JPH08279451A - 薬品供給装置 - Google Patents
薬品供給装置Info
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- JPH08279451A JPH08279451A JP7082444A JP8244495A JPH08279451A JP H08279451 A JPH08279451 A JP H08279451A JP 7082444 A JP7082444 A JP 7082444A JP 8244495 A JP8244495 A JP 8244495A JP H08279451 A JPH08279451 A JP H08279451A
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- Japan
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- temperature
- temperature control
- chemical
- pipe
- control water
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 循環される温調水の使用量を低減し、さらに
その配管の数を減らした薬品供給装置を提供する。 【構成】 薬品を温度調整して所望箇所に供給する薬品
供給装置である。薬品を供給するための薬品の流路とな
る薬品供給路と、温度調整器に接続されかつ薬品供給路
に並設されて、薬品供給路内を流動する薬品の温度調整
を行うための温調水の流路となる温調水供給路と、薬品
供給路の先端部、および温調水供給路の先端部に連結さ
れて薬品供給路から薬品を供給する供給部と、供給部を
介して温調水供給路に接続され、温調水供給路からの温
調水を温度調整器に返送する温調水返送路とを備えてい
る。温調水返送路が、温調水供給路とともに薬品供給路
に並設されている。
その配管の数を減らした薬品供給装置を提供する。 【構成】 薬品を温度調整して所望箇所に供給する薬品
供給装置である。薬品を供給するための薬品の流路とな
る薬品供給路と、温度調整器に接続されかつ薬品供給路
に並設されて、薬品供給路内を流動する薬品の温度調整
を行うための温調水の流路となる温調水供給路と、薬品
供給路の先端部、および温調水供給路の先端部に連結さ
れて薬品供給路から薬品を供給する供給部と、供給部を
介して温調水供給路に接続され、温調水供給路からの温
調水を温度調整器に返送する温調水返送路とを備えてい
る。温調水返送路が、温調水供給路とともに薬品供給路
に並設されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置製造に際し
てのリソグラフィー工程において、レジストや現像液等
の薬品を温度調整して所望箇所に供給する薬品供給装置
にかかり、詳しくは薬品を温度調整するための温調水の
循環方式を改善した薬品供給装置に関する。
てのリソグラフィー工程において、レジストや現像液等
の薬品を温度調整して所望箇所に供給する薬品供給装置
にかかり、詳しくは薬品を温度調整するための温調水の
循環方式を改善した薬品供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置を製造するための製造装置と
して、例えばリソグラフィー工程で用いられる製造装置
としては、ステッパに代表される露光装置、ウエハ上に
レジストをコーティングするためのコーター、露光後の
レジストを現像するためのデベロッパーなどがある。こ
のような製造装置のうち例えばコーターやデベロッパー
は、通常複数のプロセスユニットを備えて、連続して行
われる各種のレジスト処理を前記各プロセスユニットが
それぞれ一工程ずつ担当するように各プロセスユニット
が直接連結され、あるいは各プロセスユニットが搬送ロ
ボットを介して間接的に連結されて構成された複合プロ
セス処理装置となっている。
して、例えばリソグラフィー工程で用いられる製造装置
としては、ステッパに代表される露光装置、ウエハ上に
レジストをコーティングするためのコーター、露光後の
レジストを現像するためのデベロッパーなどがある。こ
のような製造装置のうち例えばコーターやデベロッパー
は、通常複数のプロセスユニットを備えて、連続して行
われる各種のレジスト処理を前記各プロセスユニットが
それぞれ一工程ずつ担当するように各プロセスユニット
が直接連結され、あるいは各プロセスユニットが搬送ロ
ボットを介して間接的に連結されて構成された複合プロ
セス処理装置となっている。
【0003】ところで、このようなコーターやデベロッ
パーで使用されるレジストや現像液等の薬品について
は、レジストコーティングや現像といった処理の能力を
高めるため、予め温度調整を行い、所定の温度に調整さ
れたレジストや現像液を被処理体に供給するようにして
いる。このような薬品を供給するための装置として、コ
ーターにおいてレジストを供給するための装置について
説明する。この薬品供給装置は、図8に示すように、レ
ジスト配管3と温調水配管7とを備え、これらに導かれ
るレジストと温調水とを二重配管9内で熱交換させ、レ
ジストを所望する温度に調整して供給するようにしたも
のである。
パーで使用されるレジストや現像液等の薬品について
は、レジストコーティングや現像といった処理の能力を
高めるため、予め温度調整を行い、所定の温度に調整さ
れたレジストや現像液を被処理体に供給するようにして
いる。このような薬品を供給するための装置として、コ
ーターにおいてレジストを供給するための装置について
説明する。この薬品供給装置は、図8に示すように、レ
ジスト配管3と温調水配管7とを備え、これらに導かれ
るレジストと温調水とを二重配管9内で熱交換させ、レ
ジストを所望する温度に調整して供給するようにしたも
