JPH08273129A - 写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ、写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ包装体及びそれらを用いる写真用磁気情報読み取り装置のクリーニング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置に付着した汚れを除去し、磁気情報の読
み取りエラーを低減する写真用磁気情報読み取り装置研
磨テープ、写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ包装
体及び写真用磁気情報読み取り装置のクリーニング方法
を提供する。 【構成】 厚さが５０μｍ以上１５０μｍ以下のポリエ
ステル支持体の一方の側に、ビッカース法による研磨性
が９０［ｎｍ／ｍ］以上の研磨層を有し、支持体を挟ん
で反対側の層に少なくともゼラチンを有し、その乾燥膜
厚が５μｍ以上３０μｍ以下の層からなる写真用磁気情
報読み取り装置研磨テープ１０２、１４５、このテープ
１０２、１４５を特定のカートリッジに収納した包装体
及びこれらを用いて写真用磁気情報読み取り装置をクリ
ーニングする方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は写真用磁気情報読み取り
装置の研磨テープに関するもので、写真用磁気情報読み
取り装置に付着した汚れを研磨除去し、磁気情報の読み
取りエラーを低減する写真用磁気情報読み取り装置研磨
テープ、写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ包装体
及びそれらを用いる写真用磁気情報読み取り装置のクリ
ーニング方法に関する。

【０００２】

【従来技術】近年、当業界においては、磁気記録層を有
する撮影用ハロゲン化銀写真感光材料が、いくつか提案
されている。このような磁気記録層を有する写真感光材
料では、特に現像処理後、記録された磁気情報を正確に
読み取ることが必要である。

【０００３】しかしながら、これら提案されている磁気
記録層を有する写真感光材料の試験、研究に大ラボ方式
の多量現像処理を実施したとき、現像処理済の写真感光
材料から磁気情報を読み取る装置、例えば、プリンター
に付属する磁気読み取り装置や現像処理したネガをＣＲ
Ｔに写し出す装置の磁気読み取り装置、などに磁気読み
取りエラーの発生すること、現像処理済写真感光材料が
装置内を走行する際の装置の接触部分や写真感光材料そ
のものに汚れなどが付着していることが明らかになっ
た。

【０００４】一方、磁気読み取りエラーの発生原因を追
求したところ写真感光材料に接する磁気ヘッド部に汚れ
物質が付着していることがわかった。さらに、この汚れ
物質は、現像処理済写真感光材料やこれの走行する際の
装置の接触部分に付着する汚れ物質と同一であることも
明らかになり、そして、この汚れ物質は現像処理液の調
液に使用される水に含まれる各種ミネラル（例えば、カ
ルシウムイオン、マグネシウムイオンなど）、塩素イオ
ン、硫酸イオン、ケイ酸イオンなどや、空気中の粉塵
（繊維ゴミなど）、磁気記録層含有成分、ゼラチン等が
あることが推定されるに至った。しかも、これら汚れ物
質を除去すれば、磁気情報の読み取りエラーはなくなる
ことが確認できた。

【０００５】なお、研磨剤を用いた研磨用テープは、例
えば、オーディオ、ビデオ、コンピューターなどの磁気
ヘッド類の劣化の再生、フロッピーディスク、ハードデ
ィスク基板などの磁気メディアの表面研磨、ＯＡ機器、
医療機器などの金属、プラスチック類の表面研磨、セラ
ミック、シリコンウェハーなどのハイテク材料の仕上げ
等に用いられ、これらに使用される支持体は、厚みが２
０〜３０μｍの薄膜である。これらは、例えば、超精密
研磨テープ（富士写真フイルム（株）製）として種々市
販されている。

【０００６】しかし、これらのテープ類では写真感光材
料用磁気装置研磨テープとしては、支持体が薄膜であっ
て、磁気ヘッドの圧力が通常のオーディオテープやビデ
オテープに比べて高い写真感光材料用の磁気装置では、
テープの耐久性が充分でなく、本発明の課題を達成する
には不満足であり、好ましいものではなかった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、写真用磁気
情報読み取り装置に付着した汚れを研磨除去し、磁気情
報の読み取りエラーを低減する写真用磁気情報読み取り
装置研磨テープを提供することを目的とする。又、特定
のカートリッジに写真用磁気情報読み取り装置研磨テー
プ包装体を提供し、さらに写真用磁気情報読み取り装置
研磨テープもしくは写真用磁気情報読み取り装置研磨テ
ープ包装体を用いる写真用磁気情報読み取り装置のクリ
ーニング方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するため手段】本発明等は、上記課題の写
真用磁気情報読み取り装置の汚れ、磁気情報の読み取り
エラーは、厚さを規定したポリエステル支持体の一方の
側にビッカース法による研磨性を規定した研磨層を、支
持体を挟んだ反対側にゼラチン含有の乾燥膜厚を規定し
た層を設けた写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ、
特定のカートリッジを用いた写真用磁気情報読み取り装
置研磨テープの包装体及びこれらを用いた写真用磁気装
置のクリーニング方法により、磁気層の汚れを研磨除去
でき、磁気情報の読み取りエラーを低減できることを見
い出し、本発明を完成するに至った。

【０００９】即ち、本発明は、 （１）厚さが５０μｍ以上１５０μｍ以下のポリエステ
ル支持体の一方の側に、ビッカース法による研磨性が９
０〔ｎｍ／ｍ〕以上の研磨層を有し、支持体を挟んで反
対側の層に少なくともゼラチンを有し、その乾燥膜厚が
５μｍ以上１５０μｍ以下の層からなる写真用磁気情報
読み取り装置研磨テープ。

【００１０】（２）カートリッジ本体１０１の内部に、
前記（１）の研磨テープ１０２を巻きつけたスプール１
０３を回転自在に収納し、該スプール１０３の回転によ
り前記研磨テープ１０２の先端が自由にカートリッジ外
部に送り出し可能であり、カートリッジ本体１０１は前
記研磨テープ１０２を送り出すため、遮光機構を有して
もよい前記研磨テープ１０２の送り出し通路を有し、前
記スプール１０３のスプール軸１１２の両端内側に、そ
れぞれ一対のリップ付きフランジ１１３、１１４が前記
研磨テープ１０２保持のため取り付けられていることを
特徴とする写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ包装
体。

【００１１】（３）前記（１）の写真用磁気情報読み取
り装置研磨テープ又は前記（２）の写真用磁気情報読み
取り装置研磨テープ包装体を用いる写真用磁気情報読み
取り装置のクリーニング方法

【００１２】上記（１）の態様は、厚みを規定したポリ
エステル支持体の一方の側にビッカース法による研磨性
を規定した研磨層を有し、支持体を挟んで反対側の層に
乾燥厚膜を規定したゼラチン層を有する写真用磁気装置
の研磨テープである。

【００１３】この様な技術は、写真用には今迄のところ
開示されておらず、支持体の厚みを規定し、支持体を挟
んだ両側の層構成を規定した研磨テープとすることによ
り、写真感光材料の総膜厚に近似すること、テープの耐
久性を一定に保持することによって本発明の課題を達成
することができる。

【００１４】態様（２）は、該テープを特定のカートリ
ッジを用いた包装体にすることにより、特定なカメラ、
プリンターなどへの使用により、本発明の課題達成に好
ましい態様である。

【００１５】また、態様（３）は、前記（１）の研磨テ
ープの使用もしくは態様（２）の特定カートリッジを用
いた包装体にして該研磨テープを使用することにより、
写真用磁気装置をクリーニングする方法であって、本発
明の課題を達成するものである。

【００１６】以下、本発明について詳しく説明する。初
めに、ポリエステル支持体上の一方の側に研磨層、もう
一方の側に乾燥膜厚を規定したゼラチン含有層を有する
研磨テープについて説明する。

【００１７】本発明のポリエステル支持体としては種々
のものが存在するが、巻きぐせの付きにくさと力学強
度、及びコストをバランスして高い性能を持つのがベン
ゼンジカルボン酸もしくはナフタレンジカルボン酸とジ
オールを主成分とするポリエステル、中でも特に、ポリ
エチレン−テレフタレート（ＰＥＴ）、やポリエチレン
ナフタレート系のポリエステルが好ましく、挙げられ
る。なお、本発明の説明で用いるナフタレートとはナフ
タレンジカルボキシレートを意味する。

【００１８】本発明のポリエステルは、芳香族ジカルボ
ン酸とジオールを必須成分として形成される。芳香族ジ
カルボン酸とは、ベンゼン核を少なくとも１個有するジ
カルボン酸であり、その具体的な化合物としては、テレ
フタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、
１，４−または１，５−または２，６−または２，７−
ナフタレンジカルボン酸、ビフェニル−４，４−ジカル
ボン酸、テトラクロロ無水フタル酸

【００１９】

【化１】 等を挙げることができる。

【００２０】必須の芳香族ジカルボン酸のほかに共重合
成分として使用可能な二塩基性酸としては、コハク酸、
グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、無水コハク酸、
マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、
無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３，６
−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、１，４−
シクロヘキサンジカルボン酸

【００２１】

【化２】 等を挙げることができる。

【００２２】次にジオールとしては、エチレングリコー
ル、１，３−プロパンジオール、１，２−プロパンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジ
オール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカン
ジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，４−シク
ロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノ
ール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，１−シク
ロヘキサンジメタノール、カテコール、レゾルシン、ハ
イドロキノン、１，４−ベンゼンジメタノール、

【００２３】

【化３】 等を挙げることができる。

【００２４】また、必要に応じて、単官能または、３以
上の多官能の水酸基含有化合物あるいは、酸含有化合物
が共重合されていても構わない。また、本発明のポリエ
ステルには、分子内に水酸基とカルボキシル基（あるい
はそのエステル）を同時に有する化合物が共重合されて
いても構わなく、以下が挙げられる。

【００２５】

【化４】

【００２６】これらのジオール、ジカルボン酸から成る
ポリエステルの中で、さらに好ましいものとしては、ポ
リ（エチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンナフタ
レート）、ポリ（シクロヘキサンジメタノールテレタフ
レート）（ＰＣＴ）等のホモポリマー、および、特に好
ましい必須な芳香族ジカルボン酸として２，６−ナフタ
レンジカルボン酸（ＮＤＣＡ）、テレフタル酸（ＴＰ
Ａ）、イソフタル酸（ＩＰＡ）、オルトフタル酸（ＯＰ
Ａ）、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸（ＰＰＤ
Ｃ）、ジオールとして、エチレングリコール（ＥＧ）、
シクロヘキサンジメタノール（ＣＨＤＭ）、ネオペンチ
ルグリコール（ＮＰＧ）、ビスフェノールＡ（ＢＰ
Ａ）、ビフェノール（ＢＰ）、共重合成分であるヒドロ
キシカルボン酸としてパラヒドロキシ安息香酸（ＰＨＢ
Ａ）、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸（Ｈ
ＮＣＡ）を共重合させたものが挙げられる。

【００２７】これらの中でさらに好ましいものとして、
テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸とエチレングリ
コールのコポリマー（テレフタル酸とナフタレンジカル
ボン酸の混合モル比は０．９：０．１〜０．１：０．９
の間が好ましく、０．８：０．２〜０．２：０．８が更
に好ましい。）、テレフタル酸とエチレングリコール、
ビスフェノールＡのコポリマー（エチレングリコールと
ビススェノールＡの混合モル比は０．６：０．４〜０：
１．０の間が好ましく、更には０．５：０．５〜０．
１：０．９が好ましい。）、イソフタール酸、ビフェニ
ル−４，４’−ジカルボン酸、テレフタル酸とエチレン
グリコールのコポリマー（イソフタール酸；ビフェニル
−４，４’−ジカルボン酸のモル比はテレフタル酸を１
とした時それぞれ０．１〜０．５、０．１〜０．５、更
に好ましくは、それぞれ０．２〜０．３、０．２〜０．
３が好ましい。）、テレフタル酸、ネオペンチルグリコ
ールとエチレングリコールのコポリマー（ネオペンチル
グリコールとエチレングリコールのモル比は１：０〜
０．６：０．４が好ましく、より好ましくは０．９：
０．１〜０．７：０．３）テレフタル酸、エチレングリ
コールとビフェノールのコポリマー（エチレングリコー
ルとビフェノールのモル比は、０：１．０〜０．８：
０．２が好ましく、さらに好ましくは０．１：０．９〜
０．７：０．３である。）、パラヒドロキシ安息香酸、
エチレングリコールとテレフタル酸のコポリマー（パラ
ヒドロキシ安息香酸に対するエチレングリコールのモル
比は１：０〜０．１：０．９が好ましく、さらに好まし
くは０．９：０．１〜０．２：０．８）等の共重合体が
好ましい。

【００２８】これらのホモポリマーおよびコポリマー
は、従来公知のポリエステルの製造方法に従って合成で
きる。例えば酸成分をグリコール成分と直接エステル化
反応するか、または酸成分としてジアルキルエステルを
用いる場合は、まず、グリコール成分とエステル交換反
応をし、これを減圧下で加熱して余剰のグリコール成分
を除去することにより、合成することができる。あるい
は、酸成分を酸ハライドとしておき、グリコールと反応
させてもよい。この際、必要に応じて、エステル交換反
応触媒あるいは重合反応触媒を用いたり、耐熱安定化剤
を添加してもよい。これらのポリエステル合成法につい
ては、例えば、高分子実験学第５巻「重縮合と重付加」
（共立出版、１９８０年）第１０３頁〜第１３６頁、
“合成高分子Ｖ”（朝倉書店、１９７１年）第１８７頁
〜第２８６頁の記載を参考に行うことができる。これら
のポリエステルの好ましい平均分子量（重量）の範囲は
約１０，０００ないし５００，０００である。

