JPH08277236A - ジヒドロキシ化合物混合物および重合体 - Google Patents
ジヒドロキシ化合物混合物および重合体Info
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Abstract
に優れたジヒドロキシ化合物およびo,p-ビスフェノール
から導かれる末端基を有する、成形時の滞留安定性に優
れたジヒドロキシ化合物の重合体を提供する。 【構成】 特定構造の(A)o,p-ビスフェノールを、
(B)紫外線吸収検出器を備えた高速液体クロマトグラ
フィーにより分析される純度が99.95重量%以上で
あるジヒドロキシ化合物に添加することにより得られ、
o,p-ビスフェノール(A)を、全ジヒドロキシ化合物1
モルに対して5×10-5〜3×10-2モルの量で含むジ
ヒドロキシ化合物混合物。ジヒドロキシ化合物から導か
れる単位を有し、かつ(A)o,p-ビスフェノールから導
かれる末端基を有する重合体。
Description
物および重合体に関する。さらに詳しくは、熱安定性に
優れたジヒドロキシ化合物混合物、および成形時の熱安
定性、色相安定性などに優れたポリカーボネートなどの
ジヒドロキシ化合物重合体に関する。
ト、エポキシ樹脂などのジヒドロキシ化合物から導かれ
る重合体は、耐衝撃性などの機械的特性に優れ、しかも
耐熱性および透明性などにも優れており、各種機械部
品、電子部品、光学用ディスク、自動車部品、シートな
どの広範な用途に利用されている。このような重合体の
うちでも光学用途に用いられるポリカーボネート、ポリ
アリレートなどの重合体は、上記の機械的特性に加えて
特に優れた透明性および色相が要求され、成形時の滞留
安定性(熱安定性、色相安定性など)が要求される。こ
のため成形時には、一般的にこれら重合体に耐熱安定剤
などの各種添加剤を添加して成形時の滞留安定性を高め
ている。
成形時に添加剤がプレートアウトしてしまい、金型汚染
を生じ、さらにはこの汚れが成形品に付着して外観不良
を生じるという問題点がある。特にレンズ、光ディスク
などの光学用途あるいは電子部品などの精密用途におい
ては、添加剤をなるべく使用せず、滞留安定性に優れた
重合体を用いることが望ましい。
原料として高純度でかつ熱安定性に優れ、高温下でも着
色しないジヒドロキシ化合物を用いて製造することがで
きる。
ビスフェノールAなどのジヒドロキシ化合物を製造する
方法は従来提案されており、たとえば実質的に溶存酸素
の存在しない原料を触媒の存在下に反応させて着色不純
物の副生を抑制したジヒドロキシ化合物の製造方法(特
開平5−97742号公報)、あるいはビスフェノール
Aとフェノールの粗大結晶アダクトを精製フェノールで
洗浄し、結晶アダクト表面に付着する不純物を容易に除
去する方法(特開平5−97743号公報)などが提案
されている。
平6−025045号公報には、不純物を含むビスフェ
ノールAを酸素が存在しない雰囲気下に溶融、熱処理し
て、またさらにフェノールとのアダクト精製後に熱安定
性の優れたビスフェノールAを製造する方法が提案され
ている。
キシ化合物について研究したところ、高純度のジヒドロ
キシ化合物にo,p-ビスフェノールを添加して得られ、o,
p-ビスフェノールを特定量で含むジヒドロキシ化合物混
合物は、このo,p-ビスフェノールを含まない(10ppm
以下)高純度のジヒドロキシ化合物よりも熱安定性に優
れているという驚くべき事実を見出した。
る末端基を有するポリカーボネート、ポリアリレートな
どのジヒドロキシ化合物重合体は、成形時滞留安定性に
優れていることをも見出して本発明を完成するに至っ
た。
てなされたものであって、o,p-ビスフェノールを特定量
で含む熱安定性に優れたジヒドロキシ化合物を提供する
ことを目的としている。また本発明は、このo,p-ビスフ
ェノールから導かれる末端基を有する、成形時の滞留安
定性に優れたジヒドロキシ化合物の重合体を提供するこ
とを目的としている。
は、(A)下記一般式[I]で示されるo,p-ビスフェノ
ール;
クロマトグラフィーにより分析される純度が99.95
重量%以上であるジヒドロキシ化合物に添加することに
より得られ、上記o,p-ビスフェノール(A)を、全ジヒ
ドロキシ化合物1モルに対して5×10-5〜3×10-2
モルの量で含むことを特徴としている。
p-ビスフェノール(A)を、全ジヒドロキシ化合物1モ
ルに対して1×10-4〜3×10-3モルさらに1.5×
10- 4〜2×10-3モル特に5×10-4〜2×10-3モ
ルの量で含んでいることが好ましい。
ジヒドロキシジフェニル-2,2-プロパンであることが好
ましく、ジヒドロキシ化合物(B)は、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシフェニル)プロパンであることが好ましい。
熱安定性に優れている。本発明に係るジヒドロキシ化合
物混合物は重合体製造用途に用いられ、成形時の滞留安
定性に優れた重合体を製造することができる。
物から導かれる単位を有し、かつ末端基の少なくとも1
つが下記一般式[Ia]で示されることを特徴としてい
る。
する本発明に係る重合体は、成形時に優れた滞留安定性
を示すが、この末端基を、全末端基中0.1〜10%の
割合で有していれば、滞留安定性を充分に向上させる効
果がある。
であることが特に好ましい。本発明に係る重合体は、ジ
ヒドロキシ化合物として上述のジヒドロキシ化合物混合
物を用いて製造されることが好ましい。
性に優れており、耐熱安定剤などの添加剤使用量を低減
することができ、金型汚れを生じにくい。本発明に係る
重合体は、レンズ、光ディスクなどの光学用途あるいは
電子部品などの精密用途などに好適であり、特に光学用
途に好適である。
化合物混合物および重合体について具体的に説明する。
は、(A)上記のような一般式[I]で示されるo,p-ビ
スフェノールを、(B)紫外線吸収検出器を備えた高速
液体クロマトグラフィーにより分析される純度が99.
