JPH08286363A - 水なし平版印刷版の製造方法 - Google Patents
水なし平版印刷版の製造方法Info
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- JPH08286363A JPH08286363A JP8694295A JP8694295A JPH08286363A JP H08286363 A JPH08286363 A JP H08286363A JP 8694295 A JP8694295 A JP 8694295A JP 8694295 A JP8694295 A JP 8694295A JP H08286363 A JPH08286363 A JP H08286363A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】基板上に少なくとも光硬化性感光層およびイン
キ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
を露光現像後、80〜150℃の温度で処理することを
特徴とする水なし平版印刷版の製造方法 【効果】印刷時の耐ヒッキー性、耐溶剤性、耐刷性の優
れた印刷版を提供することができる。また耐溶剤性の向
上によりUVキュアインキの使用も可能となる。
キ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
を露光現像後、80〜150℃の温度で処理することを
特徴とする水なし平版印刷版の製造方法 【効果】印刷時の耐ヒッキー性、耐溶剤性、耐刷性の優
れた印刷版を提供することができる。また耐溶剤性の向
上によりUVキュアインキの使用も可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水なし平版印刷版の実
用特性の改良、特に印刷時の耐刷性、耐ヒッキー性、耐
溶剤性を改良する、水なし平版印刷版の製造方法に関す
るものである。
用特性の改良、特に印刷時の耐刷性、耐ヒッキー性、耐
溶剤性を改良する、水なし平版印刷版の製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、シリコーンゴム層をインキ反
撥層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
撥層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
【0003】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭54−26923号公報、特公昭56−23
150号公報などにおいて、基板上に光重合性感光層と
シリコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、ま
た特公平3−56622号広報、特開昭61−1536
55号公報などにおいて、基板上に光架橋性感光層とシ
リコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版などが
提案されている。
は、特公昭54−26923号公報、特公昭56−23
150号公報などにおいて、基板上に光重合性感光層と
シリコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、ま
た特公平3−56622号広報、特開昭61−1536
55号公報などにおいて、基板上に光架橋性感光層とシ
リコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版などが
提案されている。
【0004】しかしながら、このような光接着性の印刷
版はインキ受容層が未露光部であるため、表面の粘着性
が高く、画線部に紙粉等が粘着、蓄積してヒッキーが発
生してしまう。また感光層の耐溶剤性が一般に小さく、
画線部が溶解してしまうので用いることのできるインキ
溶剤等が制限されてしまうという問題がある。さらにこ
のような印刷版を用いて数万枚以上の大量印刷を行う
と、シリコーンゴム層が疲労して傷付き、やがては傷が
インキ受容層である感光層にまで達し、印刷品質上最も
好ましくない汚れを発生するという問題もある。
版はインキ受容層が未露光部であるため、表面の粘着性
が高く、画線部に紙粉等が粘着、蓄積してヒッキーが発
生してしまう。また感光層の耐溶剤性が一般に小さく、
画線部が溶解してしまうので用いることのできるインキ
溶剤等が制限されてしまうという問題がある。さらにこ
のような印刷版を用いて数万枚以上の大量印刷を行う
と、シリコーンゴム層が疲労して傷付き、やがては傷が
インキ受容層である感光層にまで達し、印刷品質上最も
好ましくない汚れを発生するという問題もある。
【0005】このような問題を解決する手段としてシリ
コーンゴム層の膜厚を大きくし、汚れの発生を抑制する
方法が考えられるが、このような手段をとった場合に
は、現像時の微小網点部分の剥離性を著しく低下させ、
再現レベルの低い印刷版しか得られないだけでなく、イ
ンキマイレージの問題も生じる。また、刷版作製時の露
光時間を長くして、光硬化性感光層の重合反応を充分促
進させ、その結果、シリコーンゴム層との接着力を高め
て耐刷力を向上させるという方法も考えられるが、その
効果を顕在化させるためには、感光特性的な露光時間を
はるかに越えた露光を行う必要があり、その結果、ハレ
ーション等によって微小網点の再現レベルの低い印刷版
しか得られないという問題が生ずる。
コーンゴム層の膜厚を大きくし、汚れの発生を抑制する
方法が考えられるが、このような手段をとった場合に
は、現像時の微小網点部分の剥離性を著しく低下させ、