【００２９】さらに、これらのポリエステルには別の種
類のポリエステルとの接着性を向上させるために、別の
ポリエステルを一部ブレンドしたり、別のポリエステル
を合成するモノマーを共重合させたり、または、これら
のポリエステル中に、不飽和結合を有するモノマーを共
重合させ、ラジカル架橋させたりすることができる。得
られたポリマーを２種類以上混合したポリマーブレンド
は、特開昭４９−５４８２、同６４−４３２５、特開平
３−１９２７１８、リサーチ・ディスクロージャー、２
８３、７３９−４１、同２８４，７７９−８２、同２９
４，８０７−１４に記載した方法に従って、容易に形成
することができる。

【００３０】本発明では、ポリエステルのガラス転移温
度が５０℃以上のものが好ましい。本発明におけるガラ
ス転移温度（Ｔｇ）とは、示差熱分析計（ＤＳＣ）を用
い、サンプルフィルム１０ｍｇをヘリウム窒素気流中、
２０℃／分で昇温していった時、ベースラインから偏倚
しはじめる温度と新たなベースラインに戻る温度の算術
平均温度と定義される。ただし、吸熱ピークが現われた
時は、この吸熱ピークの最大値を示す温度をＴｇとして
定義する。

【００３１】本発明のポリエテスルはそのＴｇが５０℃
以上であるが、その使用条件は、一般に十分注意されて
取り扱われるわけではなく、特に真夏の屋外においてそ
の気温が４０℃までに晒されることが多々有り、この観
点から本発明のＴｇは安全をみこして５５℃以上が好ま
しい。さらに好ましくは、Ｔｇは７０℃以上であり特に
好ましくは８０℃以上である。これは、この熱処理によ
る巻き癖改良の効果が、ガラス転移温度を超える温度に
さらされると消失するため、一般ユーザーに使われた際
に過酷な条件である温度、即ち夏季の温度４０℃を超え
る温度以上のガラス転移温度を有するポリエステルが好
ましい。

【００３２】一方、ガラス転移温度の上限は２５０℃で
ある。好ましくは２００℃である。２００℃を超えるガ
ラス転移温度のポリエステルでは透明性が悪くなるし、
巻きぐせの改良効果を小さくする。ここでいう巻きぐせ
は、研磨テープを取り扱う上でテープの取り扱い作業性
に大きな影響を与えるもので、巻きぐせのないテープが
好ましい。

【００３３】次に本発明に用いるポリエステルの好まし
い具体的化合物例を示すが、本発明がこれに限定される
ものではない。 ポリエステル化合物例 Ｐ−０：〔テレフタル酸（ＴＰＡ）／エチレングリコール（ＥＧ））（１００／ １００）〕（ＰＥＴ） Ｔｇ＝８０℃ Ｐ−１：〔２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＣＡ）／エチレングリコール （ＥＧ）（１００／１００）〕（ＰＥＮ） Ｔｇ＝１１９℃ Ｐ−２：〔テレフタル酸（ＴＰＡ）／シクロヘキサンジメタノール（ＣＨＤＭ） （１００／１００）〕 Ｔｇ＝９３℃ Ｐ−３：〔ＴＰＡ／ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）（１００／１００）〕 Ｔｇ＝１９２℃ Ｐ−４：２，６−ＮＤＣＡ／ＴＰＡ／ＥＧ（５０／５０／１００） Ｔｇ＝９２℃ Ｐ−５：２，６−ＮＤＣＡ／ＴＰＡ／ＥＧ（７５／２５／１００） Ｔｇ＝１０２℃ Ｐ−６：２，６−ＮＤＣＡ／ＴＰＡ／ＥＧ／ＢＰＡ（５０／５０／７５／２５） Ｔｇ＝１１２℃ Ｐ−７：ＴＰＡ／ＥＧ／ＢＰＡ（１００／５０／５０） Ｔｇ＝１０５℃ Ｐ−８：ＴＰＡ／ＥＧ／ＢＰＡ（１００／２５／７５） Ｔｇ＝１３５℃

【００３４】 Ｐ−９：ＴＰＡ／ＥＧ／ＣＨＤＭ／ＢＰＡ（１００／２５／２５／５０） Ｔｇ＝１１５℃ Ｐ−10：ＩＰＡ／ＰＰＤＣ／ＴＰＡ／ＥＧ（２０／５０／３０／１００） Ｔｇ＝９５℃ Ｐ−11：ＮＤＣＡ／ＮＰＧ／ＥＧ（１００／７０／３０） Ｔｇ＝１０５℃ Ｐ−12：ＴＰＡ／ＥＧ／ＢＰ（１００／２０／８０） Ｔｇ＝１１５℃ Ｐ−13：ＰＨＢＡ／ＥＧ／ＴＰＡ（２００／１００／１００） Ｔｇ＝１２５℃ Ｐ−14：ＰＥＮ／ＰＥＴ（６０／４０） Ｔｇ＝９５℃ Ｐ−15：ＰＥＮ／ＰＥＴ（８０／２０） Ｔｇ＝１０４℃ Ｐ−16：ＰＡｒ／ＰＥＮ（５０／５０） Ｔｇ＝１４２℃ Ｐ−17：ＰＡｒ／ＰＣＴ（５０／５０） Ｔｇ＝１１８℃ Ｐ−18：ＰＡｒ／ＰＥＴ（６０／４０） Ｔｇ＝１０１℃ Ｐ−19：ＰＥＮ／ＰＥＴ／ＰＡｒ（５０／２５／２５） Ｔｇ＝１０８℃ Ｐ−20：ＴＰＡ／５−スルフォイソフタル酸(SIP)/EG(95/5/100) Ｔｇ＝６５℃

【００３５】これらポリエスル支持体（フィルムベー
ス）は５０μｍ以上１５０μｍ以下の厚みが好ましい。
特に７０μｍ以上１３０μｍ以下が好ましい。５０μｍ
未満では写真感光材料の総厚みに対しテープの厚みが薄
く、本発明の課題である写真用磁気情報読み取り装置の
汚れの研磨除去が不充分であり、磁気情報の読み取りエ
ラーの低減が困難である。一方、１５０μｍを超えると
カメラ内、特定カートリッジのテープ送り出しあるいは
プリンター内の自動搬送などにおいて走行不良を起こ
し、故障原因となることがある。

【００３６】以上のような本発明のポリエステルは全て
現用のセルローストリアセテート（ＴＡＣ）よりも強い
曲弾性率を有し、かつ、巻きぐせのつきにくい支持体
（ベース）を提供することができる。これらの中で強い
曲弾性を有し、巻きぐせがなく、経済性（コスト）等の
点で好ましいのはＰＥＴ、ＰＥＮである。

【００３７】次に本発明のポリエステル支持体は、熱処
理を施されることが好ましい。その際には、４０℃以上
ガラス転移温度未満の温度で０．１〜１５００時間行う
必要がある。この効果は熱処理温度が高いほど早く進
む。しかし熱処理温度がガラス転移温度を超えるとフイ
ルム内の分子がむしろ乱雑に動き逆に自由体積が増大
し、分子が流動し易い、即ち巻きぐせの付き易いフイル
ムとなる。従ってこの熱処理はガラス転移温度未満で行
うことが必要である。本発明でいう熱処理は、支持体と
して形成された後一旦４０℃未満の温度にまで下げられ
た後、別途加熱処理が行われることが好ましい。

【００３８】この熱処理は、ガラス転移温度を少し下廻
る温度で行うことが処理時間短縮のために望ましく、４
０℃以上ガラス転移温度未満、より好ましくは、ガラス
転移温度を３０℃下廻る温度以上ガラス転移温度未満で
ある。さらに好ましくは、ガラス転移温度を１５℃下廻
る温度以上ガラス転移温度未満である。一方、この温度
条件で熱処理を行う場合、０．１時間以降効果が認めら
れる。また、１５００時間以上では、その効果はほとん
ど飽和する。従って、０．１時間以上１５００時間以下
で熱処理することが好ましい。

【００３９】また本発明のポリエステルを熱処理する方
法において、時間を短縮するために予めＴｇ以上に短時
間加熱（好ましくはＴｇの２０℃以上１００℃以下、よ
り好ましくは３０℃以上５０℃以下で５分〜３時間、よ
り好ましくは５分〜６０分処理する）したのち、４０℃
以上ガラス転移温度未満にして熱処理することもでき
る。又加熱方法においては、加熱倉庫にフィルムのロー
ルをそのまま放置して加熱処理してもよいが、更には加
熱ゾーンを搬送して熱処理してもよい。製造適性を考慮
すると後者の方が好ましい。さらに熱処理で用いられる
ロール巻き芯は、そのフィルムへの温度伝播が効率よく
いくために中空かないしは加熱出来るように電気ヒータ
ー内蔵または高温液体を流液できるような構造を有する
ものが好ましい。ロール巻き芯の材質は特に限定されな
いが、熱による強度ダウンや変形のないものが好まし
く、例えばステンレス、ガラスファイバー入り樹脂を挙
げることが出来る。

【００４０】次に本発明のポリエステルについて、その
研磨テープ支持体としての機能を更に高める為に、種々
の添加剤を共存させることが好ましい。これらのポリエ
ステルフィルム中に蛍光防止および経時安定性付与の目
的で紫外線吸収剤を、練り込んでも良い。紫外線吸収剤
としては、可視領域に吸収を持たないものが望ましく、
かつその添加量はポリエステルフィルムの重量に対して
通常０．０１重量％ないし２０重量％、好ましくは０．
０５重量％ないし１０重量％程度である。０．０１重量
％未満では紫外線劣化を抑える効果が期待できない。紫
外線吸収剤としては２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４
−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、２（２’−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−プチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３，−ジ−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール系、サリチル酸フ
ェニル、サリチル酸メチル等のサリチル酸系、２，４，
６−トリス〔２’−ヒドロキシ−４’−（２’−エチル
ヘキシルオキシ）フェニル〕トリアジン、２−フェニル
−４，６−ジ〔２’−ヒドロキシ−４’−（２”−エチ
ルヘキシルオキシ）フェニルトリアジン等のトリアジン
系紫外線吸収剤が挙げられる。

【００４１】本発明のポリエステルフィルムベースは、
用途に応じて易滑性を付与することも可能であり、易滑
性付与手段としては特に限定を加えるところでは無い
が、不活性無機化合物の練り込み、あるいは界面活性剤
の塗布等が一般時手法として用いられる。

【００４２】かかる不活性無機粒子としてはSiO₂、Ti
O₂、BaSO₄ 、CaCO₃ 、タルク、カオリン等が例示され
る。また、上記のポリエステル合成反応系に不活性な粒
子を添加する外部粒子系による易滑性付与以外にポリエ
ステルの重合反応時に添加する触媒等を析出させる内部
粒子系による易滑性付与方法も採用可能である。

【００４３】これら易滑性付与手段には特に限定を加え
るものでは無いが、上記易滑性付与方法手段では外部粒
子としてはポリエステルフィルムに比較的近い屈折率を
もつＳｉＯ₂ 、あるいは析出する粒子径を比較的小さく
することが可能な内部粒子径を選択することが望まし
い。

【００４４】更には、練り込みによる易滑性付与を行う
場合、よりフィルムの透明性を得るために機能付与した
層を積層する方法も好ましい。この手段としては具体的
には複数の押し出し機ならびにフィードブロック、ある
いはマルチマニフォールドダイによる共押出し方が例示
される。

【００４５】これらのポリマーフィルムを支持体に使用
する場合、これらポリマーフィルムがいずれも疎水性の
表面を有するため、支持体上に研磨層やゼラチンを主と
した保護コロイドからなる保護層もしくは写真層（例え
ば感光性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フイルタ−層
等）を強固に接着させる事は非常に困難である。この様
な難点を克服するために試みられた従来技術としては、

【００４６】（１） 薬品処理、機械的処理、コロナ放
電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放
電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、
オゾン酸化処理、などの表面活性化処理をしたのち、直
接写真乳剤を塗布して接着力を得る方法と、

【００４７】（２） 一旦これらの表面処理をした後、
あるいは表面処理なしで下塗層を設けこの上に写真乳剤
層を塗布する方法との二法がある（例えば米国特許第
２，６９８，２４１号、同２，７６４，５２０号、同
２，８６４，７５５号、同３，４６し，３３５号、同
３，４７５，１９３号、同３，１４３，４２１号、同
３，５０１，３０１号、同３，４６０，９４４号、同
３，６７４，５３１号、英国特許第７８８，３６５号、
同８０４，００５号、同８９１，４６９号、特公昭４８
−４３１２２号、同５１−４４６号等）

【００４８】これらの表面処理は、いずれも本来は疎水
性があった支持体表面に多少共、極性基を作らせる事、
表面の架橋密度を増加させることなどによるものと思わ
れ、その結果として下塗層中に含有される成分の極性基
との親和力が増加すること、ないし接着表面に堅牢度が
増加すること等が考えられる。

