JPH08287634A - 磁気ヘッド支持機構 - Google Patents
磁気ヘッド支持機構Info
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- JPH08287634A JPH08287634A JP7092346A JP9234695A JPH08287634A JP H08287634 A JPH08287634 A JP H08287634A JP 7092346 A JP7092346 A JP 7092346A JP 9234695 A JP9234695 A JP 9234695A JP H08287634 A JPH08287634 A JP H08287634A
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- head support
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
- G11B5/4833—Structure of the arm assembly, e.g. load beams, flexures, parts of the arm adapted for controlling vertical force on the head
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転する磁気記憶媒体１２と、該媒体に対し
て情報の読み書きできる磁気ヘッド２３を該媒体上の任
意の位置にアクセスする機構を具備する磁気記憶装置に
おける磁気ヘッド支持機構に関し、この磁気ヘッド支持
機構に正確且つ簡単に荷重を与えることを目的とする。 【構成】 ジンバル２５を介して前記磁気ヘッド２３を
保持するロードビーム２１の弾性部２１ｂ上に薄膜４１
を形成すること、並びに該薄膜はその成膜時に内部膜応
力により収縮又は膨張するものであること、を特徴とす
る磁気ヘッド支持機構を提供する。
て情報の読み書きできる磁気ヘッド２３を該媒体上の任
意の位置にアクセスする機構を具備する磁気記憶装置に
おける磁気ヘッド支持機構に関し、この磁気ヘッド支持
機構に正確且つ簡単に荷重を与えることを目的とする。 【構成】 ジンバル２５を介して前記磁気ヘッド２３を
保持するロードビーム２１の弾性部２１ｂ上に薄膜４１
を形成すること、並びに該薄膜はその成膜時に内部膜応
力により収縮又は膨張するものであること、を特徴とす
る磁気ヘッド支持機構を提供する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク装置に関
し、特に磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッド支持
機構に関する。
し、特に磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッド支持
機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の磁気ヘッド支持機構は、磁気ヘッ
ドを搭載するスライダと、このスライダを保持するジン
バルと、このジンバルを保持するロードビームと、この
ロードビームを保持するスペーサとで構成されている。
ロードビームには剛体の部分と弾性の部分とがあり、弾
性部にはスライダを媒体に押しつけるための荷重を発生
させるべく、「Ｒ曲げ」と呼ばれる機械曲げ加工が施さ
れており、これにより所定の荷重でスライダを媒体に対
して押しつける。記録再生時において媒体（磁気ディス
ク）が回転する時は、スライダにかけられる荷重と空気
流によってスライダ浮上面に発生する浮上力とが釣り合
い、媒体上でスライダは微小な間隔をもって浮上する。
ドを搭載するスライダと、このスライダを保持するジン
バルと、このジンバルを保持するロードビームと、この
ロードビームを保持するスペーサとで構成されている。
ロードビームには剛体の部分と弾性の部分とがあり、弾
性部にはスライダを媒体に押しつけるための荷重を発生
させるべく、「Ｒ曲げ」と呼ばれる機械曲げ加工が施さ
れており、これにより所定の荷重でスライダを媒体に対
して押しつける。記録再生時において媒体（磁気ディス
ク）が回転する時は、スライダにかけられる荷重と空気
流によってスライダ浮上面に発生する浮上力とが釣り合
い、媒体上でスライダは微小な間隔をもって浮上する。
【０００３】次に従来技術を図面を参照して説明する
と、図１及び図２にＲ曲げ加工により曲げられたロード
ビームを有する従来の磁気ヘッド支持機構を示し、図３
にこの種の磁気ヘッド支持機構を適用した３．５インチ
タイプの磁気ディスク装置を示す。まず、図３におい
て、磁気ディスク装置１０は、エンクロージャ１１内
に、径が３．５インチの磁気ディスク１２、及びヘッド
位置決め用アクチュエータ１３等が組込まれた構造を有
する。磁気ヘッド支持機構２０において、ステンレス製
のロードビーム２１は、アクチュエータのアーム部２２
のスペーサに固定してある。
と、図１及び図２にＲ曲げ加工により曲げられたロード
ビームを有する従来の磁気ヘッド支持機構を示し、図３
にこの種の磁気ヘッド支持機構を適用した３．５インチ
タイプの磁気ディスク装置を示す。まず、図３におい
て、磁気ディスク装置１０は、エンクロージャ１１内
に、径が３．５インチの磁気ディスク１２、及びヘッド
位置決め用アクチュエータ１３等が組込まれた構造を有
する。磁気ヘッド支持機構２０において、ステンレス製
のロードビーム２１は、アクチュエータのアーム部２２
のスペーサに固定してある。
【０００４】図１に示す磁気ヘッド支持機構２０ａは一
般的な形態のもので、ロードビーム２１は剛性部２１ａ
とＲ曲げ加工の施された弾性部２１ｂから成る。磁気ヘ
ッド２３を搭載したスライダ２４はジンバル２５を介し
てロードビーム２１の剛性部２１ａに固定されており、
ロードビーム２１の弾性部２１ｂはスペーサ２６に取付