のである。
【0004】すなわち、この装置では、まずガロン瓶1
に貯留されたレジストをポンプ2で吸引し、レジスト配
管3に導入し流動させる。すると、フィルター4にて濾
過されたレジストはストップ・サックバックバルブ5を
通って継手6に導かれる。なお、ガロン瓶1に貯留され
たレジストは、溶媒に溶解されて液状に調整されてい
る。継手6には、前記レジスト配管3とは別に温調水配
管7が連結されている。温調水配管7は、温度調整器
(サーキュレーター)8に連結されたもので、この温度
調整器8で所定温度に調整された温調水の流路となるも
のである。
に貯留されたレジストをポンプ2で吸引し、レジスト配
管3に導入し流動させる。すると、フィルター4にて濾
過されたレジストはストップ・サックバックバルブ5を
通って継手6に導かれる。なお、ガロン瓶1に貯留され
たレジストは、溶媒に溶解されて液状に調整されてい
る。継手6には、前記レジスト配管3とは別に温調水配
管7が連結されている。温調水配管7は、温度調整器
(サーキュレーター)8に連結されたもので、この温度
調整器8で所定温度に調整された温調水の流路となるも
のである。
【0005】そして、前記継手6では、前記レジスト配
管3と温調水配管8とが合流し、ここから二重配管9に
連結される。すなわち、この継手6は、図9に示すよう
にレジスト配管3にそのまま連結される管部6aと、こ
の管部6aを覆う管状の外筒部6bとから形成されたも
ので、管部6aの外側にて前記温調水配管7が外筒部6
bに連結されたものである。また、前記二重配管9は、
内管9aとこれを覆ってその外側に配設された外管9b
とからなるものであり、前記継手6の管部6aに内管9
aが、外筒部6bに外管9bがそれぞれ連結されたもの
となっている。そして、このような構成によりレジスト
配管3から送られてきたレジストは、継手6の管部6a
を経て二重配管9の内管9a内に導かれ、一方温調水配
管7から送られてきた温調水は、継手6の外筒部6bを
経て二重配管9の外管9b内に導かれる。二重配管9内
に導かれたレジストと温調水とは、その間で内管9aの
管壁を介して熱交換が行われ、これによりレジストは温
調水に近い温度、すなわち所望する温度に調整される。
管3と温調水配管8とが合流し、ここから二重配管9に
連結される。すなわち、この継手6は、図9に示すよう
にレジスト配管3にそのまま連結される管部6aと、こ
の管部6aを覆う管状の外筒部6bとから形成されたも
ので、管部6aの外側にて前記温調水配管7が外筒部6
bに連結されたものである。また、前記二重配管9は、
内管9aとこれを覆ってその外側に配設された外管9b
とからなるものであり、前記継手6の管部6aに内管9
aが、外筒部6bに外管9bがそれぞれ連結されたもの
となっている。そして、このような構成によりレジスト
配管3から送られてきたレジストは、継手6の管部6a
を経て二重配管9の内管9a内に導かれ、一方温調水配
管7から送られてきた温調水は、継手6の外筒部6bを
経て二重配管9の外管9b内に導かれる。二重配管9内
に導かれたレジストと温調水とは、その間で内管9aの
管壁を介して熱交換が行われ、これによりレジストは温
調水に近い温度、すなわち所望する温度に調整される。
【0006】また、この二重配管9は、その先端側がレ
ジスト塗布ユニット10内に配設され、さらにその先端
部がレジスト塗布ノズル11のヘッド12に連結されて
いる。このヘッド12は、図10に示すように容器状の
もので、二重配管9の内管9aに連結され、あるいは該
内管9aが延びて形成された吐出管12aと、これを覆
って形成された容器12bとからなるものである。吐出
管12aは、容器12bの下面側に突出して開口したも
ので、吐出管12a内に導かれたレジストをこの開口部
から吐出するものである。また、容器12bは、吐出管
12aの外側にて前記二重配管9の外管9bに連通し、
さらに別の箇所にて返送管13に連結されたものであ
る。そして、このような構成により二重配管9からヘッ
ド12内に流入したレジストは、吐出管12aを経て吐
出され、一方、温調水は容器12b内を経て返送管13
に導かれる。
ジスト塗布ユニット10内に配設され、さらにその先端
部がレジスト塗布ノズル11のヘッド12に連結されて
いる。このヘッド12は、図10に示すように容器状の
もので、二重配管9の内管9aに連結され、あるいは該
内管9aが延びて形成された吐出管12aと、これを覆
って形成された容器12bとからなるものである。吐出
管12aは、容器12bの下面側に突出して開口したも
ので、吐出管12a内に導かれたレジストをこの開口部
から吐出するものである。また、容器12bは、吐出管
12aの外側にて前記二重配管9の外管9bに連通し、
さらに別の箇所にて返送管13に連結されたものであ
る。そして、このような構成により二重配管9からヘッ
ド12内に流入したレジストは、吐出管12aを経て吐
出され、一方、温調水は容器12b内を経て返送管13
に導かれる。
【0007】返送管13は、図8に示すように前記温度
調整器8に接続されたもので、これにより返送管13に
導かれた温調水は、温度調整器8に返送されてここで温
度調整され、再度温調水として使用に供されるようにな
っている。なお、ここで使用される温調水は、水と腐蝕
防止剤(エチレングリコール等)との混合液であり、腐
蝕防止剤は定期的に温度調整器8において補充され、一
定の濃度が保たれるようになっている。以上はコーター
で使用されるレジスト供給装置の例であるが、デベロッ
パーにおいて使用される現像液供給装置についても、現
像液塗布ノズルの相違はあるものの現像液の温調方法は
基本的に同じである。
調整器8に接続されたもので、これにより返送管13に
導かれた温調水は、温度調整器8に返送されてここで温
度調整され、再度温調水として使用に供されるようにな