【００４９】又、下塗層の構成としても種々の工夫が行
われており、第１層として支持体によく接着する層（以
下、下塗第１層と略す）を設け、その上に第２層として
写真層とよく接触する親水性の樹脂層（以下、下塗第２
層と略す）を塗布する所謂重層法と、疎水性基と親水性
基との両方を含有する樹脂層を一層のみ塗布する単層法
とがある。

【００５０】（１） の表面処理のうち、コロナ放電処
理は、最もよく知られている方法であり、従来公知のい
ずれの方法、例えば、特公昭４８−５０４３号、同４７
−５１９０号、特開昭４７−２８０６７号、同４９−８
３７６７号、同５１−４１７７０号、同５１−１３１５
７６号等に開示された方法により達成することができ
る。放電周波数は５０Ｈｚ〜５０００ＫＨｚ、好ましく
は５ＫＨｚ〜数１００ＫＨｚが適当である。放電周波数
が小さすぎると、安定な放電が得られずかつ被処理物に
ピンホールが生じ、好ましくない。又周波数が高すぎる
と、インピーダンスマッチングのための特別な装置が必
要となり、装置の価格が大となり、好ましくない。被処
理物の処理強度に関しては、０．００１KV・分／ｍ² 〜
５KV・分／ｍ² 、好ましくは０．０１KV・分／ｍ² 〜１
KV・分／ｍ² が適当である。電極と誘電体ロールのギャ
ップクリアランスは０．５〜２．５ｍｍ、好ましくは
１．０〜２．０ｍｍが適当である。

【００５１】多くの場合、もっとも効果的な表面処理で
あるグロー放電処理は、従来知られているいずれの方
法、例えば、特公昭３５−７５７８号、同３６−１０３
３６号、同４５−２２００４号、同４５−２２００５
号、同４５−２４０４０号、同４６−４３４８０号、米
国特許第３，０５７，７９２号、同３，０５７，７９５
号、同３，１７９，４８２号、同３，２８８，６３８
号、同３，３０９，２９９号，同３，４２４，７３５
号、同３，４６２，３３５号、同３，４７５，３０７
号、同３，７６１，２９９号、英国特許第９９７，０９
３号、特開昭５３−１２９２６２号等を用いることがで
きる。

【００５２】グロー放電処理条件は、一般には圧力は
０．００５〜２０Ｔｏｒｒ、好ましくは０．０２〜２Ｔ
ｏｒｒが適当である。圧力が低すぎると表面処理効果が
低下し、また圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパー
クがおこりやすく、危険であるし、被処理物が破壊され
る恐れもある。放電は、真空タンク中で１対以上の空間
を置いて配置された金属板或いは金属棒間に高電圧が印
加することにより生じる。この電圧は、雰囲気気体の組
成、圧力により色々な値をとり得るものであるが，通常
上記圧力範囲内では、５００〜５０００Ｖの間で安定な
定常グロー放電が起こる。接着性を向上せしめるのに特
に好適な電圧範囲は、２０００〜４０００Ｖである。

【００５３】又放電周波数として、従来技術に見られる
ように、直流から数１０００ＭＨｚ，好ましくは５０Ｈ
ｚ〜２０ＭＨｚが適当である。放電処理強度に関して
は、所望の接着性能が得られることから、０．０１KV・
分／ｍ² 〜５KV・分／ｍ² 、好ましくは０．１５KV・分
／ｍ² 〜１KV・分／ｍ² が適当である。

【００５４】次に（２）の下塗法について述べると、こ
れらの方法はいずれもよく研究されており、重層法にお
ける下塗第１層では、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコ
ン酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出
発原料とする共重合体を始めとして、ポリエステルイミ
ン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロ
ース、などの数多くのポリマーが、又下塗第２層では主
としてゼラチンが使用される。

【００５５】単層法においては、支持体を膨潤させ、親
水性下塗ポリマーと界面混合させることによって良好な
接着性を達成することができる。本発明に使用する親水
性下塗ポリマーとしては、水溶性ポリマー、セルロース
エステル、ラテックスポリマーなどが例示される。水溶
性ポリマーとしては、水溶性ポリエステル、ゼラチン、
ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、
でんぷん、ポリビニールアルコール、ポリアクリル酸共
重合体、無水マレイン酸共重合体などであり、セルロー
スエステルとしては、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロースなどである。ラテックスポリ
マーとしては、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデ
ン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢
酸ビニル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などで
ある。この中で最も好ましいのはゼラチンである。

【００５６】本発明に使用される支持体を膨潤させる化
合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、メチルレ
ゾルシン、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレ
ゾール、フェノール、ｏ−クロルフェノール、ｐ−クロ
ルフェノール、ジクロルフェノール、トリクロロフェノ
ール、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢
酸、抱水クロラールなどがあげられる。この中で好まし
いのは、レゾルシンとｐ−クロルフェノールである。

【００５７】本発明の下塗層には公知の種々のゼラチン
硬化剤を用いることができる。ゼラチン硬化剤としては
クロム塩（クロム明ばんなど）、アルデヒド類（ホルム
アルデヒド、グルタールアルデヒドなど）、イソシアナ
ート類、エピクロルヒドリン樹脂、シアヌルクロリド系
化合物（例えば、特公昭４７−６１５１号、同４７−３
３３８０号、同５４−２５４１１号、特開昭５６−１３
０７４０号に記載の化合物）、ビニルスルホンあるいは
スルホニル系化合物（例えば、特公昭４７−２４２５９
号、同５０−３５８０７号、同４９−２４４３５号、同
５３−４１２２１号、同５９−１８９４４号に記載の化
合物）、カルバモイルアンモニウム塩系化合物（例え
ば、特公昭５６−１２８５３号、同５８−３２６９９
号、特開昭４９−５１９４５号，同５１−５９６２５
号、同６１−９６４１号に記載の化合物）、アミジニウ
ム塩系化合物（例えば、特開昭６０−２２５１４８号に
記載の化合物）、カルボジイミド系化合物（例えば、特
開昭５１−１２６１２５号、同５２−４８３１１号に記
載の化合物）、ピリジニウム塩系化合物（例えば、特公
昭５８−５０６９９号、特開昭５２−５４４２７号、特
開昭５７−４４１４０号、同５７−４６５３８号に記載
の化合物）、その他ベルギー特許第８２5 ，７２６号、
米国特許第３，３２１，３１３号、特開昭５０−３８５
４０号、同５２−９３４７０号、同５６−４３３５３
号、同５８−１１３９２９号に記載の化合物などが挙げ
ることができる。

【００５８】本発明の下塗層には、画像の透明性や粒状
性を実質的に損なわれない程度に無機または有機の微粒
子をマット剤として含有させることができる。無機の微
粒子のマット剤としてはシリカ（ＳｉＯ₂ ）、二酸化チ
タン（ＴｉＯ₂ ）、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム
などを使用することができる。

【００５９】有機の微粒子マット剤としては、ポリメチ
ルメタアクリレート、セルロースアセテートプロピオネ
ート、ポリスチレン、米国特許第４，１４２，８９４号
に記載されている処理液可溶性のもの、米国特許第４，
３９６，７０６号に記載されている。ポリマーなどを用
いることができる。

【００６０】これらの微粒子マット剤の平均粒子径は１
〜１０μｍのものが好ましい。これ以外にも、下塗層に
は、必要に応じて各種の添加剤を含有させることができ
る。例えば界面活性剤、帯電防止剤、アンチハレーショ
ン剤、着色用染料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤等で
ある。本発明において、下塗第１層用の下塗液に使用す
る場合には、レゾルシン、抱水クロラール、クロロフェ
ノールなどの如きエッチング剤を下塗液中に含有させる
必要は全くない。しかし所望により前記の如きエッチン
グ剤を下塗中に含有させることは差し支えない。

【００６１】本発明に係わる下塗エッチング機は、一般
によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、エ
アーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコー
ト法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、或い
は米国特許第２，６８１，２９４号に記載のホッパーを
使用するエクストルージョンコート法により塗布するこ
とができる。所望により、米国特許第２，７６１，７９
１号、同３，５０８，９４７号、同２，９４１，８９８
号、同３，５２６，５２８号明細書、原崎勇次著、「コ
ーテイング工学」２５３頁（１９７３年、朝倉書店発
行）などに記載された方法により２層以上の層を同時に
塗布することができる。

【００６２】本発明は、上記のポリエステル支持体の一
方の側に、研磨剤とバインダーからなる研磨層を支持体
に有している研磨テープである。該研磨テープの研磨層
は、日本工業規格（ＪＩＳ）、Ｂ ０６０１−１９９４
に定義された表面粗さＲｚが０．０５μｍ以上５０μｍ
以下の面からなるものである。好ましくは０．１０μｍ
以上１０μｍ以下である。より好ましくは０．１５μｍ
以上３μｍ以下であり、特に０．２０μｍ以上２μｍ以
下であることが好ましい。

【００６３】本発明における研磨テープは、研磨剤とバ
インダーを主体とする研磨層を支持体上の一方の側に設
けたものである。本発明における研磨層の研磨剤として
は、酸化クロム、炭化硅素、ダイヤモンド、人口ダイヤ
モンドなどのモース硬度７以上の研磨剤を単独もしくは
混合使用してもよい。平均粒子サイズは、０．１〜１０
μｍの範囲である。好ましくは０．１〜５．０μｍであ
り、より好ましくは０．２〜１．０μｍである。

【００６４】本発明に使用できるバインダーとしては、
無機塩が０．１ｗｔ％以下のものを使用することができ
る。研磨層に使用されるバインダーとしては塩ビ系樹
脂、ウレタン樹脂及びポリイソシアネート以外に、従来
公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子
線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬化型樹
脂、防黴樹脂やこれらの混合物を使用することができ
る。

【００６５】熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃
以下、平均分量が１０，０００〜３０，０００、重合度
が約５０〜２，０００程度のものでより好ましくは２０
０〜７００程度であり、例えば、アクリル酸エステルア
クリロニトル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、
ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロースーポリア
ミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロ
ニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリンビニルブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースダイアセテート、セルローストリアセテート、セル
ロースプロピオネート、ニトロセルトース、エチルセル
ロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メチ
ルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロール、ア
セチルセルロース等）、スチレンブタジェン共重合体、
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニ
ルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、
各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等
が使用される。

【００６６】特に塩ビ系樹脂としては、例えば塩化ビニ
ル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビリルアクリロニトリル共重合体等が挙げ
られ、中でも塩化ビニルの共重合体である−（ＣＨＣｌ
ＣＨ₂)_n −（ＣＨＸＣＨ₂)_m −（Ｘは、ＳＯ₃ ＮＡ、−
ＳＯ₃ Ｈ、−ＰＯ₄ Ｈ等の極性基）を基本単位とするも
のが研磨層の強度および研磨剤粒子の分散性の面で望ま
しい。塩ビ系樹脂の中でも特に望ましいのは、分散性、
塗布膜強度の点から日本ゼオン社製のＭＲ１１０、４０
０Ｘ１１０Ａ等である。

【００６７】また熱硬化製樹脂又は反応型樹脂としては
塗布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量は無限大のものとなる。また、これら
の樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は
溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノー
ル樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネー
ト樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シ
リコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂）、
エポキシーポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマー混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。

【００６８】特にウレタン系樹脂としては、特に制限さ
れず従来よりバインダー樹脂として公知のものを使用す
ることができる。例えば、１００％モジュラスが５０〜
３００Ｋｇ／ｍｍ² のものが、ガラス転移温度（Ｔｇ）
は、−３０〜５０℃であるものが研磨剤を研磨層に保持
する性能、また塗膜に適度の弾性を付与するので望まし
い。

【００６９】具体的には大日本インキ（株）社製のＣ−
７２０９、パンデックス、日本ポリウレタン（株）社製
のＮ−２３０１、Ｎ−２３０２、Ｎ−２３０４、Ｎ−３
１０７、東洋紡（株）社製のＵＲ−８２００、ＵＲ−８
３００、ＵＲ−８６００頭が挙げられ、中でも研磨剤粒
子の分散を促進させるための極性基を分子内に有するも
のが望ましい。これらの熱可塑、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂は、本発明の官能基以外に官能基としてカルボン酸
（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン
酸（ＳＯ₃ Ｍ）、燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホス
ホン酸、硫酸（ＯＳＯ₃ Ｍ）、及びこれらのエステル基
等の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、炭化水素基）、アミノ酸類：アミノスルホン酸類、
アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、スルフ
ォベタイン、ホスホベタイン、アルキルベタイン型等の
両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基等
また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、アルキル
チオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シリル
基、シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シア
ノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィ
ン基を通常１種以上６種以内含んでも良い、そして各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが研磨剤粒子の分散促進、研磨層塗布膜の
強度の向上のために含んでも良い。

【００７０】研磨層の研磨剤とバインダー樹脂との混合
割合は重量比でバインダー樹脂１００重量部に対して研
磨剤１〜１００重量部の範囲で使用される。好ましくは
２〜５０重量部の範囲である。特に３〜３０重量部の範
囲が好ましい。