けられ、更にアクチュエータのアーム部２２（図３）に
取付けられている。
般的な形態のもので、ロードビーム２１は剛性部２１ａ
とＲ曲げ加工の施された弾性部２１ｂから成る。磁気ヘ
ッド２３を搭載したスライダ２４はジンバル２５を介し
てロードビーム２１の剛性部２１ａに固定されており、
ロードビーム２１の弾性部２１ｂはスペーサ２６に取付
けられ、更にアクチュエータのアーム部２２（図３）に
取付けられている。
【０００５】図２に示す磁気ヘッド支持機構２０ｂはロ
ードビーム２１とジンバル２５が一体の部材で形成され
たもので、ロードビーム２１はスライダ２４を取付けた
一端から他端（弾性部２１ｂ）まで略均一な幅を有し、
ロードビーム２１の剛性部２１ａの一端部に開口等を形
成することによりジンバル２５が一体で形成されてい
る。
ードビーム２１とジンバル２５が一体の部材で形成され
たもので、ロードビーム２１はスライダ２４を取付けた
一端から他端（弾性部２１ｂ）まで略均一な幅を有し、
ロードビーム２１の剛性部２１ａの一端部に開口等を形
成することによりジンバル２５が一体で形成されてい
る。
【０００６】なお、図１又は図２において、ロードビー
ム２１の剛体部２１ａは横幅の両側が折り曲げられてい
て剛体としての特性を有し、一方Ｒ曲げ加工の施された
弾性部２１ｂにはこのような折り曲げ部分はなく弾性体
としての特性を有する。
ム２１の剛体部２１ａは横幅の両側が折り曲げられてい
て剛体としての特性を有し、一方Ｒ曲げ加工の施された
弾性部２１ｂにはこのような折り曲げ部分はなく弾性体
としての特性を有する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図１又は図２に示した
従来の磁気ヘッド支持機構２０ａ，２０ｂではサイズ
（全長約２０〜３０mm）も、荷重（数グラム）も大き
く、また、材料のステンレスの板厚が厚かった（５０〜
８０μｍ）ため機械曲げによるＲ曲げ加工は困難では無
かった。しかし、近年磁気ディスク装置のヘッド・ディ
スクインターフェース特性の向上のため磁気ヘッド支持
機構のサイズ、荷重は小さくなっている。例えば磁気ヘ
ッド支持機構のサイズは全長１０mm程度、荷重は１ｇ以
下である。また、これに伴いステンレスの板厚も薄くな
り例えば２５μｍの板材も使われるようになってきてい
る。このような磁気ヘッド支持機構に対する要求の変化
に伴い所定の荷重を磁気ヘッド支持機構のロードビーム
の弾性部の機械加工によるＲ曲げによって正確に得るこ
とが困難になってきた。さらに、ロードビームに曲げ加
工を行う際に磁気ヘッド支持機構を固定するための治具
等により磁気ヘッド支持機構に曲がり、捻じれ、反りが
発生する等の問題が生じている。これにより磁気ヘッド
支持機構の信頼性は低下する。
従来の磁気ヘッド支持機構２０ａ，２０ｂではサイズ
（全長約２０〜３０mm）も、荷重（数グラム）も大き
く、また、材料のステンレスの板厚が厚かった（５０〜
８０μｍ）ため機械曲げによるＲ曲げ加工は困難では無
かった。しかし、近年磁気ディスク装置のヘッド・ディ
スクインターフェース特性の向上のため磁気ヘッド支持
機構のサイズ、荷重は小さくなっている。例えば磁気ヘ
ッド支持機構のサイズは全長１０mm程度、荷重は１ｇ以
下である。また、これに伴いステンレスの板厚も薄くな
り例えば２５μｍの板材も使われるようになってきてい
る。このような磁気ヘッド支持機構に対する要求の変化
に伴い所定の荷重を磁気ヘッド支持機構のロードビーム
の弾性部の機械加工によるＲ曲げによって正確に得るこ
とが困難になってきた。さらに、ロードビームに曲げ加
工を行う際に磁気ヘッド支持機構を固定するための治具
等により磁気ヘッド支持機構に曲がり、捻じれ、反りが
発生する等の問題が生じている。これにより磁気ヘッド
支持機構の信頼性は低下する。
【０００８】磁気ヘッド支持機構を取りつけたキャリッ
ジをシークした時には、当然、磁気ヘッド支持機構はそ
のキャリッジの振動の影響を受ける。これにより、磁気
ヘッドの位置決め精度も低下し、ひいてはディスク装置
の信頼性を低減させる。このような理由により、シーク
時にキャリッジから磁気ヘッド支持機構に伝えられる振
動を抑えるかが問題となっている。
ジをシークした時には、当然、磁気ヘッド支持機構はそ
のキャリッジの振動の影響を受ける。これにより、磁気
ヘッドの位置決め精度も低下し、ひいてはディスク装置
の信頼性を低減させる。このような理由により、シーク
時にキャリッジから磁気ヘッド支持機構に伝えられる振
動を抑えるかが問題となっている。
【０００９】従来、磁気ヘッド支持機構のロードビーム
のばね部に熱エネルギーを与えてばね圧の調整を行うも
の（特開平５−１８９９０６号）、ロードビームのばね
変形部位を、超弾性を有する材料（例えば形状記憶合
金）により形成するもの（特開昭６３−２８１２８３
号）、ジンバル組立体を荷重調整した後、このジンバル
組立体を熱処理して低温焼鈍したもの（特開昭６３−８
７８号）、ロードアームの板材の一部が切り起こされて
曲げられ磁気ヘッドを記録媒体の側へ付勢する荷重を与
えるもの（特開平５−６２４０５号）、ジンバルの可撓
舌部を延出させてその先端部にジンバルからの下方への
押圧力が付与されるようにしたもの（特開平６−１０３
７１７号）等において、ロードビームの安定化を図って
いるものもあるが、製造工数や製造コストが大きくな
り、価格を低減するのには不向きである。また、特開平
６−２１５５１３号においては、ロードビーム自体に形
成されたジンバル部において、磁気ヘッドスライダが固
定される固定部の両側に、Ｔ字形の梁部を形成し、これ
らの梁部によりジンバル部の共振点を下げずにジンバル
部の回転剛性を低くするように構成している。
のばね部に熱エネルギーを与えてばね圧の調整を行うも
の（特開平５−１８９９０６号）、ロードビームのばね
変形部位を、超弾性を有する材料（例えば形状記憶合
金）により形成するもの（特開昭６３−２８１２８３
号）、ジンバル組立体を荷重調整した後、このジンバル
