチル−１，１’−ビフェニル２
６．９ｍｍｏｌをエタノール１５０ｍｌに溶解させ室温
でトリエチルアミン５３．８ｍｍｏｌと硫化水素１０５
ｍｍｏｌを加えた後無水ヒドラジン１３４．５ｍｍｏｌ
を加え、還流温度で４８時間保温した。反応混合物を温
した。 反応混合物を減圧下濃縮しその残留物にエタノ
ール１００ｍｌを加え溶解させ、亜硝酸ナトリウム１０
８ｍｍｏｌと濃塩酸１００ｍｌを０℃で加えた。０℃か
ら５℃で２時間保温した後、反応混合物を酢酸エチルで
抽出し２−（テトラゾール−５−イル）−４’−メチル
−１，１’−ビフェニルを得た。 収率 ５２％
６．９ｍｍｏｌをエタノール１５０ｍｌに溶解させ室温
でトリエチルアミン５３．８ｍｍｏｌと硫化水素１０５
ｍｍｏｌを加えた後無水ヒドラジン１３４．５ｍｍｏｌ
を加え、還流温度で４８時間保温した。反応混合物を温
した。 反応混合物を減圧下濃縮しその残留物にエタノ
ール１００ｍｌを加え溶解させ、亜硝酸ナトリウム１０
８ｍｍｏｌと濃塩酸１００ｍｌを０℃で加えた。０℃か
ら５℃で２時間保温した後、反応混合物を酢酸エチルで
抽出し２−（テトラゾール−５−イル）−４’−メチル
−１，１’−ビフェニルを得た。 収率 ５２％
【００１８】実施例６ 実施例５において、２−シアノ−４’−メチル−１，
１’−ビフェニルの代わりに２−シアノ−１，１’−ビ
フェニル、２−シアノ−４’−クロロメチル−１，１’
−ビフェニル、２−シアノ−４’−メトキシメチル−
１，１’−ビフェニルを用いる事により対応するテトラ
ゾール化合物；２−（テトラゾール−５−イル）−１，
１’−ビフェニル、２−（テトラゾール−５−イル）−
４’−クロロメチル−１，１’−ビフェニル、２−（テ
トラゾール−５−イル）−４’−メトキシメチル−１，
１’−ビフェニルを得ることができる。
１’−ビフェニルの代わりに２−シアノ−１，１’−ビ
フェニル、２−シアノ−４’−クロロメチル−１，１’
−ビフェニル、２−シアノ−４’−メトキシメチル−
１，１’−ビフェニルを用いる事により対応するテトラ
ゾール化合物；２−（テトラゾール−５−イル）−１，
１’−ビフェニル、２−（テトラゾール−５−イル）−
４’−クロロメチル−１，１’−ビフェニル、２−（テ
トラゾール−５−イル）−４’−メトキシメチル−１，
１’−ビフェニルを得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（１） Ｒ1 ＣＮ （１） （式中、Ｒ1 は、Ｘで置換されていてもよいフェニル基
を示す。ここでＸは、ハロゲン原子；ニトロ基；Ｙで置
換されていてもよいフェニル基；フェニル基で置換され
ていてもよい炭素数１から２０のアルキル基；フェニル
基で置換されていてもよい炭素数１から２０のアルコキ
シ基を示す。ここでＹは、炭素数１から２０のアルキル
基、保護されていてもよい水酸基置換炭素数１から２０
のアルキル基、保護されていてもよいアミノ基置換炭素
数１から２０のアルキル基、またはハロゲン原子で置換
されていてもよい炭素数１から２０のアルキル基、保護
されていてもよい水酸基置換炭素数１から２０のアルコ
キシ基、保護されていてもよいアミノ基置換炭素数１か
ら２０のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていてもよい炭素数１から２０のアルコキシ基を示
す。）で示されるニトリル類に触媒の存在下または非存
在下にヒドラジンまたはその塩を反応させ一般式（２） （式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表わす。）で示され
るアミドラゾンを得た後、これを単離することなく一般
式（３） ＹＮＯ2 （式中、Ｙは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土
類金属原子または炭素数１から２０のアルキル基を示
す。）で示される亜硝酸化合物とを反応させることを特
徴とする一般式（４） （式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を表わす。）で示される
５−置換テトラゾール化合物の製造法。 - 【請求項２】触媒の存在下に反応させる請求項１記載の
５−置換テトラゾール化合物の製造法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7069204A JPH08269023A (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | ５−置換テトラゾール化合物の製造法 |
| DE69531435T DE69531435T2 (de) | 1994-05-16 | 1995-05-15 | Verfahren zur herstellung von tetrazolverbindungen |
| EP95918185A EP0711762B1 (en) | 1994-05-16 | 1995-05-15 | Process for producing tetrazole compounds |
| PCT/JP1995/000919 WO1995031445A1 (en) | 1994-05-16 | 1995-05-15 | Process for producing tetrazole compound and intermediate therefor |
| US08/592,375 US5874593A (en) | 1994-05-16 | 1995-05-15 | Production process and intermediate of tetrazole compound |
| CA002167384A CA2167384A1 (en) | 1994-05-16 | 1995-05-15 | Process for producing tetrazole compound and intermediate therefor |
| US09/176,198 US6191289B1 (en) | 1994-05-16 | 1998-10-21 | Production process and intermediate of tetrazole compound |
| US09/662,591 US6277998B1 (en) | 1994-05-16 | 2000-09-14 | Production process and intermediate of tetrazole compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7069204A JPH08269023A (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | ５−置換テトラゾール化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08269023A true JPH08269023A (ja) | 1996-10-15 |
Family
ID=13395968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7069204A Pending JPH08269023A (ja) | 1994-05-16 | 1995-03-28 | ５−置換テトラゾール化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08269023A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114105898A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-03-01 | 河北诺加生物科技有限公司 | 一种5-苯基四氮唑超细粉体的合成方法 |
-
1995
- 1995-03-28 JP JP7069204A patent/JPH08269023A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114105898A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-03-01 | 河北诺加生物科技有限公司 | 一种5-苯基四氮唑超细粉体的合成方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050531 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050726 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051227 |