【００７１】本発明に用いられるポリイソシアネートと
しては、特に制限されず従来よりバインダー樹脂として
公知のものを使用することができる。例えば、トリレン
ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシ
アネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生
成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜
１０量体のポリイソシアネート、又ポリイソシアネート
とポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネー
ト等が挙げられ、中でもイソシアネート基（−ＮＣＯ）
を１分子内中に３個以上あると架橋が三次元的になされ
るので望ましい。

【００７２】これらポリイソシアネート類の平均分子量
は１００〜２０，０００のものが好適である。これらポ
リイソシアネートの市販されている商品名としては、コ
ロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コ
ロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭ
ＴＬ（日本ポリウレタン株製）、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、タケネンート３００Ｓ、タケネ
ート５００（武田薬品株製）、スミジュールＴ−８０、
スミジュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュール
Ｌ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュー
ルＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デス
モジュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュー
ルＲ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デス
モジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、
これらを単独もしくは硬化反応性の差を利用して二つ若
しくはそれ以上の組み合わせによって使用することがで
きる。又硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジ
オール、ヘキサンジオール、分子量が１，０００〜１
０，０００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を
有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセテト
ネート等の触媒を併用することもできる。これらの水酸
基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望まし
い。

【００７３】上記のポリイソシアネートの中でも特に望
ましいのは、３次元的架橋密度を促進向上させるため、
３官能ポリイオシアネートが好ましくは、日本ポリウレ
タン社製のコロネート３０４０等が挙げられる。その
他、研磨層中には各種の機能を持った化合物が添加剤と
して添加される。例えば、分散剤、潤滑剤、帯電防止
剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤等が加えられ
る。

【００７４】分散剤、分散助剤はバインダーへの研磨剤
の分散を助ける目的で加えることがある。分散剤、分散
助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ1 ＣＯＯＨ、Ｒ1 は炭素数１〜３
９個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記
の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ4
⁺ 等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ
等）、Ｃｕ、Ｐｂ等から成る金属石鹸（オレイン酸銅
等）、脂肪酸アミド：レシチン（大豆油レシチン）等が
使用される。この他に炭素数４〜４０の高級アルコー
ル、（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルア
ルコール、ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸エ
ステル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルス
ルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエルテル、燐
酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能で
ある。また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオ
キサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ
琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は
通常一種類以上で用いられ、一種類の分散剤はバインダ
ー１００重量部に対して０．００５〜２０重量部の範囲
で添加される。これら分散剤の使用方法は、強磁性微粉
末や非磁性微粉末の表面に予め被着されても良く、また
分散途中で添加してもよい。

【００７５】粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二
硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリル
スチレン系樹脂微粉末、ヘンゾグアナミン系樹脂微粉
末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフイン系樹脂微粉
末、ポリエステル系微粉末、ポリアミド系樹脂微粉末、
ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフッ化エチレン系樹脂微
粉末等の樹脂微粉末等がある。研磨層には、さらには摩
擦係数の低減、塗布膜の弾性のコントロールという効果
を期待して以下のような有機化合物系潤滑剤を添加する
こともできる。その際の添加量としては、研磨剤粒子に
対して重量百分比で０．０１〜１０重量％である。好ま
しくは０．０５〜５重量％である。

【００７６】また、有機化合物系潤滑剤としてはシリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキポリ
シロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキ
ルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９５、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインド
リジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベ
ンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素
・硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４
０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコ
ールもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四
価のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもし
くは２つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数１０
個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して
炭素数が１１〜７０個となる一価〜六価のアルコールか
ら成る脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或い
は脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族ア
ルコール類類も使用できる。これら化合物の具体的な例
としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラ
ウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチ
ル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリス
チン酸オクチル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パル
ミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オ
クテル、パルミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸
エチル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチ
ル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキ
シル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、
ステアリン酸２エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシ
ルデシル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸
アミド、ステアリン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブ
トキシエテル、アンヒドロソルビタンモノステアレー
ト、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロ
ソルビタントリステアレート、アンヒドロソルビタンテ
トラステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコ
ール、ラウリルアルコール、モンタンワックス、カルナ
ウバワックス、等が有り単独若しくは組わ合せ使用でき
る。

【００７７】帯電防止剤としては、研磨層には被研削物
との間で発生する静電気による静電気破壊を防止する目
的でカーボンブラックを含有させることが好ましい。カ
ーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、
カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いる事が
できる。これらカーボンブラックはテープの帯電防止
剤、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的として
使用される。これらカーボンブラックの米国における略
称の具体例をしめすとＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、
Ｔ、ＨＡＦ、ＳＰＦ、ＦＦ、ＦＥＦ、ＨＭＦ、ＧＰＦ、
ＡＰＦ、ＳＲＦ、ＭＰＦ、ＥＣＦ、ＳＣＦ、ＣＦ、Ｆ
Ｔ、ＭＴ、ＨＣＣ、ＨＣＦ、ＭＣＦ、ＬＦＦ、ＲＣＦ等
があり、米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６５−８２ａに
分類されているものを使用することができる。これらの
カーボンブラックの中、本発明の目的を有効に達成する
ためには、上記中でも粒径が前記の条件に適合するファ
ーネスブラックが望ましい。

【００７８】本発明に使用されるこれらカーボンブラッ
クの平均粒子径は５〜１００ｎｍ（電子顕微鏡）、窒素
吸着法比表面積は１０〜８００ｍ² ／ｇ、ｐＨは４〜１
１（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）、ジブチル
フタレート（ＤＢＰ）吸油量は１０〜８００ｍｌ／１０
０ｇ（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）である。
本発明に使用されるカーボンブラックの平均粒子径は、
塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で５〜１００ｎｍの
カーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御する時に
５０〜１０００ｎｍのカーボンブラックを用いる。

【００７９】また、カーボンブラックの種類と添加量は
研磨テープの目的に応じて使い分けられる。また、これ
らのカーボンブラックを後述の分散剤などで表面処理し
たり、樹脂でグラフト化して使用してもよい。またカー
ボンブラックを製造するときの炉の温度を２０００℃以
上で処理して表面の一部をグラファイト化したものも使
用できる。また、特殊なカーボンブラックとして中空カ
ーボンブラックを使用することもできる。これらのカー
ボンブラックは研磨層の場合無機粉末１００重量部に対
して０．１〜１００重量部で用いることが望ましい。ま
たバック層の場合後述する樹脂１００重量部に対して２
０〜４００重量部で用いることが望ましい。本発明に使
用できるカーボンブラックは例えば『カーボンブラック
便覧』、カーボンブラック協会編（昭和４６年発行）を
参考にすることが出来る。本発明で使用するアルミナ以
外の粉体に付いても各々の粉体は、Ｎａ含有率が０．１
ｗｔ％以下であることが好ましい。またカーボンブラッ
ク以外の帯電防止剤としてはグラファイト、変成グラフ
ァイト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫一
酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化ア
ンチモン、等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性
剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシド
ール系、多価アルコール、多価アルコールエステル、ア
ルキルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤：
高級アルキルアミン、環状アミン、ヒダントイン誘導
体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アンモニウ
ム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムま
たはスルホニウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン
酸、スルホン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。
これら帯電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物例
の一部は、小田良平他著『界面活性剤の合成とその応
用』（槇書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ著『サー
フエス アクテイブ エージエンツ』（インターサイエ
ンス バブリケーション コーポレイテッド１９８５年
版）：Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペディア オ
ブ サーフエスアクティブ エージェンツ、第２巻』
（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年版）：『界
面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社、昭和４１年
１２月２０日）：丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房（１
９６８）等の成書に記載されている。これらの界面活性
剤は単独または混合して添加しても良い。これらは帯電
防止剤として用いられるものであるが、時としてそのほ
かの目的、例えば分散、潤滑性の改良、塗布助剤、湿潤
剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される場合もあ
る。

【００８０】酸化防止剤としては、一般的に防錆剤とし
て知られているアルキルフェノール、ベンゾトリアジ
ン、テトラアザインデン、スルファミド、グアニジン、
核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の
金属キレート剤、錆どめ剤であるナフテン酸、アルケニ
ルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート等、油性
剤として知られているナタネ油、ラウリルアルコール
等、極圧剤であるジベンジルスルフィド、トリクレジル
フォスフェート、トリブチルホスファイト等が用いられ
る。これらは清浄分散剤、粘土指数向上剤、流動点下降
剤、泡どめ剤等としても用いられる。これらの潤滑剤は
バインダー１００重量部に対して０．０１〜３０重量部
の範囲で添加される。

【００８１】また防黴剤としては、２−（４−チアゾリ
ル）−ベンズイミダーゾール、Ｎ−（フルオロジクロロ
メチルチオ）−フタルイミド、１０，１０’−オキシビ
スフェノキサルシン、２，４，５，６テトラクロロイソ
フタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルスルホン、
トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、フェ
ニルオイレン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、サル
チルアニライド等がある。このようなものは、例えば
「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図書、「化学
と工業」３２、９０４（１９７９）等に於いて示され
る。着色剤としては、フタロシアニン色素、シアニン色
素、キレート色素など染料や顔料に用いる工業用色素を
用いることができる。

【００８２】溶剤は分散、混練、塗布の際に使用し、任
意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒ
ドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどの
アルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸イソブチル、酢酸イソプロビル、乳酸エチル、酢酸
グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；ジエチ
ルエーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベン
ゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メ
チレンクロライド、エチレンクロイラド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアル
デヒド、ヘキサン、水等が使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以
下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分原
料成分等）を含んでものよい。これらの溶剤は塗布液合
計固形分１００重量部に対して１００〜２０，０００重
量部で用いられる。好ましい塗布液は固形分率１〜７０
重量％である。

【００８３】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解・混練・分散し、塗布溶液として
支持体上に塗布・乾燥、裁断、クリーニングする。溶
解、分散、混練の方法には特に制限はなく、また各成分
の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、溶解、分
散、混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）などは
適宜設定することができる。研磨塗料の調整には通常の
攪拌機、分散機、混練機、例えば二本ロールミル、三本
ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サ
ンドグラインダー、ツエグバリ（Ｓｘｅｇｖａｒｉ）ア
トライター、高速インペラー、高速ストーンミル、高速
度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リ
ボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、
タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイ
ザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し
出し機、及び超音波分散機などを用いることができる。
通常溶解、分散・混練にはこれらの機械を複数備え、連
続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、
Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー、シー、パットン“Ｐａ
ｉｎｔ Ｆｌｏｗ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐ
ｅｒｓｉｏｎ”（ペイント フロー アンド ピグメン
ト デイスパージョン）１９６４年Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅ
ｙ ＆ Ｓｏｎｓ社発行（ジョン ウイリー アンド
サンズ）や田中信一著『工業材料』２５巻３７（１９７
７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。

【００８４】これらの分散、混練の補助材料として分散
・混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜
０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビー
ズ、セラミックビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービ
ーズを用いることができる。またこれら材料は球形に限
らない。また、米国特許第２，５８１，４１４号及び同
第２，８５５，１５６号などの明細書にも記載がある。
本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文型など
に記載された方法に準じて混練分散を行ない研磨層塗料
およびバック層塗料を調製することができる。

【００８５】支持体上へ研磨層用塗布液を設ける方法と
しては、塗布、噴霧などがある。塗布の場合塗布液の粘
度を１〜２００００センチストークス（２５℃）に調整
し、エアードクターコーター、ブレードコーター、エア
ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リ
バースロールコーター、トランスファーロールコータ
ー、グラビアコーター、キスコーター、キヤストコータ
ー、スプレイコーター、ロッドコーター、正回転ロール
コーター、カーテンコーター、押出コーター、バーコー
ター、リップコータ等が利用出来、その他の方法も可能
であり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーテ
イング工学』２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２
０．発行）等に詳細に記載されている。また所望の液の
塗布の前に下塗り層あるいは支持体との密着力向上のた
めにコロナ放電処理等を行っても良い。また研磨層を多
層で構成したいときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等
を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７−１２
３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公報、特開
昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１６５２３
９号公報の明細書等に示されている。

【００８６】このような方法により支持体上に約１〜１
０００μｍほどで研磨層を設けた後、直ちに２０〜１３
０℃で乾燥させる処理を施したのち、形成した研磨層を
０．１〜１００μｍ厚みに乾燥する。乾燥後の研磨層は
好ましくは０．５〜２５μｍの厚さである。０．８〜１
５μｍが特に好ましい。このときの支持体の搬送速度
は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分でおこなわれ、複数
の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０℃で制御し塗
布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／ｍ² とする。又
必要により同様の手順でその他の層を設けてもよく、引
き続き表面平滑化加工を施したりして、所望の形状に裁
断し本発明の研磨テープを製造する。これらの製造方法
は粉体の予備処理・表面処理、混練・分散、塗布・配向
・乾燥、平滑処理、熱処理、ＥＢ処理、表面クリーニン
グ処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望
ましい。