っている。なお、ここで使用される温調水は、水と腐蝕
防止剤(エチレングリコール等)との混合液であり、腐
蝕防止剤は定期的に温度調整器8において補充され、一
定の濃度が保たれるようになっている。以上はコーター
で使用されるレジスト供給装置の例であるが、デベロッ
パーにおいて使用される現像液供給装置についても、現
像液塗布ノズルの相違はあるものの現像液の温調方法は
基本的に同じである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8に
示した装置では、装置の大規模化に伴って温度調整器8
からレジスト塗布ノズル11のヘッド12までの距離が
長くなってきており、そのため、ここで使用される温調
水の量、すなわち水と腐蝕防止剤との量が多くなってい
ることから、装置のランニングコストが高くなってい
る。また、レジスト塗布ノズル11には、ヘッド12と
これに連結する二重配管9および返送管13が接続され
ているため、該ノズル11のノズルの動きが制限される
といった不都合がある。さらに、レジスト塗布ユニット
10内にはこのような構成のレジスト塗布ノズル11が
3〜4系統あることから、該ユニット10内に配管の数
が多くなってしまい、ユニット10内、すなわちこのユ
ニット10を複数備えたプロセス処理装置内のスペース
が狭くなり、このため作業者が部品の清掃や交換等のメ
ンテナンスを行う場合に、作業しにくいといった不都合
がある。
示した装置では、装置の大規模化に伴って温度調整器8
からレジスト塗布ノズル11のヘッド12までの距離が
長くなってきており、そのため、ここで使用される温調
水の量、すなわち水と腐蝕防止剤との量が多くなってい
ることから、装置のランニングコストが高くなってい
る。また、レジスト塗布ノズル11には、ヘッド12と
これに連結する二重配管9および返送管13が接続され
ているため、該ノズル11のノズルの動きが制限される
といった不都合がある。さらに、レジスト塗布ユニット
10内にはこのような構成のレジスト塗布ノズル11が
3〜4系統あることから、該ユニット10内に配管の数
が多くなってしまい、ユニット10内、すなわちこのユ
ニット10を複数備えたプロセス処理装置内のスペース
が狭くなり、このため作業者が部品の清掃や交換等のメ
ンテナンスを行う場合に、作業しにくいといった不都合
がある。
【0009】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、循環される温調水の使用
量を低減し、さらにその配管の数を減らした薬品供給装
置を提供することにある。
で、その目的とするところは、循環される温調水の使用
量を低減し、さらにその配管の数を減らした薬品供給装
置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の薬品供給装置で
は、薬品を供給するための薬品の流路となる薬品供給路
と、温度調整器に接続されかつ前記薬品供給路に並設さ
れて、該薬品供給路内を流動する薬品の温度調整を行う
ための、前記温度調整器からの温調水の流路となる温調
水供給路と、前記薬品供給路の先端部、および前記温調
水供給路の先端部に連結されて薬品供給路から薬品を所
望箇所に供給する供給部と、該供給部を介して前記温調
水供給路に接続され、該温調水供給路からの温調水を前
記温度調整器に返送する温調水返送路とを備え、前記温
調水返送路を、前記温調水供給路とともに前記薬品供給
路に並設したことを前記課題の解決手段とした。
は、薬品を供給するための薬品の流路となる薬品供給路
と、温度調整器に接続されかつ前記薬品供給路に並設さ
れて、該薬品供給路内を流動する薬品の温度調整を行う
ための、前記温度調整器からの温調水の流路となる温調
水供給路と、前記薬品供給路の先端部、および前記温調
水供給路の先端部に連結されて薬品供給路から薬品を所
望箇所に供給する供給部と、該供給部を介して前記温調
水供給路に接続され、該温調水供給路からの温調水を前
記温度調整器に返送する温調水返送路とを備え、前記温
調水返送路を、前記温調水供給路とともに前記薬品供給
路に並設したことを前記課題の解決手段とした。
【0011】
【作用】本発明の薬品供給装置では、温調水返送路を、
温調水供給路とともに薬品供給路に並設したので、温調
水返送路を流れる温調水と薬品供給路を流れる薬品との
間においても熱交換が行われ、これにより従来に比べ熱
交換効率が高まる。また、温調水返送路も薬品供給路に
並設されることにより、該温調水返送路および薬品供給
路と温調水供給路とが見掛け上一本の配管によって構成
することが可能になり、したがって従来のごとく温調水
返送路を別配管としていたのに比べ、その配管数を減ら
すことが可能になる。
温調水供給路とともに薬品供給路に並設したので、温調
水返送路を流れる温調水と薬品供給路を流れる薬品との
間においても熱交換が行われ、これにより従来に比べ熱
交換効率が高まる。また、温調水返送路も薬品供給路に
並設されることにより、該温調水返送路および薬品供給
路と温調水供給路とが見掛け上一本の配管によって構成
することが可能になり、したがって従来のごとく温調水
返送路を別配管としていたのに比べ、その配管数を減ら
すことが可能になる。
【0012】
【実施例】以下、本発明を図面を参照して詳しく説明す
る。図1は本発明の薬品供給装置の概略構成を示す図で
あり、図1において図8に示した構成要素と同一の構成
要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。図
1に示した薬品供給装置が図8に示した装置と異なると
ころは、主にレジストと温調水とが熱交換される経路、
および温調水の返送路にある。
る。図1は本発明の薬品供給装置の概略構成を示す図で
あり、図1において図8に示した構成要素と同一の構成
