JPH08272017A - 単分散平板状ハロゲン化銀エマルジョンの製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明により、感光性写真材料に有用な単分
散平板状ハロゲン化銀エマルジョンを提供する。 【解決手段】 本発明は、(a)pＨ３以下およびpＢr１〜
２を有する分散媒中にハロゲン化銀核群を形成する工
程、(b)該ハロゲン化銀核群をハロゲン化銀溶媒の存在
下に熟成させる工程、(c)pＢr値１〜２で該ハロゲン化
銀核の第１生長を行う工程、および(d)pＢr値２〜2.7で
該ハロゲン化銀核の第２生長を行う工程、を含む単分散
平板状ハロゲン化銀粒子エマルジョンの製法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性写真材料に
有用な単分散平板状ハロゲン化銀エマルジョンに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】平板状ハロゲン化銀粒子、それらの作製
および写真エマルジョンへの使用は広く公知である。平
板状ハロゲン化銀粒子は実質的に平行な２つの主要面を
有する結晶である。平板状ハロゲン化銀粒子を含有する
写真エマルジョンは円形または球状または立方体粒子を
含有する写真エマルジョンと比べて高い有用性を提供す
るので、多くの文献中で盛んに検討されている。平板状
粒子は通常多角形（即ち、三角形または六角形）の平行
な結晶面を有し、その平行な結晶面の各々が通常その粒
子の他のどの結晶面より大きいものであり、従来より厚
さに対する粒子直径の比であるアスペクト比（即ち、Ａ
Ｒ）により規定されている。平板状粒子は、当業者に明
らかな重要な技術的および商業的有用性を提供する。最
も重要な平板状粒子の有用性を以下にまとめて示す。 １．平板状粒子は高い表面/体積の比を有するので、多
量の増感染料がその表面上で吸収され、高現像速度およ
び被覆力が得られる。 ２．平板状粒子を含むエマルジョンが被覆され乾燥され
た場合、それらは支持体表面に平行になる傾向があり、
これにより被覆層の厚さを低減し、従って鮮明度を向上
し得る。 ３．増感染料を平板状粒子に添加する場合、その染料の
吸光係数は、ハロゲン化銀の間接遷移に関する吸光係数
よりも高いので、Ｘ線材料中でクロスオーバーにおける
減少が可能となり、それにより品質低下を防止する。 ４．平板状粒子は通常非常に薄く、従って粒子当たりに
吸収される放射線量（厚さに比例）が低く、エージング
中の自然放射線によるかぶりは少ない。 ５．平板状粒子は低光散乱を示し、それらから得られる
画像は高解像度を有する。

【０００３】これらのすべての有用性にもかかわらず、
平板状粒子エマルジョンは、従来のハロゲン化銀粒子の
調製によって得られるものより多い分散粒子群となる傾
向がある。これは、エマルジョン内の粒子のばらつきま
たは粒径偏差を低減することが、エマルジョンの画像コ
ンシステンシー(imaging consistency)を向上する基本
的アプローチであるので、問題とされてきた。粒子のば
らつきの問題は、(1)非適合粒子形状、例えば八面体、
立方体または棒形状の存在、および(2)粒度分布の偏
差、に関連する。非適合粒子は光と異なる相互作用を示
し、いくつかの望ましくない特性を示す。例えば、非平
板状粒子面は支持体に対して不規則に配向し、八面体粒
子はより低い被覆力およびより大きい厚さを示し、棒状
粒子は光の不在下で自己現像して、かぶりが増加する。

【０００４】これに反して、一般的形状を有する粒子群
であっても粒度分布に関して大きなばらつきを有する。
粒度分布を定量する一般的方法は、個々の粒子を抽出
し、各粒子に対応する直径を計算し（Ｄ₁→_n、式中ｎは
抽出した粒子数）、平均直径を計算し（Ｄm＝Σ₁→_nＤ/
ｎ）、粒子数直径の標準偏差(Ｓ)を計算し、標準偏差
(Ｓ)を平均直径でＤmで割って100を掛け、粒子数の変動
係数(ＣＯＶ)を％単位で求める。

【０００５】低いＣＯＶ（例えば、30％以下）を有する
エマルジョンは、それらのほぼ均一な表面積の結果とし
て最適に増感され、微細な粒子数の低減の結果として低
い光散乱を有し、それにより高い画像鮮明度を有する。
また、大きな粒子数の低減の結果として低い粒度(granu
larity)を有し、より高いコントラストを有することが
当業者に公知である。

【０００６】従って、平板状粒子エマルジョンのＣＯＶ
を低減するために、様々な解決策が、その技術分野で提
案されている。単分散平板状粒子エマルジョンおよびそ
れらを作製する方法が、例えば米国特許第4,150,994
号、同4,184,877号、同4,184,878号、同4,301,241号、
同4,386,156号、同4,400,463号、同4,425,426号、同4,7
97,354号、同4,977,074号、同4,945,037号、同5,215,87
9号、同4,798,775号、同4,722,886号、同4,801,522号、
同5,013,641号、同5,254,453号、欧州特許第503,700
号、同569,075号、同577,886号、同588,338号、同600,7
53号に開示されている。これらの特許および特許出願
は、成核およびハロゲン化銀エマルジョンの熟成の間に
様々なパラメータを制御することにより、単分散平板状
粒子を得ようとする。単分散平板状粒子エマルジョンを
得るための制御下で保持すべき最も重要な成核条件は、
温度、ゼラチン濃度、銀塩溶液の添加速度、ハロゲン化
アルカリ溶液の添加速度、撹拌速度、ハロゲン化銀アル
カリ溶液中のヨウ化物含量、ハロゲン化銀溶媒量、分散
媒のpＨ、反応容器中の臭化物イオン濃度、分散媒の分
子量、初期の容器中のヨウ化物イオン濃度等である。同
様に、最も重要な熟成条件は、温度、分散媒濃度、ハロ
ゲン化銀溶媒濃度、pＢr、および銀塩溶液の添加速度で
ある。

【０００７】マターナガン(Maternaghan)の米国特許第
4,150,994号、同4,184,877号および同4,184,878号に
は、ヨウ化物少なくとも90モル％を有する種結晶からの
厚い単分散平板状粒子エマルジョンの作製が開示されて
いる。

【０００８】サイトー(Saito)の米国特許第4,301,241号
には、複双晶粒子(multiple twin crystal grain)およ
び狭い粒度分布を有するハロゲン化銀エマルジョンの作
製方法が開示されている。その実施例には、平均粒径0.
86〜1.023μmおよび変動係数11.6〜13.6％を有する複双
晶粒子臭化ヨウ化銀エマルジョンが示されている。

【０００９】ミグノット(Mignot)の米国特許第4,386,15
6号には、アスペクト比少なくとも8.5：１およびＣＯＶ
30以下を有する臭化銀平板状粒子エマルジョンが開示さ
れている。ミグノット(Mignot)により開示されている平
板状粒子は（100）結晶面により限定されており、四角
または三角形である。

【００１０】アボット(Abbot)等の米国特許第4,425,426
号には、平板状粒子エマルジョンを含む放射線透過写真
成分が開示されており、厚さ0.2μm以下および平均アス
ペクト比５:１〜８:１を有する粒子が総投影面積少なく
とも50％を占める。ハロゲン化銀粒子の沈殿の間に、銀
およびハロゲン化塩の導入速度が限界レベル以下に保持
され、ＣＯＶ30％以下を有する比較的単分散の薄い平板
状粒子を得るために、新しい粒子核の形成が提供され
る。

【００１１】サイトウ(Saitou)等の米国特許第4,797,35
4号には、全粒子の投影面積の70〜100％を占める「隣接
するエッジ比」2/1〜1/1を有する六方晶平板状粒子を含
有するハロゲン化銀エマルジョンが開示されており、更
に上記六方晶平板状粒子が単分散であり、平均アスペク
ト比2.5:１〜20:１を有する。「隣接するエッジ比」の
語により、各六方晶平板状粒子の最長エッジ長さ/最短
エッジ長さの比を表す。従って、「隣接するエッジ比」
の定義は、六角形正則性の測定である。