【００８７】このように作成した研磨テープを裁断した
あと所望のプラスチックや金属のリールに巻き取る。巻
き取る直前ないしはそれ以前の工程において研磨テープ
（研磨層、バック層、エッジ端面、ベース面）をバーニ
ッシュおよびまたはクリーニングすることが望ましい。
バーニッシュは研磨テープの表面粗度と研磨力を制御す
るために具体的にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料
刃、ダイアモンド刃、セラミックス刃のような硬い材料
により研磨テープ表面の突起部分をそぎおとし均一にも
しくは平滑にする。これら材料のモース硬度は８以上が
好ましいが特に制限はなく突起を除去できるものであれ
ば良い。これら材料の形状は特に刃である必要はなく、
角型、丸型、ホイール（回転する円筒形状の周囲にこれ
らの材質を付与しても良い）のような形状でも使用でき
る。また研磨テープのクリーニングは、研磨テープ表面
の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で研磨テープ表層
を不織布などで研磨層面、バック層面、エッジ端面、バ
ック側のベース面をワイピングすることにより行う。こ
のようなワイピングの材料としては例えば日本バイリー
ン製の各種バイリーンや東レ製のトレシー、エクセー
ヌ、商品名キムワイプ、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン不織布、アクリロ
ニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペーパ
ー等が使用できる。

【００８８】本発明の研磨テープの研磨層側の層構成は
支持体、研磨層、中間層、各層間の剥離防止層即ち下塗
層を設けることができる。中間層、下塗層は、摩擦や弾
性、密着強度のコントロールの為に設ける。下塗り層は
２層間の密着強度を増すために設ける。各々の層は上述
した研磨層と同様の原料を使用する事が出来る。また研
磨剤のサイズや種類の異なる２種以上を厚みを変えて多
層構成とする事もできる。

【００８９】本発明の研磨テープの製法に関しては、更
に特公昭５６−２６８９０号等に記載されている磁気記
録媒体のものを参考にできる。本発明の研磨テープが写
真用磁気情報読み取り装置の汚れ付着物を研磨除去する
ためには、その研磨性がビッカース法により規定される
研磨性において、９０［ｎｍ／ｍ］以上である。

【００９０】以下のその研磨性測定法を記す。研磨され
る素材としては、パーマロイヘッド（並木精密宝石
（株）製、Ｎ−０７２パーマロイヘッド）を用いる。市
販の研磨テープ（たとえば、富士写真フイルム（株）
製、Ｋ−８０００）を用いて、このパーマロイヘッドを
５−７μｍ研磨した後、ヘッドギャップから０．１ｍｍ
以内の範囲にビッカーズのくぼみ（Ｖｉｃｋｅｒｓ ｉ
ｎｄｅｎｔ）を正四角錐形のダイヤモンドを用いてギャ
ップの左右に２個ずつ、計４個を導入する。このヘッド
に対抗ローラーの荷重１００ｇで、試験体となる研磨テ
ープをＡｍ（３０ｍ以上）通過させ、そのヘッドの磨耗
した厚さＢ［ｎｍ］を求める。本発明の研磨性とはこれ
らの４点の平均のＢ／Ａ［ｎｍ／ｍ］である。

【００９１】本発明に対しては、この研磨性が９０以上
であることが必要であるが、好ましくは１５０以上１０
０，０００以下であり、より好ましくは２００以上２
０，０００以下であり、２５０以上１０，０００以下で
あることが特に好ましい。これより小さいと汚れが落ち
にくく、これより大きいと各種機器の接触部分の磨耗が
大きすぎ、機器の耐久性上好ましくない。

【００９２】次に、本発明の支持体上に研磨層を有する
側とは、支持体を挟んで反対側に少なくともゼラチンを
含み、その乾燥膜厚が５〜３０μｍの層が設けられる
が、該乾燥膜厚規定のゼラチン含有層について説明す
る。

【００９３】本発明では、乾燥膜厚規定のゼラチン含有
層は、ハロゲン化銀を含有しない非威光性層であっても
よく、又、少なくともハロゲン化銀を含有する威光性層
であってもよい。さらに、威光性層である場合には、ハ
ロゲン化銀のほかにカプラーや可塑剤（オイル）などカ
ラー威光材料を構成するのに必要な各種添加剤等を含有
することも意味する。

【００９４】本発明では、該層が上記非威光性層を構成
する場合の乾燥膜厚は、好ましくは５μｍ以上２０μｍ
以下である。より好ましくは５μｍ以上１５μｍ以下で
ある。該層が上記威光性層を構成する場合の乾燥膜厚
は、好ましくは８μｍ以上２５μｍ以下である。より好
ましくは、１０μｍ以上２０μｍ以下である。

【００９５】本発明における乾燥膜厚とは、温度２５°
Ｃ、相対温度５５％下で２日間調温調湿された条件下
で、市販の接触式膜厚測定計、例えば、Ａｎｒｉｔｓｕ
Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏ．Ｌｔｄ、Ｋ−４０２Ｂ Ｓ
ｔａｎｄ によって測定できる。該層を有する側の全親
水性コロイド層の乾燥膜厚の総厚みは、上記乾燥膜厚か
ら支持体上の該層の塗該層を除去した前後の厚みの差に
より算出することができる。

【００９６】上記該層が非威光性層を構成する場合に
は、非感光性層には、帯電防止剤、易滑剤、マット剤、
界面活性剤、染料、紫外線吸収剤等を含有することがで
きる。該非感光性層で用いられてれる帯電防止剤として
は、特に制限はなく、たとえばアニオン性高分子電解質
としてはカルボン酸及びカルボン酸塩、スルホン酸塩を
含む高分子で例えば特開昭４８−２２０１７号、特公昭
４６−２４１５９号、特開昭５１−３０７２５号、特開
昭５１−１２９２１６号、特開昭５５−９５９４２号に
記載されているような高分子である。カチオン性高分子
としては例えば特開昭４９−１２１５２３号、特開昭４
８−９１１６５号、特公昭４９−２４５８２号に記載さ
れているようなものがある。またイオン性界面活性剤も
アニオン性とカチオン性とがあり、例えば特開昭４９−
８５８２６号、特開昭４９−３３６３０号、米国特許第
２，９９２，１０８号、米国特許第３，２０６，３１２
号、特開昭４８−８７８２６号、特公昭４９−１１５６
７号、特公昭４９−１１５６８号、特開昭５５−７０８
３７号などに記載されているような化合物を挙げること
ができる。

【００９７】該非感光性層の帯電防止剤として最も好ま
しいものは、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ ₂、Ａ１₂
Ｏ₃ 、Ｉｎ ₂Ｏ₃,、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ
₃ 、Ｖ₂Ｏ₅ の中から選ばれた少なくとも１種の結晶性
の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物の微粒子であ
る。

【００９８】本発明に使用される導電性の結晶性酸化物
又はその複合酸化物の微粒子はその体積抵抗率が１０⁷
Ωｃｍ以下、より好ましくは１０⁵ Ωｃｍ以下である。
下限値としては１０³ Ωｃｍである。またその粒子サイ
ズは０．００２〜０．７μｍ、特に０．００５〜０．３
μｍとすることが望ましい 。

【００９９】さらに、上記支持体を用いた研磨テープに
は、各種の情報を記録するために磁気記録層を有してい
てもよい。強磁性体は公知のものを使用することができ
る。磁気記録層は研磨層もしくは支持体の反対側の乾燥
膜厚規定ゼラチン含有層の上層（例えば保護層又は最上
層）にも設けることができるが、研磨層に用いるのが好
ましく、塗布または印刷によって設けることができる。
また、各種の情報を記録するために感光性層を設けた
り、バーコードを付すなどの光学的に記録するスペース
を研磨テープに与えてもよい。

【０１００】一方、該乾燥膜厚５μｍ以上、３０μｍ以
下のゼラチン含有層はハロゲン化銀を含む感光性層を構
成する単層もしくは複数の層からなっていてもよい。こ
の場合、感光性層を構成するのに用いることができる技
術および無機・有機素材については、欧州特許第４３
６，９３８Ａ２号の下記の箇所及び下記に引用の特許に
記載されているものが適用できる。

【０１０１】１．層構成：第１４６頁３４行目〜第１４
７頁２５行目 ２．ハロゲン化銀乳剤：第１４７頁２６行目〜第１４８
頁１２行目 ３．イエローカプラー：第１３７頁３５行目〜第１４６
頁３３行目、第１４９頁２１行目〜２３行目 ４．マゼンタカプラー：第１４９頁２４行目〜第２８行
目；欧州特許第４２１，４５３Ａ１号の第３頁５行目〜
第２５頁５５行目 ５．シアンカプラー： 第１４９頁２９行目〜３３行
目；欧州特許第４３２，８０４Ａ２号の第３頁２８行目
〜第４０頁２行目 ６．ポリマーカプラー：第１４９頁３４行目〜３８行
目；欧州特許第４３５，３３４Ａ２号の第１１３頁３９
行目〜第１２３頁３７行目 ７．カラードカプラー：第５３頁４２行目〜第１３７頁
３４行目、第１４９頁３９行目〜４５行目 ８．その他の機能性カプラー：第７頁１行目〜第５３頁
４１行目、第１４９頁４６行目〜第１５０頁３行目；欧
州特許第４３５，３３４Ａ２号の第３頁１行目〜第２９
頁５０行目 ９．防腐・防黴剤： 第１５０頁２５行目〜２８行目 １０．ホルマリンスカベンジャー：第１４９頁１５行目
〜１７行目

【０１０２】１１．その他の添加剤：第１５３頁３８行
目〜４７行目： 欧州特許第４２１，４５３Ａ１号の第
７５頁２１行目〜第８４頁５６行目、第２７頁４０行目
〜第３７頁４０行目 １２．分散方法： 第１５０頁４行目〜２４行目 １３．膜厚・膜物性： 第１５０頁３５行目〜４９行目 １４．発色現像工程： 第１５０頁５０行目〜第１５１
頁４７行目 １５．脱銀工程； 第１５１頁４８行目〜第１５２
頁５３行目 １６．自動現像機： 第１５２頁５４行目〜第１５３
頁２行目 １７．水洗・安定工程：第１５３頁３行目〜３７行目

【０１０３】本発明のポリエステル支持体の厚さが５０
〜１５０μｍ、一方の側に研磨層、支持体を挟んだ反対
側に乾燥膜厚が５〜３０μｍのゼラチン層からなる研磨
テープにあっては、研磨テープの総膜厚が５５μｍより
薄いと、写真感光材料の総厚みに対する研磨テープの厚
みが薄く、研磨テープとして本発明の課題である装置の
汚れ除去や磁気の読み取りエラーの低減の達成が困難に
なる。一方、総膜厚が２００μｍを超える研磨テープで
は、写真感光材料の総厚みに対し厚くなり、写真用磁気
装置での搬送が困難もしくは不能になったり、又、磁気
装置（例えば、磁気ヘッドなど）の摩耗が大きくなり、
装置の耐久性の低下や支持体のコスト増大などの経済性
に欠点が生じる。なお、研磨層の厚みとしては、上記か
らも推算できるように２０μｍ以下であり、少なくとも
１μｍ以上である。好ましくは２〜１５μｍの範囲であ
る。特に好ましくは５〜１０μｍである。

【０１０４】さらに、本発明においては、研磨テープ
は、長手方向に対し幅方向の長さは、１６〜３６ｍｍで
使用される。写真用磁気装置の研磨テープとしては、３
５ｍｍ幅もしくは２４ｍｍ幅であることが好ましい。こ
の中にあっても２４ｍｍ幅が特に好ましい。

【０１０５】また、本発明の上記幅方向の長さを有する
研磨テープにあっては、パーフオレーションはあっても
よく、また、なくてもよい。パーフオレーションを有す
る場合には、幅方向の一方の端に設けてもよく、幅方向
の両端に設けてもよい。

【０１０６】次に、図を参照しつつ、本発明の一態様で
ある写真用磁気情報読み取り装置研磨テープの包装体
（以下、「研磨テープパトローネ」ともいう。）１００
の構造についてまず説明する。図１は、その研磨テープ
パトローネの分解斜視図、図２は、それを半径方向から
見た図、図３は、それを図２とは異なる位置で、半径方
向から見た図である。

【０１０７】研磨テープパトローネ１００は、パトロー
ネ本体１０１の内部に、研磨テープ１０２を巻き付けた
スプール１０３を回動自在に収納しており、パトローネ
本体１０１の外周にパトローネラベル１０４が粘着され
ている。カートリッジ本体（パトローネ本体）１０１
は、２つの成形部品である上・下ケース１０５、１０６
からなる。

【０１０８】ゲート１５０を有する上ケース１０５と、
下ケース１０６との正面側合わせ目には研磨テープ１０
２を送り出すためのテープ送り出し口１０７（通路）が
形成されている。テープ送り出し口１０７の奥には、蓋
部材１０８と、これの奥に配置され研磨テープ１０２の
先端を分離するための分離爪１０９とがそれぞれ設けら
れている。蓋部材１０８は、両端部にそれぞれキー溝１
１０、１１１が形成され、カメラに装填された際にキー
溝１１０、１１１に係合するカメラ側の開閉用駆動軸の
回動によってテープ送り出し口１０７を塞ぐ閉じ位置と
研磨テープの出入りが許容される開き位置との間で回動
される。図５には、ロックポウル１４４と蓋部材１０８
が係合し、蓋部材が閉じ位置でロックされた状態を示し
てある。