再現レベルの低い印刷版しか得られないだけでなく、イ
ンキマイレージの問題も生じる。また、刷版作製時の露
光時間を長くして、光硬化性感光層の重合反応を充分促
進させ、その結果、シリコーンゴム層との接着力を高め
て耐刷力を向上させるという方法も考えられるが、その
効果を顕在化させるためには、感光特性的な露光時間を
はるかに越えた露光を行う必要があり、その結果、ハレ
ーション等によって微小網点の再現レベルの低い印刷版
しか得られないという問題が生ずる。
【0006】このようなヒッキー発生、耐溶剤性の向上
および耐刷性の向上を目的として、特開昭54−183
05号公報には、水なし平版印刷版を露光現像後、後露
光を施すことが提案されている。この際、光重合禁止剤
となる酸素を遮断するため、保護フィルムをラミネート
したり、保護被膜を形成後露光する方法が述べられてい
るが、完全に酸素を遮断することは難しく、期待された
耐溶剤性向上は得られなかった。また窒素などの不活性
ガス中や真空中で後露光を行う方法においても耐溶剤性
向上が得られないだけでなく、酸素の除去に長時間有し
実用的でない。特開昭55−70847号公報において
は、水なし平版印刷版を露光現像後熱処理を行うことが
提案されているが、熱処理温度が高く印刷支持体の変形
をもたらすとともに経済的にも不利である。
および耐刷性の向上を目的として、特開昭54−183
05号公報には、水なし平版印刷版を露光現像後、後露
光を施すことが提案されている。この際、光重合禁止剤
となる酸素を遮断するため、保護フィルムをラミネート
したり、保護被膜を形成後露光する方法が述べられてい
るが、完全に酸素を遮断することは難しく、期待された
耐溶剤性向上は得られなかった。また窒素などの不活性
ガス中や真空中で後露光を行う方法においても耐溶剤性
向上が得られないだけでなく、酸素の除去に長時間有し
実用的でない。特開昭55−70847号公報において
は、水なし平版印刷版を露光現像後熱処理を行うことが
提案されているが、熱処理温度が高く印刷支持体の変形
をもたらすとともに経済的にも不利である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、これら
の点に挑み、他の版特性に影響を与えることなく、ヒッ
キーの発生を抑える方法および耐溶剤性、版面強度の向
上について鋭意研究した結果、本発明に到達したもので
ある。
の点に挑み、他の版特性に影響を与えることなく、ヒッ
キーの発生を抑える方法および耐溶剤性、版面強度の向
上について鋭意研究した結果、本発明に到達したもので
ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に少なくとも光硬化性感光層およびインキ反撥層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版を露光現像
後、80〜150℃の温度で処理することを特徴とする
水なし平版印刷版の製造方法である。
上に少なくとも光硬化性感光層およびインキ反撥層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版を露光現像
後、80〜150℃の温度で処理することを特徴とする
水なし平版印刷版の製造方法である。
【0009】本発明に使用される水なし平版印刷版原版
の基板としては、通常の平版印刷機に取り付けられるた
わみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうるものでなけれ
ばならない。代表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、
などの金属板、ポリエチレンフィルムやポリプロピレン
フィルムなどのプラスチックフィルムあるいはコート
紙、ゴムシートなどが挙げられる。
の基板としては、通常の平版印刷機に取り付けられるた
わみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうるものでなけれ
ばならない。代表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、
などの金属板、ポリエチレンフィルムやポリプロピレン
フィルムなどのプラスチックフィルムあるいはコート
紙、ゴムシートなどが挙げられる。
【0010】光硬化性感光層は基板上に均一に塗布され
ており、基板に密着しているならば、層の厚みは任意で
あるが、好ましくは100ミクロン以下であり、50ミ
クロン以下のものがさらに有用である。もし必要であれ
ば、光硬化性感光層と基板との間の接着性向上あるい
は、ハレーション防止のために基板と光硬化性感光層と
の間にアンカーコート層をもうけることも有用である。
ており、基板に密着しているならば、層の厚みは任意で
あるが、好ましくは100ミクロン以下であり、50ミ
クロン以下のものがさらに有用である。もし必要であれ
ば、光硬化性感光層と基板との間の接着性向上あるい
は、ハレーション防止のために基板と光硬化性感光層と
の間にアンカーコート層をもうけることも有用である。
【0011】本発明に用いられる光硬化性感光層として
は、光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
は、光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
【0012】本発明に用いられる光重合性層としてはた
とえば以下に示すような組成のものがあげられる。
とえば以下に示すような組成のものがあげられる。