【００１２】サイトウ(Saitou)等の米国特許第4,977,07
4号には、全粒子の投影面積の70〜100％を占める「直線
(linear)比」2/5以下を有する実質的に円形平板状粒子
を含有するハロゲン化銀エマルジョンが開示されてお
り、更に上記円形平板状粒子が単分散である。「直線
比」の語により、外挿した六方晶平板状粒子の総長さで
実質的に円形平板状粒子中の直線部分の総長さを割った
比を表す。その直線比の値が低いほど、粒子がより丸
い。

【００１３】米国特許第4,945,037号には、平板状ハロ
ゲン化銀粒子エマルジョンの製造方法が開示されてお
り、総投影面積の少なくとも60％をコア部分および外皮
部分を有する平板状粒子により覆い、コア部分のヨウ化
物含量が７モル％から固溶体限界までである。その方法
は、特定の成核条件、即ち、ゼラチン濃度0.1〜20重量
％、銀およびハロゲン化塩の添加速度１リットル当たり
６×10^-4〜2.9×10^-1モル/分、およびpＢr値1.0〜2.5に
より特徴付けられる。

【００１４】米国特許第4,798,775号には、成核時間の
少なくとも初期半分で反応容器中のpＢrを2.0〜-0.7に
保持することにより母液中のヨウ化銀含量０〜５％でハ
ロゲン化銀核を形成する工程、ハロゲン化銀溶媒濃度を
母液１リットル当たり10^-4〜５モルに保持することによ
り成核工程で形成される核を熟成する工程、および銀お
よびハロゲン化塩の添加またはハロゲン化銀微粒子の添
加により種粒子を生長する工程、を含む単分散平板状粒
子の製造方法が開示されている。

【００１５】米国特許第4,801,522号には、硝酸銀を、
臭化物イオン濃度0.08〜0.25Ｎ（pＢr=1.1〜0.6）を含
有する反応容器に加える工程、総銀少なくとも２％をそ
の容器に加えた後、アンモニア溶液を加えて0.002〜0.2
Ｎとする工程、および銀およびハロゲン化物（Ｂrまた
はＢrＩ）塩を秤量したダブルジェットにより加える工
程を含む、厚さ0.05〜0.5μm、平均粒子体積0.05〜1.0m
m³および平均アスペクト比２：１を有する平板状ハロゲ
ン化銀粒子の製法が開示されている。

【００１６】米国特許第4,722,886号には、硝酸銀を、
臭化物イオン濃度0.08〜0.25Ｎを含有する反応容器に加
えてハロゲン化銀核を形成する工程、総銀少なくとも２
重量％をその容器に加えた後、ベースのハロゲン化銀溶
液（例えば、アンモニア溶液）を加えて0.02〜0.2Ｎと
する工程、硝酸銀の添加を0.5〜60分間、Ｂrイオン濃度
0.005〜0.05Ｎで停止する工程、その溶媒の少なくとも
一部を中和する工程、および銀およびハロゲン化物（Ｂ
rまたはＢrＩ）可溶性塩を秤量したダブルジェットによ
り加えることにより形成したハロゲン化銀粒子を生長す
る工程を含む単分散平板状ハロゲン化銀粒子エマルジョ
ンの製法が開示されている。

【００１７】米国特許第5,013,641号には、(a)ゼラチン
溶液中の硝酸銀および臭化ナトリウムを組合せる工程、
(b)ＮaＯＨを加えてpＨを９以上に調節する工程、(c)成
核粒子の熟成を行う工程、(d)酸の添加によりpＨを７以
下に調節する工程、および(e)硝酸銀およびハロゲン化
ナトリウムを加えて成核粒子を生長する工程を含む、単
分散平板状ハロゲン化銀エマルジョンの製法が開示され
ている。

【００１８】米国特許第5,254,453号には、(a)濃度0.00
15〜0.015Ｎのベースのハロゲン化銀溶媒中で成核粒子
を熟成する工程、および(b)熟成後および生長前に上記
ベースの溶媒を中和する工程を含む、ＣＯＶ25％以下、
厚さ0.05〜0.5μm、平均アスペクト比２以上、および直
径0.2〜３μmを有する単分散臭化銀または臭化ヨウ化銀
粒子の製法が開示されている。

【００１９】欧州特許第503,700号には、総ハロゲン化
銀の50％が沈殿する前の作製の如何なる工程でもアミノ
アザインデンを添加することにより特徴付けられる、Ｃ
ＯＶ15％以下を有する単分散臭化銀または臭化ヨウ化銀
平板状エマルジョンの製法が開示されている。

【００２０】欧州特許第569,075号には、平均アスペク
ト比２以上、平均厚さ0.15〜0.30μm、およびＣＯＶ0.1
5〜0.45を有する単分散臭化銀または臭化ヨウ化銀平板
状エマルジョンの製法が開示されており、その方法は
(a)pＢr1.0〜2.0のゼラチン/臭化物溶液を提供する工
程、(b)用いた総硝酸銀の少なくとも10％以下を消費す
ることにより成核する工程、(c)pＢr値1.0〜2.5での
（用いた総硝酸銀の少なくとも10％ を消費する）第１
のダブルジェット生長工程、および(d)pＢr値2.7以上で
の（用いた総硝酸銀の少なくとも40％を消費する）第２
ダブルジェット生長工程から成る。

【００２１】欧州特許第577,886号には、平均アスペク
ト比２〜８、およびＣＯＶ30以下を有する単分散臭化銀
または臭化ヨウ化銀平板状エマルジョンの製法が開示さ
れている。その方法には、(a)秤量したダブルジェット
により、総ハロゲン化銀の５％以下を沈殿させることに
より成核工程を行う工程、(b)形成核を熟成する工程、
(c)pＢr２以下での秤量したダブルジェットにより少な
くとも１つの生長工程を行う工程、(d)銀およびハロゲ
ン化物イオン溶液の総流量以上の限外濾過流動率での沈
殿工程中の反応混合物を限外濾過する工程を含む。

【００２２】グルゼスコウィアック(Grzeskowiak)の米
国特許第5,028,521号には、(a)pＢr0.7〜1.0の臭化物/
ゼラチン混合物を調製する工程、(b)硝酸銀および更に
ハロゲン化物を加えて臭化物過剰を保持する工程、(c)
総銀量の少なくとも20重量％を加えた後、アンモニアを
加えて少なくとも0.05Ｎとする工程、(d)秤量したダブ
ルジェットによりアンモニア濃度少なくとも0.03Ｎを保
持することにより更に硝酸銀およびハロゲン化物を加え
る工程から成る、アスペクト比３：１〜12：１を有する
単分散平板状ハロゲン化銀粒子エマルジョンの製法が開
示されている。

【００２３】欧州特許第588,338号には、特定成核条件
により特徴付けられる方法が開示されており、それには
(a)総可溶性銀塩量の0.30〜9.0重量％を、0.08〜0.25Ｍ
水溶性ハロゲン化塩を含有する容器に加える工程、(b)
総可溶性銀塩量0.30〜９重量％を加えた時にアンモニア
性塩基溶液を加える工程、(c)可溶性銀塩を加えてpＢr
1.3〜2.3に増加する工程、および(d)可溶性銀およびハ
ロゲン化塩を加えて平板状粒子を生長する工程を含む。

【００２４】その他の最近の特許および特許出願では、
特定のポリマー界面活性剤を成核および／または熟成の
間に単分散平板状ハロゲン化銀エマルジョンを得ようと
する試みがなされた。