組立体を熱処理して低温焼鈍したもの（特開昭６３−８
７８号）、ロードアームの板材の一部が切り起こされて
曲げられ磁気ヘッドを記録媒体の側へ付勢する荷重を与
えるもの（特開平５−６２４０５号）、ジンバルの可撓
舌部を延出させてその先端部にジンバルからの下方への
押圧力が付与されるようにしたもの（特開平６−１０３
７１７号）等において、ロードビームの安定化を図って
いるものもあるが、製造工数や製造コストが大きくな
り、価格を低減するのには不向きである。また、特開平
６−２１５５１３号においては、ロードビーム自体に形
成されたジンバル部において、磁気ヘッドスライダが固
定される固定部の両側に、Ｔ字形の梁部を形成し、これ
らの梁部によりジンバル部の共振点を下げずにジンバル
部の回転剛性を低くするように構成している。
【００１０】本発明は、ロードビームに精度よく荷重を
発生させて、シーク時のキャリッジの振動による影響、
特に荷重の変動を少なくして信頼性を向上し、経費の低
減を可能とする磁気ヘッド支持機構を提供することを目
的とする。
発生させて、シーク時のキャリッジの振動による影響、
特に荷重の変動を少なくして信頼性を向上し、経費の低
減を可能とする磁気ヘッド支持機構を提供することを目
的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１によると、回転
する磁気記憶媒体と、該媒体に対して情報の読み書きで
きる磁気ヘッドを該媒体上の任意の位置にアクセスする
機構を具備する磁気記憶装置における磁気ヘッド支持機
構であって、ジンバルを介して前記磁気ヘッドを保持す
るロードビームの弾性部上に薄膜を形成すること、並び
に該薄膜はその成膜時に内部膜応力により収縮又は膨張
するものであること、を特徴とする磁気ヘッド支持機構
が提供される。
する磁気記憶媒体と、該媒体に対して情報の読み書きで
きる磁気ヘッドを該媒体上の任意の位置にアクセスする
機構を具備する磁気記憶装置における磁気ヘッド支持機
構であって、ジンバルを介して前記磁気ヘッドを保持す
るロードビームの弾性部上に薄膜を形成すること、並び
に該薄膜はその成膜時に内部膜応力により収縮又は膨張
するものであること、を特徴とする磁気ヘッド支持機構
が提供される。
【００１２】請求項２によると、前記薄膜は、金属膜、
酸化膜、樹脂膜、セラミック膜、又は非金属膜のうち少
なくともいずれか１層を含むことを特徴とする請求項１
に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。請求項３に
よると、前記薄膜は単層であることを特徴とする請求項
１又は２に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。
酸化膜、樹脂膜、セラミック膜、又は非金属膜のうち少
なくともいずれか１層を含むことを特徴とする請求項１
に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。請求項３に
よると、前記薄膜は単層であることを特徴とする請求項
１又は２に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。
【００１３】請求項４によると、前記薄膜は２層以上の
多層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁
気ヘッド支持機構が提供される。請求項５によると、２
層以上の層は同種の層であることを特徴とする請求項５
に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。請求項６に
よると、２層以上の層は異種の層であることを特徴とす
る請求項５に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。
多層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁
気ヘッド支持機構が提供される。請求項５によると、２
層以上の層は同種の層であることを特徴とする請求項５
に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。請求項６に
よると、２層以上の層は異種の層であることを特徴とす
る請求項５に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。
【００１４】請求項７によると、２層以上の異種の層の
少なくとも１層は金属層であり、少なくとも他の１層は
該金属等の腐食を防止する保護層であることを特徴とす
る請求項６に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。
請求項８によると、ロードビームの剛性部上にも薄膜が
形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気
ヘッド支持機構が提供される。
少なくとも１層は金属層であり、少なくとも他の１層は
該金属等の腐食を防止する保護層であることを特徴とす
る請求項６に記載の磁気ヘッド支持機構が提供される。
請求項８によると、ロードビームの剛性部上にも薄膜が
形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気
ヘッド支持機構が提供される。
【００１５】請求項９によると、薄膜はロードビームの
弾性部上からロードビームの剛性部上へ連続して延在し
ていることを特徴とする請求項８に記載の磁気ヘッド支
持機構が提供される。請求項１０によると、回転する磁
気記憶媒体と、該媒体に対して情報の読み書きできる磁
気ヘッドを該媒体上の任意の位置にアクセスする機構を
具備する磁気記憶装置における磁気ヘッド支持機構であ
って、ジンバルを介して前記磁気ヘッドを保持するロー
ドビームの剛性部上に振動吸収用の薄膜が形成されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド支持機構が提供される。
