JPH0828320B2 - ウエーハの写真製版処理設備及び写真製版処理方法 - Google Patents
ウエーハの写真製版処理設備及び写真製版処理方法Info
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- JPH0828320B2 JPH0828320B2 JP9249290A JP9249290A JPH0828320B2 JP H0828320 B2 JPH0828320 B2 JP H0828320B2 JP 9249290 A JP9249290 A JP 9249290A JP 9249290 A JP9249290 A JP 9249290A JP H0828320 B2 JPH0828320 B2 JP H0828320B2
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、カセツトに複数枚収納された半導体ウエ
ーハを写真製版処理するための、ウエーハの写真製版処
理設備及び写真製版処理方法に関する。
ーハを写真製版処理するための、ウエーハの写真製版処
理設備及び写真製版処理方法に関する。
半導体のウエーハを第３図に示す。ウエーハ１は写真
製版処理前で、ウエーハ番号1aが施されている。このウ
エーハを収納するカセツトを第４図に示す。２はウエー
ハ１を多数枚（例えば24又は25枚）を立て姿勢で間隔を
あけ平行に収納するカセツトで、収納されたウエーハ１
群は１ロツトの単位にして各処理工程にかけられる。カ
セツト２には識別番号2aが施されている。
製版処理前で、ウエーハ番号1aが施されている。このウ
エーハを収納するカセツトを第４図に示す。２はウエー
ハ１を多数枚（例えば24又は25枚）を立て姿勢で間隔を
あけ平行に収納するカセツトで、収納されたウエーハ１
群は１ロツトの単位にして各処理工程にかけられる。カ
セツト２には識別番号2aが施されている。
従来のウエーハの写真製版処理設備は、第５図に示す
ようになつていた。４は多数の棚に仕切られた升部を有
する収納庫で、カセツト２を一時収納し、次工程に対し
て待機させる。５は複数組の写真製版処理装置で、次の
ように構成されている。７はマスク６を複数枚収納する
マスクストツカ、８はウエーハ１に対応するマスク６を
重ね露光する露光装置、９はウエーハ１のレジスト塗布
装置、10は現像装置である。
ようになつていた。４は多数の棚に仕切られた升部を有
する収納庫で、カセツト２を一時収納し、次工程に対し
て待機させる。５は複数組の写真製版処理装置で、次の
ように構成されている。７はマスク６を複数枚収納する
マスクストツカ、８はウエーハ１に対応するマスク６を
重ね露光する露光装置、９はウエーハ１のレジスト塗布
装置、10は現像装置である。
上記従来の設備の動作は、次のようになる。
収納庫４から取出され写真製版処理装置７に運ばれた
カセツト２は、作業員により識別番号2aが読取られ、こ
の識別番号に対応したマスク６をマスクストツカ５から
探し出し、露光装置８内に装着する。一方、カセツト２
内のウエーハ１を取出しウエーハ番号1aを確認し、レジ
スト塗布装置９に入れ塗布処理してから露光装置８に投
入する。露光処理されたウエーハ１は取出され現像装置
10で現像され、カセツト２に収納され、次の工程に搬送
される。
カセツト２は、作業員により識別番号2aが読取られ、こ
の識別番号に対応したマスク６をマスクストツカ５から
探し出し、露光装置８内に装着する。一方、カセツト２
内のウエーハ１を取出しウエーハ番号1aを確認し、レジ
スト塗布装置９に入れ塗布処理してから露光装置８に投
入する。露光処理されたウエーハ１は取出され現像装置
10で現像され、カセツト２に収納され、次の工程に搬送
される。
〔発明が解決しようとする課題〕 上記のような従来のウエーハの写真製版処理設備で
は、カセツト２の行き先指示、運搬作業及び各露光装置
８でのマスク６の検索及び交換作業は、同一のラインに
おいて多品種のウエーハ１を処理するため、膨大な作業
量となるものであり、次のような不具合があつた。
は、カセツト２の行き先指示、運搬作業及び各露光装置