【0013】 (1)沸点100℃以上の光重合性不飽和モノマあるいはオリゴマ 1.0 〜99.9重量部 (2)光増感剤 0.1 〜20.0重量部 (3)必要に応じて添加される熱重合禁止剤 0.01〜10.0重量部 (4)必要に応じて添加される光重合性層の形態保持用充填剤(ポリマあるいは 無機粉末) 0.01〜95.0重量部 光重合性不飽和モノマあるいはオリゴマの代表的な例と
しては、炭素数30以下の1価のアルコールあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100℃以上のアクリル
酸エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これら
を(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の
説明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメ
タ□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)ア
クリルアミド、炭素数30以下の多価アルコールあるい
は多価アミンから誘導された沸点100℃以上の(メ
タ)アクリル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルア
ミド、アミンとグリシジル(メタ)アクリレートとの付
加反応生成物などをあげることができる。
しては、炭素数30以下の1価のアルコールあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100℃以上のアクリル
酸エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これら
を(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の
説明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメ
タ□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)ア
クリルアミド、炭素数30以下の多価アルコールあるい
は多価アミンから誘導された沸点100℃以上の(メ
タ)アクリル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルア
ミド、アミンとグリシジル(メタ)アクリレートとの付
加反応生成物などをあげることができる。
【0014】光増感剤の代表としては、ベンゾフェノ
ン、チオキサントン、ミヒラー氏ケトン、ベンゾインメ
チルエーテル、ジベンジルジスルフィドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマやコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの無
機粉末がそれぞれ有効である。
ン、チオキサントン、ミヒラー氏ケトン、ベンゾインメ
チルエーテル、ジベンジルジスルフィドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマやコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの無
機粉末がそれぞれ有効である。
【0015】本発明に用いられる光架橋性層としては以
下に示すようなものがあげられる。 (1)光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニ
ルなどを含む感光層。
下に示すようなものがあげられる。 (1)光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニ
ルなどを含む感光層。
【0016】(2)エポキシ基を有するモノマ、オリゴ
マまたはポリマとジアゾニウム塩との組み合わせからな
る感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解に
よりルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して
架橋する。ジアゾニウム塩として、例えば2、5−ジエ
トキシ−4(−P−トルイルチオ)ベンゼンジアゾニウ
ムヘキサフロロフオスフェートなどが用いられる。
マまたはポリマとジアゾニウム塩との組み合わせからな
る感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解に
よりルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して
架橋する。ジアゾニウム塩として、例えば2、5−ジエ
トキシ−4(−P−トルイルチオ)ベンゼンジアゾニウ
ムヘキサフロロフオスフェートなどが用いられる。
【0017】(3)アリル基を有するモノマ、オリゴマ
またはポリマとチオール基を有するモノマ、オリゴマま
たはポリマとの組み合わせからなる感光層。これは露光
するとチオール基がアリル基に付加して架橋する。
またはポリマとチオール基を有するモノマ、オリゴマま
たはポリマとの組み合わせからなる感光層。これは露光
するとチオール基がアリル基に付加して架橋する。
【0018】(4)ジアゾニウム塩、例えばP−ジアゾ
ジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物など。
ジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物など。
【0019】(5)アジド化合物と環化ゴムを主成分と
する感光層。
する感光層。
【0020】インキ反撥層としては、シリコーンゴム層