95重量%以上であるジヒドロキシ化合物に添加するこ
とにより得られる。
(A)o,p-ビスフェノールは、下記一般式[I]で示さ
れる。
ては、具体的にはたとえば、2,4'-ジヒドロキシジフェ
ニル-1,1-メタン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-
エタン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン、
2,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2-ブタン、2,4'-ジヒ
ドロキシジフェニル-2,2-オクタン、2,4'-ジヒドロキシ
ジフェニル-1,1-シクロペンタン、2,4'-ジヒドロキシジ
フェニル-1,1-シクロヘキサン、2,4'-ジヒドロキシジフ
ェニル-3,3-イサチン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-
9,9-フルオレン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-p
-ジイソプロピルベンゼン、2,4'-ジヒドロキシジフェニ
ル-1,1'-m-ジイソプロピルベンゼン、1-メチル-1-(4-
ヒドロキシフェニル)-4-(ジメチル-2-ヒドロキシフェ
ニル)メチル-シクロヘキサン、2-[1-[3-(4-ヒドロ
キシフェニル)-4-メチルシクロヘキシル]-1-メチルエ
チル]-フェノール、2,4'-[1-メチル-4-(1-メチルエ
チル)-1,3-シクロヘキサンジイル]ビスフェノール、
2,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、2,4'-ジヒドロ
キシジフェニルスルフィド、2,4'-ジヒドロキシジフェ
ニルスルホキシド、2,4'-ジヒドロキシジフェニルスル
ホン、カテコ−ルなどが挙げられる。
るジヒドロキシ化合物(B)の異性体であることが好ま
しい。これらのうちでも、特に2,4'-ジヒドロキシジフ
ェニル-2,2-プロパン(以下、o,p-ビスフェノールまた
はo,p-BPAともいう)が好ましく、工業的にも有用で
ある。
知のジヒドロキシ化合物の合成方法によって合成し、次
いでこれを単離することにより得ることができる。具体
的にはたとえば、1価のヒドロキシ化合物とカルボニル
化合物とを、塩酸あるいは強酸型のイオン交換樹脂など
の酸触媒の存在下で反応させて、次いで反応混合物から
o,p-ビスフェノールを単離することにより得られる。
を酸触媒下に反応させると、p,p-BPA(2,2-ビス(4-
ヒドロキシフェニルプロパン)とともに副生物としての
o,p-BPAを含む反応混合物が得られる。この反応混合
物からo,p-BPAおよびp,p-BPAをそれぞれ精製分離
する。p,p-BPAは、反応混合物に過剰のフェノールを
加え、これを溶解させた後冷却して、p,p-BPAとフェ
ノールとのアダクト(付加物)として晶析させる。析出
したアダクト結晶は、濾過、遠心分離などにより母液と
分離する。一方o,p-BPAは、母液中にフェノールある
いは他の副生物とともに比較的高濃度で存在しており、
他の溶媒を用いて晶析精製を繰り返したり、または蒸留
精製で99%以上の純度でo,p-BPAを得ることができ
る。
接、精密蒸留することにより高純度o,p-BPAを得るこ
ともできる。(B)ジヒドロキシ化合物 本発明に係るジヒドキシ化合物混合物を形成する(B)
ジヒドロキシ化合物は、特に限定されないが、下記一般
式[II]で示される。
に、p,p-ビスフェノール、o,m-ビスフェノール、m,m-ビ
スフェノールなどとして知られている。このようなジヒ
ドロキシ化合物(B)としては、具体的には、ビス(4-
ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシ
フェニル)エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ブタン、
2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)オクタン、ビス(4-
ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシ-1- メチルフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-
ヒドロキシ-t-ブチルフェニル)プロパン、2,2-ビス(4
-ヒドロキシ-3-ブロモフェニル)プロパン、4,4'-ジヒ
ドロキシジフェニル-1,1'-p-ジイソプロピルベンゼン、
4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-m-ジイソプロピル
ベンゼン、4,4'- ジヒドロキシジフェニル-9,9-フルオ
レン、などのビス(ヒドロキシアリール)アルカン類、
1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,
1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1-メ
チル-1-(4-ヒドロキシフェニル)-4-(ジメチル-4-ヒ
ドロキシフェニル)メチル−シクロヘキサン、4-[1-
[3-(4-ヒドロキシフェニル)-4-メチルシクロヘキシ
ル]-1-メチルエチル]-フェノール、4,4'-[1-メチル-
4-(1-メチルエチル)-1,3-シクロヘキサンジイル]ビ
スフェノール、2,2,2',2'-テトラヒドロ-3,3,3',3'-テ
トラメチル-1,1'-スピロビ-[IH-インデン]-6,6'-ジオ
ール、などのビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカ
ン類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジ
ヒドロキシ-3,3'-ジメチルフェニルエーテルなどのジヒ
ドロキシアリールエーテル類、4,4'-ジヒドロキシジフ
ェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチル
ジフェニルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールス
ルフィド類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホキシ
ド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスル
ホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホキシド
類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'-ジヒ
ドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルホンなどのジヒ
ドロキシジアリールスルホン類、4,4'-ジヒドロキシジ
フェニル-3,3- イサチンなどのジヒドロキシジアリール
イサチン類が挙げられる。
化合物としては、3,6-ジヒドロキシ-9,9- ジメチルキサ
ンテンなどのジヒドロキシジアリールキサンテン類、レ
ゾルシンおよび3-メチルレゾルシン、3-エチルレゾルシ
ン、3-プロピルレゾルシン、3-ブチルレゾルシン、3-t-
ブチルレゾルシン、3-フェニルレゾルシン、3-クミルレ
ゾルシン、2,3,4,6-テトラフルオロレゾルシン、2,3,4,
6-テトラブロムレゾルシンなどの置換レゾルシン、ハイ
ドロキノンおよび3-メチルハイドロキノン、3-エチルハ
イドロキノン、3-プロピルハイドロキノン、3-ブチルハ
イドロキノン、3-t-ブチルハイドロキノン、3-フェニル
ハイドロキノン、3-クミルハイドロキノン、2,3,5,6-テ
トラメチルハイドロキノン、2,3,5,6-テトラ-t-ブチル
ハイドロキノン、2,3,5,6-テトラフルオロハイドロキノ
ン、2,3,5,6-テトラブロムハイドロキノンなどの置換ハ
イドロキノンなどが挙げられる。
ロキシフェニル)プロパン(以下p,p-ビスフェノールA
またはp,p-BPAともいう)が好ましく、工業上有用で
ある。
は、紫外線吸収検出器を備えた高速液体クロマトグラフ
ィーにより分析される純度が99.95重量%以上であ
る。このジヒドロキシ化合物(B)は、o,p-ビスフェノ
ール(A)を製造する際に示したような従来公知の合成
方法により合成することができ、得られた合成物を精製
することにより純度99.95重量%以上のジヒドロキ
シ化合物を得ることができる。たとえば前記のようにフ
ェノールとアセトンとを酸触媒下に反応させて得られる
反応混合物から、フェノールとp,p-BPAとのアダクト
(付加物)として晶析精製することにより得られる。ま