【００２５】米国特許第5,215,879号には、単分散ハロ
ゲン化銀エマルジョンを得る方法が開示されており、以
下の式：

【化５】 （式中、ＹはＨまたはカルボキシル基であり；Ｒ₁は
Ｈ、ハロゲン原子、アルキル基またはＣＨ₂ＣＯＯＭ
（ここで、ＭはＨまたはアルカリ金属原子）であり；Ｌ
は-ＣＯＮＨ-、-ＮＨＣＯ-、-ＣＯＯ-、-ＯＣＯ-、-Ｃ
Ｏ-または-Ｏ-であり；Ｊはアルキレン基、アリーレン
基、または(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_m(ＣＨ₂)_n（ここで、ｍは０
〜40の整数であり、ｎは０〜４の整数である）であり；
およびＱはＨ、アルキル基、Ｎ-含有複素環式基、４級
アンモニウム基、ジアルキルアミノ基、ＯＭ、-ＮＨ₂、
-ＳＯ₃Ｍ、-Ｏ-ＰＯ₃Ｍ₂および-ＣＯ-Ｒである）を有す
るポリマーを熟成工程の間に加える。

【００２６】欧州特許第513,722号、同513,723号、同51
3,724号および同513,725号には、成核の間に、それぞれ
以下の一般式(1)〜(4)： (1) ＬＡＯ-ＨＡＯ-ＬＡＯ (2) ＨＡＯ-ＬＡＯ-ＨＡＯ (3) ＨＡＯ-ＬＡＯ-ＬＡＯ-ＨＡＯ (4) ＬＡＯ-ＨＡＯ-Ｌ-ＨＡＯ-ＬＡＯ （式中、ＬＡＯは親油性酸化アルキレンブロックユニッ
トであり、ＨＡＯは親水性酸化アルキレンブロックユニ
ットであり、Ｌは窒素を含有する３価または４価の有機
基である）を有するポリマーを加えることにより単分散
平板状エマルジョンを得る方法が開示されている。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明は単分散平板状ハ
ロゲン化銀粒子エマルジョンの製法に関し、その方法に
は以下の： (a)pＨ３以下およびpＢr１〜２を有する分散媒中にハロ
ゲン化銀核群を形成する工程、(b)該ハロゲン化銀核群
をハロゲン化銀溶媒の存在下に熟成させる工程、(c)pＢ
r値１〜２で該ハロゲン化銀核の第１生長を行う工程、
および(d)pＢr値２〜2.7で該ハロゲン化銀核の第２生長
を行う工程、を含む。

【００２８】本発明の好ましい態様に従って、酸化ポリ
アルキレン−ポリアルキルシロキサンコポリマーはを上
記工程(a)〜(d)の内の少なくとも１つの間に存在する。
本発明の方法により、低減された量の非適合粒子および
より低い変動係数(ＣＯＤ)を有する単分散平板状ハロゲ
ン化銀粒子エマルジョンの生長を可能とする。

【００２９】本発明は単分散平板状ハロゲン化銀粒子エ
マルジョンの製法に関し、その方法には以下の： (a)pＨ３以下およびpＢr１〜２を有する分散媒中にハロ
ゲン化銀核群を形成する工程、(b)該ハロゲン化銀核群
をハロゲン化銀溶媒の存在下に熟成させる工程、(c)pＢ
r値１〜２で該ハロゲン化銀核の第１生長を行う工程、
および(d)pＢr値２〜2.7で該ハロゲン化銀核の第２生長
を行う工程、を含む。

【００３０】（粒子作製）本発明のハロゲン化銀エマル
ジョン内に含まれる平板状ハロゲン化銀粒子は、平均直
径：厚さの比（しばしば当業者間ではアスペクト比と呼
ばれる）少なくとも２:１、好ましくは２:１〜20：１、
より好ましくは２:１〜14:１、および最も好ましくは
２:１〜８:１を有する。本発明に使用に好適な平板状ハ
ロゲン化銀粒子の平均直径は、約0.3〜約５μm、好まし
くは0.5〜３μm、より好ましくは0.8〜1.5μmの範囲で
ある。本発明の使用に好適な平板状ハロゲン化銀粒子
は、厚さ0.4μm以下、好ましくは0.3μm以下、より好ま
しくは0.1〜0.3μmの範囲内を有する。

【００３１】前記の平板状ハロゲン化銀粒子の大きさお
よび特徴は、当業者間で公知の方法により容易に確認さ
れ得る。「直径(diameter)」の語により、粒子の投影面
積と等しい面積を有する円の直径と定義される。「厚さ
(thickness)」の語により、平板状ハロゲン化銀粒子を
構成する２つの本質的に平行な主要面間の距離を表す。
各々の粒子の直径および厚さの測定から、各々の粒子の
直径：厚さの比を計算し、全平板状粒子の直径：厚さの
比を平均して、平均直径：厚さの比を求め得る。この定
義によれば、平均直径：厚さの比は、個々の平板状粒子
の直径：厚さの比の平均である。実際には、平板状粒子
の平均直径および平均厚さを求めること、およびこれら
２種の平均の比として平均直径：厚さの比を計算するこ
とはより簡単である。どんな方法を用いても、得られた
平均直径：厚さの比は大きくは違わない。

【００３２】本発明の方法を用いて得られる平板状ハロ
ゲン化銀粒子エマルジョンの投影面積は、エマルジョン
の全ハロゲン化銀粒子の投影面積の少なくとも50％以
下、好ましくは少なくとも80％および、より好ましくは
90％を占める。本発明の方法を用いて得られる平板状粒
子エマルジョンの変動係数は、20％以下、好ましくは15
％である。

【００３３】本発明では、ハロゲン化銀粒子を有する通
常用いられるハロゲン組成物を使用し得る。典型的なハ
ロゲン化銀には、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化ヨウ
化銀、臭化ヨウ化銀、塩化臭化ヨウ化銀等を含む。しか
し、臭化銀および臭化ヨウ化銀は、０〜10モル％、好ま
しくは0.2〜５モル％、およびより好ましくは0.5〜1.5
モル％のヨウ化銀を含む臭化ヨウ化銀を使用した平板状
ハロゲン化銀粒子であることが好ましい。個々の粒子の
ハロゲン組成物は均質であっても不均質であってもよ
い。

【００３４】ハロゲン化銀エマルジョンの製法には一般
に、ハロゲン化銀粒子種を形成する成核工程、続いて粒
子種を最終寸法にする１つ以上の生長工程、および全可
溶性塩を最終エマルジョンから除去する洗浄工程を含
む。熟成工程は通常、成核工程および生長工程の間、お
よび/または生長工程および洗浄工程の間にある。

【００３５】本発明の方法に従って、分散媒の水溶液を
反応容器に臭化物塩水溶液と共に入れる。最初に反応容
器中にある分散媒は、従来よりハロゲン化銀エマルジョ
ンに用いられているものから選択され得る。好ましい分
散媒には、親水性コロイド、例えばプロテイン類、プロ
テイン誘導体、セルロース誘導体（例えば、セルロース
エステル）、ゼラチン（例えば、酸またはアルカリ処理
ゼラチン）、ゼラチン誘導体（例えば、アセチル化ゼラ
チン、フタル化ゼラチン等）、多糖類（例えば、デキス
トラン）、アラビアゴム、カゼイン等を含む。また、上
記親水性コロイドを合成ポリマーバインダーおよびしゃ
く解剤(peptizer)、例えばアクリルアミドおよびメタク
リルアミドポリマー、アルキルおよびスルホアルキルア
クリレートおよびメタクリレートのポリマー、ポリビニ
ルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルラクタム
類、ポリアミド類、ポリアミン類、ポリ酢酸ビニル等と
組合せて用いることも一般的である。上記臭化物塩は通
常アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水溶性塩、例
えば臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化アンモニウ
ム、臭化カルシウムまたは臭化マグネシウムである。