弾性部上からロードビームの剛性部上へ連続して延在し
ていることを特徴とする請求項８に記載の磁気ヘッド支
持機構が提供される。請求項１０によると、回転する磁
気記憶媒体と、該媒体に対して情報の読み書きできる磁
気ヘッドを該媒体上の任意の位置にアクセスする機構を
具備する磁気記憶装置における磁気ヘッド支持機構であ
って、ジンバルを介して前記磁気ヘッドを保持するロー
ドビームの剛性部上に振動吸収用の薄膜が形成されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド支持機構が提供される。
【００１６】請求項１１によると、ジンバルはロードビ
ームの剛性部の部位にて該ロードビームと一体成形され
たものであり、該ジンバルの部分に薄膜が形成されてい
ることを特徴とする請求項１０に記載の磁気ヘッド支持
機構が提供される。請求項１２によると、薄膜はロード
ビームの両面に形成されていることを特徴とする請求項
１０又は１１に記載の磁気ヘッド支持機構が提供され
る。
ームの剛性部の部位にて該ロードビームと一体成形され
たものであり、該ジンバルの部分に薄膜が形成されてい
ることを特徴とする請求項１０に記載の磁気ヘッド支持
機構が提供される。請求項１２によると、薄膜はロード
ビームの両面に形成されていることを特徴とする請求項
１０又は１１に記載の磁気ヘッド支持機構が提供され
る。
【００１７】
【作用】請求項１〜７項に記載の発明によると、ロード
ビームの弾性部上に、成膜時に内部膜応力により収縮又
は膨張する薄膜を形成したので、成膜時にロードビーム
の弾性部に収縮力又は膨張力が作用し、弾性部がＲ曲げ
の機械加工をしたのと同様に正確に曲げ加工される。こ
れにより、薄膜を磁気ヘッド支持機構の荷重発生手段と
して利用することができる。
ビームの弾性部上に、成膜時に内部膜応力により収縮又
は膨張する薄膜を形成したので、成膜時にロードビーム
の弾性部に収縮力又は膨張力が作用し、弾性部がＲ曲げ
の機械加工をしたのと同様に正確に曲げ加工される。こ
れにより、薄膜を磁気ヘッド支持機構の荷重発生手段と
して利用することができる。
【００１８】即ち、機械加工によりＲ曲げ加工を行うの
ではなく、成膜した時の膜の厚み、面積、材料により膜
応力を制御するため、より精度の高い荷重が得られる。
実際上は、膜は半導体技術を用いて成膜されるため厚
み、形状等は正確に制御されることが可能である。ま
た、治具による大きな押さえ力も必要ないので磁気ヘッ
ド支持機構に与える不必要な曲げ、捻じり、キズの心配
がないため信頼性の上でも問題無い。さらに、膜と磁気
ヘッド支持機構の密着性は膜の成膜条件を最適に選択す
ることにより十分強くなり、膜の信頼性は高い。
ではなく、成膜した時の膜の厚み、面積、材料により膜
応力を制御するため、より精度の高い荷重が得られる。
実際上は、膜は半導体技術を用いて成膜されるため厚
み、形状等は正確に制御されることが可能である。ま
た、治具による大きな押さえ力も必要ないので磁気ヘッ
ド支持機構に与える不必要な曲げ、捻じり、キズの心配
がないため信頼性の上でも問題無い。さらに、膜と磁気
ヘッド支持機構の密着性は膜の成膜条件を最適に選択す
ることにより十分強くなり、膜の信頼性は高い。
【００１９】請求項８及び９の記載の発明によると、ロ
ードビームの弾性部のみならず剛性部上にも薄膜が形成
されることにより、薄膜を磁気ヘッド支持機構の荷重発
生手段として利用できるのみならず、ダンパー材として
振動吸収のために使用することもできる。請求項１０〜
１２に記載の発明によると、ロードビームの剛性部或い
はジンバル部に振動吸収用の薄膜が形成されているの
で、その膜のダンピング効果により磁気ヘッド支持機構
の振動が吸収される。
ードビームの弾性部のみならず剛性部上にも薄膜が形成
されることにより、薄膜を磁気ヘッド支持機構の荷重発
生手段として利用できるのみならず、ダンパー材として
振動吸収のために使用することもできる。請求項１０〜
１２に記載の発明によると、ロードビームの剛性部或い
はジンバル部に振動吸収用の薄膜が形成されているの
で、その膜のダンピング効果により磁気ヘッド支持機構
の振動が吸収される。
【００２０】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の磁気ヘッ
ド支持機構の実施例について詳細に説明する。これらの
実施例ではジンバル部２５とロードビーム２１とを一体
の部材で形成したものである。使用される板材としては
ステンレス（ＳＵＳ）が適当であり、厚さは約２５μｍ
程度である。ジンバル部２５はロードビーム２１の先端
部付近に開口部等により一体で形成される。即ち、図６
に最も良く示しているように、ジンバル部２５は、ロー
ドビーム２１に、一対のコ字形状開口３１，３２を、ロ
ードビーム２１の長手方向に向き合う配置で形成し、且
つ、ロードビーム２１の両側に沿ってスリット状の開口
３３，３４を形成することにより残置形成してある。ジ
ンバル部２５は、磁気ヘッドスライダ固定部３５と、一
対の第１の梁部３６（一方のみ図示）と、一対の第２の
梁部３８，３９とを有する。
ド支持機構の実施例について詳細に説明する。これらの
実施例ではジンバル部２５とロードビーム２１とを一体
の部材で形成したものである。使用される板材としては
ステンレス（ＳＵＳ）が適当であり、厚さは約２５μｍ
程度である。ジンバル部２５はロードビーム２１の先端
部付近に開口部等により一体で形成される。即ち、図６
に最も良く示しているように、ジンバル部２５は、ロー
ドビーム２１に、一対のコ字形状開口３１，３２を、ロ
ードビーム２１の長手方向に向き合う配置で形成し、且
つ、ロードビーム２１の両側に沿ってスリット状の開口
３３，３４を形成することにより残置形成してある。ジ
ンバル部２５は、磁気ヘッドスライダ固定部３５と、一
対の第１の梁部３６（一方のみ図示）と、一対の第２の
梁部３８，３９とを有する。
【００２１】磁気ヘッドスライダ固定部３５は、磁気ヘ