が通常用いられる。
が通常用いられる。
【0021】シリコーンゴム層は0.5〜50ミクロ
ン、好ましくは0.5〜5ミクロンの厚さと、紫外線が
透過しうる透明性を有する。有用なシリコーンゴムは末
端基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜10
00000の線状ジオルガノポリシロキサン(好ましく
はジメチルポリシロキサン)を主成分とし、必要に応じ
て架橋剤、触媒が添加されたものである。しかしこれに
限らず、SiH基と−CH=CH−基との付加反応によ
って架橋させた付加型シリコーンゴム層も有用である。
ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価ハイドロジ
ェンオルガノポリシロキサンと、1分子中に2個以上の
−CH=CH−結合を有するポリシロキサン化合物との
反応によって得られるもので、望ましくは、以下の成
分: (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(望ましくはビニル基 )を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量 部(2)1分子中に少なくともSiH結合2個有するオルガノポリシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分(1)
のアルケニル基は分子鎖、中間のいずれにあってもよ
く、アルケニル基以外の有機基としては、置換もしくは
非置換のアルキル基、アリール基である。成分(1)に
は水酸基を微量含有さえてもよい。成分(2)は成分
(1)と反応してシリコーンゴム層を形成するが、感光
層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分(2)の
水酸基は分子鎖末端、中間いずれにあってもよく、水素
以外の有機基としては成分(1)と同様のものから選ば
れる。成分(1)と成分(2)の有機基はインキ反発性
向上の点で総じて基数の60%以上がメチル基であるこ
とが好ましい。成分(1)および成分 (2)の分子構
造は直鎖状、環状、分岐状いずれでもよく、どちらかす
くなくとも一方の分子量が1000を超えることがゴム
物性の面で好ましく、更に成分 (1)の分子量が10
00を超えることが好ましい。
ン、好ましくは0.5〜5ミクロンの厚さと、紫外線が
透過しうる透明性を有する。有用なシリコーンゴムは末
端基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜10
00000の線状ジオルガノポリシロキサン(好ましく
はジメチルポリシロキサン)を主成分とし、必要に応じ
て架橋剤、触媒が添加されたものである。しかしこれに
限らず、SiH基と−CH=CH−基との付加反応によ
って架橋させた付加型シリコーンゴム層も有用である。
ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価ハイドロジ
ェンオルガノポリシロキサンと、1分子中に2個以上の
−CH=CH−結合を有するポリシロキサン化合物との
反応によって得られるもので、望ましくは、以下の成
分: (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(望ましくはビニル基 )を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量 部(2)1分子中に少なくともSiH結合2個有するオルガノポリシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分(1)
のアルケニル基は分子鎖、中間のいずれにあってもよ
く、アルケニル基以外の有機基としては、置換もしくは
非置換のアルキル基、アリール基である。成分(1)に
は水酸基を微量含有さえてもよい。成分(2)は成分
(1)と反応してシリコーンゴム層を形成するが、感光
層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分(2)の
水酸基は分子鎖末端、中間いずれにあってもよく、水素
以外の有機基としては成分(1)と同様のものから選ば
れる。成分(1)と成分(2)の有機基はインキ反発性
向上の点で総じて基数の60%以上がメチル基であるこ
とが好ましい。成分(1)および成分 (2)の分子構
造は直鎖状、環状、分岐状いずれでもよく、どちらかす
くなくとも一方の分子量が1000を超えることがゴム
物性の面で好ましく、更に成分 (1)の分子量が10
00を超えることが好ましい。
【0022】成分(1)としては、α,ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の(メチルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示さ
れ、成分(2)としては、両末端水素基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルハイドロジェンシロキサ
ン)(ジメチルシロキサン)共重合体、環状ポリメチル
ハイドロジェンシロキサンなどが例示される。
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の(メチルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示さ
れ、成分(2)としては、両末端水素基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルハイドロジェンシロキサ
ン)(ジメチルシロキサン)共重合体、環状ポリメチル
ハイドロジェンシロキサンなどが例示される。
【0023】成分(3)の付加触媒は、公知のもののな
かから任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望まし
く、白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金、などが
例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目的
で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビ
ニル基含有オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結
合のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロピレングリコールモノメチル
エーテルなどの架橋抑制剤を添加することも可能であ
る。これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシ
シランなどの公知の接着付与剤を添加することや、縮合
型シリコーンゴム層の組成物である水酸基が含有オルガ
ノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基であるジ
メチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイル、末端
がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロキサン、
加水分解性官能機含有シラン(もしくはシロキサン)を
添加してもよい。また、ゴム強度を向上させるために、
シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
かから任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望まし
く、白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金、などが
例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目的
で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビ
ニル基含有オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結
合のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロピレングリコールモノメチル
エーテルなどの架橋抑制剤を添加することも可能であ
る。これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシ
シランなどの公知の接着付与剤を添加することや、縮合
型シリコーンゴム層の組成物である水酸基が含有オルガ
ノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基であるジ
メチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイル、末端
がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロキサン、
加水分解性官能機含有シラン(もしくはシロキサン)を
添加してもよい。また、ゴム強度を向上させるために、
シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
【0024】シリコーンゴム層はインキ反撥性を有する
ものであり、その表面はいくぶん粘着性を有し、埃など
が付着しやすく、そのため露光工程においてポジフィル
ムが十分に密着しにくいなどの問題が起こりやすいの
で、シリコーンゴム層の表面に、薄い透明性の保護フィ
ルムを張りつけることもできる。また、この保護フィル
ムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を抑制し、光硬
化性層の光硬化を促進する役割をも演ずる。有用な保護
フィルムは紫外線を透過し得る透明性と、100ミクロ
ン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有し、そ
の代表例として次のようなプラスチックのフィルムをあ
げることができる。ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ールポリエチレンテレフタレートセロファンなど。
ものであり、その表面はいくぶん粘着性を有し、埃など
が付着しやすく、そのため露光工程においてポジフィル
ムが十分に密着しにくいなどの問題が起こりやすいの
で、シリコーンゴム層の表面に、薄い透明性の保護フィ
ルムを張りつけることもできる。また、この保護フィル
ムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を抑制し、光硬
化性層の光硬化を促進する役割をも演ずる。有用な保護
フィルムは紫外線を透過し得る透明性と、100ミクロ
ン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有し、そ
の代表例として次のようなプラスチックのフィルムをあ
げることができる。ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ールポリエチレンテレフタレートセロファンなど。