【０１０９】スプール１０３は、スプール軸１１２の両
端内側にそれぞれ一対のリップ付きフランジ１１３、１
１４が取り付けられ、一方のフランジ１１３の外側にデ
ータディスクが設けられている。また他方のフランジ１
１４の外側に使用表示部材１２３が取り付けられる。デ
ータディスク１１５には、データラベルが貼付けられ
る。スプール軸１１２、データディスク１１５、各フラ
ンジ１１３、１１４が係合する一対のフランジ係合部１
１７、１１８、研磨テープ後端係止用のスリット１１
９、及び使用表示部材支持部１２０とがそれぞれ一体に
形成されており、カメラに装填された際にスプール１０
３の両端部に設けたカギ穴上のキー溝１２１、１２２に
カメラ側の駆動軸が係合し、この駆動軸の回転によって
回動される。

【０１１０】使用表示部材１２３には、軸受け部１２
４、２つのラチェット爪１２５、ギヤ１２６、及び使用
表示板１２７とが一体に形成されており、これらはスプ
ール軸１１２と一体に回転する。

【０１１１】研磨テープパトローネ１００の内部は、ギ
ヤ１２６と噛み合うようにスプールロック１２８が収納
されている。このスプールロック１２８は、蓋部材１０
９が閉じる位置にある時には、ギヤ１２６に係合してス
プール軸１１２の回転ロックを行い、不用意な研磨テー
プ１０２の送り出しを防止し、また、蓋部材１０９が開
き位置にある時にはギヤ１２６との係合を解除する。

【０１１２】一対のフランジ１１３、１１４は、プラス
チック材料で成形されており、断面が薄肉カップ状とな
っている。カップ状の底部にはフランジ係合部１１７、
１１８に回動自在に係合する丸穴１２９、１３０がそれ
ぞれ設けられている。また、カップ状の開口縁部１３
１、１３２は、スプール軸１１２に取り付けられた際に
互いに向き合うようになり、これらの間に巻回される研
磨テープ１０２の最外周両端を包み込む（図６参照）。
これらの開口縁部１３１、１３２によってスプール１０
３の回転を研磨テープ１０２の最外周まで伝達させるこ
とができるとともに、テープロール１４２の巻き緩みを
防止している。

【０１１３】フランジ１１４には、丸穴１３０を取り囲
むように、所定ピッチで４個の穴１３３が形成されてい
る。これらの穴１３３には、スプール軸１１２が研磨テ
ープ送り出し方向に回転した際に使用表示部材１２３の
ラチェット爪１２５が係合する。ラチェット爪１２５
は、前記穴１３３に係合した際にスプール軸１１２の回
転をフランジ１１４に伝達させ、スプール軸１１２が研
磨テープ巻き取り方向に回転した際には使用表示部材１
２３のラチェット爪１２５が前記穴１３３を乗り越え、
スプール軸１１２の回転をフランジ１１４に伝達させる
ことはない。

【０１１４】ところで、研磨テープ１０２を送り出す際
には、スプール１０３をテープ送り出し方向に回転させ
る。スプール１０３がテープ送り出し方向に回転させら
れると、研磨テープ１０２の先端が分離爪１０９に接触
し、研磨テープ先端の内側に巻回された部分から分離さ
れる。続いてスプール１０３が回転させられると、厚み
が薄い一対のフランジ１１３、１１４は弾性を有してい
るから、分離されたテープ先端によってそれぞれ外側に
押し広げられ、これによって一対のフランジ１１３、１
１４の包み込みから開放された研磨テープ先端（図３の
１４３）はテープ送り出し口を通じて研磨テープパトロ
ーネ１００の外に送り出される。また、スプール軸１１
２が研磨テープ巻き取り方向（研磨テープ送り出し方向
とは逆方向）に回転した際にはフランジ１１３、１１４
ともスプール軸１１２と一体に回転することはない。し
たがって、研磨テープ１０２を巻き取る際には、フラン
ジ１１３、１１４が回転しないことから、これらの開口
縁部１３１、１３２と研磨テープ１０２との間に滑りを
生じ、研磨テープ１０２がフランジの開口縁部１３１、
１３２の下に滑り込むことによって研磨テープが巻き込
まれる。

【０１１５】データディスク１１５は、大径扇型部分１
３４と切り欠き部分１３５とからなる。バーコードラベ
ル１１６は、データディスク１１５と相似の形状をして
おり、データディスクに貼り付けられる。

【０１１６】バーコードラベル１１６には、バーコード
が印刷されており、様々な情報、例えば収納する研磨テ
ープ１０２の種類等を表している。この情報は、スプー
ル１０３がテープ送り出し方向に回転された際に、図５
に示すように、上ケース１０５の一側面に形成された開
口１３６を介してカメラ側に設けた読取りセンサによっ
て読み取られ、収納された研磨テープの種類やテープの
長さ方向のカウント、感光性層を有する研磨テープの場
合は露光枚数のカウント、露出値の算出等に用いられ
る。

【０１１７】この研磨テープパトローネ１００では、研
磨テープ１０２の先端までも全部収納するため、研磨テ
ープが収納されているのかが外観から見ても区別がつか
ない。そこで、研磨テープを収納した研磨テープパトロ
ーネ１００を再度カメラに装填して研磨するために、あ
るいは感光性層を有する研磨テープにあっては、再度カ
メラに装填されて撮影が行われることを防止するため
に、後装填防止用の開口１３７を下ケース１０６の一側
面に形成している。この一側面は、カメラのパトローネ
室に向けて挿入される側であり、パトローネ室内には開
口１３７に入り込むレバーが設けられている。

【０１１８】研磨テープパトローネ１００は、研磨テー
プを使用し、研磨が終了してテープを収納している状態
になっても、再度研磨テープが使用できるようにするた
めには、開口１３７に大径扇型部分１３４を露呈してい
ない状態となるように予め情報が与えられるようにして
おき、カメラ側の駆動軸によってスプール１０３の停止
位置が元に戻るよう制御される。したがって、カメラ側
ではレバーの移動量がないことを検出することで再度研
磨テープを使用することができる。

【０１１９】一方、感光性層を有する研磨テープパトロ
ーネ１００では、露光済のテープを収納している場合に
は開口１３７に大径扇型部分１３４を露呈した状態とな
るように、また未露光のテープを収納している場合には
開口１３７に大径扇型部分１３４を露呈していない状態
となるようにカメラ側の駆動軸によってスプール１０３
の停止位置が制御される。したがって、カメラ側ではレ
バーの移動量を検出することで露光済か否かを見分ける
ことができる。

【０１２０】さらに、ユーザーが外観から見ても把握で
きるように、この研磨テープパトローネ１００では、図
４に示すように、他の側面（開口１３６、１３７を設け
た側面とは反対側の側面）に、研磨テープが収納された
際の使用状況表示用開口１３８、研磨テープの一部を使
用してテープを収納した時の使用状況表示用開口１３
９、及び研磨テープ全部を使用してテープを収納した際
の使用状況表示用開口１４０、感光性層を有するテープ
にあっては現像済みのテープを収納した際の使用状況表
示用開口１４１とを形成し、スプール１０３の停止位置
を制御して奥に位置する使用表示板１２７を前記４つの
使用状況表示用開口１３８〜１４１のうち何れかに露呈
させて研磨テープの使用状況を表示するようにしてい
る。

【０１２１】さらに、本パトローネ１００には、収納さ
れた研磨テープ１０２の検出用に用いられる特定検出ノ
ッチ１４５が設けられている。これは感光性層を有する
場合は感度検出ノッチであってもよい。これは、バーコ
ードラベルに書かれたバーコードを読むバーコードリー
ダーを持たない安価カメラで研磨テープであることもし
くは感度を検出するための特定のノッチである。図５の
ように検出用特定ノッチ１４５が設けられている場合
は、収納された研磨テープ１０２が写真感光材料でな
く、研磨テープであることを示している。また感光性層
を有する場合は、ノッチが設けられている場合はＩＳＯ
感度４００以上であり、ノッチがない場合はＩＳＯ感度
４００以下であることを示している。

【０１２２】さらに、本パトローネ１００には、収納さ
れた研磨テープ１０２が使用可能もしくは現像済みか否
かを表す表示タブが設けられている。図４に示されるよ
うに、このタブ１４７はパトローネ１００の一側面に設
けられた開口１４６内に設けられ、このタブ１４７が折
り取られている場合には収納された研磨テープ１０２が
性能劣化や有効期限外などの使用不可もしくは現像済み
であることを示している。

【０１２３】次に、本発明のパトローネ１００の製法の
代表例について具体的に述べる。上ケース・下ケース１
０５、１０６、スプール１０３、及び蓋部材１０８は、
ハイインパクトポリスチレン樹脂（電気化学工業製 デ
ンカスチロール ＨＩ−Ｒ−Ｑ）に、遮光性を付与する
ためにカーボンブラック（三菱化学製 三菱カーボンブ
ラック ＃９５０）１．０重量％、及び滑性を付与する
ためのシリコーンオイル（信越化学工業製 信越シリコ
ーン ＫＦ９６Ｈ−粘度３万cs）１．５重量％を混練し
た樹脂を用い射出成形法によって成形する。

【０１２４】使用表示部材１２３は、上述のハイインパ
クトポリスチレン樹脂に、上述のカーボンブラック０．
０１重量％、及び酸化チタン（石原産業製 ＣＲ６０−
２）３．５重量％を混練した樹脂を用い射出成形法によ
って成形する。

【０１２５】フランジ１１３、１１４は、ポリスチレン
樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂のポリマーアロイ
（旭化成製 ザイロン Ｘ９１０１）から作られた厚み
１５０μｍのテープを用い、真空・圧空法によって成形
する。

【０１２６】パトローネラベル１０４は、まず厚み５０
μｍの白色顔料入ポリスチレンテープの片面に印刷適正
を付与するコーティングを行い、その裏面に粘着剤を付
設した後剥離紙を張り付けた離型紙付き粘着ラベル原反
を作成する。その原反の表面に図７に示したように、数
字で書かれたパトローネＩＤ番号印刷スペース１５１、
メーカー名、商品名、テープの種類・テープの長さ（露
光枚数相当）、感光性層を有する場合には感度、露光枚
数、注意書き、及びユーザーが記入するメモ欄等を印刷
する品種等の印刷スペース１５２、及びバーコード印刷
スペース１５３がある。まず品種等印刷スペースを印刷
し、その後ハーフカット加工を行い、さらにその後でバ
ーコード及びパトローネＩＤ番号を印刷して作成する。
バーコードには、製造業者名、製造ロット、製造日、収
納された研磨テープの種類、テープの長さ、（露光枚数
相当）、感光性層を有する場合には感度、露光枚数、及
びパトローネＩＤ番号等がコード化されて印刷されてい
る。カートリッジＩＤ番号は、カートリッジ一個一個に
付けられた固有の番号である。

【０１２７】バーコードラベル１１６は、厚み５０μｍ
の透明ポリスチレンテープの片面に厚さ約４００オング
ストロームのアルミ蒸着層を設け、その上に粘着剤を付
設した後剥離紙を張り付けた離型紙付き粘着ラベルを作
成し、アルミ蒸着層の反対面にバーコードを印刷した
後、外周部分のハーフカットを行い、さらに中央の穴抜
き加工を行って作成する。

【０１２８】以下に本発明を実施例により更に具体的に
説明する。ここに示す成分、割合、操作順序等は本発明
の趣旨から逸脱しない範囲において変更しうるものであ
ることは本業界に携わるものにとっては容易に理解され
ることである。従って本発明は下記の実施例に制限され
るべきではない。なお実施例中の「部」とある場合「重
量部」のことである。

【０１２９】厚さ５５μｍ、７５μｍ及び２００μｍの
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体上にポリ
エステルポリウレタン樹脂からなる下塗り層を０．１μ
ｍ厚に塗布し、その上にサンドグラインダーでガラスビ
ーズ分散媒で下記の組成を６時間分散し調整した研磨層
用塗布液を、乾燥後の厚さが１５μｍとなるようにバー
コート塗布、乾燥し研磨テープのサンプルを作成した。

【０１３０】 ［塗布液組成］ 研磨剤粒子（酸化クロム、モース硬度８、平均粒子サイズ１μｍ）：１００部 バインダー樹脂（ポリエステルポリウレタン、スルホン酸ナトリウム１×１０^-3 当量／ｇ樹脂含有、Ｍｗ７０，０００）： ８部 ポリイソシアネート（トリメチロールプロパン（１モル）のＴＤＩ（３モル）付 加物）： ２部 潤滑剤（オレイン酸／オレイン酸オレイル）： ０．１部 希釈剤（メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／１）： ２００部 希釈剤（トルエン／ＭＩＢＫ）： １５０部 添加物（カーボンブラック）： ２部

【０１３１】作成したこれら３種の研磨テープはハロゲ
ン化銀写真感光材料のカメラ内の撮影や撮影後現像処理
されたネガ感材のプリント時等に使用される磁気情報読
み取り装置を有する装置の汚れ除去や汚れに伴う磁気情
報の読み取りエラーを低減するために使用される。