【００３６】反応容器内容物の温度は、好ましくは30〜
80℃、より好ましくは40〜70℃の範囲である。出発溶液
のpＨは３以下、好ましくは1.5〜2.5の範囲である。出
発溶液のpＢrは１〜２、好ましくは1.2〜1.7の範囲であ
る。

【００３７】成核工程(a)の間、ダブルジェット法によ
り反応容器に、一定流量30〜120ミリリットル/分、好ま
しくは45〜90ミリリットル/分で温度を一定に保持し
て、臭化物塩および硝酸銀水溶液を加える。成核工程の
間に、加えた硝酸銀の量は用いられる総硝酸銀の0.5〜
５重量％である。本発明では、「総硝酸銀」の語によ
り、全エマルジョン製造工程、即ち成核工程から最終成
長工程までの間に使用した硝酸銀量を表す。

【００３８】成核工程の終わりに、臭化物塩および硝酸
銀の添加を停止し、得られるハロゲン化銀種粒子に熟成
工程(b)を行う。ハロゲン化銀種は、30〜80℃、好まし
くは50〜80℃で、10〜30分間、好ましくは15〜25分間、
ハロゲン化銀溶媒の存在下で熟成される。ハロゲン化銀
溶媒、例えばチオ尿素、アンモニア、チオエーテル、チ
オスルフェートまたはチオシアネートは、成核工程の
前、間、後、熟成工程開始の寸前、または熟成工程の間
の如何なる時に添加されてもよい。好ましい態様に従っ
て、ハロゲン化銀溶媒は熟成工程の少なくとも５分後、
好ましくは少なくとも10分後に添加される。反応容器中
のハロゲン化銀溶媒濃度は、0.002〜0.2Ｎであってよ
い。好ましい態様では、ハロゲン化銀溶媒はアンモニア
水溶液である。

【００３９】その後、硝酸銀水溶液およびハロゲン化塩
水溶液の加速流量でのダブルジェット添加により、５〜
15ミリリットル/分からスタートし、15〜40ミリリット
ル/分へ上昇、好ましくは５〜10ミリリットル/分からス
タートし、15〜30ミリリットル/分へ上昇する直線勾配
で、ハロゲン化銀種粒子に第１生長工程(c)を行う。こ
の工程の間に加えられるハロゲン化塩水溶液は、臭化物
イオンまたは臭化ヨウ化物イオンのいずれかを含有して
もよい。ダブルジェット添加の開始寸前に、硝酸銀溶液
のシングルジェット添加により、pＢrを１〜２、好まし
くは1.2〜1.8に調節し、pＨ値を６〜８、好ましくは6.5
〜7.5に調節および制御する。この第１生長工程の間
に、加えた硝酸銀量は、使用した総硝酸銀重量の20〜30
％である。

【００４０】第１生長工程の終わりに、硝酸銀溶液のシ
ングルジェット添加により、pＢrは、２〜2.7、好まし
くは2.2〜2.6に調節される。

【００４１】第２生長工程(d)は、硝酸銀水溶液および
ハロゲン化塩水溶液の加速流量での第２ダブルジェット
添加により、５〜15ミリリットル/分からスタートし、1
5〜40ミリリットル/分へ上昇、好ましくは５〜10ミリリ
ットル/分からスタートし、15〜30ミリリットル/分へ上
昇する直線勾配で行われる。この工程の間に加えられる
ハロゲン化塩水溶液は、臭化物イオンまたは臭化ヨウ化
物イオンのいずれかを含有してもよい。この第２生長工
程の間に、加えられる硝酸銀量は、使用した総硝酸銀重
量の20〜30重量％である。

【００４２】第２生長工程の終わりに、得られる平板状
ハロゲン化銀粒子を、５〜15ミリリットル/分からスタ
ートし、15〜40ミリリットル/分へ上昇、好ましくは５
〜10ミリリットル/分からスタートし、15〜30ミリリッ
トル/分へ上昇する直線勾配を用いて硝酸銀水溶液およ
びハロゲン化塩水溶液の加速流量での第２ダブルジェッ
ト添加により、更に生長させ適当なサイズとする。この
工程の間に加えられるハロゲン化塩水溶液は、臭化物イ
オンまたは臭化ヨウ化物イオンのいずれかを含有しても
よい。この最終生長工程の間に、加えられる硝酸銀量
は、使用した総硝酸銀重量の30〜50重量％である。

【００４３】生長工程間に、可溶性ヨウ化物塩を臭化物
塩と共に加える場合、最終エマルジョン中に存在するヨ
ウ化物量は、総ハロゲン化物含量を基礎として0.01〜10
モル％、好ましくは0.05〜５モル％の範囲である。

【００４４】その生長工程の終わりに、ハロゲン化銀１
モル当たり0.1〜30gのハロゲン化銀溶媒の添加により、
平板状粒子は更に１〜20分間熟成されてもよい。有用な
熟成剤には、ハロゲン化銀溶媒、例えばチオ尿素、アン
モニア、チオエーテル、チオスルフェートまたはチオシ
アネートを含む。

【００４５】ハロゲン化銀粒子の沈殿の終わりに、水溶
性塩を公知の方法によりエマルジョンから除去する。好
適な洗浄方法(cleaning arrangement)は、溶解した分散
媒および可溶性塩がハロゲン化銀エマルジョンから連続
的に除去され得る方法、例えば可溶性塩の除去用の透析
または電気透析の組合せまたは分散媒の除去用の浸透ま
たは逆浸透の組合せである。

【００４６】特に好ましい態様では、ハロゲン化銀粒子
が残留分散体中に保持されている間に分散媒および可溶
性塩を除去する公知の技術の内、限外濾過はこの方法を
実施するのに特に有用な洗浄方法である。通常、不活性
非イオン性ポリマー膜を含有する限外濾過ユニットを洗
浄方法として用いる。ハロゲン化銀粒子は、分散媒およ
び可溶性塩またはイオンより大きいので、溶解した分散
媒および可溶性塩が除去されるのに対して、ハロゲン化
銀粒子は上記の膜により保持される。

【００４７】好ましい膜の作用の機構が、英国特許第1,
307,331号に開示されている。限外濾過に用いられる膜
には、より厚い多孔性構造により支持された非常に微細
な気孔テクスチャーの非常に薄い層を含む。好適な膜
は、ポリマー、例えばポリ酢酸ビニル、ポリビニルアル
コール、ポリ蟻酸ビニル、ポリビニルエーテル類、ポリ
アミド類、ポリイミド類、ポリ塩化ビニルおよびポリ塩
化ビニリデン、芳香族ポリマー、例えば芳香族ポリエス
テル、ポリテトラフルオロエチレン、再生セルロース、
セルロースエステル類、例えば酢酸セルロース、または
混合セルロースエステル類を含有する。上記膜は、異方
性半透過性を有し、かなりの機械的、熱的および化学的
安定性を示し、写真的に不活性である。その膜は好まし
くは分子量約300,000以下、より好ましくは約50,000以
下を有する分子を透過し得る。

【００４８】本発明の好ましい態様に従って、酸化ポリ
アルキレン−ポリアルキルシロキサンコポリマーを上記
工程(a)〜(d)の内の少なくとも１つで加える。本発明の
より好ましい態様に従って、酸化ポリアルキレン−ポリ
アルキルシロキサンコポリマーを、成核工程(a)の開始
寸前に反応容器に加える。

【００４９】本発明の酸化ポリアルキレン−ポリアルキ
ルシロキサンコポリマーは、酸化ポリアルキレンおよび
ポリアルキルシロキサンである骨格ポリマー鎖にユニッ
トを有するブロック、グラフトまたはランダム共重合ポ
リマーである。そのポリマーは、これらの種類のユニッ
トを、この種類の範囲内である総ポリマー組成物の少な
くとも10モル％含有すべきである。２種の部分の各々に
は総ポリマーの10〜90モル％、好ましくは総ポリマーの
20〜80モル％を含有し、ベースの２種の部分の各部分に
関する必要最小限がその共重合体に存在する限り、それ
と共重合した30モル％以下の付加的部分が存在してもよ
い。