８でのマスク６の検索及び交換作業は、同一のラインに
おいて多品種のウエーハ１を処理するため、膨大な作業
量となるものであり、次のような不具合があつた。
例えば、作業員による作業仕損じ、作業むら、仕掛り
数の増大、これによる工期の遅延、人手による取扱いで
ウエーハ１の汚染、さらには、ロツトが多数ありそれぞ
れ複雑な処理工程を要するので、工程管理が困難である
という問題点があつた。
数の増大、これによる工期の遅延、人手による取扱いで
ウエーハ１の汚染、さらには、ロツトが多数ありそれぞ
れ複雑な処理工程を要するので、工程管理が困難である
という問題点があつた。
この発明は、このような問題点を解決するためになさ
れたもので、カセツトの取扱い損じや仕掛かり数を減少
し、効率のよい工程管理をし、処理装置の稼働率向上が
されるウエーハの写真製版処理設備及び写真製版処理方
法を得ることを目的としている。
れたもので、カセツトの取扱い損じや仕掛かり数を減少
し、効率のよい工程管理をし、処理装置の稼働率向上が
されるウエーハの写真製版処理設備及び写真製版処理方
法を得ることを目的としている。
この発明にかかるウエーハの写真製版処理設備及び写
真製版処理方法は、収納庫の升部への収納の前後のカセ
ツトを、識別番号読取り装置により識別番号を読取るよ
うにし、升部から取出されたカセツトは移送装置により
写真製版処理装置に配送されてウエーハが処理される。
真製版処理方法は、収納庫の升部への収納の前後のカセ
ツトを、識別番号読取り装置により識別番号を読取るよ
うにし、升部から取出されたカセツトは移送装置により
写真製版処理装置に配送されてウエーハが処理される。
また、写真製版処理装置には、マスクストツカ、マス
ク番号読取り装置，マスク交換装置，ウエーハ番号読取
り装置を設け、マスク交換の際にマスク番号を、制御装
置の端末機及び写真製版処理装置によりコンピユータを
有する制御装置に登録し、カセツトの受渡し搬送は移動
装置により自動的に行い、識別番号読取り装置、移送装
置及び写真製版処理装置の制御と、各カセツトの進捗管
理とマスクの管理を制御装置により行うものである。
ク番号読取り装置，マスク交換装置，ウエーハ番号読取
り装置を設け、マスク交換の際にマスク番号を、制御装
置の端末機及び写真製版処理装置によりコンピユータを
有する制御装置に登録し、カセツトの受渡し搬送は移動
装置により自動的に行い、識別番号読取り装置、移送装
置及び写真製版処理装置の制御と、各カセツトの進捗管
理とマスクの管理を制御装置により行うものである。
この発明においては、写真製版処理装置に仕掛かつて
いるマスク番号を制御装置に登録し、複数のカセツトの
識別番号を読取り、上記カセツトに対応するマスクを備
えた写真製版処理装置を制御装置により自動的に検索
し、この製版処理装置に対してカセツトを移送投入しウ
エーハを処理する。これにより、カセツトの移送，投入
の効率のよい工程管理ができ、処理装置の仕掛かりを減
少させるとともに、マスク交換の手間を省き装置の稼働
率が向上される。
いるマスク番号を制御装置に登録し、複数のカセツトの
識別番号を読取り、上記カセツトに対応するマスクを備
えた写真製版処理装置を制御装置により自動的に検索
し、この製版処理装置に対してカセツトを移送投入しウ
エーハを処理する。これにより、カセツトの移送，投入
の効率のよい工程管理ができ、処理装置の仕掛かりを減
少させるとともに、マスク交換の手間を省き装置の稼働
率が向上される。
第１図はこの発明の一実施例によるウエーハの写真製
版処理設備の概要構成図であり、4,6〜10は上記従来設
備と同一のものである。図において、20はカセツト２の
識別番号2aを読みとる識別番号読取り装置、21は写真製
版処理装置で、次のように構成されている。
版処理設備の概要構成図であり、4,6〜10は上記従来設
備と同一のものである。図において、20はカセツト２の
識別番号2aを読みとる識別番号読取り装置、21は写真製
版処理装置で、次のように構成されている。
７はマスク６を複数枚各升部に収納するマスクストツ
カ、８はウエーハの露光装置、９はウエーハのレジスト