要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。図
1に示した薬品供給装置が図8に示した装置と異なると
ころは、主にレジストと温調水とが熱交換される経路、
および温調水の返送路にある。
【0013】すなわち、本発明においてその第1実施例
では、図9に示した二重配管9および継手6に代え、図
2に示す三路配管20、および図3に示す継手21が用
いられている。三路配管20は、外観上、従来の二重配
管9の外管9a内に仕切りを設けた構造のもので、管状
の内管部20aと、これを覆う管状の外管部20bと、
外管部20b内をその長さ方向に仕切る板状の仕切り部
20cとから構成されたものである。そして、この三路
配管20は、その内管部20a内を本発明における薬品
供給路、また内管部20aの外側でかつ外管部20bの
内側の、仕切り部20cで仕切られたうちの一方Aを本
発明における温調水供給路(以下、温調水供給路Aと記
す)、他方Bを温調水返送路(以下、温調水返送路Bと
記す)とするものである。
では、図9に示した二重配管9および継手6に代え、図
2に示す三路配管20、および図3に示す継手21が用
いられている。三路配管20は、外観上、従来の二重配
管9の外管9a内に仕切りを設けた構造のもので、管状
の内管部20aと、これを覆う管状の外管部20bと、
外管部20b内をその長さ方向に仕切る板状の仕切り部
20cとから構成されたものである。そして、この三路
配管20は、その内管部20a内を本発明における薬品
供給路、また内管部20aの外側でかつ外管部20bの
内側の、仕切り部20cで仕切られたうちの一方Aを本
発明における温調水供給路(以下、温調水供給路Aと記
す)、他方Bを温調水返送路(以下、温調水返送路Bと
記す)とするものである。
【0014】ここで、このような三路配管20を得るに
は、例えば銅等の熱伝導性の良い金属からなる2本の管
を用意してこれらの間に円柱状の鉄棒を配し、鉄棒を挟
み込むようにして半円弧状に湾曲した内面を有する型枠
で2本の管を両側から押圧し、圧縮・接着することによ
り、2本の管の接合部を見掛け上一枚の仕切り部20c
とするとともに、外観上2本の管を1本の管体(外管部
20b)とする。そして、挟み込んだ鉄棒を取り除くこ
とにより、中心に空洞部を形成してこれを内管部20a
とする。
は、例えば銅等の熱伝導性の良い金属からなる2本の管
を用意してこれらの間に円柱状の鉄棒を配し、鉄棒を挟
み込むようにして半円弧状に湾曲した内面を有する型枠
で2本の管を両側から押圧し、圧縮・接着することによ
り、2本の管の接合部を見掛け上一枚の仕切り部20c
とするとともに、外観上2本の管を1本の管体(外管部
20b)とする。そして、挟み込んだ鉄棒を取り除くこ
とにより、中心に空洞部を形成してこれを内管部20a
とする。
【0015】また、この三路配管20が連結される継手
21は、図3に示すように管部21aと、これを覆う外
筒部21bと、外筒部21bの内部を仕切る仕切り板2
1cとから構成されたものである。そして、管部21a
にはレジスト配管3が連結され、また管部21aの外側
でかつ外筒部21bの内側の、仕切り板21cで仕切ら
れたうちの一方Cには温調水配管7が連結され、他方D
には返送管22が連結されている。ここで、返送管22
は温度調整器8に連結して配管されたもので、後述する
ようにレジストとの熱交換を終えた後の温調水を温度調
整器8に戻すためのものである。また、これらレジスト
配管3、温調水配管7、返送管22が連結された側と反
対の側には、前述したように三路配管20が連結されて
いる。すなわち、継手21の管部21aには前記内管部
20aが連結され、外筒部21b内の仕切られたうちの
一方Cには温調水供給路Aが連通せしめられ、他方Dに
は温調水返送路Bが連通せしめられている。
21は、図3に示すように管部21aと、これを覆う外
筒部21bと、外筒部21bの内部を仕切る仕切り板2
1cとから構成されたものである。そして、管部21a
にはレジスト配管3が連結され、また管部21aの外側
でかつ外筒部21bの内側の、仕切り板21cで仕切ら
れたうちの一方Cには温調水配管7が連結され、他方D
には返送管22が連結されている。ここで、返送管22
は温度調整器8に連結して配管されたもので、後述する
ようにレジストとの熱交換を終えた後の温調水を温度調
整器8に戻すためのものである。また、これらレジスト
配管3、温調水配管7、返送管22が連結された側と反
対の側には、前述したように三路配管20が連結されて
いる。すなわち、継手21の管部21aには前記内管部
20aが連結され、外筒部21b内の仕切られたうちの
一方Cには温調水供給路Aが連通せしめられ、他方Dに
は温調水返送路Bが連通せしめられている。
【0016】また、三路配管20は、図4に示すように
その先端部にてレジスト塗布ノズル11のヘッド23に
連結されている。ヘッド23が図10に示したヘッド1
2と異なるところは、図10における、返送管13と連
結し連通するための開口部が形成されていない点のみで
あり、したがってこのヘッド23は、二重配管9と外観
上同じ構造を有する三路配管20のみに連結したものと
なっている。なお、三路配管20の温調水供給路A、温
調水返送路Bは、いずれもヘッド23の容器23b内に
連通することから、温調水供給路Aと温調水返送路Bと
は該容器23bを介して連通したものとなっている。ま
た、ヘッド23は本発明における薬品を供給するための
供給部となっている。そして、このような構成により温
度調整器8、温調水配管7、温調水供給路A、温調水返
送路B、返送管22は、温度調整器8を中心にして温調
水が循環する循環系を形成したものとなっている。
その先端部にてレジスト塗布ノズル11のヘッド23に
連結されている。ヘッド23が図10に示したヘッド1
2と異なるところは、図10における、返送管13と連