【０１３２】従って、本発明の研磨テープは、感光性層
を有しない場合は、カメラ内においてハロゲン化銀写真
感光材料に替えて、該テープを１３５パトローネあるい
は前記特定の包装体に収納し、カメラ内に装填し、、カ
メラを撮影と同じように駆動させることによって研磨を
行い、本発明の課題を達成する。この研磨はカメラ内で
同一テープを複数回繰り返し実施できるし、フイルムの
撮影本数、例えば１００本撮影後に１回行うことによ
り、付着した汚れを除去し、磁気情報の読み取りエラー
のない撮影を行うことができる。また、高湿度下や夏の
海岸などで使用されて放置されたカメラの保存等にも有
効に活用できる。ネガ感材のプリント時には、ネガフイ
ルムの先頭部分に接合してプリントの事実上の開始前に
プリンター部に通すことによって磁気情報の読み取りエ
ラーを低減することができる。さらに付加してプリント
終了後にも使用することは好ましい。

【０１３３】研磨テープに感光性層を有する場合には、
通常の写真感光材料の撮影やプリント時と同様に使用す
ることができる。この場合、ユーザーは通常の撮影用写
真感光材料を、例えば５０本撮影した後、次に撮影する
時に本発明の研磨テープに感光性層を有すものを使用す
るなど、任意の割合で本発明の研磨テープを相互に使用
することができる。

【０１３４】（実施例１） １）支持体 本実施例で用いた支持体は、下記の方法により作成し
た。ポリエチレン−２，６−ナフタレートポリマー１０
０重量部と紫外線吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ．３
２６（チバ・ガイギーＣｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）２重
量部とを乾燥した後、３００℃にて溶融後、Ｔ型ダイか
ら押し出し、１４０℃で３．３倍の縦延伸を行ない、続
いて１３０℃で３．３倍の横延伸を行い、さらに２５０
℃で６秒間熱固定して厚さ９０μｍのＰＥＮフイルムを
得た。なおこのＰＥＮフイルムにはブルー染料、マゼン
タ染料及びイエロー染料（公開技報：公技番号９４−６
０２３号記載のＩ−１，Ｉ−４，Ｉ−６，Ｉ−２４，Ｉ
−２６，Ｉ−２７，ＩＩ−５）を適当量添加した。さら
に、直径２０ｃｍのステンレス巻き芯に巻付けて、１１
０℃、４８時間の熱履歴を与え、巻き癖のつきにくい支
持体とした。

【０１３５】２）下塗層の塗設 上記支持体は、その両面にコロナ放電処理、ＵＶ放電処
理、さらにグロー放電処理をした後、それぞれの面にゼ
ラチン０．１ｇ／ｍ² 、ソジウムα−スルホジ−２−エ
チルヘキシルサクシネート０．０１ｇ／ｍ² 、サリチル
酸０．０４ｇ／ｍ² 、ｐ−クロロフェノール０．２ｇ／
ｍ² 、（ＣＨ₂ ＝ＣＨＳＯ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＮＨＣＯ）₂
ＣＨ₂ ０．０１２ｇ／ｍ² 、ポリアミドーエピクロルヒ
ドリン重縮合物０．０２ｇ／ｍ² の下塗液を塗布して
（１０ｃｃ／ｍ² 、バーコーター使用）、下塗層を延伸
時高温面側に設けた。乾燥は１１５℃、６分実施した
（乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて１１５℃と
なっている）。

【０１３６】３）研磨層の塗設 下塗後の上記支持体の片方の面に研磨層として下記組成
の帯電防止層及び研磨層を塗設した。

【０１３７】３−１）帯電防止層の塗設 平均粒径０．００５μｍの酸化スズー酸化アンチモン複
合物の比抵抗は５Ω・ｃｍの微粒子粉末の分散物（２次
凝集粒子径 約０．０８μｍ）を０．２ｇ／ｍ² 、ゼラ
チン０．０５ｇ／ｍ² 、（ＣＨ₂ ＝ＣＨＳＯ₂ ＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₂ ＮＨＣＯ）₂ ＣＨ₂ ０．０２ｇ／ｍ² 、ポリ（重合
度１０）オキシエチレン−ｐ−ノニルフェノール０．０
０５ｇ／ｍ² 及びレゾルシンと塗布した。

【０１３８】３−２）研磨層の塗設 ３−ポリ（重合度１５）オキシエチレン−プロピルオキ
シトリメトキシシラン（１５重量％）で被覆処理された
コバルト−γ−酸化鉄（比表面積４３ｍ² ／ｇ、長軸
０．１４μｍ、単軸０．０３μｍ、飽和磁化８９ｅｍｕ
／ｇ、Ｆｅ⁺²／Ｆｅ⁺³＝６／９４、表面は酸化アルミ酸
化珪素で酸化鉄の２重量％で処理されている）０．０６
ｇ／ｍ² をジアセチルセルロース１．２ｇ／ｍ² （酸化
鉄の分散はオープンニーダーとサンドミルで実施し
た）、Ｃ₆Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）Ｃ₁₀Ｈ₂₀ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₈₁
６０ｍｇ／ｍ² 、硬化剤としてＣ₂Ｈ₅Ｃ（ＣＨ₂ＯＣＯ
ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₃（ＣＨ₃ ）ＮＣＯ）₃ ０．３ｇ／ｍ² を、
溶媒としてアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノンを用いてＳ型コーターで塗布し、膜厚１．２μｍ
の研磨層を得た。研磨剤として３−ポリ（重合度１５）
オキシエチレン−プロピルオキシトリメトキシシラン
（１５重量％）で処理被覆された研磨剤の酸化アルミ
（０．２０μｍ ＨＩＴ−８０（住友化学製））を１０
ｍｇ／ｍ² 及び約１．０μｍの酸化アルミ ＥＲＣ−Ｄ
ＢＭ（Ｒｅｙｎｏｌｄｓ Ｍｅｔａｌｓ Ｃｏｍｐａｎ
ｙ製）を５０ｍｇ／ｍ² となるように添加した。乾燥は
１１５℃、６分実施した（乾燥ゾーンのローラーや搬送
装置はすべて１１５℃）。Ｘ−ライト（ブルーフィルタ
ー）での研磨層のＤ^B の色濃度増加分は約０．１、また
研磨層の飽和磁化モーメントは４．２ｅｍｕ／ｇ、保磁
力７．３×１０⁴ Ａ／ｍ、角形比は６５％であった。ビ
ッカース法による研磨性は３２０［ｎｍ／ｍ］であっ
た。

【０１３９】４）ゼラチン層の塗設 次に、前記で得られた研磨層の反対側に、下記の組成の
各層を重層塗布し、研磨テープを作成した。これを試料
１０１とする。

【０１４０】（感光層組成）各層に使用する素材の主な
ものは下記のように分類されている； ＥｘＣ：シアンカプラー ＵＶ ：紫外線吸収剤 ＥｘＭ：マゼンタカプラー ＨＢＳ：高沸点有機溶剤 ＥｘＹ：イエローカプラー Ｈ ：ゼラチン硬化剤 ＥｘＳ：増感色素 各成分に対応する数字は、ｇ／ｍ² 単位で表した塗布量
を示し、ハロゲン化銀については銀換算の塗布量を示
す。ただし、増感色素については同一層のハロゲン化銀
１モルに対する塗布量をモル単位で示す。

【０１４１】第１層（ハレーション防止層） 黒色コロイド銀 銀 ０．０９ ゼラチン １．６０ ＥｘＭ−１ ０．１２ ＥｘＦ−１ ２．０×１０^-3 固体分散染料ＥｘＦ−２ ０．０３０ 固体分散染料ＥｘＦ−３ ０．０４０ ＨＢＳ−１ ０．１５ ＨＢＳ−２ ０．０２

【０１４２】第２層（中間層） 沃臭化銀乳剤Ｍ 銀 ０．０６５ ＥｘＣ−２ ０．０４ ポリエチルアクリレートラテックス ０．２０ ゼラチン １．０４

【０１４３】第３層（低感度赤感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ａ 銀 ０．２５ 沃臭化銀乳剤Ｂ 銀 ０．２５ ＥｘＳ−１ ６．９×１０^-5 ＥｘＳ−２ １．８×１０^-5 ＥｘＳ−３ ３．１×１０^-4 ＥｘＣ−１ ０．１７ ＥｘＣ−３ ０．０３０ ＥｘＣ−４ ０．１０ ＥｘＣ−５ ０．０２０ ＥｘＣ−６ ０．０１０ Ｃｐｄ−２ ０．０２５ ＨＢＳ−１ ０．１０ ゼラチン ０．８７

【０１４４】第４層（中感度赤感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｃ 銀 ０．７０ ＥｘＳ−１ ３．５×１０^-4 ＥｘＳ−２ １．６×１０^-5 ＥｘＳ−３ ５．１×１０^-4 ＥｘＣ−１ ０．１３ ＥｘＣ−２ ０．０６０ ＥｘＣ−３ ０．００７０ ＥｘＣ−４ ０．０９０ ＥｘＣ−５ ０．０１５ ＥｘＣ−６ ０．００７０ Ｃｐｄ−２ ０．０２３ ＨＢＳ−１ ０．１０ ゼラチン ０．７５

【０１４５】第５層（高感度赤感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｄ 銀 １．４０ ＥｘＳ−１ ２．４×１０^-4 ＥｘＳ−２ １．０×１０^-4 ＥｘＳ−３ ３．４×１０^-4 ＥｘＣ−１ ０．１０ ＥｘＣ−３ ０．０４５ ＥｘＣ−６ ０．０２０ ＥｘＣ−７ ０．０１０ Ｃｐｄ−２ ０．０５０ ＨＢＳ−１ ０．２２ ＨＢＳ−２ ０．０５０ ゼラチン １．１０

【０１４６】第６層（中間層） Ｃｐｄ−１ ０．０９０ 固体分散染料ＥｘＦ−４ ０．０３０ ＨＢＳ−１ ０．０５０ ポリエチルアクリレートラテックス ０．１５ ゼラチン １．１０

【０１４７】第７層（低感度緑感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｅ 銀 ０．１５ 沃臭化銀乳剤Ｆ 銀 ０．１０ 沃臭化銀乳剤Ｇ 銀 ０．１０ ＥｘＳ−４ ３．０×１０^-5 ＥｘＳ−５ ２．１×１０^-4 ＥｘＳ−６ ８．０×１０^-4 ＥｘＭ−２ ０．３３ ＥｘＭ−３ ０．０８６ ＥｘＹ−１ ０．０１５ ＨＢＳ−１ ０．３０ ＨＢＳ−３ ０．０１０ ゼラチン ０．７３

【０１４８】第８層（中感度緑感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｈ 銀 ０．８０ ＥｘＳ−４ ３．２×１０^-5 ＥｘＳ−５ ２．２×１０^-4 ＥｘＳ−６ ８．４×１０^-4 ＥｘＣ−８ ０．０１０ ＥｘＭ−２ ０．１０ ＥｘＭ−３ ０．０２５ ＥｘＹ−１ ０．０１８ ＥｘＹ−４ ０．０１０ ＥｘＹ−５ ０．０４０ ＨＢＳ−１ ０．１３ ＨＢＳ−３ ４．０×１０^-3 ゼラチン ０．８０

【０１４９】第９層（高感度緑感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｉ 銀 １．２５ ＥｘＳ−４ ３．７×１０^-5 ＥｘＳ−５ ８．１×１０^-5 ＥｘＳ−６ ３．２×１０^-4 ＥｘＣ−１ ０．０１０ ＥｘＭ−１ ０．０２０ ＥｘＭ−４ ０．０２５ ＥｘＭ−５ ０．０４０ Ｃｐｄ−３ ０．０４０ ＨＢＳ−１ ０．２５ ポリエチルアクリレートラテックス ０．１５ ゼラチン １．３３

【０１５０】第１０層（イエローフィルター） 黄色コロイド銀 銀 ０．０１５ Ｃｐｄ−１ ０．１６ 固体分散染料ＥｘＦ−５ ０．０６０ 固体分散染料ＥｘＦ−６ ０．０６０ 油溶性染料ＥｘＦ−７ ０．０１０ ＨＢＳ−１ ０．６０ ゼラチン ０．６０

【０１５１】第１１層（低感度青感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｊ 銀 ０．０９ 沃臭化銀乳剤Ｋ 銀 ０．０９ ＥｘＳ−７ ８．６×１０^-4 ＥｘＣ−８ ７．０×１０^-3 ＥｘＹ−１ ０．０５０ ＥｘＹ−２ ０．２２ ＥｘＹ−３ ０．５０ ＥｘＹ−４ ０．０２０ Ｃｐｄ−２ ０．１０ Ｃｐｄ−３ ４．０×１０^-3 ＨＢＳ−１ ０．２８ ゼラチン １．２０

【０１５２】第１２層（高感度青感乳剤層） 沃臭化銀乳剤Ｌ 銀 １．００ ＥｘＳ−７ ４．０×１０^-4 ＥｘＹ−２ ０．１０ ＥｘＹ−３ ０．１０ ＥｘＹ−４ ０．０１０ Ｃｐｄ−２ ０．１０ Ｃｐｄ−３ １．０×１０^-3 ＨＢＳ−１ ０．０７０ ゼラチン ０．７０

【０１５３】第１３層（第１保護層） ＵＶ−１ ０．１９ ＵＶ−２ ０．０７５ ＵＶ−３ ０．０６５ ＨＢＳ−１ ５．０×１０^-2 ＨＢＳ−４ ５．０×１０^-2 ゼラチン １．８

