JPH0828412B2 - ウエハ搬送装置 - Google Patents

ウエハ搬送装置

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JPH0828412B2
JPH0828412B2 JP61146632A JP14663286A JPH0828412B2 JP H0828412 B2 JPH0828412 B2 JP H0828412B2 JP 61146632 A JP61146632 A JP 61146632A JP 14663286 A JP14663286 A JP 14663286A JP H0828412 B2 JPH0828412 B2 JP H0828412B2
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wafer
wafer transfer
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wheels
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圭一 古垣
ゆう司 前田
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明はイオン注入装置のような半導体製造装置内で
使用されるウエハ搬送装置に関する。
(従来の技術) イオン注入装置には、周知のように、ウエハを大気中
から予備真空室を介して真空処理室に搬入し、イオン注
入後にウエハを再び予備真空室を介して大気中に搬出す
るウエハ搬送装置が設けられている。
この種のウエハ搬送装置としては、従来からウエハの
自重を利用する装置が知られている。このウエハ搬送装
置は、大気中から予備真空室を介して真空処理室に至る
ウエハの傾斜案内機構と、この真空処理室から別の予備
真空室を介して大気中に至る別の傾斜案内機構とを有
し、ウエハの自重を利用してウエハを傾斜案内機構によ
り順次下方に移動させ、イオン注入処理を行うものであ
る。
このウエハ搬送装置はウエハの自重を利用するので駆
動装置が不要であるという利点を有するが、その反面ホ
トレジスト層を設けたウエハの場合には搬送途中でひっ
かかりが生じて作業の中断が生じたり搬送の高速化が困
難であるという難点があった。
またストッパによりウエハを停止させる際に、ウエハ
端部に付着したレジスト層やウエハ端部が破壊してパー
ティクル(塵)を発生するという問題もあった。
さらに従来の装置ではウエハ・カセットから順にイオ
ン注入装置部に搬入されたウエハは、イオン注入後別の
ウエハ・カセットに収納されるため、ウエハ管理上種々
の不都合が生じていた。
(発明が解決しようとする問題点) 上述したように、従来のウエハ搬送装置では、ウエハ
の搬入・搬出の円滑性を欠き、かつ高速化が難しく、さ
らにパーティクルが発生するという問題があった。
本発明はこのような従来の難点を解消すべくなされた
もので、ウエハの搬入・搬出を円滑にかつ高速で行うこ
とができ、パーティクルの発生がなく、さらにウエハを
両方向に搬送可能なウエハ搬送装置を提供することを目
的とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) すなわち本発明のウエハ搬送装置は、半導体装置内に
配設されたセラミックスからなるガイドレールと、この
ガイドレール上を走行するフッ素樹脂からなる車輪を備
えた案内車と、この案内車に装着されたウエハ保持装置
と、前記案内車を駆動する駆動装置とを有することを特
徴としている。なお上記のガイドレールおよび車輪は、
それぞれ互いに接触する面がセラミックスおよびフッ素
樹脂で形成されていればよく、したがって金属との複合
体も使用可能である。
(作用) 本発明のウエハ搬送装置は、ウエハ保持装置が案内車
に装着されてガイドレール上を走行するので円滑にかつ
高速で左右両方向にウエハの搬送を行うことができる。
また上記のガイドレールが耐摩耗性があり、高剛性のセ
ラミックスからなり、搬送車の車輪が潤滑性の高い弾性
のあるフッ素樹脂からなるので摩耗によるパーティクル
の発生は極めて少くなる。
(実施例) 以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図ないし第3図において、ウエハ搬送装置1は、
上下に平行配置された一対のセラミックス製ガイドレー
ル2、3と、これらのガイドレール2、3をテフロンの
ようなフッ素樹脂製の車輪4a、4b、4c、5a、5b、5cで挟
持するようにして装架された案内車6と、この案内車6
の上部に固定されたウエハ保持装置7、8とから構成さ
れている。なお上記のガイドレール2、3および車輪3
a、…、3b、…は、それぞれ互いに接触する面がセラミ
ックスおよびフッ素樹脂で形成されていればよい。した
がってガイドレール2、3として金属との接合体や金属
上へセラミックスを溶射したものも使用可能である。ま
た車輪3a、…、3b、…も、フッ素樹脂による成形品の他
金属製の車輪の外周へフッ素樹脂をコーティングしたも
のも使用可能である。
案内車6は、それぞれガイドレール2、3に沿って張
り出した水平腕9a、10aの両端に上向きの垂直腕9b、9
c、10b、10cと水平腕9a、10aの中央に下向きの垂直腕9
d、10dを有する独立した2組の支持部材9、10と、上記