結し連通するための開口部が形成されていない点のみで
あり、したがってこのヘッド23は、二重配管9と外観
上同じ構造を有する三路配管20のみに連結したものと
なっている。なお、三路配管20の温調水供給路A、温
調水返送路Bは、いずれもヘッド23の容器23b内に
連通することから、温調水供給路Aと温調水返送路Bと
は該容器23bを介して連通したものとなっている。ま
た、ヘッド23は本発明における薬品を供給するための
供給部となっている。そして、このような構成により温
度調整器8、温調水配管7、温調水供給路A、温調水返
送路B、返送管22は、温度調整器8を中心にして温調
水が循環する循環系を形成したものとなっている。
【0017】このような構成の薬品供給装置を用いてレ
ジストを供給するには、従来と同様にガロン瓶1に貯留
されたレジストをポンプ2で吸引し、レジスト配管3に
導入し流動させて継手21に導く。また、これとは別
に、予め温度調整器8にて温度調整した温調水を温調水
配管7を通して継手21に導く。すると、継手21に導
入されたレジストは、図3中矢印で示すように継手21
内の管部21aを通って三路配管20の内管部20a
内、すなわち薬品供給路に流入する。一方、継手21に
導入された温調水は、外筒部21b内の仕切られたうち
の一方Cを通って三路配管20の温調水供給路Aに流入
する。なお、前述したように温度調整器8を中心にして
温調水の循環系が形成されていることから、温度調整器
8から温調水を送出していることによって当然循環系が
回り、したがって三路配管20の温調水返送路Bからの
温調水は、継手21における外筒部21b内の仕切られ
たうちの他方Dに流入する。
ジストを供給するには、従来と同様にガロン瓶1に貯留
されたレジストをポンプ2で吸引し、レジスト配管3に
導入し流動させて継手21に導く。また、これとは別
に、予め温度調整器8にて温度調整した温調水を温調水
配管7を通して継手21に導く。すると、継手21に導
入されたレジストは、図3中矢印で示すように継手21
内の管部21aを通って三路配管20の内管部20a
内、すなわち薬品供給路に流入する。一方、継手21に
導入された温調水は、外筒部21b内の仕切られたうち
の一方Cを通って三路配管20の温調水供給路Aに流入
する。なお、前述したように温度調整器8を中心にして
温調水の循環系が形成されていることから、温度調整器
8から温調水を送出していることによって当然循環系が
回り、したがって三路配管20の温調水返送路Bからの
温調水は、継手21における外筒部21b内の仕切られ
たうちの他方Dに流入する。
【0018】そして、三路配管20の内管部20a内
(薬品供給路)に流入したレジストは、その外側に位置
する温調水供給路Aに温度調整器8からの温調水が流れ
ていることにより、内管部20aの管壁を介して該温調
水との間で熱交換し、温度調整がなされる。また、前述
したように循環系が回ることによって温調水返送路Bに
もヘッド23を折り返した温調水が流れていることか
ら、この温調水も内管部20a内を流れるレジストとの
間で熱交換を行い、したがってレジストの温調に寄与す
る。すなわち、温度調整器8から送出される温調水は、
通常レジストの温度に対して十分な温度差を有する温度
に調整されていることから、温度調整器8にてすでに熱
交換が行われていても、まだレジストとの間にはこれを
所望する温度側に調整するための冷熱あるいは温熱を有
しているからである。
(薬品供給路)に流入したレジストは、その外側に位置
する温調水供給路Aに温度調整器8からの温調水が流れ
ていることにより、内管部20aの管壁を介して該温調
水との間で熱交換し、温度調整がなされる。また、前述
したように循環系が回ることによって温調水返送路Bに
もヘッド23を折り返した温調水が流れていることか
ら、この温調水も内管部20a内を流れるレジストとの
間で熱交換を行い、したがってレジストの温調に寄与す
る。すなわち、温度調整器8から送出される温調水は、
通常レジストの温度に対して十分な温度差を有する温度
に調整されていることから、温度調整器8にてすでに熱
交換が行われていても、まだレジストとの間にはこれを
所望する温度側に調整するための冷熱あるいは温熱を有
しているからである。
【0019】そして、このようにして熱交換がなされた
レジストは、図4中矢印で示すように従来と同様にして
レジスト塗布ノズル11のヘッド23に導かれ、その吐
出管23aを経てウエハ等の被処理物24上に吐出され
る。一方、温調水はヘッド23の容器23b内を折り返
して再度三路配管20内に流入し、その温調水返送路B
を流れる。この温調水返送路Bを流れる温調水は、前述
したように再度レジストとの熱交換を行い、その後、継
手21、返送管22を経て温度調整器8に返送される。
レジストは、図4中矢印で示すように従来と同様にして
レジスト塗布ノズル11のヘッド23に導かれ、その吐
出管23aを経てウエハ等の被処理物24上に吐出され
る。一方、温調水はヘッド23の容器23b内を折り返
して再度三路配管20内に流入し、その温調水返送路B
を流れる。この温調水返送路Bを流れる温調水は、前述
したように再度レジストとの熱交換を行い、その後、継
手21、返送管22を経て温度調整器8に返送される。
【0020】このような構成の薬品供給装置にあって
は、薬品供給路、すなわち三路配管20の内管部20a
内を温調水供給路Aだけでなく温調水返送路Bとも並設
し、単に内管部20aの管壁のみを介して接触させてい
ることから、レジスト塗布ノズル11を折り返して返送
された温調水の余熱をもレジストの熱交換に利用するこ
とができ、これにより熱交換効率が高まることから、従
来に比べ温度調整器8を中心とする循環系に流す温調水
を少なくすることができ、これにより薬品供給装置のラ
ンニングコストを低減することができる。また、従来の
装置に比べ、レジスト塗布ユニット10内に配設される