塗布装置、10は現像装置、22はマスクストツカ７と露光
装置８間でマスク６の交換を行うマスク交換装置、23は
マスク６のマスク番号を読取るマスク番号読取り装置、
24はカセツト２から出されたウエーハ１のウエーハ番号
1aを読取るウエーハ番号読取り装置である。25はカセツ
トの移送装置で、搬送路28を走行し、識別番号読取り装
置20からカセツト２を取出し収納庫４に収納し、また、
収納庫４のカセツト２を写真製版処理装置21に投入し、
処理完了後、カセツト２を写真製版処理装置21から受取
り、識別番号読取り装置20にかける。26はコンピユータ
を有し、写真製版処理装置21,識別番号読取り装置３及
び移送装置25を制御する制御装置で、カセツト２の識別
番号2a及びウエーハ１のウエーハ番号1a,マスク６の番
号を登録して工程を管理する。27はコンピユータの端末
機で、制御装置26に接続されている。
カ、８はウエーハの露光装置、９はウエーハのレジスト
塗布装置、10は現像装置、22はマスクストツカ７と露光
装置８間でマスク６の交換を行うマスク交換装置、23は
マスク６のマスク番号を読取るマスク番号読取り装置、
24はカセツト２から出されたウエーハ１のウエーハ番号
1aを読取るウエーハ番号読取り装置である。25はカセツ
トの移送装置で、搬送路28を走行し、識別番号読取り装
置20からカセツト２を取出し収納庫４に収納し、また、
収納庫４のカセツト２を写真製版処理装置21に投入し、
処理完了後、カセツト２を写真製版処理装置21から受取
り、識別番号読取り装置20にかける。26はコンピユータ
を有し、写真製版処理装置21,識別番号読取り装置３及
び移送装置25を制御する制御装置で、カセツト２の識別
番号2a及びウエーハ１のウエーハ番号1a,マスク６の番
号を登録して工程を管理する。27はコンピユータの端末
機で、制御装置26に接続されている。
次に、上記一実施例の装置の動作を、第２図の動作説
明図により説明する。
明図により説明する。
まず、ウエーハ１を収容したカセツト２複数個を識別
番号読取り装置20に搬送する。
番号読取り装置20に搬送する。
ついで、番号読取り装置20により識別番号2aが読取ら
れたカセツト２は、制御装置26の指令に基づいて移送装
置25により、次工程の処理待ちのために収納庫４に一時
収納する。
れたカセツト２は、制御装置26の指令に基づいて移送装
置25により、次工程の処理待ちのために収納庫４に一時
収納する。
つづいて、識別番号読取り装置20により読取られた識
別番号2aに対応するマスク６が登録されている写真製版
処理装置21を、制御装置26により検索し、その写真製版
処理装置21に対して、制御装置26の指令で対応するカセ
ツト２を移送装置25により収納庫４から取出し移送し投
入する。
別番号2aに対応するマスク６が登録されている写真製版
処理装置21を、制御装置26により検索し、その写真製版
処理装置21に対して、制御装置26の指令で対応するカセ
ツト２を移送装置25により収納庫４から取出し移送し投
入する。
カセツト２を受取つた写真製版処理装置21は、カセツ
ト２からウエーハ１を自動取出機（図示しない）により
取出し、レジスト塗布装置９でレジスト塗布し、ウエー
ハ番号読取り装置24でウエーハ番号を確認する。一方、
制御装置26の指令に基づいて、受取つたカセツト２のウ
エーハ１に対応するマスク６をマスクストツカ７からマ
スク交換装置22により取出し、マスク読取り装置23にか
けマスク番号を読取り、露光装置８にセツトする。同時
に、写真製版処理装置21は読取つたマスク６の番号を制
御装置26に登録する。なお、対応するマスク６が既に露
光装置８にセツトされてある場合は、マスクストツカ７
からのマスク６の交換は要しない。露光装置８により露
光処理されたウエーハ１は現像装置10で現像され、カセ
ツト２に自動収納機（図示しない）で収納される。この
カセツト２は移送装置25により写真製版処理装置21から
取出され、再び識別番号読取り装置20に搬送される。
ト２からウエーハ１を自動取出機（図示しない）により
取出し、レジスト塗布装置９でレジスト塗布し、ウエー