【０１５４】第１４層（第２保護層） 沃臭化銀乳剤Ｍ 銀 ０．１０ Ｈ−１ ０．４０ Ｂ−１（直径 １．７μｍ） ５．０×１０^-2 Ｂ−２（直径 １．７μｍ） ０．１５ Ｂ−３ ０．１３ Ｓ−１ ０．２０ ゼラチン ０．７０

【０１５５】更に、各層に適宜、保存性、処理性、圧力
耐性、防黴・防菌性、帯電防止性及び塗布性をよくする
ためにＷ−１ないしＷ−３、Ｂ−４ないしＢ−６、Ｆ−
１ないしＦ−１７及び、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、パ
ラジウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩が含有されてい
る。

【０１５６】

【表１】

【０１５７】表１において、 （１）乳剤Ｊ〜Ｌは特開平２−１９１９３８の実施例に
従い、二酸化チオ尿素とチオスルフォン酸を用いて粒子
調製時に還元増感されている。 （２）乳剤Ａ〜Ｉは特開平３−２３７４５０の実施例に
従い、各感光層に記載の分光増感色素とチオシアン酸ナ
トリウムの存在下に金増感、硫黄増感とセレン増感が施
されている。 （３）平板状粒子の調製には特開平１−１５８４２６の
実施例に従い、低分子量ゼラチンを使用している。 （４）平板状粒子には特開平３−２３７４５０に記載さ
れているような転位線が高圧電子顕微鏡を用いて観察さ
れている。 （５）乳剤Ｌは特開昭６０−１４３３３１に記載されて
いる内部高ヨードコアーを含有する二重構造粒子であ
る。

【０１５８】有機固体分散染料の分散物の調製 下記、ＥｘＦ−２を次の方法で分散した。即ち、水２
１．７ミリリットル及び５％水溶液のｐ−オクチルフェ
ノキシエトキシエトキシエタンスルホン酸ソーダ３ミリ
リットル並びに５％水溶液のｐ−オクチルフェノキシポ
リオキシエチレンエーテル（重合度１０）０．５ｇとを
７００ミリリットルのポットミルに入れ、染料ＥｘＦ−
２を５．０ｇと酸化ジルコニウムビーズ（直径１ｍｍ）
５００ミリリットルを添加して内容物を２時間分散し
た。この分散には中央工機製のＢＯ型振動ボールミルを
用いた。分散後、内容物を取り出し、１２．５％ゼラチ
ン水溶液８ｇに添加し、ビーズを濾過して除き、染料の
ゼラチン分散物を得た。染料微粒子の平均粒径は０．４
４μｍであった。

【０１５９】同様にして、ＥｘＦ−３、ＥｘＦ−４及び
ＥｘＦ−６の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径
はそれぞれ、０．２４μｍ、０．４５μｍ、０．５２μ
ｍであった。ＥｘＦ−５はＥＰ５４９，４８９Ａの実施
例１に記載の微小析出（Ｍｉｃｒｏｐｒｅｃｉｐｉｔａ
ｔｉｏｎ）分散方法により分散した。平均粒径は０．０
６μｍであった。

【０１６０】

【化５】

【０１６１】

【化６】

【０１６２】

【化７】

【０１６３】

【化８】

【０１６４】

【化９】

【０１６５】

【化１０】

【０１６６】

【化１１】

【０１６７】

【化１２】

【０１６８】

【化１３】

【０１６９】

【化１４】

【０１７０】

【化１５】

【０１７１】

【化１６】

【０１７２】

【化１７】

【０１７３】

【化１８】

【０１７４】

【化１９】

【０１７５】

【化２０】

【０１７６】作成した研磨テープのゼラチン層（支持
体、研磨層を除く）の乾燥膜厚は１９．７μｍであっ
た。以上のように作成した研磨テープを２４ｍｍ幅、１
６０ｃｍに裁断し、さらにテープの長さ方向の片側幅方
向から０．７ｍｍの所に２ｍｍ四方のパーフォレーショ
ンを５．８ｍｍ間隔で２つ設ける。この２つのセットを
３２ｍｍ間隔で設けたものを作成し、ＵＳ５，２９６，
８８７のＦＩＧ．１〜ＦＩＧ．７に説明されているプラ
スチック製のフィルムカートリッジに収納した。

【０１７７】この試料に研磨層の塗布面側からヘッドギ
ャップ５μｍ、ターン数２，０００の入出力可能なヘッ
ドを用いて、テープの上記パーフォレーションの間に
１，０００／ｓの送り速度でＦＭ信号を記録した。

【０１７８】ここで、カートリッジの主要な素材は下記
のものを用いた。 上下ケース１０５、１０６・・・遮光用のブラックカー
ボンを練り込んだポリスチレン スプール軸１１２・・・同上 蓋部材１０８・・・同上 フランジ１１３、１１４・・・ポリカーボネート

【０１７９】次に、試料１０１の研磨層に使用した研磨
剤のＨＩＴ−８０及びＥＲＣ−ＤＢＭの使用量を表２に
示すように替えて研磨性を変え、試料１０２〜１０４を
作成した。続いて、支持体の厚さを２５μｍ及び２００
μｍに替え、試料１０１〜１０４と同様にして試料１０
５〜１０８、１０９〜１１２を作成した。これら作成し
た試料は、全て試料１０１と同様に裁断・加工し、フイ
ルムカートリッジに収納、ＦＭ信号を与えた。さらに、
全試料に磁気情報を国際特許出願公開（ＷＯ）９０−０
４２０５号公報に開示された方式で１００回入力した。

【０１８０】また、上記とは別途、研磨剤を全く含有し
ない試料を作成し、同じく裁断・加工してフイルムカー
トリッジに収納、ＦＭ信号及び磁気情報を入力した試料
を多数準備した。これらの試料は試料Ａとする。

【０１８１】これらカートリッジが装填できるように、
カメラ、ズームカルディア（富士写真フイルム（株）
製）を改造して、初めに試料Ａを１００本撮影し、その
後、試料１０１を続けて２本撮影し、この２本のうち後
で撮影した試料１０１について出力エラーの評価を行っ
た。以下、試料１０２〜１１２について、同様の方法で
出力エラーの評価を実施した。これらの結果を表２に示
す。

【０１８２】

【表２】

【０１８３】表２から、支持体の厚みが本発明の範囲内
にある９０μｍで、ビッカース法による研磨性が９０
［ｎｍ／ｍ］以上で、研磨層とは反対側に設けたゼラチ
ン層の乾燥膜を設けた本発明の研磨テープは、磁気情報
の読み取りエラーが皆無もしくは著しく低減し、良好な
結果を与えることが明らかである。

【０１８４】なお、支持体の厚みが２００μｍの研磨テ
ープは、カメラ内でのテープの走行不良が起こり、結果
を出すには至らなかった。一方、支持体の厚みが２５μ
ｍでは、感光材料である試料Ａの総膜厚に比して薄いた
めに、研磨テープとしての汚れ除去の効果が発現せず、
読み取りエラーの低減は認められなかった。又、研磨性
が本発明外の８０［ｎｍ／ｍ］では、読み取りエラーの
低減は認められるものの、その効果は充分とは言えず、
満足できるものではない。

【０１８５】実施例２ 実施例１と同様の厚さ９０μｍのＰＥＮ支持体上に、同
様の研磨層を塗設し、支持体を挟んだ反対側のゼラチン
層は下記の組成の層を設けた。これを試料１０１に替え
て試料２０１とする。

【０１８６】第１層 ＵＶ−１ ０．１９ ＵＶ−２ ０．０７５ ＵＶ−３ ０．０６５ ＨＢＳ−１ ５．０×１０^-2 ＨＢＳ−４ ５．０×１０^-2 ゼラチン ７．２０

【０１８７】第２層 Ｈ−１ ０．２３ Ｂ−１（直径 １．７μｍ） ５．０×１０^-2 Ｂ−２（直径 １．７μｍ） ０．１５ Ｂ−３ ０．１３ ゼラチン ０．７０

【０１８８】第１層及び第２層には塗布性をよくするた
めにＷ−１〜Ｗ−３を適量用いた。なお、使用した化合
物の略号は実施例１の略号と同じである。この時のゼラ
チン層の乾燥膜厚は６．７μｍであった。

【０１８９】作成した研磨テープは、実施例１と同様に
２４ｍｍ幅、１６０ｃｍに裁断し、同様にパーフォレー
ションを設けた。以下、実施例１と同様試料１０２〜１
１２に替えて試料２０２〜２１２を作成した。

【０１９０】一方、実施例１の試料Ａを用い、これらに
均一露光を与え、富士写真フイルム社製自動現像機ＦＰ
−３６０Ｂを用い、規定の処理液を用いて現像処理を行
った。これら現像処理済みの試料５０本を接合し、その
最後に上記作成の研磨テープ試料２０１を接合、さら
に、その後に現像済みの試料を１本接合して、磁気装置
を有するプリンターに通し、研磨テープの後に接合した
現像済み試料の磁気記録読み取りエラーを評価した。

【０１９１】以下、同様の方法で試料２０２〜２１２を
用いて現像済み試料の読み取りエラーの評価を行った。
なお、この実施に際しては、各研磨テープを替えて行う
時、装置の磁気読み取り部分、その他現像済み試料の接
触部分については細心の注意を払って汚れの除去、研磨
を行って実施した。これらの結果を表３に示す。

【０１９２】

【表３】

【０１９３】表３から、支持体の厚み９０μｍ、研磨性
９０［ｎｍ／ｍ］以上で、研磨層とは反対側に非感光性
のゼラチン層を設け、その乾燥膜厚が６．７μｍである
本発明の研磨テープは、磁気情報の読み取りエラーが著
しく低減もしくは皆無であり、優れた結果を与えること
がわかる。

【０１９４】なお、支持体の厚みが２００μｍの研磨テ
ープは、プリンター内でテープがスムーズに搬送されな
かったので結果は省略した。支持体の厚み２５μｍの研
磨テープでは、汚れ除去の効果が発現せず読み取りエラ
ーの低減は認められなかった。さらに、研磨性が８０
［ｎｍ／ｍ］では、読み取りエラーの減少がみられる
が、この程度では効果が明らかに認められるとは言い難
いものである。

【０１９５】実施例３ 実施例２における研磨テープ試料２０１〜２１２を、実
施例１で作成した研磨テープ試料１０１〜１１２の現像
処理済み試料に置き換えて、実施例２と同様の方法で実
施しても、実施例２と同様の効果を得ることができる。

【０１９６】

【発明の効果】本発明によれば、ポリエステル支持体の
厚みを規定し、支持体の一方の側に研磨性を規定した研
磨層を設け、支持体を挟んで反対側に乾燥膜厚を規定し
たゼラチン層を設けることにより、写真用磁気情報読み
取り装置の汚れを除去し、磁気記録情報の読み取りエラ
ーを低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一態様である写真用磁気情報読み取り
装置研磨テープ包装体（研磨テープパトローネ）の分解
斜視図である。

【図２】図１の研磨テープ包装体を半径方向から見た図
である。

【図３】図１の研磨テープ包装体を図２とは異なる位置
で、半径方向から見た図である。

【図４】図１の研磨テープ包装体をその軸方向から見た
図である。

【図５】図１の研磨テープ包装体をその軸方向他方から
見た図である。

【図６】図１の研磨テープ包装体の、軸方向に沿って切
断した断面図である。

【図７】離型紙付き粘着ラベル原反を示す図である。

【符号の説明】

１００ 研磨テープパトローネ １０１ パト
ローネ本体 １０２ 研磨テープ １０３ スプ
ール １０４ パトローネラベル １０７ テー
プ送り出し口 １１２ スプール軸 １１３ フラ
ンジ １１４ フランジ １１５ デー
タディスク １１６ バーコードラベル １３２ 大径
扇型部分 １４３ テープ先端 １４５ 研磨
テープ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 厚さが５０μｍ以上１５０μｍ以下のポ
   リエステル支持体の一方の側に、ビッカース法による研
   磨性が９０〔ｎｍ／ｍ〕以上の研磨層を有し、支持体を
   挟んで反対側の層に少なくともゼラチンを有し、その乾
   燥膜厚が５μｍ以上１５０μｍ以下の層からなることを
   特徴とする写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ。
2. 【請求項２】 カートリッジ本体１０１の内部に、請求
   項１に記載の研磨テープ１０２を巻きつけたスプール１
   ０３を回転自在に収納し、該スプール１０３の回転によ
   り前記研磨テープ１０２の先端が自由にカートリッジ外
   部に送り出し可能であり、カートリッジ本体１０１は前
   記研磨テープ１０２を送り出すため、遮光機構を有して
   もよい前記研磨テープ１０２の送り出し通路を有し、前
   記スプール１０３のスプール軸１１２の両端内側に、そ
   れぞれ一対のリップ付きフランジ１１３、１１４が前記
   研磨テープ１０２保持のため取り付けられていることを
   特徴とする写真用磁気情報読み取り装置研磨テープ包装
   体。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の写真用磁気情報読み取
   り装置研磨テープ又は請求項２に記載の写真用磁気情報
   読み取り装置研磨テープ包装体を用いることを特徴とす
   る写真用磁気情報読み取り装置のクリーニング方法。