ッドスライダ２４を固定するのに十分な程度の大きさ、
例えば、磁気ヘッドスライダ２４の平面外形寸法（ａ＝
２mm、ｂ＝１．６mm）と対応する寸法ａ×ｂを有する。
但し、接着強度があれば、これ以下の寸法でも何ら差し
支えない。磁気ヘッドスライダ３５は、軽荷重構造のス
ライダを使用するのが装置の信頼性を保つために望まし
い。このスライダの浮上面と反対側の背面は平坦面とな
っており、その背面を前記固定部３５に接着剤等により
固定する。この場合、スライダと固定部の各中心を一致
させる。
ッドスライダ２４を固定するのに十分な程度の大きさ、
例えば、磁気ヘッドスライダ２４の平面外形寸法（ａ＝
２mm、ｂ＝１．６mm）と対応する寸法ａ×ｂを有する。
但し、接着強度があれば、これ以下の寸法でも何ら差し
支えない。磁気ヘッドスライダ３５は、軽荷重構造のス
ライダを使用するのが装置の信頼性を保つために望まし
い。このスライダの浮上面と反対側の背面は平坦面とな
っており、その背面を前記固定部３５に接着剤等により
固定する。この場合、スライダと固定部の各中心を一致
させる。
【００２２】第１の梁部３６は、上記固定部３５の中心
（スライダの中心でもある）を通り、ロードビーム長手
方向中心線に直交して固定部３５を横切る線（ロードビ
ーム幅方向線）に沿って、固定部３５の両側より外方に
延出している。第２の梁部３８，３９は夫々上記第１の
梁部３６の先端より、第１の梁部３６と直交して両側に
平行に延出しており、先端側はロードビーム２１のうち
ジンバル部２５の周囲の部分と連結してある。この第２
の梁部３８，３９は、両持ち梁状であり、第１の梁部３
６の先端がつながっている中央部から両端まで延びてい
る。第２の梁部３８，３９と第１の梁部３６とで、一対
のＴ字状梁を構成する。そして全体ではＨ字状梁を構成
する。
（スライダの中心でもある）を通り、ロードビーム長手
方向中心線に直交して固定部３５を横切る線（ロードビ
ーム幅方向線）に沿って、固定部３５の両側より外方に
延出している。第２の梁部３８，３９は夫々上記第１の
梁部３６の先端より、第１の梁部３６と直交して両側に
平行に延出しており、先端側はロードビーム２１のうち
ジンバル部２５の周囲の部分と連結してある。この第２
の梁部３８，３９は、両持ち梁状であり、第１の梁部３
６の先端がつながっている中央部から両端まで延びてい
る。第２の梁部３８，３９と第１の梁部３６とで、一対
のＴ字状梁を構成する。そして全体ではＨ字状梁を構成
する。
【００２３】固定部３５、第１の梁部３６及び第２の梁
部３８，３９は、共にロードビーム２１の一部によって
形成してある。前述のように、磁気ヘッド２３を搭載し
たスライダ２４はジンバル部２５のスライド固定部３５
上に接着剤等で固定されるが、磁気記憶媒体である磁気
ディスク１２（図３）と対向する面、即ち図示の上面に
レール部２４ａ，２４ｂを有し、磁気ディスクの回転に
よって磁気ディスクとスライダ２４との間で生ずる空気
流による浮上力と、磁気ヘッド支持機構、特にロードビ
ーム２１によって与えられる加圧力とのバランスによ
り、記録又は読取時はスライダ２４と磁気ディスクとの
間は微小な間隔に維持される。
部３８，３９は、共にロードビーム２１の一部によって
形成してある。前述のように、磁気ヘッド２３を搭載し
たスライダ２４はジンバル部２５のスライド固定部３５
上に接着剤等で固定されるが、磁気記憶媒体である磁気
ディスク１２（図３）と対向する面、即ち図示の上面に
レール部２４ａ，２４ｂを有し、磁気ディスクの回転に
よって磁気ディスクとスライダ２４との間で生ずる空気
流による浮上力と、磁気ヘッド支持機構、特にロードビ
ーム２１によって与えられる加圧力とのバランスによ
り、記録又は読取時はスライダ２４と磁気ディスクとの
間は微小な間隔に維持される。
【００２４】回転中の磁気ディスクにうねりが発生した
り、ゴミが付着した場合を考えると、スライダ２４は、
Ｔ字状をなす第１の梁部３６及び第２の梁部３８，３９
の撓みを伴ってピッチング方向に回動する。この時、ジ
ンバルの第１の梁部３６はねじりの変形を伴い、さらに
第２の梁部３８，３９は曲の変形を伴う。また、スライ
ダ２４はローリング方向にも回動する。この時ジンバル
の一対の第１の梁部３６は互いに逆向きの曲げの変形を
伴い、さらに第２の梁部３８，３９もまた互いに逆向き
の変形を伴う。このように、スライダ２４はジンバル部
２５によりピッチング方向及びローリング方向に弾性的
に揺動可能に支持される。
り、ゴミが付着した場合を考えると、スライダ２４は、
Ｔ字状をなす第１の梁部３６及び第２の梁部３８，３９
の撓みを伴ってピッチング方向に回動する。この時、ジ
ンバルの第１の梁部３６はねじりの変形を伴い、さらに
第２の梁部３８，３９は曲の変形を伴う。また、スライ
ダ２４はローリング方向にも回動する。この時ジンバル
の一対の第１の梁部３６は互いに逆向きの曲げの変形を
伴い、さらに第２の梁部３８，３９もまた互いに逆向き
の変形を伴う。このように、スライダ２４はジンバル部
２５によりピッチング方向及びローリング方向に弾性的
に揺動可能に支持される。
【００２５】図４に本発明の磁気ヘッド支持機構の第一
実施例を示す。この実施例では、膜４１を磁気ヘッド支
持機構のロードビーム２１の弾性部２１ｂに直接形成
し、その膜応力で弾性部２１ｂが反り、疑似的にＲ曲げ
の機械加工を施した場合と同様の曲げ部分を形成してい
るものである。この曲げで磁気ヘッド支持機構の先端に
保持されているスライダ２４を磁気記録媒体である磁気
ディスク１２（図３）に押しつける荷重を生む。この膜
４１には金属膜、酸化膜、樹脂膜、カーボン膜、シリコ
ン膜、セラミクス膜、非金属膜等が考えられ、形成方法
としてはその膜の種類により異なるが、例えば、スパッ
タ、蒸着、メッキ、塗布といった方法が考えられる。実
際の膜４１としてはＣＵ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｕ，Ｔｉ，Ｄ
ＬＣ，ＮｉＦｅ，ＩＴＯ，ＳｉＯ2 、ポリイミド、レジ