【００５０】第１の態様に従って、酸化ポリアルキレン
−ポリアルキルシロキサンコポリマーは以下の式(I)：

【化６】 （式中、ＬＡＳは親油性アルキレンシロキサンブロック
ユニットを表し、ＨＡＯは親水性酸化アルキレンブロッ
クユニットを表し、ＬＡＯは末端親油性酸化アルキレン
ブロックユニットを表し、Ｌは親油性炭化水素系であ
る）により表され得る。

【００５１】第１の態様に従って、酸化ポリアルキレン
−ポリアルキルシロキサンコポリマーは以下の式(II)：

【化７】 （式中、ＬＡＳは親油性アルキレンシロキサンブロック
ユニットを表し、ＨＡＯは親水性酸化アルキレンブロッ
クユニットを表し、ＬＡＯは末端親油性酸化アルキレン
ブロックユニットを表し、ＳＢはシロキサン骨格であ
る）により表され得る。

【００５２】式(Ｉ)の酸化ポリアルキレン−ポリアルキ
ルシロキサンコポリマーは、短い炭化水素鎖を介して結
合した酸化ポリアルキレン基を有する直鎖状ポリアルキ
ルシロキサンであり、それは以下の一般式(III)：

【化８】 （式中、Ｒはメチル基であり、Ｒ'は水素または炭素原
子１〜４個を有する低級アルキル基であってもよく、ｘ
は０〜100の整数であり、ｙは１〜50の整数であり、ｍ
は１〜50の整数であり、ｎは１〜50の整数であり、ｐは
２〜６の整数である）によっても表され得る。

【００５３】式(II)の酸化ポリアルキレン−ポリアルキ
ルシロキサンコポリマーは、酸化ポリアルキレンブロッ
クユニットがアルキルシロキサンブロックユニットを介
してシリコーン骨格に結合する分岐状ポリアルキルシロ
キサンであり、それは以下の一般式(IV)：

【化９】 （式中、Ｒはメチル基であり、Ｒ'は水素または炭素原
子１〜４個を有する低級アルキル基であってもよく、ｙ
は３〜50の整数であり、ｍは１〜50の整数であり、ｎは
１〜50の整数であり、ｐは１〜50の整数である）によっ
ても表され得る。

【００５４】上記式(Ｉ)および(IV)の酸化ポリアルキレ
ン−ポリアルキルシロキサンコポリマーの典型的例を以
下の表Ａに示す。

【表１】

【００５５】シルウェット(Silwet)は、ユニオン・カー
バイド・ケミカルズ・アンド・プラスチックス・カンパニー
(Union Carbide Chemicals and Plastics Company)の登
録商標である。酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシロ
キサンコポリマーは沈殿の間に加えた総銀１モル当たり
５〜200mgの量で分散媒中に含有してもよい。

【００５６】酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシロキ
サンコポリマーの存在により、低減された量の非適合粒
子およびより低い変動係数(ＣＯＤ)を有する平板状ハロ
ゲン化銀粒子エマルジョンの生長を可能とする。「低減
された量の非適合粒子」の語により、平板状形状と異な
る結晶形、例えば立方晶形、八面体晶形、棒状形等を有
するハロゲン化銀粒子が得られるエマルジョンのハロゲ
ン化銀粒子総数を基礎として５％以下、好ましくは１％
以下で存在することを表す。「より低い変動係数」の語
により、酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシロキサン
コポリマーの存在により得られるエマルジョンのＣＯＶ
が、酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシロキサンコポ
リマーなしで調製した対応するエマルジョンのＣＯＶよ
り低いことを表す。酸化ポリアルキレン−ポリアルキル
シロキサンコポリマーの存在により、５％、好ましくは
10％のＣＯＶの低減が得られる。

【００５７】（化学増感）使用前に、本発明の方法によ
り作製した平板状ハロゲン化銀粒子エマルジョンは一般
に十分に分散され、ゼラチンまたはしゃく解剤の他の分
散体を用いて大きくし、最適感度を達成する公知の方法
を行う。

【００５８】化学増感剤および他の付加化合物をハロゲ
ン化銀エマルジョンに加え、続いて、高温で予定した時
間のいわゆる化学熟成することにより、化学増感が行わ
れる。化学増感は、様々な化学増感剤、例えば金、硫
黄、還元剤、プラチナ、セレン、硫黄と金等により行わ
れ得る。本発明に用いる平板状ハロゲン化銀粒子は、粒
子形成および脱塩の後、少なくとも１つの金増感剤およ
び少なくとも１つのチオスルホネート増感剤により化学
増感される。化学増感の間に、その他の化合物、例えば
かぶり防止剤、安定剤、光学増感剤、超色増感剤等を添
加して、得られるハロゲン化銀エマルジョンの写真性能
を改良し得る。

【００５９】金増感は、金増感剤をエマルジョンに加
え、そのエマルジョンを好ましくは40℃以上の高温で予
定した時間撹拌することにより行われる。金増感剤とし
て、酸化数＋１または＋３を有する金化合物が、金増感
剤が用いられ得る場合に、通常用いられる。金増感剤の
好ましい例として、例えば米国特許第2,399,083号に開
示のような、クロロ金酸、その塩および金錯体がある。
また、例えば、T.H.ジェイムス(James)のザ・セオリー・
オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス(The Theory of
the Photographic Process)第４版、第155頁、1977年、
マクミラン(MacMillan)社発行に開示のように、チオシ
アネートを金増感剤と共に用いることにより、金増感を
向上することが有用である。金増感剤の特定例には、ク
ロロ金酸、クロロ金酸カリウム、三塩化第二金、チオ硫
酸第二金ナトリウム、チオシアン酸第二金カリウム、ヨ
ード金酸カリウム、テトラシアノ金酸、2-オーロスルホ
ベンゾチアゾールメトクロリドおよびチオシアン酸第一
金アンモニウムが挙げられる。

【００６０】チオスルホネート増感は、チオスルホネー
ト増感剤を平板状ハロゲン化銀エマルジョンに加え、そ
のエマルジョンを40℃以上の高温で予定した時間撹拌す
ることにより行われる。

【００６１】本発明に用いる金増感剤およびチオスルホ
ネート増感剤の添加量は、様々な条件、例えば金および
チオスルホネート増感剤の活性度、平板状ハロゲン化銀
粒子の種類およびサイズ、化学熟成の温度、pＨおよび
時間により変化する。しかし、これら量は、好ましくは
銀１モル当たり金増感剤１〜20mg、および銀１モル当た
りチオスルホネート増感剤１〜100mgである。化学熟成
の温度は好ましくは45℃以上、およびより好ましくは50
〜80℃である。pＡgおよびpＨは任意の値をとってもよ
い。

【００６２】化学増感中の、金増感剤およびチオスルホ
ネート増感剤の添加時間および添加量は特に限定しな
い。例えば、金およびチオスルホネート増感剤を、化学
増感の初期段階または化学増感の後期段階に、同時また
は異なるタイミングのどちらかで加えてもよい。通常、
金およびチオスルホネート増感剤を平板状ハロゲン化銀
エマルジョンに、それらの水溶液、水混和性有機溶剤、
例えばメタノール、エタノールおよびアセトンの溶液、
またはそれらの混合物で加える。