配管を、見掛け上1本の管である三路配管20のみにす
ることができることから、レジスト塗布ノズル11の動
きの制限を少なくすることができ、さらに配管が少なく
なることから装置内のスペースが増え、これにより作業
者によるメンテナンスを容易にすることができる。
は、薬品供給路、すなわち三路配管20の内管部20a
内を温調水供給路Aだけでなく温調水返送路Bとも並設
し、単に内管部20aの管壁のみを介して接触させてい
ることから、レジスト塗布ノズル11を折り返して返送
された温調水の余熱をもレジストの熱交換に利用するこ
とができ、これにより熱交換効率が高まることから、従
来に比べ温度調整器8を中心とする循環系に流す温調水
を少なくすることができ、これにより薬品供給装置のラ
ンニングコストを低減することができる。また、従来の
装置に比べ、レジスト塗布ユニット10内に配設される
配管を、見掛け上1本の管である三路配管20のみにす
ることができることから、レジスト塗布ノズル11の動
きの制限を少なくすることができ、さらに配管が少なく
なることから装置内のスペースが増え、これにより作業
者によるメンテナンスを容易にすることができる。
【0021】次に、本発明の第2実施例について説明す
る。この第2実施例が先の第1実施例と異なるところ
は、図2に示した三路配管20に代えて、図5に示すよ
うに薬品供給管30と温調水供給管31と温調水返送管
32とからなる三路管33を用いた点にある。この三路
管33は、内部を薬品供給路とする直管状の薬品供給管
30の外周部に、内部を温調水供給路とする温調水供給
管31および内部を温調水返送路とする温調水返送管3
2をそれぞれ螺旋状に周回したもので、これによって薬
品供給路の外周部に温調水供給路と温調水返送路とを並
設したものである。温調水供給管31と温調水返送管3
2とは、その螺旋状に周回する管部が互いに一路ずつず
れるように薬品供給管20の外周部に配設されたもの
で、それぞれ薬品供給管30に接して設けられたもので
ある。そして、このような構成により薬品供給路と温調
水供給路および温調水返送路とは、薬品供給管30の管
壁と温調水供給管31の管壁あるいは温調水返送管32
の管壁とを介して接したものとなっている。なお、薬品
供給管30、温調水供給管31、温調水返送管32は、
いずれも銅等の熱伝導性の良い金属から形成されてい
る。また、柔軟性が必要な部分であれば、フッ素樹脂等
の高分子材料を用いてもよい。
る。この第2実施例が先の第1実施例と異なるところ
は、図2に示した三路配管20に代えて、図5に示すよ
うに薬品供給管30と温調水供給管31と温調水返送管
32とからなる三路管33を用いた点にある。この三路
管33は、内部を薬品供給路とする直管状の薬品供給管
30の外周部に、内部を温調水供給路とする温調水供給
管31および内部を温調水返送路とする温調水返送管3
2をそれぞれ螺旋状に周回したもので、これによって薬
品供給路の外周部に温調水供給路と温調水返送路とを並
設したものである。温調水供給管31と温調水返送管3
2とは、その螺旋状に周回する管部が互いに一路ずつず
れるように薬品供給管20の外周部に配設されたもの
で、それぞれ薬品供給管30に接して設けられたもので
ある。そして、このような構成により薬品供給路と温調
水供給路および温調水返送路とは、薬品供給管30の管
壁と温調水供給管31の管壁あるいは温調水返送管32
の管壁とを介して接したものとなっている。なお、薬品
供給管30、温調水供給管31、温調水返送管32は、
いずれも銅等の熱伝導性の良い金属から形成されてい
る。また、柔軟性が必要な部分であれば、フッ素樹脂等
の高分子材料を用いてもよい。
【0022】このような構成の薬品供給装置を用いてレ
ジストを供給するには、先の第1実施例と同様にしてレ
ジストをレジスト配管3から、また温調水を温調水配管
7からそれぞれ図6に示すように継手34に導く。そし
て、この継手34からさらにレジストを三路管33の薬
品供給管30内に、また温調水を温調水配管31内に導
く。なお、継手34は、図3に示した継手21と同様に
管部34aと外筒部34bとからなり、外筒部34b内
にこれを仕切る仕切り板34cを設けたものである。そ
して、仕切り板34cで仕切られたうちの一方に前記温
調水供給管31が、他方に温調水返送管32が連結され
ている。
ジストを供給するには、先の第1実施例と同様にしてレ
ジストをレジスト配管3から、また温調水を温調水配管
7からそれぞれ図6に示すように継手34に導く。そし
て、この継手34からさらにレジストを三路管33の薬
品供給管30内に、また温調水を温調水配管31内に導
く。なお、継手34は、図3に示した継手21と同様に
管部34aと外筒部34bとからなり、外筒部34b内
にこれを仕切る仕切り板34cを設けたものである。そ
して、仕切り板34cで仕切られたうちの一方に前記温
調水供給管31が、他方に温調水返送管32が連結され
ている。
【0023】継手34を介して三路管33の薬品供給管
30内(薬品供給路)に流入したレジストは、その外周
部に並設された温調水供給管31、温調水返送管32内
を流れる温調水と熱交換することにより、所望する温度
に調整される。そして、温度調整されたレジストは、図
7に示すようにレジスト塗布ノズル11のヘッド35に
導かれ、その吐出管35aを経て被処理物24上に吐出
される。一方、温調水はヘッド35の容器35b内を折
り返して再度三路管33の温調水返送管32を流れ、再
度レジストとの熱交換を行った後、継手34、返送管2
2を経て温度調整器8に返送される。
30内(薬品供給路)に流入したレジストは、その外周
部に並設された温調水供給管31、温調水返送管32内
を流れる温調水と熱交換することにより、所望する温度
に調整される。そして、温度調整されたレジストは、図
7に示すようにレジスト塗布ノズル11のヘッド35に