スト、ＴＩＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，
ＳｉＣ、酸化クロム、ホウカチタン、Ｓｉ等が考えられ
る。
実施例を示す。この実施例では、膜４１を磁気ヘッド支
持機構のロードビーム２１の弾性部２１ｂに直接形成
し、その膜応力で弾性部２１ｂが反り、疑似的にＲ曲げ
の機械加工を施した場合と同様の曲げ部分を形成してい
るものである。この曲げで磁気ヘッド支持機構の先端に
保持されているスライダ２４を磁気記録媒体である磁気
ディスク１２（図３）に押しつける荷重を生む。この膜
４１には金属膜、酸化膜、樹脂膜、カーボン膜、シリコ
ン膜、セラミクス膜、非金属膜等が考えられ、形成方法
としてはその膜の種類により異なるが、例えば、スパッ
タ、蒸着、メッキ、塗布といった方法が考えられる。実
際の膜４１としてはＣＵ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｕ，Ｔｉ，Ｄ
ＬＣ，ＮｉＦｅ，ＩＴＯ，ＳｉＯ2 、ポリイミド、レジ
スト、ＴＩＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，
ＳｉＣ、酸化クロム、ホウカチタン、Ｓｉ等が考えられ
る。
【００２６】膜４１によっては成膜してから膨張（外向
きの応力を発生）するものと収縮（内向きの応力を発
生）するものがあるため、その方向によってロードビー
ム２１のどちら側に成膜すればよいかが決定される。例
えば、膨張する膜はスライダ２４側と反対の面に、収縮
する膜はスライダ２４側の面に成膜すれば良い。また、
応力が小さく所定の荷重が得られない時には膜の厚さを
厚くするか、同種または異種の膜を２層以上にし応力を
稼ぐ方法も考えられる。さらに金属膜等は腐食の影響を
避けるためにその膜の上に保護膜としてポリイミド等の
膜を成膜することも考えられる。また、磁気ヘッド支持
機構のロードビーム２１の材料であるステンレスと膜の
間の密着性や信頼性、膜と保護膜との間の密着性や信頼
性、２層以上の膜の場合には膜と膜の間の密着性や信頼
性を増すために、これらの間に極薄い膜を形成すること
も考えられる。また、膜応力をかせぐ方法としては、収
縮する膜をロードビームのスライダ側に、膨張する膜を
ロードビームのスライダ側とは反対側に形成する方法が
考えられる。以上述べた膜はロードビーム２１の弾性部
２１ｂのところに形成されているが、後述する理由によ
り一部が剛性部２１ａにまで張り出して形成してもよ
い。
きの応力を発生）するものと収縮（内向きの応力を発
生）するものがあるため、その方向によってロードビー
ム２１のどちら側に成膜すればよいかが決定される。例
えば、膨張する膜はスライダ２４側と反対の面に、収縮
する膜はスライダ２４側の面に成膜すれば良い。また、
応力が小さく所定の荷重が得られない時には膜の厚さを
厚くするか、同種または異種の膜を２層以上にし応力を
稼ぐ方法も考えられる。さらに金属膜等は腐食の影響を
避けるためにその膜の上に保護膜としてポリイミド等の
膜を成膜することも考えられる。また、磁気ヘッド支持
機構のロードビーム２１の材料であるステンレスと膜の
間の密着性や信頼性、膜と保護膜との間の密着性や信頼
性、２層以上の膜の場合には膜と膜の間の密着性や信頼
性を増すために、これらの間に極薄い膜を形成すること
も考えられる。また、膜応力をかせぐ方法としては、収
縮する膜をロードビームのスライダ側に、膨張する膜を
ロードビームのスライダ側とは反対側に形成する方法が
考えられる。以上述べた膜はロードビーム２１の弾性部
２１ｂのところに形成されているが、後述する理由によ
り一部が剛性部２１ａにまで張り出して形成してもよ
い。
【００２７】図５に本発明の磁気ヘッドの支持機構の第
二実施例を示す。この実施例では膜４２はロードビーム
２１の剛性部２１ａ上に直接形成されている。剛性部２
１ａ上では膜の種類の如何に関わらずロードビーム２１
の表裏どちらかに成膜してもよい。この膜４２はロード
ビームの振動を吸収し、抑える効果をもたらす。ダンパ
材を一枚一枚貼ることにより振動を吸収しようとする試
みもあるが、この方法だと作業の効率が悪くコストの低
減は難しい。本実施例の方法によるとバッチで成膜可能
であるためコスト低減が可能である。
二実施例を示す。この実施例では膜４２はロードビーム
２１の剛性部２１ａ上に直接形成されている。剛性部２
１ａ上では膜の種類の如何に関わらずロードビーム２１
の表裏どちらかに成膜してもよい。この膜４２はロード
ビームの振動を吸収し、抑える効果をもたらす。ダンパ
材を一枚一枚貼ることにより振動を吸収しようとする試
みもあるが、この方法だと作業の効率が悪くコストの低
減は難しい。本実施例の方法によるとバッチで成膜可能
であるためコスト低減が可能である。
【００２８】図６に本発明の磁気ヘッド支持機構の第三
実施例を示す。ダンピング効果を期待するためにはロー
ドビーム２１上に成膜するだけではなく、本実施例のよ
うに、ジンバル部２５上に成膜してもよい。より具体的
には、前述したジンバル部２５の一対の第一の梁部３６
と、一対の第二の梁部３８，３９により形成される一対
のＴ字状梁の上に、同様の形状の一対のＴ字形の膜４
３，４４を形成している。これによりジンバル部２５の
振動が吸収できるため同様な効果がある。ただし、ジン
バル部２５上に成膜する場合にはジンバル部２５が膜応
力のために反らないように両面に成膜するのが望まし
い。より高いダンピング効果を得るためには膜厚を厚く
するか、単層のみならず同種または異種の２層以上の複
層の膜を形成するのが好ましい。もちろん、金属膜の場
合は腐食対策としてポリイミド等の保護膜をその上に形
成すると膜の信頼性は一層向上する。
実施例を示す。ダンピング効果を期待するためにはロー
ドビーム２１上に成膜するだけではなく、本実施例のよ
うに、ジンバル部２５上に成膜してもよい。より具体的
には、前述したジンバル部２５の一対の第一の梁部３６