た必要によって、この晶析精製を2回以上繰り返し行
い、減圧蒸留、ストリッピング、バブリングなどの公知
の技術でフェノールを除去することで99.95重量%
以上のp,p-BPAを得ることができる。
ビスフェノール(A)を、純度99.95重量%以上の
ジヒドロキシ化合物(B)に添加することにより得ら
れ、o,p-ビスフェノール(A)を全ジヒドロキシ化合物
1モルに対して、5×10-5〜3×10-2モル好ましく
は1×10-4〜3×10-3モルより好ましくは1.5×
10-4〜2×10-3モルさらに好ましくは5×10-4〜
2×10-3モルの量で含んでいる。
p-ビスフェノール(A))を含まないジヒドロキシ化合
物(B)は、加熱時の溶融色加熱安定性などの熱安定性
に優れていえるとはいえない。これに対してこのジヒド
ロキシ化合物(B)に特定量のo,p-ビスフェノール
(A)を添加して得られるジヒドロキシ化合物混合物
は、著しく熱安定性に優れている。
スフェノール(A)の量が上記の5×10-5モルより少
ないと熱安定性が向上されにくく、このジヒドロキシ化
合物混合物を原料として用いたときには、成形時の滞留
安定性(色相安定性、溶融安定性など)に優れた重合体
が得られないことがある。
p-ビスフェノール(A)を、3×10-3モル以下の量で
含んでいれば、充分に優れた熱安定性を示し、これを超
える量で用いてもジヒドロキシ化合物混合物の熱安定性
がさらに向上するというようなことはない。したがって
特にポリカーボネートやポリアリレートを製造する場合
に用いられるジヒドロキシ化合物混合物は、o,p-ビスフ
ェノール(A)を3×10-3モルを超える量で用いる必
要はない。なおo,p-ビスフェノール(A)含有量が3×
10-3モルを超えるジヒドロキシ化合物混合物は、重合
体製造時の反応速度が低下したり、重合体のガラス転移
温度(Tg)が低下することがある。
合物混合物は、HPLC純度99.95重量%以上の固
体状態または溶融状態のジヒドロキシ化合物(B)に、
o,p-ビスフェノール(A)を上記の量で添加、分散させ
ることにより製造することができる。
る単位を有し、かつ末端基の少なくとも1つが下記一般
式[Ia]で示される。
で示されるo,p-ビスフェノールから導かれ、式中Xと結
合している炭素のp−位またはm−位にあるヒドロキシ
基がポリマーユニット末端部に結合することにより形成
される。
成しうるモノマーとしては、具体的には、o,p-ビスフェ
ノール(A)として前述した。この一般式[I]で示さ
れるo,p-ビスフェノール(A)は、Xと結合している炭
素のo−位炭素に結合しているヒドロキシ基の反応性が
X基の立体障害により、Xと結合している炭素のp−位
炭素に結合しているヒドロキシ基に比べて著しく低く、
ポリカーボネートやポリアリレートの製造に際して使用
する1価のヒドロキシ化合物などの末端封止剤とほとん
ど同様な作用をし、一般式[Ia]で示される末端基と
して導入にされると考えられる。このことは13C−NM
R分析により確認することができる。
ル(A)とともに他の公知の末端封止剤から導かれる末
端基を有していてもなんら支障ない。本発明に係る重合
体は、式[Ia]で示される末端基を全末端基に対して
任意の割合で有していてよいが、0.1〜10%の割合
で有していることが好ましい。このような割合で式[I
a]で示される末端基を有していれば、重合体の滞留安
定性は充分に向上される。
基中10%よりも多い量で導入される重合体は、0.1
〜10%の割合で有する重合体と、滞留安定性はほぼ同
程度であり、Tgは低下する傾向にある。
物から導かれる重合体であれば、特に限定されないが、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステルカー
ボネートであることが好ましく、特にポリカーボネート
であることが好ましい。
キシ化合物として上記のようなジヒドロキシ化合物混合
物を用いて製造されることが好ましい。この重合体がポ
リカーボネートである場合には、公知のホスゲン法(界
面重合法、溶液重合法)、溶融法、固相重合法のいずれ
の方法でも製造することができる。
化カルボニル化合物、ハロホーメート化合物と、前述の
式[II]で示されるジヒドロキシ化合物(B)と、式
[I]で示されるo,p-ビスフェノール(A)と、必要に
応じて他の末端封止剤とを公知の方法で反応させること
により、ポリカーボネートを製造することができる。
ト、ジトリールカーボネート、ビス(クロロフェニル)
カーボネート、m-クレジルカーボネート、ジナフチルカ
ーボネート、ビス(ジフェニル)カーボネート、ジエチ
ルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカー
ボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなどの炭酸ジ
エステルと前述の一般式[II]で示されるジヒドロキシ
化合物と、式[I]で示されるo,p-ビスフェノール
(A)と、必要に応じて他の末端封止剤を公知の方法で
加熱溶融重合させることによりポリカーボネートを製造
することができる。
溶融法で製造される分子量の低いポリカーボネートを結
晶化させ、高温下に重合を進めることによりポリカーボ
ネートを製造することができる。
方法において、ホスゲンあるいは炭酸ジエステルととも
に、ジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドあるいはジカ
ルボン酸エステルを使用することによりポリエステルカ
ーボネートを製造することができる。
ン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロリド、テレフ
タル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなどの芳香
族ジカルボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、デカン二酸、ドデカン二酸、セバシン酸クロリド、
デカン二酸クロリド、ドデカン二酸クロリド、セバシン
酸ジフェニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジ
フェニルなどの脂肪族ジカルボン酸類、シクロプロパン
ジカルボン酸、1,2-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シ
クロブタンジカルボン酸、1,2-シクロペンタンジカルボ
ン酸、1,3-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロヘ
キサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン
酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパン
ジカルボン酸クロリド、1,2-シクロブタンジカルボン酸
クロリド、1,3-シクロブタンジカルボン酸クロリド、1,
2-シクロペンタンジカルボン酸クロリド、1,3-シクロペ
ンタンジカルボン酸クロリド、1,2-シクロヘキサンジカ
ルボン酸クロリド、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸ク
ロリド、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、シ
クロプロパンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シクロブタ
ンジカルボン酸ジフェニル、1,3-シクロブタンジカルボ
ン酸ジフェニル、1,2-シクロペンタンジカルボン酸ジフ
ェニル、1,3-シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、
1,2-シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、1,3-シク
ロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、1,4-シクロヘキサ
ンジカルボン酸ジフェニルなどの脂環族ジカルボン酸類
を挙げることができる。
トの製造方法において、ホスゲンあるいは炭酸ジエステ
ルなどのカーボネート前駆体を用いず、ジカルボン酸、
ジカルボン酸ハライドあるいはジカルボン酸エステルの
みを使用すると、ポリエステルを製造することができ
る。特に芳香族ジカルボン酸類を用いると、ポリアリレ
ートと通称されるポリマーを得ることができる。
上記のようなジヒドロキシ化合物とともに、1分子中に
3個以上の官能基を有する多官能化合物とを用いること
もできる。
ール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が好
ましく、特にフェノール性水酸基を3個含有する化合物