【００６３】（分光増感剤）本発明の平板状ハロゲン化
銀成分は、好ましくは分光増感される。電磁スペクトル
の青、青のない(minus blue)（即ち、緑および赤）およ
び赤外部分に吸収の最大を有する分光増感染料は、特に
平板状ハロゲン化銀エマルジョンと組み合わせて本発明
に用いることが考えられる。本発明に用いる分光増感染
料には、F.M.ハーマー(Hamer)のザ・シアニン・アンド・リ
レイティッド・コンパウンズ(The Cyanine and Related
Compounds)、インターサイエンス・パブリッシャーズ(In
terscience Publishers)、1964年に開示されているよう
に、ポリメチン染料、例えばシアニンおよび錯シアニン
染料、メロシアニンおよび錯メロシアニン染料、および
その他の染料、例えばオキソノール類、ヘミオキソノー
ル類、スチリル類、メロスチリル類およびストレプトシ
アニン類が挙げられる。

【００６４】シアニン染料には、メチン結合により結合
した２つの塩基性複素環式核、例えばピロリジン、オキ
サゾリン、チアゾリン、ピロール、オキサゾール、チア
ゾール、セレナゾール、テトラゾールおよびピリジン、
および脂環式炭化水素環または芳香族炭化水素環を上記
核のそれぞれに融合して得られる核、例えばインドール
ニン、ベンズインドールニン、インドール、ベンズオキ
サゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾチアゾール、ナ
フトチアゾール、ベンゾセレナゾール、ベンズイミダゾ
ールおよびキノリンが挙げられる。

【００６５】メロシアニン染料には、メチン結合により
結合した前記タイプの塩基性複素環式核および酸性核、
例えば、ビツル酸、2-チオビツル酸、ローダニン、ヒダ
ントイン、2-チオヒダントイン、4-チオヒダントイン、
2-ピラゾリン-5-オン、2-イソオキサゾリン-5-オン、イ
ンダン-1,3-ジオン、シクロヘキサン-1,3-ジオンおよび
イソキノリン-4-オンから誘導される５-または６-員複
素環式核を含む。

【００６６】上記染料の内、本発明に最も有効に用いら
れる染料はシアニン染料、例えば以下の式：

【化１０】 （式中、ｎ、ｍおよびｄはそれぞれ独立して０または１
を表し、Ｌはメチン結合、例えば＝ＣＨ-、≡Ｃ(Ｃ
₂Ｈ₅)等を表し、Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ置換または非
置換アルキル基、好ましくは炭素原子１〜４個を有する
低級アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ブ
チル、シクロヘキシルおよびドデシル；ヒドロキシアル
キル基、例えばβ-ヒドロキシエチルおよびΩ-ヒドロキ
シブチル；アルコキシアルキル基、例えばβ-メトキシ
エチルおよびΩ-ブトキシエチル；カルボキシアルキル
基、例えば、β-カルボキシエチルおよびΩ-カルボキシ
ブチル；スルホアルキル基、例えばβ-スルホエチルお
よびΩ-スルホブチル；スルフェートアルキル基、例え
ばβ-スルフェートエチルおよびΩ-スルフェートブチ
ル；アシルオキシアルキル基、例えばβ-アセトオキシ
プロピル、γ-アセトオキシプロピルおよびΩ-ブチリル
オキシブチル；アルコキシカルボニルアルキル基、例え
ばβ-メトキシカルボニルエチルおよびΩ-エトキシカル
ボニルブチル；ベンジル、フェネチル、または炭素原子
30個以下を有するアリール基、例えばフェニル、トリ
ル、キシリル、クロロフェニルおよびナフチルを表し、
Ｘは酸性アニオン、例えばクロリド、ブロミド、ヨージ
ド、チオシアネート、スルフェート、ペルクロレート、
p-トルエンスルホネートおよびメチルスルフェート、該
メチン結合はｐが０の場合、分子内塩を形成し、Ｚ₁お
よびＺ₂は、同一または異なり、それぞれ同一単一核ま
たは縮合５または６員複素環式核、例えばベンゾチアゾ
ール核（例えば、ベンゾチアゾール、3-、5-、6-または
7-クロロ-ベンゾチアゾール、4-、5-または6-メチルベ
ンゾチアゾール、5-または6-ブロモベンゾチアゾール、
4-または5-フェニル-ベンゾチアゾール、4-、5-または6
-メトキシベンゾチアゾール、5,6-ジメチル-ベンゾチア
ゾールおよび5-または6-ヒドロキシ-ベンゾチアゾー
ル）、ナフトチアゾール核（例えば、α-ナフトチアゾ
ール、β-ナフトチアゾール、5-メトキシ-β-ナフトチ
アゾール、5-エトキシ-α-ナフトチアゾールおよび8-メ
トキシ-α-ナフトチアゾール）、ベンゾセレナゾール核
（例えば、ベンゾセレナゾール、5-クロロ-ベンゾセレ
ナゾールおよびテトラヒドロベンゾセレナゾール）、ナ
フトセレナゾール（例えば、α-ナフト-セレナゾールお
よびβ-ナフトセレナゾール）、ベンズオキサゾール核
（例えば、ベンズオキサゾール、5-または6-ヒドロキシ
-ベンズオキサゾール、5-クロロ-ベンズオキサゾール、
5-または6-メトキシ-ベンズオキサゾール、5-フェニル-
ベンズオキサゾールおよび5,6-ジメチル-ベンズオキサ
ゾール）、ナフトオキサゾール核（例えば、α-ナフト
オキサゾールおよびβ-ナフトオキサゾール）、2-キノ
リン核（例えば、2-キノリン、6-、7-または8-メチル-2
-キノリン、4-、6-または8-クロロ-2-キノリン、5-、6-
または7-エトキシ-2-キノリンおよび6-または7-ヒドロ
キシ-2-キノリン）、4-キノリン核（4-キノリン、7-ま
たは8-メチル-4-キノリンおよび6-メトキシ-4-キノリ
ン）、ベンズイミダゾール核（例えば、ベンズイミダゾ
ール、5-クロロ-ベンズイミダゾールおよび5,6-ジクロ
ロ-ベンズイミダゾール）、チアゾール核（例えば、4-
または5-メチル-チアゾール、5-フェニル-チアゾールお
よび4,5-ジ-メチル-チアゾール）、オキサゾール核（例
えば、4-または5-メチル-オキサゾール、4-フェニル-オ
キサゾール、4-エチル-オキサゾールおよび4,5-ジメチ
ル-オキサゾール）、およびセレナゾール核（例えば、4
-メチル-セレナゾールおよび4-フェニル-セレナゾー
ル）を完成するのに必要な非金属原子を表す。）で表さ
れるものである。上記種類のより好ましい染料は、内部
塩基を有し、および/または前記ベンズオキサゾールお
よびベンズイミダゾール核から誘導されるものである。
本発明に用いる典型的メチン分光増感染料には、以下に
示されるものを含む。

【００６７】

【化１１】

【化１２】

【００６８】本発明に用いるメチン分光増感染料は一般
に当業者に公知のものである。特に米国特許第2,503,77
6号、同2,912,329号、同3,148,187号、同3,397,060号、
同3,573,916号および同3,822,136号および仏国特許第1,
118,778号に開示されている。また、それらを、所望の
感度/かぶりの比に対応する最適濃度で用いる写真エマ
ルジョンに用いることは非常に公知である。本発明のエ
マルジョンの分光増感染料の最適またはほぼ最適濃度は
一般に、銀１モル当たり10〜500mg、好ましくは50〜200
mg、より好ましくは50〜100mgである。

【００６９】分光増感染料を、超色増感、即ちどのよう
な濃度の１つの染料単独によるものよりスペクトル領域
内で大きく、その染料の付加的作用により起こる分光増
感となるように組合せて使用し得る。超色増感は、分光
増感染料および他の付加物、例えばギルマン(Gilman)の
フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニアリ
ング(Photographic Science and Engineering)第18巻、
第418〜430頁、1974年および米国特許第2,933,90号、同
3,635,721号、同3,743,510号、同3,615,613号、同3,61
5,641号、同3,617,295号および同3,635,721号に開示さ
れているような、安定剤およびかぶり防止剤、現像促進
剤および抑制剤、蛍光増白剤、表面活性剤および帯電防
止剤の選択された組合せを用いて行われ得る。