と、一対の第二の梁部３８，３９により形成される一対
のＴ字状梁の上に、同様の形状の一対のＴ字形の膜４
３，４４を形成している。これによりジンバル部２５の
振動が吸収できるため同様な効果がある。ただし、ジン
バル部２５上に成膜する場合にはジンバル部２５が膜応
力のために反らないように両面に成膜するのが望まし
い。より高いダンピング効果を得るためには膜厚を厚く
するか、単層のみならず同種または異種の２層以上の複
層の膜を形成するのが好ましい。もちろん、金属膜の場
合は腐食対策としてポリイミド等の保護膜をその上に形
成すると膜の信頼性は一層向上する。
【００２９】図７は本発明の磁気ヘッド支持機構の第四
実施例を示す。この実施例によるとロードビーム２１の
弾性部２１ｂから剛性部２１ａにかけて膜４５が成膜さ
れている。このような位置に膜４５を形成することで荷
重発生の効果とダンピングの効果が同時に得られるため
効率がよい。この実施例においても、前記実施例と同様
膜４５を複層としてもよく、また保護膜を形成してもよ
い。
実施例を示す。この実施例によるとロードビーム２１の
弾性部２１ｂから剛性部２１ａにかけて膜４５が成膜さ
れている。このような位置に膜４５を形成することで荷
重発生の効果とダンピングの効果が同時に得られるため
効率がよい。この実施例においても、前記実施例と同様
膜４５を複層としてもよく、また保護膜を形成してもよ
い。
【００３０】図８は図５に示した第二実施例と同様の実
施例であるが、磁気ヘッドスライダ２４への配線パター
ンを示したものである。図において、５１ａ〜５１ｄは
磁気ヘッドスライダ２４の端子、５２ａ〜５２ｄは端子
５１ａ〜５１ｄに接合されるロードビーム２１側のヘッ
ド搭載部３５の端子、５３ａ〜５３ｄはロードビーム２
１上に形成した配線パターン、５５ａ〜５５ｄはロード
ビーム２１から外部に接続するための端子である。な
お、これらの配線パターン５３ａ〜５３ｄと、薄膜４２
とを同一の金属材料とし、同一のプロセスで形成するこ
とにより、従来の機械加工に比べ、製造工程を減らすこ
とができる。
施例であるが、磁気ヘッドスライダ２４への配線パター
ンを示したものである。図において、５１ａ〜５１ｄは
磁気ヘッドスライダ２４の端子、５２ａ〜５２ｄは端子
５１ａ〜５１ｄに接合されるロードビーム２１側のヘッ
ド搭載部３５の端子、５３ａ〜５３ｄはロードビーム２
１上に形成した配線パターン、５５ａ〜５５ｄはロード
ビーム２１から外部に接続するための端子である。な
お、これらの配線パターン５３ａ〜５３ｄと、薄膜４２
とを同一の金属材料とし、同一のプロセスで形成するこ
とにより、従来の機械加工に比べ、製造工程を減らすこ
とができる。
【００３１】以上の実施例において、ロードビーム２１
上に形成する膜は矩形であるが、本発明はこのような膜
形状に限定されるものではなく、例えば円形、楕円形、
又は三角形等の膜形状とすることも出来る。また、上記
実施例においては、ジンバル部２５はロードビーム２１
と一体に形成されたものであるが、図１において従来例
（１）として示した、ジンバル２５をロードビーム２１
と別体に構成した磁気ヘッド支持機構についても適用す
ることができる。
上に形成する膜は矩形であるが、本発明はこのような膜
形状に限定されるものではなく、例えば円形、楕円形、
又は三角形等の膜形状とすることも出来る。また、上記
実施例においては、ジンバル部２５はロードビーム２１
と一体に形成されたものであるが、図１において従来例
（１）として示した、ジンバル２５をロードビーム２１
と別体に構成した磁気ヘッド支持機構についても適用す
ることができる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればロ
ードビームに荷重を精度よく発生させることが可能とな
り、磁気ヘッド支持機構を機械的損傷より守り、且つ信
頼性を向上し、価格低減を図ることが可能となる。
ードビームに荷重を精度よく発生させることが可能とな
り、磁気ヘッド支持機構を機械的損傷より守り、且つ信
頼性を向上し、価格低減を図ることが可能となる。
【図１】磁気ヘッド支持機構の従来例（１）を示す。
【図２】磁気ヘッド支持機構の従来例（２）を示す。
【図３】磁気ヘッド支持機構を使用した磁気記憶装置を
示す。
示す。
【図４】本発明の磁気ヘッド支持機構の第一実施例を示
す。
す。
【図５】本発明の磁気ヘッド支持機構の第二実施例を示
す。
す。
【図６】本発明の磁気ヘッド支持機構の第三実施例を示
す。
す。
【図７】本発明の磁気ヘッド支持機構の第四実施例を示
す。
す。
【図８】図５に示した第二実施例と同様な実施例である
が、磁気ヘッドスライダへの配線パターンを示した図で
ある。
が、磁気ヘッドスライダへの配線パターンを示した図で
ある。
１２…磁気ディスク（磁気記憶媒体） ２１…ロードビーム ２１ａ…剛性部 ２１ｂ…弾性部 ２３…磁気ヘッド ２４…スライダ ２５…ジンバル部 ２６…スペーサ ４１〜４５…薄膜
Claims (12)
- 【請求項１】 回転する磁気記憶媒体と、該媒体に対し
て情報の読み書きできる磁気ヘッドを該媒体上の任意の
位置にアクセスする機構を具備する磁気記憶装置におけ
る磁気ヘッド支持機構であって、ジンバルを介して前記
磁気ヘッドを保持するロードビームの弾性部上に直接薄
膜を形成すること、並びに該薄膜はその成膜時に内部膜
応力により収縮又は膨張するものであること、を特徴と
する磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項２】 前記薄膜は、金属膜、酸化膜、樹脂膜、
セラミック膜、又は非金属膜のうち少なくともいずれか
１層を含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッ
ド支持機構。 - 【請求項３】 前記薄膜は単層であることを特徴とする
請求項１又は２に記載の磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項４】 前記薄膜は２層以上の多層であることを