が好ましい。具体的には、たとえば、1,1,1-トリス(4-
ヒドロキシフェニル) エタン、2,2',2"-トリス(4-ヒド
ロキシフェニル)ジイソプロピルベンゼン、α-メチル-
α,α',α'-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-1,4-ジエチ
ルベンゼン、α, α',α"-トリス(4-ヒドロキシフェニ
ル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼン、フロログリシ
ン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ(4-ヒドロキシフェニ
ル)-ヘプタン-2、1,3,5-トリ(4-ヒドロキシフェニル)
ベンゼン、2,2-ビス-[4,4-(4,4'-ジヒドロキシフェニ
ル)-シクロヘキシル]-プロパン、トリメリット酸、1,
3,5-ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸などが挙
げられる。
シフェニル) エタン、α, α',α"-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなどが好
ましく用いられる。
能化合物はジヒドロキシ化合物1モルに対して、通常
0.03モル以下、好ましくは0.001〜0.02モ
ル、さらに好ましくは0.001〜0.01モルの量で用
いることができる。
前述したホスゲン法では、触媒として、三級アミン、四
級アンモニウム塩、三級ホスフィン、四級ホスホニウム
塩、含窒素複素環化合物およびその塩、イミノエーテル
およびその塩、アミド基を有する化合物などが使用され
る。
酸などのハロゲン化水素の補足剤として多量のアルカリ
金属化合物あるいはアルカリ土類金属化合物が使用され
るので、製造後のポリマー中に、こうした不純物が残留
しないように充分な洗浄、精製をすることが好ましい。
(a) アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金
属化合物を用いることが好ましい。アルカリ金属化合物
およびアルカリ土類金属化合物としては、具体的には、
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の有機酸塩、無機
酸塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコラー
トなどが好ましく挙げられる。
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水
素二リチウム、ビスフェノールAの二ナトリウム塩、二
カリウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩などを挙げることができ
る。
体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウムなどを挙げることができる。
きる。このような(a) アルカリ金属化合物および/また
はアルカリ土類金属化合物は、上記芳香族ジヒドロキシ
化合物合計1モルに対して、10-8〜10-3モル好まし
くは10-7〜2×10-6モルさらに好ましくは10-7〜
8×10-7モルの量で用いられる。
び/またはアルカリ土類金属化合物を、芳香族ジヒドロ
キシ化合物1モルに対して10-8〜10-3モルの量で使
用すると、高い重合活性で重合体を製造できるととも
に、得られる重合体に悪影響を及ぼさない量で後述する
酸性化合物を添加して、これら化合物が示す塩基性を充
分に中和するかあるいは弱めることができる。
て、上記のような(a) アルカリ金属化合物および/また
はアルカリ土類金属化合物とともに、(b) 塩基性化合物
を用いることも好ましい。
とえば高温で易分解性あるいは揮発性の含窒素塩基性化
合物が挙げられ、具体的には、以下のような化合物を挙
げることができる。
(Me4NOH)、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
(Et4NOH)、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
(Bu4NOH)、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド(φ−CH2(Me)3NOH )などのアルキル、アリール、
アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシ
ド類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル
ベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級アミン
類、R2NH(式中Rはメチル、エチルなどのアルキ
ル、フェニル、トルイルなどのアリール基などである)
で示される二級アミン類、RNH2(式中Rは上記と同
じである)で示される一級アミン類、2-メチルイミダゾ
ール、2-フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類、
グアニジン類、あるいはアンモニア、テトラメチルアン
モニウムボロハイドライド(Me4NBH4)、テトラブチル
アンモニウムボロハイドライド(Bu4NBH4)、テトラブ
チルアンモニウムテトラフェニルボレート(Bu4NBP
h4)、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレー
ト(Me4NBPh4)などの塩基性塩。
ムヒドロキシド類、特に金属不純物の少ない電子用テト
ラアルキルアンモニウムヒドロキシド類が好ましく用い
られる。
ジヒドロキシ化合物合計1モルに対して、10-6〜10
-1モル以下、好ましくは10-5〜10-2モルの量で用い
ることができる。
/またはアルカリ土類金属化合物と(b) 含窒素塩基性化
合物とを上記のような量で組合せて用いると、重縮合反
応を十分な速度で進行させることができ、高分子量のポ
リマーを、高い重合活性で生成させることができて好ま
しい。
を用いるので、反応生成物に、酸性化合物を添加して中
和することが好ましい。この酸性化合物としては、ベン
ゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などのスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エ
チル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸
オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、p-トルエンス
ルホン酸メチル、p-トルエンスルホン酸エチル、p-トル
エンスルホン酸ブチル、p-トルエンスルホン酸オクチ
ル、p-トルエンスルホン酸フェニルなどのスルホン酸エ
ステルなどが用いられる。
うな精製を基本的に行わないので、触媒を中和した後の
重合体に減圧処理を施すことが好ましい。このような減
圧処理をするに際しては、処理装置は特に限定されない
が、たとえば減圧装置付反応器が用いられてもよく、減
圧装置付押出機が用いられてもよい。
器、横型槽型反応器いずれでもよく、好ましくは横型槽
型反応器が好ましく用いられる。上記のような反応器を
用いて行なわれる減圧処理は、0.05〜750mmHg
好ましくは0.05〜5mmHgの圧力下で行なわれる。
なう場合には、10秒〜15分間程度、また反応器を用
いる場合には、5分〜3時間程度の時間で行なうことが
好ましい。また減圧処理は、240〜350℃程度の温
度で行なうことが好ましい。
は、ベント付の一軸押出機、二軸押出機いずれが用いら
れてもよく、押出機で減圧処理をしながらペレタイズす
ることもできる。
減圧処理は、圧力1〜750mmHg好ましくは5〜70
0mmHgの条件下で行なわれる。上記のような処理を行
う事によって、重合体中に残留する原料モノマーが低減
されるかまたは完全に除去される。
体は、金型汚れのおそれがほとんどなく、成形生産性に
優れている。特にポリカーボネートは、末端基自体が酸
化防止剤として作用するので、他の耐熱安定剤を添加す
る必要がほとんどなく、金型汚れによって成形が中断さ
れることがなく、連続成形を行なうことができ、成形生
産性に優れている。
シート、レンズ、コンパクトディスクなどの光学用用途
や、屋外で使用される自動車などの透明部品用用途さら
に各種機器のハウジングなどに広く利用することができ
る。
いは精密用途に好適である。また重合体のうちでもポリ
カーボネートは、本発明の効果が顕著であり、光学用途
に好適である。
をほとんど必要としないが、本発明の目的を損なわない
範囲で、下記に示すような通常の耐熱安定剤、紫外線吸
収剤、離型剤、着色剤、帯電防止剤、スリップ剤、アン