【0025】このようにして構成された平版印刷版原版
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフィルムを真空
密着し、該フィルムを通じて活性光線を照射する。この
露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生する
ものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、メタルハイドランプ、タングステンランプ、蛍光灯
等を使うことができる。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフィルムを真空
密着し、該フィルムを通じて活性光線を照射する。この
露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生する
ものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、メタルハイドランプ、タングステンランプ、蛍光灯
等を使うことができる。
【0026】次いで、保護フィルムが存在する場合は、
保護フィルムを取り去った後、現像液に浸漬し、現像用
パッドまたは現像用ブラシを用いて現像し水なし平版を
得る。 このようにして得られた露光、現像後の版に対
して、さらに80〜150℃の温度で熱処理を行う。好
ましくは、100〜150℃、より好ましくは100〜
130℃である。
保護フィルムを取り去った後、現像液に浸漬し、現像用
パッドまたは現像用ブラシを用いて現像し水なし平版を
得る。 このようにして得られた露光、現像後の版に対
して、さらに80〜150℃の温度で熱処理を行う。好
ましくは、100〜150℃、より好ましくは100〜
130℃である。
【0027】熱処理温度が高すぎる場合は、熱定着とい
う点から何ら問題はないが、印刷版支持体の変形をもた
らすとともに経済的にも不利である。また熱処理温度が
低すぎる場合は定着が行われないか、あるいは定着に要
する熱処理時間が極めて長くかかり実用的でない。
う点から何ら問題はないが、印刷版支持体の変形をもた
らすとともに経済的にも不利である。また熱処理温度が
低すぎる場合は定着が行われないか、あるいは定着に要
する熱処理時間が極めて長くかかり実用的でない。
【0028】熱処理時間は版に応じてまた熱処理温度に
応じて適宜選択することができるが、通常0.5〜30
分間程度であり、好ましくは1〜5分の範囲である。
応じて適宜選択することができるが、通常0.5〜30
分間程度であり、好ましくは1〜5分の範囲である。
【0029】また露光現像後、熱処理を行う前に、過酸
化ベンゾイルのような過酸化物、アゾビスイソブチロニ
トリルなどの熱重合触媒で版面を処理するとより効果的
に熱定着が起こる。
化ベンゾイルのような過酸化物、アゾビスイソブチロニ
トリルなどの熱重合触媒で版面を処理するとより効果的
に熱定着が起こる。
【0030】なお、熱処理は現像後に行われるので、現
像性、網点再現性には何ら影響を与えることなく、耐ヒ
ッキー性、耐溶剤性、耐刷力を向上させることができ
る。また耐溶剤性の向上により、UVキュアインキの使
用も可能となる。本発明の他の効果としては、熱処理に
より印刷物へのインキ転移性が良くなり、インキの乗り
むらのない印刷物を得ることができる点をあげられる。
像性、網点再現性には何ら影響を与えることなく、耐ヒ
ッキー性、耐溶剤性、耐刷力を向上させることができ
る。また耐溶剤性の向上により、UVキュアインキの使
用も可能となる。本発明の他の効果としては、熱処理に
より印刷物へのインキ転移性が良くなり、インキの乗り
むらのない印刷物を得ることができる点をあげられる。
【0031】以下実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
明するが、本発明はこれらに限定されない。
【0032】実施例1 アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ4ミクロ
ンの光硬化性層を設けた。
ンの光硬化性層を設けた。
【0033】 (1)アジピン酸とヘキサン−1,6ジオールおよび2,2−ジメチルプロパ ン−1,3−ジオールからなるポリエステルポリオールとイソホロンジイソシア ネートとのポリウレタン 56重量部 (2)メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反 応物 40重量部 (3)ミヒラー氏ケトン 4重量部 次いでこの光硬化性層の上に次の組成を有するシリコー
ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層を設け
た。
ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層を設け
た。
【0034】 (1)両末端OH基のジメチルポリシロキサン(分子量80000) 100重量部 (2)エチルトリアセトキシシラン 5重量部 (3)酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチ
レンテレフタレートフィルム”ルミラー”(東レ(株)
製)を保護フィルムとしてラミネートして平版印刷用原
版とした。
レンテレフタレートフィルム”ルミラー”(東レ(株)
製)を保護フィルムとしてラミネートして平版印刷用原
版とした。
【0035】この平版印刷用原版に網点面積率を段階的
に変えた(200線、2〜98%)ポジフィルムを密着
し、3Kwの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1mの