各垂直腕の先端に回転自在に軸支された車輪4a、…、5
a、…等から構成されている。
そしてウエハ保持装置7は、一方の支持部材9の上向
きの垂直腕9bの先端に水平に固設された把持爪7aと他方
の支持部材10のこれと隣接する上向きの垂直腕10bの先
端に固設された上向きの把持爪7bとから構成されてい
る。
またウエハ保持装置8は、一方の支持部材9の上向き
の垂直腕9cの先端に水平に固設された把持爪8aと他方の
支持部材10のこれと隣接する上向きの垂直腕10cの先端
に固設された上向きの把持爪8bとから構成されている。
把持爪7a、7bおよび8a、8bは第4図に示すようにそれぞ
れ断面L字状または逆L字状をなしており、L字状また
は逆L字状の水平部でウエハの自重を支持し、かつ垂直
部でウエハを把持するようになっている。L字の垂直部
にはウエハを把持する際のガイドとして20°〜70°の面
取を施している。
また、パーティクルの発生を抑えるため把持爪にフッ
素樹脂等のコーティングを行なうことも可能である。
そして上述した支持部材9、10は、車輪4a、…、5a、
…等に案内されて、図示を省略した駆動装置によりガイ
ドレール2、3上を同期して往復動し、ガイドレール
2、3の両端近傍で後から進行する支持部材が前を進行
する支持部材よりわずかに早く、例えば図示を省略した
ストッパに阻止されて停止し把持爪間の間隔をわずかに
広げウエハの把持あるいは解除動作を行う。
第5図は、この実施例のウエハ搬送装置をイオン注入
装置11のインプラントチャンバー12内に配設した例を示
すものである。
同図において、ウエハ保持装置の支持部材9、10は、
それぞれ同期して動作する駆動手段例えばステッピング
モータあるいはブラシレスDCモータ等によりベルト等を
介して図示を省略したガイドレール上を往復動される。
この実施例において、例えば5図の右側の真空予備室
から導入されたウエハW1を中央のプラテン13上に移送す
るとともにプラテン13上にあるウエハW2を左側に移送す
る場合には、支持部材9、10は、それぞれ左あるいは右
方向に僅かだけ移動して把持爪8a、8b、7a、7bでウエハ
W1、W2を挟持する。次に支持部材9、10は、左方向に移
動し、それぞれ右および左方向に僅かだけ移動して把持
爪8a、8b、7a、7bで挟持していたウエハW1、W2を解放す
る。このときのウエハW2の位置を破線で示す。逆の場合
(左および中央位置にあるウエハをそれぞれ中央および
右側位置に移す場合)には上記と逆の動作が行われて、
左および中央位置にあるウエハをそれぞれ中央および右
側位置に移される。
[発明の効果] 以上説明したように本発明のウエハ搬送装置は、ウエ
ハ保持装置が案内車に装着されてガイドレール上を走行
するので円滑にかつ高速で左右両方向にウエハの搬送を
行うことができ、また上記のガイドレールと搬送車の車
輪がそれぞれ耐摩耗性のセラミックスと潤滑性の高いフ
ッ素樹脂からなるので摩耗によるパーティクルの発生は
極めて少くなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の正面図、第2図はその平面
図、第3図は第1図のIII-III線に沿う側断面図、第4
図は第2図のIV-IV線に沿う把持爪の断面図、第5図は
この実施例をイオン注入装置のインプラントチャンバー
内に配設した状態を概略的に示す平面図である。 1……ウエハ搬送装置、2、3……セラミックス製ガイ
ドレール、4a、4b、4c、5a、5b、5c2、3……フッ素樹
脂製の車輪、6……案内車、7、8……ウエハ保持装
置、9、10……支持部材、11……イオン注入装置、12…
…インプラントチャンバー、13……プラテン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/265

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体製造装置内に配設されたセラミック
    スからなるガイドレールと、このガイドレール上を走行
    するセラミックス又は合成樹脂からなる車輪を備えた案
    内車と、この案内車に装着されたウエハ保持装置と、前
    記案内車を駆動する駆動装置とを有することを特徴とす
    るウエハ搬送装置。
  2. 【請求項2】半導体製造装置がイオン注入装置である特
    許請求の範囲第1項記載のウエハ搬送装置。
JP61146632A 1986-06-23 1986-06-23 ウエハ搬送装置 Expired - Fee Related JPH0828412B2 (ja)

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JPH088938Y2 (ja) * 1989-04-24 1996-03-13 株式会社椿本チエイン 吊下搬送装置のハンガー揺れ止め機構
JPH0388978U (ja) * 1989-12-28 1991-09-11
US7010388B2 (en) * 2003-05-22 2006-03-07 Axcelis Technologies, Inc. Work-piece treatment system having load lock and buffer

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