導かれ、その吐出管35aを経て被処理物24上に吐出
される。一方、温調水はヘッド35の容器35b内を折
り返して再度三路管33の温調水返送管32を流れ、再
度レジストとの熱交換を行った後、継手34、返送管2
2を経て温度調整器8に返送される。
【0024】このような構成の薬品供給装置にあって
も、薬品供給管30に温調水返送管32を並設したの
で、第1実施例のものと同様にレジスト塗布ノズル11
を折り返して返送された温調水の余熱をレジストの熱交
換に利用することができ、これにより従来に比べて温度
調整器8を中心とする循環系に流す温調水を少なくする
ことができる。また、温調水供給管31、温調水返送管
32を薬品供給管30の外周部に螺旋状に周回させたこ
とにより、これらからなる三路管33を見掛け上1本の
管にすることができることから、レジスト塗布ノズル1
1の動きの制限を少なくすることができ、さらに配管が
少なくなることから装置内のスペースが増え、これによ
り作業者によるメンテナンスを容易にすることができ
る。
も、薬品供給管30に温調水返送管32を並設したの
で、第1実施例のものと同様にレジスト塗布ノズル11
を折り返して返送された温調水の余熱をレジストの熱交
換に利用することができ、これにより従来に比べて温度
調整器8を中心とする循環系に流す温調水を少なくする
ことができる。また、温調水供給管31、温調水返送管
32を薬品供給管30の外周部に螺旋状に周回させたこ
とにより、これらからなる三路管33を見掛け上1本の
管にすることができることから、レジスト塗布ノズル1
1の動きの制限を少なくすることができ、さらに配管が
少なくなることから装置内のスペースが増え、これによ
り作業者によるメンテナンスを容易にすることができ
る。
【0025】なお、前記実施例では本発明の薬品供給装
置をレジスト供給装置に適用した場合の例について説明
したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば現
像液を供給するための装置にも適用可能である。
置をレジスト供給装置に適用した場合の例について説明
したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば現
像液を供給するための装置にも適用可能である。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように本発明の薬品供給装
置は、温調水返送路を、温調水供給路とともに薬品供給
路に並設し、温調水返送路を流れる温調水と薬品供給路
を流れる薬品との間においても熱交換が行われるように
したものであるから、従来に比べ熱交換効率が高めるこ
とができ、これにより温度調整器を中心とする循環系に
流す温調水を少なくし、薬品供給装置のランニングコス
トを低減することができる。
置は、温調水返送路を、温調水供給路とともに薬品供給
路に並設し、温調水返送路を流れる温調水と薬品供給路
を流れる薬品との間においても熱交換が行われるように
したものであるから、従来に比べ熱交換効率が高めるこ
とができ、これにより温度調整器を中心とする循環系に
流す温調水を少なくし、薬品供給装置のランニングコス
トを低減することができる。
【0027】また、温調水返送路も薬品供給路に並設し
たことにより、該温調水返送路および薬品供給路と温調
水供給路とを見掛け上一本の配管によって構成するよう
にしたので、従来のごとく温調水返送路を別配管として
いたのに比べてその配管数を減らすことができ、したが
って薬品供給部の動きの制限を少なくすることができ、
さらに配管が少なくなることから装置内のスペースが増
え、これにより作業者によるメンテナンスを容易にする
ことができる。
たことにより、該温調水返送路および薬品供給路と温調
水供給路とを見掛け上一本の配管によって構成するよう
にしたので、従来のごとく温調水返送路を別配管として
いたのに比べてその配管数を減らすことができ、したが
って薬品供給部の動きの制限を少なくすることができ、
さらに配管が少なくなることから装置内のスペースが増
え、これにより作業者によるメンテナンスを容易にする
ことができる。
【図1】本発明における薬品供給装置の実施例の概略構
成図である。
成図である。
【図2】第1実施例の三路配管の構成を示す要部斜視図
である。
である。
【図3】第1実施例における継手の構成と各流体の流れ
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図4】第1実施例におけるヘッドの構成と各流体の流
れを示す説明図である。
れを示す説明図である。
【図5】第2実施例の三路管の構成を示す要部斜視図で
ある。
ある。
【図6】第2実施例における継手の構成と各流体の流れ
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図7】第2実施例におけるヘッドの構成と各流体の流
れを示す説明図である。
れを示す説明図である。
【図8】従来の薬品供給装置の一例の概略構成図であ
る。
る。
【図9】従来例における継手の構成と各流体の流れを示
す説明図である。
す説明図である。
【図10】従来例におけるヘッドの構成と各流体の流れ
を示す説明図である。
を示す説明図である。
8 温度調整器 10 レジスト塗布ユニット 11 レジスト塗布ノズル 20 三路配管 20a 内管部 20b 外筒部 20c 仕切り部 21、34 継手 23、35 ヘッド(供給部) 30 薬品供給管 31 温調水供給管 32 温調水返送管 33 三路管 A 温調水供給路 B 温調水返送路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/30 569C
Claims (3)
- 【請求項1】 薬品を温度調整して所望箇所に供給する
薬品供給装置であって、 前記薬品を供給するための薬品の流路となる薬品供給路