ハ番号読取り装置24でウエーハ番号を確認する。一方、
制御装置26の指令に基づいて、受取つたカセツト２のウ
エーハ１に対応するマスク６をマスクストツカ７からマ
スク交換装置22により取出し、マスク読取り装置23にか
けマスク番号を読取り、露光装置８にセツトする。同時
に、写真製版処理装置21は読取つたマスク６の番号を制
御装置26に登録する。なお、対応するマスク６が既に露
光装置８にセツトされてある場合は、マスクストツカ７
からのマスク６の交換は要しない。露光装置８により露
光処理されたウエーハ１は現像装置10で現像され、カセ
ツト２に自動収納機（図示しない）で収納される。この
カセツト２は移送装置25により写真製版処理装置21から
取出され、再び識別番号読取り装置20に搬送される。
また、一つのカセツト２内にそれぞれ異なるマスク６
が使用されるウエーハ１が混在している場合は、次のよ
うに処理する。識別番号読取り装置20によりカセツト２
の識別番号2aを読取つた時点で、制御装置26は上記マス
ク６が異なつているウエーハ１が混在しているカセツト
２を認識し、上記の場合と同様に、収納庫４から写真製
版処理装置21に投入する際、カセツト２で使用するすべ
てのマスク６が収納されている写真製版処理装置21に対
し、カセツト２を投入するように移送装置25に対して指
示する。移送装置25は指示された写真製版処理装置21に
対し、収納庫４からカセツト２を取出し投入する。
が使用されるウエーハ１が混在している場合は、次のよ
うに処理する。識別番号読取り装置20によりカセツト２
の識別番号2aを読取つた時点で、制御装置26は上記マス
ク６が異なつているウエーハ１が混在しているカセツト
２を認識し、上記の場合と同様に、収納庫４から写真製
版処理装置21に投入する際、カセツト２で使用するすべ
てのマスク６が収納されている写真製版処理装置21に対
し、カセツト２を投入するように移送装置25に対して指
示する。移送装置25は指示された写真製版処理装置21に
対し、収納庫４からカセツト２を取出し投入する。
カセツト２を受取つた写真製版処理装置21は、ウエー
ハ番号読取り装置24によりウエーハ番号1aを読取り、制
御装置26に報告する。制御装置26は報告されたウエーハ
番号1aに対応したマスク６の交換指示を写真製版処理装
置21に出す。これにより、写真製版処理装置21はマスク
交換装置22によりマスクストツカ７から所要のマスク６
を取出し、マスク番号読取り装置23によりマスク番号を
読取り、制御装置26に報告してから露光装置８にセツト
し、ウエーハ１の処理を行う。これを各ウエーハ１ごと
に繰返し処理を行う。また、制御装置26によりマスク６
の検索の際に、仕掛つた写真製版処理装置21に、該当す
るマスク６がない場合は、異常通報を行う。ウエーハ１
の処理完了後の動作は、上記一実施例の場合と同様であ
る。
ハ番号読取り装置24によりウエーハ番号1aを読取り、制
御装置26に報告する。制御装置26は報告されたウエーハ
番号1aに対応したマスク６の交換指示を写真製版処理装
置21に出す。これにより、写真製版処理装置21はマスク
交換装置22によりマスクストツカ７から所要のマスク６
を取出し、マスク番号読取り装置23によりマスク番号を
読取り、制御装置26に報告してから露光装置８にセツト
し、ウエーハ１の処理を行う。これを各ウエーハ１ごと
に繰返し処理を行う。また、制御装置26によりマスク６
の検索の際に、仕掛つた写真製版処理装置21に、該当す
るマスク６がない場合は、異常通報を行う。ウエーハ１
の処理完了後の動作は、上記一実施例の場合と同様であ
る。
次に、新たに写真製版処理装置21のマスクストツカ７
にマスク６を収納する場合、マスクストツカ７から取出
したマスク６の削除と新しく収納したマスク６の登録
を、制御装置26に接続したコンピユータ端末機27、ある
いは、写真製版処理装置21より行う。また、コンピユー
タ端末機27,写真製版処理装置21は、露光装置８にセツ
トされているマスク６の登録、交換の指示もできるよう
にしている。
にマスク６を収納する場合、マスクストツカ７から取出