特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッド支持機
構。 - 【請求項５】 ２層以上の層は同種の層であることを特
徴とする請求項５に記載の磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項６】 ２層以上の層は異種の層であることを特
徴とする請求項５に記載の磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項７】 ２層以上の異種の層の少なくとも１層は
金属層であり、少なくとも他の１層は該金属等の腐食を
防止する保護層であることを特徴とする請求項６に記載
の磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項８】 ロードビームの剛性部上にも薄膜が形成
されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１
項に記載の磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項９】 薄膜はロードビームの弾性部上からロー
ドビームの剛性部上へ連続して延在していることを特徴
とする請求項８に記載の磁気ヘッド支持機構。 - 【請求項１０】 回転する磁気記憶媒体と、該媒体に対
して情報の読み書きできる磁気ヘッドを該媒体上の任意
の位置にアクセスする機構を具備する磁気記憶装置にお
ける磁気ヘッド支持機構であって、ジンバルを介して前
記磁気ヘッドを保持するロードビームの剛性部上に振動
吸収用の薄膜が形成されていることを特徴とする磁気ヘ
ッド支持機構。 - 【請求項１１】 ジンバルはロードビームの剛性部の部
位にて該ロードビームと一体成形されたものであり、該
ジンバルの部分に振動吸収用の薄膜が形成されているこ
とを特徴とする請求項１０に記載の磁気ヘッド支持機
構。 - 【請求項１２】 薄膜はロードビーム、ジンバルの両面
に形成されていることを特徴とする請求項１０又は１１
に記載の磁気ヘッド支持機構。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7092346A JPH08287634A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 磁気ヘッド支持機構 |
| US08/585,023 US5825590A (en) | 1995-04-18 | 1996-01-11 | Magnetic head suspension mechanism with a thin film thereon for creating a bent portion of a vibration absorbing portion |
| KR1019960000815A KR960038752A (ko) | 1995-04-18 | 1996-01-17 | 자기헤드 지지기구 |
| DE19603192A DE19603192C2 (de) | 1995-04-18 | 1996-01-30 | Magnetkopf-Aufhängungsmechanismus |
| CN96102112A CN1137152A (zh) | 1995-04-18 | 1996-02-02 | 磁头悬挂机构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7092346A JPH08287634A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 磁気ヘッド支持機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08287634A true JPH08287634A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=14051848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7092346A Pending JPH08287634A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 磁気ヘッド支持機構 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5825590A (ja) |
| JP (1) | JPH08287634A (ja) |
| KR (1) | KR960038752A (ja) |
| CN (1) | CN1137152A (ja) |
| DE (1) | DE19603192C2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| KR100662060B1 (ko) * | 1999-04-30 | 2006-12-27 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 헤드 서스펜션 및 디스크 장치 |
| JP2010218667A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-09-30 | Toshiba Storage Device Corp | ヘッドサスペンションアセンブリ |
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| JPH10162532A (ja) | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Nitto Denko Corp | 制振材及びそれを用いたヘッドサスペンション |
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