【００７０】好ましくは、分光増感染料は、米国特許第
4,307,183号に開示されているもののような、アミノア
リリデンマロノニトリル（＞Ｎ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝(Ｃ
Ｎ)₂）部分(moiety)を含有するポリマー化合物との超色
増感の組合せに用いられる。該ポリマー化合物は好まし
くは、エチレン縮合アミノアリリデンマロノニトリル部
分（例えば、エチレン不飽和モノマーを有するジアリル
アミノアリリデンマロノニトリルモノマー）を有するア
リルモノマーの共重合により得られ、該モノマーは好ま
しくは水溶性モノマーであり；該共重合は好ましくは溶
液重合であり；該ポリマー化合物は好ましくは水溶性ポ
リマーであり；該モノマーはより好ましくはアクリルま
たはメタクリルモノマーであり；最も好ましくはアクリ
ルアミドまたはアクリル酸である。

【００７１】分光増感染料との超色増感の組合せに用い
られるポリマー化合物の例としては、好ましくは以下の
表に示したポリマー化合物があり、そのモノマーはジア
リルアミノアリリデンマロノニトリルモノマーと（重合
開始剤の存在する溶液中で）共重合され、アミノアリリ
デンマロノニトリル部分(AAMN)のそのポリマー中の重量
％量が示される。

【００７２】

【表２】 表Ｂ 化合物 モノマー ％AAMN １ アクリルアミド 9 ２ メタクリル酸 11 ３ アクリルアミド 10.5 ４ アクリル酸 23 ５ アクリルアミド 44 ６ ビニルピロリドン 44 ７ ビニルオキサゾリドン 14.5 ８ ビニルオキサゾリドン 37 ９ メタクリルアミド 8 10 アクリルアミド-アリルアミド.ＨＣl 10 11 アクリルアミド-ジアリルアミド.ＨＣl 7

【００７３】上記ポリマー化合物の調製方法が、前記米
国特許第4,307,183号に開示されている。該ポリマー化
合物の最適濃度は一般に、銀１モル当たり10〜1,000m
g、好ましくは50〜500mg、より好ましくは150〜350mgで
あり、ポリマー化合物/分光増感染料の重量比は通常10/
1〜1/10、好ましくは５/１〜１/５、より好ましくは2.5
/１〜１/１である（そのような比はもちろんポリマー化
合物のアミノアリリデンマロノニトリル部分含量に依存
し、そのような含量が高くなれば比は小さくなる）。

【００７４】分光増感は、ハロゲン化銀調製のどの段階
においても行われ得る。それは、化学増感の完了後また
は化学増感と同時に行われ得、また、化学増感より先行
し得るか、ハロゲン化銀が沈殿する前に開始し得る。好
ましい形では、分光増感染料は、化学増感前に平板状粒
子ハロゲン化銀エマルジョン中に導入され得る。

【００７５】（写真材料）平板状ハロゲン化銀粒子エマ
ルジョンは感光性写真材料に有用である。感光性ハロゲ
ン化銀写真材料は、前述のハロゲン化銀エマルジョンを
支持体上に被覆することにより作製され得る。その支持
体に関しては限定されない。その支持体の作製に好適な
材料の例として、ガラス、紙、ポリエチレン被覆紙、金
属、硝酸セルロース、酢酸セルロース、ポリスチレン、
ポリエステル類、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリプロピレンおよびその他の公知の支
持体が挙げられる。

【００７６】上記の感光性ハロゲン化銀写真材料は特
に、感光性写真カラー材料、例えばカラーネガフィル
ム、カラーリバーサルフィルム、カラー印画紙等、およ
び白黒感光性写真材料、例えばＸ線感光性材料、平版印
刷感光性材料、白黒写真印画紙、白黒ネガフィルム等に
適用され得る。

【００７７】好ましい感光性ハロゲン化銀写真材料は、
支持体、好ましくはポリエチレンテレフタレート支持体
の片面、好ましくは両面に被覆した前述のハロゲン化銀
エマルジョンを含有するＸ線感光性材料である。好まし
くは、ハロゲン化銀エマルジョンを３〜６g/m²の範囲の
総銀被覆面積で支持体上に被覆する。通常、Ｘ線感光性
材料は補力(intensifying)スクリーンと会合し、該スク
リーンにより放射される放射線に暴露する。そのスクリ
ーンは比較的厚い燐光物質(phosphor)層から成り、それ
はＸ線を光線（例えば可視光）に変換する。そのスクリ
ーンは、有用な画像を得るのに必要なＸ線を減じるよう
に働きおよび使用される感光性材料より多くの部分のＸ
線を吸収する。その化学組成により、燐光物質は可視ス
ペクトルの青色、緑色または赤色領域に放射線を放射し
得、そしてハロゲン化銀エマルジョンはスクリーンによ
り放射される光の波長領域で増感される。当業者に公知
のように、ハロゲン化銀粒子表面上で吸収される分光増
感染料を使用することにより、増感が行われる。

【００７８】本発明の露光感光性材料は、従来の処理技
術により処理され得る。その処理は、その用途により、
銀像を形成する白黒写真処理、または染料画像を形成す
るカラー写真処理であり得る。そのような処理技術は、
例えばリサーチ・ディスクロージャー(Research Disclos
ure)17643項、1978年12月に開示されている。自動処理
装置によるロール移送処理が、米国特許第3,025,779
号、同3,515,556号、同3,545,971号および同3,647,459
号および英国特許第1,269,268号に開示されているよう
に、特に好ましい。米国特許第3,232,761号に開示され
ているように、硬化現像が保証され得る。

【００７９】本発明の方法を用いて得られる平板状ハロ
ゲン化銀粒子エマルジョンを含有するハロゲン化銀エマ
ルジョン層には、一般に写真製品、例えばバインダー、
硬膜剤、表面活性剤、感度増強(speed-increasing)剤、
安定剤、可塑剤、光学増感剤、染料、紫外線吸収剤等に
用いられるその他の成分を含有し得、そのような成分が
例えばリサーチ・ディスクロージャー(Research Disclos
ure)176巻、1978年12月、第22〜28頁に開示されてい
る。通常のハロゲン化銀粒子は、本発明の感光性ハロゲ
ン化銀写真材料を有する他のハロゲン化銀エマルジョン
層内と同様、平板状ハロゲン化銀粒子を含有するエマル
ジョン層内に導入されてもよい。そのような粒子は、写
真業者に公知の方法により作製され得る。