チブロッキング剤、滑剤、防曇剤、天然油、合成油、ワ
ックス、有機系充填剤、無機系充填剤などを添加するこ
とができる。
は、たとえば、リン系安定剤、フェノール系安定剤、有
機チオエーテル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤な
どを挙げることができる。
酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルを用いることができる。こ
のようなリン酸エステルとしては、具体的に、たとえ
ば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェー
ト、トリデシルホスフェート、トリオクタデシルホスフ
ェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェー
ト、トリス(2-クロロエチル)ホスフェート、トリス
(2,3-ジクロロプロピル)ホスフェートなどのトリアル
キルホスフェート、トリシクロヘキシルホスフェートな
どのトリシクロアルキルホスフェート、トリフェニルホ
スフェート、トリクレジルホスフェート、トリス(ノニ
ルフェニル)ホスフェート、2-エチルフェニルジフェニ
ルホスフェートなどのトリアリールホスフェートなどを
挙げることができる。
般式で示される化合物を挙げることができる。 P(OR)3 (式中、Rは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異
なっていてもよい。) このような式で示される化合物として、たとえば、トリ
メチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブ
チルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス
(2-エチルヘキシル)ホスファイト、トリノニルホスフ
ァイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシルホ
スファイト、トリステアリルホスファイト、トリス(2-
クロロエチル)ホスファイト、トリス(2,3-ジクロロプ
ロピル)ホスファイトなどのトリアルキルホスファイ
ト、トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシクロ
アルキルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リクレジルホスファイト、トリス(エチルフェニル)ホ
スファイト、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホス
ファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ト
リス(ヒドロキシフェニル)ホスファイトなどのトリア
リールホスファイト、フェニルジデシルホスファイト、
ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオクチ
ルホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイト、
2-エチルヘキシルジフェニルホスファイトなどのアリー
ルアルキルホスファイトなどを挙げることができる。
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス(2,4-ジ
-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリチルジホスファイ
トなどを挙げることができる。
合わせて用いることができる。これらのうち、亜リン酸
エステルが好ましく、さらに芳香族亜リン酸エステルが
好ましく、特にトリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホ
スファイトが好ましく用いられる。
n-オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチルフ
ェニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン-3-
(3',5'-ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート]メタン、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキ
シ-5-t- ブチルフェニル)ブタン、ジステアリル(4-ヒ
ドロキシ-3-メチル-5-t-ブチル)ベンジルマロネート、
4-ヒドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフェノールなどが
挙げられ、これらを単独で用いても2種以上混合して用
いてもよい。
ば、ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル
・チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-チオジプ
ロピオネート、ジトリデシル-3,3'-チオジプロピオネー
ト、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラウリル-
チオプロピオネート)などを挙げることができる。
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、たとえば、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリ
ジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-
ピペリジル)セバケート、1-[2-{3-(3,5-ジ-t-ブチ
ル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチ
ル]-4-{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ}-2,2,6,6-テトラメチルピペ
リジン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル
-1,2,3-トリアザスピロ[4,5]ウンデカン-2,4-ジオ
ン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリ
ジン、2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2
-n-ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピ
ペリジル)、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピ
ペリジル)1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレートなど
を挙げることができる。
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、重合体100重
量部に対して、0.001〜5重量部、好ましくは0.0
05〜0.5重量部、さらに好ましくは0.01〜0.3
重量部の量で用いられることが望ましい。
線吸収剤でよく、特に限定されないが、たとえば、サリ
チル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収
剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリ
レート系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
的には、フェニルサリシレート、p-t-ブチルフェニルサ
リシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収
剤としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒド
ロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ
-4- メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ-4,4'
-ジメトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ
-2'-カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メト
キシ-5-スルホベンゾフェノントリヒドレート、2-ヒド
ロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2,2',4,4'-テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、4-ドデシロキシ-2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビス(5-ベンゾイル-4-ヒド
ロキシ-2-メトキシフェニル)メタン、2-ヒドロキシ-4-
メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸などが挙げられ
る。
は、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル-フェニル)ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t
-ブチル-5'-メチル-フェニル)-5-クロロベンゾトリア
ゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フェニ
ル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
-5'-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'
-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-アミルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3'-(3",4",5",6"-テトラ
ヒドロフタルイミドメチル)-5'-メチルフェニル]ベン
ゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス[4-(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)-6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イ
ル)フェノール]などを挙げることができる。
は、2-エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリ
レート、エチル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレート
などを挙げることができる。これらを単独で用いても、
2種以上混合して用いてもよい。
量部に対して、通常0.001〜5重量部、好ましくは
0.005〜1.0重量部、さらに好ましくは0.01〜
0.5重量部の量で用いることができる。
でよく、特に限定されない。たとえば、炭化水素系離型
剤としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワ
ックス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。
ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸類などを挙げることができる。脂肪酸アミド系離型剤
としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロ
アミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミ
ド類などを挙げることができる。
アルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコー
ル、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロー
ル類などを挙げることができる。
ステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレー
トなどの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価
アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類
などを挙げることができる。
オイル類などを挙げることができる。これらは単独で用
いても、2種以上混合して用いてもよい。
対して、通常、0.001〜5重量部、好ましくは0.00
5〜1重量部、さらに好ましくは0.01〜0.5重量部
の量で用いることができる。
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。
チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなど
の水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青
などのフェロシアン化物、ジンククロ メート、モリブ
デンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸
塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩、
マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラッ
クなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金属
粉着色剤などが挙げられる。
トールグリーンBなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
−Sなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー10
B、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどの
アゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルー
などのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナ
クリドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなど
の縮合多環系着色剤などが挙げられる。
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、重合体100
重量部に対して、通常1×10-6〜5重量部、好ましく
は1×10-5〜3重量部、さらに好ましくは1×10-5
〜1重量部の量で用いることができる。
シ基を1個以上有する化合物が用いられる。具体的に
は、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、フェニル
グリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、t-ブ
チルフェニルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロ
ヘキシルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメ
チル-3',4'-エポキシ-6'-メチルシクロヘキシルカルボ
キシレート、2,3-エポキシシクロヘキシルメチル-3',4'
-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、4-(3,4-
エポキシ-5-メチルシクロヘキシル)ブチル-3',4'-エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシシ
クロヘキシルエチレンオキシド、シクロヘキシルメチル
3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4-エ
ポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル-6'- メチルシロ
ヘキシルカルボキシレート、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル、テトラブロモビスフェノールAグリシジ
ルエーテル、フタル酸のジグリシジルエステル、ヘキサ
ヒドロフタル酸のジグリシジルエステル、ビス-エポキ
シジシクロペンタジエニルエーテル、ビス-エポキシエ
チレングリコール、ビス-エポキシシクロヘキシルアジ
ペート、ブタジエンジエポキシド、テトラフェニルエチ
レンエポキシド、オクチルエポキシタレート、エポキシ
化ポリブタジエン、3,4-ジメチル-1,2-エポキシシクロ
ヘキサン、3,5-ジメチル-1,2-エポキシシクロヘキサ
ン、3-メチル-5-t-ブチル-1,2-エポキシシクロヘキサ
ン、オクタデシル-2,2-ジメチル-3,4-エポキシシクロヘ
キシルカルボキシレート、N-ブチル-2,2-ジメチル-3,4-
エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、シクロヘキ