したマスク６の削除と新しく収納したマスク６の登録
を、制御装置26に接続したコンピユータ端末機27、ある
いは、写真製版処理装置21より行う。また、コンピユー
タ端末機27,写真製版処理装置21は、露光装置８にセツ
トされているマスク６の登録、交換の指示もできるよう
にしている。
以上のように、この発明によれば、カセツトを識別番
号読取り装置により識別番号を読取つて収納庫に一時収
納し、また、写真製版処理装置に露光装置，マスクスト
ツカ，マスク番号読取り装置，マスク交換装置，ウエー
ハ番号読取り装置，ウエーハのレジスト塗布装置及び露
光処理後のウエーハの現像装置を配設し、カセツト識別
番号読取り装置と収納庫間、収納庫と写真製版処理装置
間、写真製版処理装置からカセツト識別番号読取り装置
へのカセツトの移送を移送装置により行い、制御装置に
より、カセツト識別番号読取り装置，移送装置及び写真
製版処理装置の制御を行い、カセツト識別番号，ウエー
ハ番号及びマスク番号を制御装置に登録して処理工程管
理を行うようにしたので、処理装置の仕掛かりが減少さ
れ、写真製版処理装置の稼働率が向上され、作業の仕損
じが防止され生産性が高められる。
号読取り装置により識別番号を読取つて収納庫に一時収
納し、また、写真製版処理装置に露光装置，マスクスト
ツカ，マスク番号読取り装置，マスク交換装置，ウエー
ハ番号読取り装置，ウエーハのレジスト塗布装置及び露
光処理後のウエーハの現像装置を配設し、カセツト識別
番号読取り装置と収納庫間、収納庫と写真製版処理装置
間、写真製版処理装置からカセツト識別番号読取り装置
へのカセツトの移送を移送装置により行い、制御装置に
より、カセツト識別番号読取り装置，移送装置及び写真
製版処理装置の制御を行い、カセツト識別番号，ウエー
ハ番号及びマスク番号を制御装置に登録して処理工程管
理を行うようにしたので、処理装置の仕掛かりが減少さ
れ、写真製版処理装置の稼働率が向上され、作業の仕損
じが防止され生産性が高められる。
第１図はこの発明の一実施例によるウエーハの写真製版
処理設備の概要斜視図、第２図は第１図の設備によるウ
エーハの写真製版処理方法を示す説明図、第３図は半導
体ウエーハの平面図、第４図はウエーハ収納のためのカ
セツトの斜視図、第５図は従来のウエーハの写真製版処
理設備の概要斜視図である。 １……半導体ウエーハ、1a……ウエーハ番号、２……カ
セツト、2a……カセツト識別番号、４……収納庫、６…
…マスク、７……マスクストツカ、８……露光装置、９
……レジスト塗布装置、10……現像装置、20……カセツ
ト識別番号読取り装置、21……写真製版処理装置、22…
…マスク交換装置、23……マスク番号読取り装置、24…
…ウエーハ番号読取り装置、25……移送装置、26……制
御装置、27……コンピユータ端末機 なお、図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
処理設備の概要斜視図、第２図は第１図の設備によるウ
エーハの写真製版処理方法を示す説明図、第３図は半導
体ウエーハの平面図、第４図はウエーハ収納のためのカ
セツトの斜視図、第５図は従来のウエーハの写真製版処
理設備の概要斜視図である。 １……半導体ウエーハ、1a……ウエーハ番号、２……カ
セツト、2a……カセツト識別番号、４……収納庫、６…
…マスク、７……マスクストツカ、８……露光装置、９
……レジスト塗布装置、10……現像装置、20……カセツ
ト識別番号読取り装置、21……写真製版処理装置、22…
…マスク交換装置、23……マスク番号読取り装置、24…
…ウエーハ番号読取り装置、25……移送装置、26……制
御装置、27……コンピユータ端末機 なお、図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ
Claims (2)
- 【請求項１】複数枚のウエーハを収納したカセツトの識
別番号を読取る識別番号読取り装置、 多数の升部が設けられており、識別番号が読取られた上
記カセツトを所定の升部に一時収納し、次工程に対し待
機させる収納庫、 ウエーハのレジスト塗布装置と、ウエーハをパターニン