【００８０】次に、本発明を以下の実施例により説明す
るが、それは本発明の範囲を限定するものではない。

【００８１】

【実施例】

（実施例１）エマルジョン１ 水2160ミリリットル、脱イオン化ゼラチン12.5g、臭化
カリウム12.6gおよび４ＮのＨＮＯ₃溶液７ミリリットル
チオシアン酸ナトリウム1.83gから成るゼラチン水溶液
を、10リットル反応容器に入れた。そのpＢrは約1.3で
あり、pＨは約２．０である。 成核工程：1.96Ｎ硝酸銀水溶液35ミリリットルおよび1.
96Ｎ臭化カリウム水溶液35ミリリットルを、33秒間以上
かけた一定流量のダブルジェット添加により加え、その
間、温度を45℃で一定に保持した。 熟成工程：銀および臭化物塩のダブルジェット添加を停
止した。ハロゲン化銀核を、撹拌しながら70℃で20分間
以上熟成した。熟成の開始から15分後、アンモニア溶液
を加えてpＨ約10.5とした。その終わりに、容器内容物
を４ＮのＨＮＯ₃溶液を用いてpＨ6.85に中和した。 第１生長工程：1.96Ｎ硝酸銀水溶液を加えて、pＢr値を
約1.6に上昇させた。その後、1.96Ｎ硝酸銀水溶液405ミ
リリットルおよび対応する量の1.96Ｎ臭化カリウム水溶
液を、pＢrを1.6で一定に保持することにより7.5〜20.8
ミリリットル/分へ上昇する直線添加勾配を用いる加速
ダブルジェット法によって、その容器に加えた。 第２生長工程：1.96Ｎ硝酸銀水溶液を加えて、pＢr値を
約2.4に上昇させた。その後、1.96Ｎ硝酸銀水溶液439ミ
リリットルおよび対応する量の1.96Ｎ臭化カリウム水溶
液を、pＢrを2.4で一定に保持することにより7.5〜26.5
ミリリットル/分へ上昇する直線添加勾配を用いる加速
ダブルジェット法によって、その容器に加えた。 最終生長工程：1.96Ｎ硝酸銀水溶液645ミリリットルお
よび対応する量の1.96Ｎ臭化カリウム水溶液を、加速ダ
ブルジェット法を用いて、pＢrを2.4で一定に保持する
ことにより27〜37.5ミリリットル/分へ上昇する直線添
加勾配を用いる加速ダブルジェット法によって、その容
器に加えた。平板状ハロゲン化銀粒子形成の終わりに、
当業者に公知の方法により水溶性塩をエマルジョンから
除去した。

【００８２】エマルジョン２ シルウェット(Silwet^TM)L7001を、成核工程前に更に反
応容器中に含有し、熟成工程の終わりに更に加えた以外
は、エマルジョン１の方法を繰り返した。シルウェット
(Silwet^TM)L7001の量は、エマルジョン中に導入された
銀１モル当たり約170mgであった。シルウェット(Silwet
^TM)L7001は、Ｒ'がメチルである前述の一般式(III)を満
足する界面活性剤の商品名であり、分子量20,000ダルト
ン(Dalton)を有し、ユニオン・カーバイド・カンパニー(U
nion Carbide Company)により製造、販売されている。

【００８３】エマルジョン３ シルウェット(Silwet^TM)L7001を、成核工程前に更に反
応容器中に含有した以外は、エマルジョン１の方法を繰
り返した。シルウェット(Silwet^TM)L7001の量は、エマ
ルジョン中に導入された銀１モル当たり約32mgであっ
た。

【００８４】得られた平板状粒子エマルジョン１〜３
は、以下の表１に示した特徴を示した。

【表３】 表１ エマルシ゛ョンＡ エマルシ゛ョンＢ エマルシ゛ョンＣ 平均直径 (μm) 1.33 1.29 1.18 平均厚さ (μm) 0.23 0.22 0.20 平均アスヘ゜クト比 5.78 5.86 5.90 投影面積 (％) 98.5 99 98 平板状粒子数(％) 95 98 96 標準偏差 (μm) 0.26 0.089 0.12 ＣＯＶ (％) 19 11 11.5

【００８５】表１のデータは、本発明の有用性を明らか
に示した。本発明の方法を用いて非適合粒子（平板状粒
子以外の）数が大きく低減され、総粒子数の５％以下を
占めた。平板状ハロゲン化銀エマルジョンの変動係数は
酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシロキサンコポリマ
ーの添加により更に低減された。

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 (a)pＨ３以下およびpＢr１〜２を有する
   分散媒中にハロゲン化銀核群を形成する工程、(b)該ハ
   ロゲン化銀核群をハロゲン化銀溶媒の存在下に熟成させ
   る工程、(c)pＢr値１〜２で該ハロゲン化銀核の第１生
   長を行う工程、および(d)pＢr値２〜2.7で該ハロゲン化
   銀核の第２生長を行う工程、を含む単分散平板状ハロゲ
   ン化銀粒子エマルジョンの製法。
2. 【請求項２】 単分散平板状ハロゲン化銀エマルジョン
   が、厚さ0.4μmおよび平均アスペクト比３：１以上を有
   し、該平板状ハロゲン化銀粒子の投影面積が総投影面積
   の少なくとも80％を占める平板状ハロゲン化銀粒子を含
   む請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 該単分散平板状ハロゲン化銀エマルジョ
   ンが変動係数20％以下を有する請求項１記載の方法。
4. 【請求項４】 工程(a)の間の該分散媒のpＨ値が、1.5
   〜2.5である請求項１記載の方法。
5. 【請求項５】 工程(a)の間の該分散媒のpＢr値が、1.2
   〜1.7である請求項１記載の方法。
6. 【請求項６】 該ハロゲン化銀溶媒が、該熟成工程(b)の
   間に加えられる請求項１記載の方法。
7. 【請求項７】 該ハロゲン化銀溶媒が、熟成工程の開始
   から少なくとも５分後に加えられる請求項１記載の方
   法。
8. 【請求項８】 該ハロゲン化銀溶媒がアンモニアである
   請求項１記載の方法。
9. 【請求項９】 該第１生長工程(c)が、pＢr値1.2〜1.8
   の範囲内で行われる請求項１記載の方法。
10. 【請求項１０】 該第２生長工程(d)が、pＢr値2.2〜2.6
    での範囲内で行われる請求項１記載の方法。
11. 【請求項１１】 酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシ
    ロキサンコポリマーを、該工程(a)、(b)、(c)および(d)
    の内の少なくとも１つの間に加える請求項１記載の方
    法。
12. 【請求項１２】 酸化ポリアルキレン−ポリアルキルシ
    ロキサンコポリマーを該成核工程(a)の間に加える請求
    項１記載の方法。
13. 【請求項１３】 該酸化ポリアルキレン−ポリアルキル
    シロキサンコポリマーが以下の一般式(I)： 【化１】 （式中、ＬＡＳは親油性アルキレンシロキサンブロック
    ユニットを表し、ＨＡＯは親水性酸化アルキレンブロッ
    クユニットを表し、ＬＡＯは末端親油性酸化アルキレン
    ブロックユニットを表し、Ｌは親油性炭化水素系であ
    る）を有する請求項１１記載の方法。
14. 【請求項１４】 該酸化ポリアルキレン−ポリアルキル
    シロキサンコポリマーが以下の一般式(II)： 【化２】 （式中、ＬＡＳは親油性アルキレンシロキサンブロック
    ユニットを表し、ＨＡＯは親水性酸化アルキレンブロッ
    クユニットを表し、ＬＡＯは末端親油性酸化アルキレン
    ブロックユニットを表し、ＳＢはシロキサン骨格であ
    る）を有する請求項１１記載の方法。
15. 【請求項１５】 該酸化ポリアルキレン−ポリアルキル
    シロキサンコポリマーが以下の一般式(III)： 【化３】 （式中、Ｒはメチル基であり、Ｒ'は水素または炭素原子
    １〜４個を有する低級アルキル基であってもよく、ｘは
    ０〜100の整数であり、ｙは１〜50の整数であり、ｍは１
    〜50の整数であり、ｎは１〜50の整数であり、ｐは２〜
    ６の整数である）を有する請求項１１記載の方法。
16. 【請求項１６】 該酸化ポリアルキレン−ポリアルキル
    シロキサンコポリマー以下の一般式(IV)： 【化４】 （式中、Ｒはメチル基であり、Ｒ'は水素または炭素原子
    １〜４個を有する低級アルキル基であってもよく、ｙは
    ３〜50の整数であり、ｍは１〜50の整数であり、ｎは１
    〜50の整数であり、ｐは１〜50の整数である）を有する
    請求項１１記載の方法。
17. 【請求項１７】 該酸化ポリアルキレン−ポリアルキル
    シロキサンコポリマーが、ハロゲン化銀粒子形成時に加
    えた総銀１モル当たり５〜200mgの濃度で分散媒中に存
    在する請求項１１記載の方法。