距離から90秒露光した。
に変えた(200線、2〜98%)ポジフィルムを密着
し、3Kwの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1mの
距離から90秒露光した。
【0036】露光版からラミネートしてある保護フィル
ムを取り除き、ジエチレングリコールモノ−2−エチル
ヘキシルエーテル/1,3−ブチレングリコール=70
/30の現像液を東レ水なし平版自動現像機(TWL−
1160,(東レ(株)製)の前処理槽に入れ、現像槽
には水を入れて、前処理温度40℃、搬送スピード10
0cm/分で現像した後、メチルイソブチルケトンに溶
解した熱重合触媒アゾビスイソブチロニトリルを版面に
塗布し120℃で5分間熱処理した。
ムを取り除き、ジエチレングリコールモノ−2−エチル
ヘキシルエーテル/1,3−ブチレングリコール=70
/30の現像液を東レ水なし平版自動現像機(TWL−
1160,(東レ(株)製)の前処理槽に入れ、現像槽
には水を入れて、前処理温度40℃、搬送スピード10
0cm/分で現像した後、メチルイソブチルケトンに溶
解した熱重合触媒アゾビスイソブチロニトリルを版面に
塗布し120℃で5分間熱処理した。
【0037】このようにして得られた印刷版を、オフセ
ット印刷機(小森スプリント4色機)に取り付け、大日
本インキ化学工業(株)製”ドライオカラー”藍インキ
を用いてコート紙に印刷した結果、ヒッキーがほとんど
付着することなく50000枚以上の良好な印刷物が得
られた。
ット印刷機(小森スプリント4色機)に取り付け、大日
本インキ化学工業(株)製”ドライオカラー”藍インキ
を用いてコート紙に印刷した結果、ヒッキーがほとんど
付着することなく50000枚以上の良好な印刷物が得
られた。
【0038】実施例2 アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ4ミクロ
ンの光硬化性層を設けた。
ンの光硬化性層を設けた。
【0039】 (1)アジピン酸とヘキサン−1,6ジオールおよび2,2−ジメチルプロパ ン−1,3−ジオールからなるポリエステルポリオールとイソホロンジイソシア ネートとのポリウレタン 56重量部 (2)トリメチレン−ビス(4−アミノベンゾアート)/グリシジルメタクリ レート=1/4モル比付加反応物 26重量部 (3)トリプロピレングリコールジアクリレート 10重量部 (4)4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 5重量部 (5)2、4−ジエチルチオキサントン 5重量部 (6)ビクトリアピュアブルーBOH 0.3重量部 (7)エチルセロソルブ 580重量部 実施例1と同様にして原版を露光現像し、120℃で5
分間熱処理を行った。このようにして得られた印刷版を
用いて実施例1同様オフセット印刷機(小森スプリント
4色機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”
ドライオカラー”藍インキを用いてコート紙に印刷した
結果、ヒッキーがほとんど付着することなく15000
0枚以上の良好な印刷物が得られた。
分間熱処理を行った。このようにして得られた印刷版を
用いて実施例1同様オフセット印刷機(小森スプリント
4色機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製”
ドライオカラー”藍インキを用いてコート紙に印刷した
結果、ヒッキーがほとんど付着することなく15000
0枚以上の良好な印刷物が得られた。
【0040】実施例3 シリコーンゴム溶液として下記のものを使用した。 (1)両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン(重合度〜700) 77重量部 (2)(CH 3 ) 3 Si-O-(Si(CH 3 ) 2 -O) 30-(SiH(CH3 )-O)10-Si(CH 3 )3 10重量部 (3)塩化白金酸/メチルビニルサイクリックス鎖体 2.5重量部 (4)アセチルアセトンアルコール 0.5重量部 (5)ポリジメチルシロキサン(重合度〜8000) 10重量部 (6)アイソパーE 1000重量部 実施例1と同様にして原版を露光現像し、120℃で5
分間熱処理を行った。このようにして得られた印刷版を
用いて実施例1同様小森印刷機(株)製「スプリント」
で印刷した結果、シリコーンゴム層と感光層の強度が向
上し50000枚以上の良好な印刷物が得られた。
分間熱処理を行った。このようにして得られた印刷版を
用いて実施例1同様小森印刷機(株)製「スプリント」
で印刷した結果、シリコーンゴム層と感光層の強度が向
上し50000枚以上の良好な印刷物が得られた。
【0041】比較例1 実施例1と同様にして作製した原版を露光現像し、熱処
理を行わず印刷した結果、画線部のベタツキのため30
00枚印刷した時点からヒッキーが発生し印刷が困難で
あった。
理を行わず印刷した結果、画線部のベタツキのため30
00枚印刷した時点からヒッキーが発生し印刷が困難で
あった。
【0042】比較例2 実施例2と同様にして作製した原版を露光、現像し熱処
理を行わず印刷した結果、画線部のベタツキのため50
000枚印刷した時点からヒッキーが発生し印刷が困難
であった。
理を行わず印刷した結果、画線部のベタツキのため50
000枚印刷した時点からヒッキーが発生し印刷が困難
であった。
【0043】比較例3 実施例3と同様にして作製した原版を露光、現像し熱処
理を行わず印刷した結果、画線部のベタツキおよび非画
線部の強度が低いため3000枚印刷した時点から汚れ
が発生し印刷が困難であった。