シル-2-メチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシ
レート、N-ブチル-2-イソプロピル-3,4-エポキシ-5-メ
チルシクロヘキシルカルボキシレート、オクタデシル-
3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、2-エチ
ルヘキシル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシ
レート、4,6-ジメチル-2,3-エポキシシクロヘキシル-
3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、4,5-
エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、3-t-ブチル-4,5-
エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、ジエチル4,5-エポ
キシ-シス-1,2-シクロヘキシルジカルボキシレート、ジ
-n-ブチル-3-t-ブチル-4,5-エポキシ-シス-1,2-シクロ
ヘキシルジカルボキシレートなどを挙げることができ
る。
ましく用いられ、特に3,4-エポキシシクロヘキシルメチ
ル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレートが
好ましく用いられる。
用いてもよい。このような、エポキシ化合物を、重合体
に対して、1〜2000ppm の量で、好ましくは10〜
1000ppm の量で添加することが好ましい。
のが成形時の滞留安定性に優れているので、他のポリマ
ーと混合して用いても、色相および透明性に優れた成形
体を形成することができる。
性樹脂を問わず公知のポリマーが用いられ、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ABS樹脂、PM
MA樹脂、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフル
オロエチレン、ポリアセタ−ル、ポリフェニレンオキシ
ド、PET、PBT、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
エーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、パラオキシベンゾイル系ポリエステル、ポリスルフ
ィド、エポキシ樹脂、各種ゴムなどが挙げられる。
は、熱安定性に優れている。このジヒドロキシ化合物混
合物は、成形時の滞留安定性(熱安定性、色相安定性な
ど)に優れた重合体の原料として好適である。
シ化合物より誘導される末端基を有し、成形時の滞留安
定性に優れている。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
度、元素分析、溶融色加熱安定性、ポリカーボネートの
構成単位と末端構造、極限粘度〔IV〕、色相〔Y
I〕、光線透過率、ヘイズ、滞留安定性、金型汚れ評価
は、以下のようにして実施される。
し、島津製作所社製の高速液体クロマトグラフィー(H
PLC)を用いて、UV検出器にて測定した。
レームレス原子吸光分光分析装置(三菱化成(株)製、
モデルTSX−10)により金属不純物の定量分析を行
った。
70℃に加熱して一定時間経過後の色調(APHA;ハ
ーゼン色数)を測定した。
より、ポリカーボネートの末端構造の分析を行った。末
端基の割合は、下記の図に示す末端基の炭素* 〜の
ピ−ク強度より計算した。
製) 測定溶媒:CDCl3 標準物質:CDCl3(77.00ppm) 試料調製法:ポリマー0.4gを3mlのCDCl3に溶
解した。
ーデ粘度計を用いて測定した。
ダー温度290℃、射出圧力1000kg/cm、1サイク
ル45秒、金型温度100℃で成形し、X、Y、Z値を
日本電色工業(株) 製の Colorand Color Defference M
eter ND-1001 DP を用いて透過法で測定し、黄色度〔Y
I〕を測定した。
色相測定用の射出成形板を用いて測定した。
−200を用い、色相測定用の射出成形板のヘイズを測
定した。
射出成形機のシリンダー内に樹脂を滞留させた後、その
温度で射出成形を行い、色相(YI)を測定した。
度350℃、射出圧力1000kg/cm、1サイクル6
秒、金型温度80℃で厚さ1.2mm、直径12cmの
ディスクを1000枚連続成形し、金型とディスク表面
を観察した。
粗ビスフェノールA(p,p-BPA)を調製した。この粗
ビスフェノールAとフェノールとを1対5(重量比)で
混合し、この混合物を80℃に加熱して均一溶液とした
後、42℃に冷却し、析出してきた固体を窒素雰囲気下
で濾過した。
洗浄し、白色の固体としてビスフェノールAとフェノー
ルとの付加体を得た。この付加体は、ビスフェノールA
とフェノールが1:1のモル比で結合した付加体である
が、フェノールをビスフェノールA1モルに対して0.
58モルだけ過剰に含有する混合物の形態をなしてお
り、この混合物中におけるビスフェノールAとフェノー
ルとのモル比は、1:1.58であった。
ノールAとフェノールとを1対5(重量比)で混合し、
この混合物を80℃に加熱して均一溶液とした後、42
℃に冷却し、析出してきた固体を窒素雰囲気下で濾過し
た。
洗浄し、白色の固体としてビスフェノールAとフェノー
ルとの付加体を得た。ビスフェノールAとフェノールと
のモル比は、1:1.52であった。
℃に加熱、50torrの減圧でフェノールを除去した
後、精製ビスフェノールA(p,p-BPA)を得た。HP
LCにより分析したところ、純度は99.97重量%で
あった。
有量は0.05ppm以下、Cl、S含有量は0.1pp
m以下であった。
ノール洗浄液を回収し、減圧蒸留により、粗o,p-ビスフ
ェノール(o,p-BPA)を得た。これを、トルエン溶媒
を用いて晶析精製を3回繰り返し、HPLCで分析され
る純度が99.53重量%の精製o,p-BPAを得た。
は0.05ppm以下、Cl、S含有量は0.1ppm以
下であった。
に対して、3×10-3モルの割合(約3000ppm)
の製造例2で得られたo,p-BPAを、製造例1で蒸留後
の精製p,p-BPAが溶融状態の時に添加して分散させ、
プリル化したジヒドロキシ化合物混合物を得た。このジ
ヒドロキシ化合物混合物プリルの加熱溶融色を測定し
た。純度、加熱溶融色の結果を表1に示す。
た精製p,p-BPA1モルに対して、製造例2で得られた
o,p-BPAを表1に記載の量で添加した以外は、実施例
1と同様にプリル化ジヒドロキシ化合物混合物を得た。
結果を表1に示す。
の加熱溶融色を測定した。結果を表1に示す。
色を測定した。結果を表1に示す。
た精製p,p-BPA200モル、製造例2で得られた精製
o,p-BPA6モル(p,p-BPA1モルに対して3×10
-2モル)、ジクロロメタン200リットルおよびイオン
交換水200リットルを入れ、窒素を吹き込みながら懸
濁液とした。
ナトリウム60gおよび水酸化ナトリウム540モルを
溶解した水溶液を110リットル供給し、15℃で上記
のジヒドロキシ化合物を溶解した。この溶液にホスゲン
250モルを4.2モル/分の速度で供給した。反応温
度は、36℃まで上昇した。
ミン32gを添加して、反応液をさらに60分間攪拌
し、重合反応を行った。その後、反応液を静置し、有機
層を分液し、塩酸により中和し、電解質がなくなるまで
イオン交換水で洗浄した。得られたポリカーボネートの
ジクロロメタン溶液にトルエン100リットル、イオン
交換水250リットルを加え、98℃まで加熱すること
によりジクロロメタンとトルエンを留去して、ポリカー
ボネートの粉体を得た。
0.49dl/gであった。結果を表2に示す。
製p,p-BPAと製造例2で得られた精製o,p-BPAに代
えて、実施例1で得られたビスフェノール(p,p-BPA
1モルに対してo,p-BPA3×10-3モル)200モル
とフェノール6モルを用いた以外は、実施例7と同様に
ポリマーを得た。
スフェノールに代えて、実施例2で得られたビスフェノ
ール(p,p-BPA1モルに対してo,p-BPA2×10-3
モル)200モルを用いた以外は、実施例8と同様にポ
リマーを得た。
ビスフェノールに代えて、実施例4で得られたビスフェ
ノール(p,p-BPA1モルに対してo,p-BPA5×10
-4モル)200モルを用いた以外は、実施例8と同様に
ポリマーを得た。
ビスフェノールに代えて、実施例5で得られたビスフェ
ノール(p,p-BPA1モルに対してo,p-BPA3×10
-4モル)200モルを用いた以外は、実施例8と同様に
ポリマーを得た。
て、p−t−ブチルフェノール6モルを用いた以外は、
実施例8と同様にポリマーを得た。
混合物0.44キロモルと、ジフェニルカーボネート0.