と、 温度調整器に接続されかつ前記薬品供給路に並設され
て、該薬品供給路内を流動する薬品の温度調整を行うた
めの、前記温度調整器からの温調水の流路となる温調水
供給路と、 前記薬品供給路の先端部、および前記温調水供給路の先
端部に連結されて薬品供給路から薬品を前記所望箇所に
供給する供給部と、 該供給部を介して前記温調水供給路に接続され、該温調
水供給路からの温調水を前記温度調整器に返送する温調
水返送路と、を備えてなり、 前記温調水返送路が、前記温調水供給路とともに前記薬
品供給路に並設されてなることを特徴とする薬品供給装
置。 - 【請求項2】 前記温調水供給路と前記温調水返送路と
が共に管体で形成されてなり、これら温調水供給路と温
調水返送路とが、その間に空洞部を形成するように互い
に接して構成され、該空洞部が前記薬品供給路とされて
なることを特徴とする請求項1記載の薬品供給装置。 - 【請求項3】 前記温調水供給路と前記温調水返送路と
前記薬品供給路とがいずれも管体で形成されてなり、前
記温調水供給路および温調水返送路が共に、前記薬品供
給路の外周部を螺旋状に周回した状態で該薬品供給路に
並設されてなることを特徴とする請求項1記載の薬品供
給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7082444A JPH08279451A (ja) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | 薬品供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7082444A JPH08279451A (ja) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | 薬品供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08279451A true JPH08279451A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=13774705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7082444A Pending JPH08279451A (ja) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | 薬品供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08279451A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156632A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Nikon Corp | ガス温度調整装置、鏡筒、露光装置並びにデバイスの製造方法、ガス温度調整方法 |
| JP2008103374A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Tokyo Electron Ltd | 複合配管及び複合配管を備える塗布・現像処理装置 |
| KR20150072320A (ko) * | 2013-12-19 | 2015-06-29 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 포토레지스트 노즐 디바이스 및 포토레지스트 공급 시스템 |
| JP2016111132A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給管、処理液供給装置及び液処理装置 |
| JP2016189407A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
-
1995
- 1995-04-07 JP JP7082444A patent/JPH08279451A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156632A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Nikon Corp | ガス温度調整装置、鏡筒、露光装置並びにデバイスの製造方法、ガス温度調整方法 |
| JP2008103374A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Tokyo Electron Ltd | 複合配管及び複合配管を備える塗布・現像処理装置 |
| KR20150072320A (ko) * | 2013-12-19 | 2015-06-29 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 포토레지스트 노즐 디바이스 및 포토레지스트 공급 시스템 |
| US10074547B2 (en) | 2013-12-19 | 2018-09-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist nozzle device and photoresist supply system |
| JP2016111132A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給管、処理液供給装置及び液処理装置 |
| JP2016189407A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
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