グする露光装置と、露光装置に使用するマスクを複数枚
収納するマスクストツカと、このマスクストツカと露光
装置間でマスクの交換を行うマスク交換装置と、マスク
に施された番号を読取るマスク番号読取り装置と、ウエ
ーハに施された番号を読取るウエーハ番号読取り装置
と、現像装置とからなる複数組の写真製版処理装置、 上記カセツトを識別番号読取り装置から受取り収納庫の
升部に収納し、また、升部のカセツトを取出し写真製版
処理装置に移送して投入し、この写真製版処理装置での
ウエーハの処理完了後、ウエーハを収納したカセツトを
取出し上記識別番号読取り装置にかける移送装置、 コンピユータを有しており、上記写真製版処理装置，識
別番号読取り装置及び移送装置を制御し、上記カセツト
の識別番号とウエーハ番号及びマスク番号を登録し工程
管理する制御装置、 及び制御装置に接続されたコンピユータ端末機を備えて
なるウエーハの写真製版処理設備。 - 【請求項２】複数枚のウエーハを収納したカセツトの識
別番号を識別番号読取り装置で読取り、このカセツトを
収納庫の升部に一時収納し、 制御装置の指令で収納庫のカセツトを、対応する所要の
マスクが仕掛けられている分の写真製版処理装置に移送
し、カセツトからウエーハを取出しレジストを塗布し、
つづいてウエーハ番号を読取り露光装置に入れ、 一方、露光装置に所要のマスクがセツトされている場合
は、制御装置の指令でウエーハを露光処理をし、所要の
マスクがセツトされていない場合は、制御装置の指令で
マスクストツカから所要のマスクを取出し、マスク番号
読取り装置でマスク番号を読取り、露光装置にマスクを
交換しセツトし、ウエーハの露光処理をし、 露光処理されたウエーハは現像処理してからカセツトに
収納し、このカセツトをカセツト識別番号読取り装置に
移送し、カセツト識別番号を読取り次工程へ送るように
してあり、 上記制御装置はコンピユータを有し、各装置の動作指令
をし、所要のマスクを有する写真製版処理装置を検索す
るようにし、コンピユータの端末機及び上記写真製版処
理装置は、マスクストツカに収納されているマスクの登
録と、露光装置にセツトされているマスクの登録，交換
の指示がされるようにしていることを特徴とするウエー
ハの写真製版処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9249290A JPH0828320B2 (ja) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | ウエーハの写真製版処理設備及び写真製版処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9249290A JPH0828320B2 (ja) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | ウエーハの写真製版処理設備及び写真製版処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03289120A JPH03289120A (ja) | 1991-12-19 |
| JPH0828320B2 true JPH0828320B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=14055798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (1)
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| JP (1) | JPH0828320B2 (ja) |
-
1990
- 1990-04-05 JP JP9249290A patent/JPH0828320B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03289120A (ja) | 1991-12-19 |
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