46キロモルとを、250リットル槽型攪拌槽に仕込
み、窒素置換をした後に、140℃で溶融した。
媒として水酸化ナトリウムを0.000176モル(4
×10-7モル/モル−ビスフェノールA)およびテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシドを0.11モル(2.5
×10-4モル/モル−ビスフェノールA)添加し30分
間攪拌する。
時に除々に200mmHgまで下げて30分後、温度を2
40℃まで昇温させると同時に徐々に15mmHgまで下
げて、温度圧力を一定に保ち留出するフェノールの量を
測定し、留出するフェノールがなくなった時点で窒素に
て大気圧に戻した。反応に要した時間は1時間であっ
た。得られた反応物の極限粘度[IV]は0.15dl/
gであった。
心式薄膜蒸発機に送入し、反応を進めた。薄膜蒸発機の
温度、圧力はそれぞれ270℃、2mmHgにコントロー
ルした。蒸発機下部よりギヤポンプにて293℃、0.
2mmHgにコントロールされた二軸横型攪拌重合槽(L
/D=3、攪拌翼回転直径220mm、内容積80リット
ル)に40kg/時間で送り込み、滞留時間30分にて重
合させた。
ギヤポンプにて二軸押出機(L/D=17.5、バレル
温度285℃)に送入し、樹脂に対して、p-トルエンス
ルホン酸ブチル0.7ppm を添加して混練し、ダイを通
してストランド状とし、カッターで切断してペレットと
した。
0.49dl/gであった。結果を表2に示す。
たジヒドロキシ化合物混合物に代えて、実施例2で得ら
れたジヒドロキシ化合物混合物(p,p-BPA1モルに対
してo,p-BPA2×10-3モル)200モルを用いた以
外は、実施例13と同様にポリマーを得た。
たジヒドロキシ化合物混合物に代えて、実施例4で得ら
れたジヒドロキシ化合物混合物(p,p-BPA1モルに対
してo,p-BPA5×10-4モル)200モルを用いた以
外は、実施例13と同様にポリマーを得た。
度[IV]0.15dl/gのプレポリマーを粉砕し、ア
セトン200リットル中に浸漬し、結晶化プレポリマー
を濾過した。結晶化プレポリマー40kgを槽型攪拌槽
に仕込、220℃で(融点:230℃)窒素を吹き込み
ながら、5mmHgにコントロールし、8時間攪拌を行
い、ポリマーの粒状体を得た。
0.50dl/gであった。結果を表2に示す。
製o,p-BPAに代えてフェノール6モルを用いた以外
は、実施例7と同様にポリマーを得た。
kgと、比較例3で得られたポリカーボネート45kg
を、285℃で1軸押出機で混練してポリマーを得た。
製p,p-BPAに代えて比較例2の市販のBPA200モ
ルを用いた以外は、比較例3と同様にポリマーを得た。
-(4-ヒドロキシ-3',5'-t- ブチルフェニル)プロピオ
ネート(マーク AO50 :アデカアーガス社製)500pp
m を添加し、285℃で1軸押出機で混練しポリマーを
得た。
ブチルフェニル)ホスファイト(マーク 2112 :アデカ
アーガス社製)500ppm を添加し、285℃で1軸押
出機で混練しポリマーを得た。
Claims (12)
- 【請求項1】(A)下記一般式[I]で示されるo,p-ビ
スフェノール; 【化1】 (B)紫外線吸収検出器を備えた高速液体クロマトグラ
フィーにより分析される純度が99.95重量%以上で
あるジヒドロキシ化合物に添加することにより得られ、 前記o,p-ビスフェノール(A)を、全ジヒドロキシ化合
物1モルに対して5×10-5〜3×10-2モルの量で含
むことを特徴とするジヒドロキシ化合物混合物。 - 【請求項2】前記o,p-ビスフェノール(A)を、全ジヒ
ドロキシ化合物1モルに対して1×10-4〜3×10-3
モルの量で含むことを特徴とする請求項1に記載のジヒ
ドロキシ化合物混合物。 - 【請求項3】前記o,p-ビスフェノール(A)を、全ジヒ
ドロキシ化合物1モルに対して1.5×10-4〜2×1
0-3モルの量で含むことを特徴とする請求項1に記載の
ジヒドロキシ化合物混合物。 - 【請求項4】前記o,p-ビスフェノール(A)を、全ジヒ
ドロキシ化合物1モルに対して5×10-4〜2×10-3
モルの量で含むことを特徴とする請求項1に記載のジヒ
ドロキシ化合物混合物。 - 【請求項5】前記o,p-ビスフェノール(A)が、2,4'-
ジヒドロキシジフェニル-2,2-プロパンであることを特
徴とする請求項1に記載のジヒドロキシ化合物混合物。 - 【請求項6】前記ジヒドロキシ化合物(B)が、2,2-ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンであることを特徴
とする請求項1に記載のジヒドロキシ化合物混合物。 - 【請求項7】重合体製造用途に用いられることを特徴と
する請求項1〜6のいずれか記載のジヒドロキシ化合物
混合物。 - 【請求項8】ジヒドロキシ化合物から導かれる単位を有
し、かつ末端基の少なくとも1つが下記一般式[Ia]
で示されることを特徴とする重合体; 【化2】 - 【請求項9】上記一般式[Ia]で示される末端基が、
重合体の全末端基中0.1〜10%の割合で含有されて
いることを特徴とする請求項8に記載の重合体。 - 【請求項10】重合体がポリカーボネートであることを
特徴とする請求項8に記載の重合体。 - 【請求項11】ジヒドロキシ化合物が、請求項1〜5に
記載されたジヒドロキシ化合物混合物であることを特徴
とする請求項8に記載の重合体。 - 【請求項12】請求項7〜11に記載の重合体を光学用
途に用いることを特徴とする重合体の用途。
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