理を行わず印刷した結果、画線部のベタツキおよび非画
線部の強度が低いため3000枚印刷した時点から汚れ
が発生し印刷が困難であった。
【0044】比較例4 実施例1と同様にして作製した原版を露光、現像し26
0℃で5分間熱処理した結果、印刷版が変形してしまっ
た。
0℃で5分間熱処理した結果、印刷版が変形してしまっ
た。
【0045】実施例4 実施例1で得られた印刷版をエタノール、n−プロパノ
ール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート、酢酸−n−ブチル、アセトン、メ
チルエチルケトン、トルエン、キシレン、アクリル酸モ
ノマ、アクリル酸ブチルにそれぞれ浸漬しラビングテス
トを行った結果、いずれも版面はほとんど損傷を受けず
耐溶剤性においても良好な印刷版が得られることがわか
った。実施例1同様オフセット印刷機(小森スプリント
4色機)に取り付け、T&KTOKA製”UV171”
藍インキ(UVキュアインキ)を用いてコート紙に印刷
した結果、熱処理した印刷版では50000枚印刷して
も感光層が基板から剥離することなく良好な印刷物が得
られた。
ール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート、酢酸−n−ブチル、アセトン、メ
チルエチルケトン、トルエン、キシレン、アクリル酸モ
ノマ、アクリル酸ブチルにそれぞれ浸漬しラビングテス
トを行った結果、いずれも版面はほとんど損傷を受けず
耐溶剤性においても良好な印刷版が得られることがわか
った。実施例1同様オフセット印刷機(小森スプリント
4色機)に取り付け、T&KTOKA製”UV171”
藍インキ(UVキュアインキ)を用いてコート紙に印刷
した結果、熱処理した印刷版では50000枚印刷して
も感光層が基板から剥離することなく良好な印刷物が得
られた。
【0046】比較例5 比較例1で得られた印刷版を、実施例4と同様にラビン
グテストを行ったが、いずれもすぐにシリコーン剥がれ
が見られた。また実施例4と同様に印刷した結果100
0枚印刷した時点から感光層が基板から剥離した。
グテストを行ったが、いずれもすぐにシリコーン剥がれ
が見られた。また実施例4と同様に印刷した結果100
0枚印刷した時点から感光層が基板から剥離した。
【0047】
【発明の効果】本発明は、水なし平版印刷版原版を露光
現像後、80〜150℃で熱処理することによって印刷
時の耐ヒッキー性、耐溶剤性、耐刷性の優れた印刷版を
提供することができる。また耐溶剤性の向上によりUV
キュアインキの使用も可能となる。
現像後、80〜150℃で熱処理することによって印刷
時の耐ヒッキー性、耐溶剤性、耐刷性の優れた印刷版を
提供することができる。また耐溶剤性の向上によりUV
キュアインキの使用も可能となる。
Claims (2)
- 【請求項1】 基板上に少なくとも光硬化性感光層およ
びインキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷
版原版を露光現像後、80〜150℃の温度で処理する
ことを特徴とする水なし平版印刷版の製造方法。 - 【請求項2】 水なし平版印刷版原版を露光現像後、熱
重合触媒で処理した後、80〜150℃の温度で処理す
ることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷版の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8694295A JPH08286363A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 水なし平版印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8694295A JPH08286363A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 水なし平版印刷版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08286363A true JPH08286363A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=13900932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8694295A Pending JPH08286363A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 水なし平版印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08286363A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100524186B1 (ko) * | 2002-07-24 | 2005-10-27 | 주식회사 엠아이테크 | 금속사진 제작방법 및 그 방법에 의하여 제작된 금속사진 |
-
1995
- 1995-04-12 JP JP8694295A patent/JPH08286363A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100524186B1 (ko) * | 2002-07-24 | 2005-10-27 | 주식회사 엠아이테크 | 금속사진 제작방법 및 그 방법에 의하여 제작된 금속사진 |
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