JPH08314098A - 感光材料現像処理装置 - Google Patents

感光材料現像処理装置

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JPH08314098A
JPH08314098A JP7117073A JP11707395A JPH08314098A JP H08314098 A JPH08314098 A JP H08314098A JP 7117073 A JP7117073 A JP 7117073A JP 11707395 A JP11707395 A JP 11707395A JP H08314098 A JPH08314098 A JP H08314098A
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JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive material
processing
liquid
light source
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP7117073A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuji Tanno
龍司 丹野
Shinichi Otani
新一 大谷
Kazunari Aoki
一成 青木
Yusuke Kimura
祐介 木村
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 感光材料の現像処理に用いる処理液の疲労を
軽減し、活性度を長く保持させ、補充液の供給量を減ら
し、現像処理コストを下げ、公害負荷を低下させる操作
性のよい現像処理装置を提供する。 【構成】 所要の処理液を入れた一つ以上の処理槽中に
感光材料を搬送させて液浸しながら現像処理する感光材
料現像処理装置において、該処理槽の少なくとも一槽の
液中又は液外又は液の循環路の一部に光源を設け、該光
源の光波を該処理液に照射させる照射手段を有するか、
それとともに前記処理槽に感光材料検出手段を設け、該
感光材料検出信号を受けて所定時間の間、照射手段の照
射を停止することを可能にしたことを特徴とする感光材
料現像処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はジアゾタイプの感光材料
又はハロゲン化銀感光材料を現像する感光材料現像処理
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ジアゾタイプの感光材料は露光後、バッ
ト式現像槽、プレリンスシャワー槽、ガム液シャワー槽
及び乾燥部の諸工程をもつ現像処理装置によって現像さ
れ、ハロゲン化銀感光材料も現像槽、定着槽、安定槽及
び乾燥部の諸工程をもつ現像処理装置によって現像され
る。
【0003】しかし、感光材料の現像を繰り返すうちに
各処理液は疲労してきて感度低下を起こし、沈殿物が発
生してくる。これを防ぐために感光材料の所定量を処理
するごとに所定量の各補充液が補給されるとともに、処
理液の空気との接触を避ける手段等が採られたりしてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように処理液の疲
労をさけるための手段が採られているが十分ではない。
【0005】特に空気との接触の回避策は液面に浮き蓋
等のような蓋を施す手段が採られたものもあるが、操作
性がよくはない。本発明は処理液の沈殿物発生を抑え、
処理液の高寿命化を図るとともに、処理液交換の頻度が
少なくなるためメンテナンス性にも優れた感光材料現像
処理装置を提供することを課題目的にする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的はつぎの技術手
段(1)、(2)、(3)及び(4)の何れかによって
達成される。 (1) 所要の処理液を入れた一つ以上の処理槽中に感
光材料を搬送させて液浸しながら現像処理する感光材料
現像処理装置において、該処理槽の少なくとも一槽の液
中又は液外又は液の循環路の一部に光源を有し、該光源
の光波を該処理液に照射させる照射手段を設けたことを
特徴とする感光材料現像処理装置。
【0007】(2) 所要の処理液を入れた一つ以上の
処理槽中に感光材料を搬送させて液浸しながら現像処理
する感光材料現像処理装置において、該処理槽の少なく
とも一槽の液中又は液外又は液の循環路の一部に光源を
設け、該光源の光波を該処理液に照射させる照射手段を
有するとともに前記処理槽に感光材料検出手段を設け、
該感光材料検出信号を受けて所定時間の間、前記照射手
段の照射を停止することを可能にしたことを特徴とする
感光材料現像処理装置。
【0008】(3) 前記光源には、波長可変手段が設
けられていることを特徴とする(1)又は(2)に記載
の感光材料現像処理装置。
【0009】(4) 前記光源には、光波を処理液に反
射させる反射部材が設けられていることを特徴とする
(1)〜(3)の何れか1項に記載の感光材料現像処理
装置。
【0010】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をその作用と共
に詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定される
ものではない。
【0011】先ず、本発明の実施例を図1の感光材料現
像処理装置(以下単に現像処理装置という)の概略側面
図によって説明する。
【0012】この現像処理装置は、感光材料の一例とし
てジアゾタイプのPS版を用いるものであり、供給台
1、現像槽入口部28、浅バット式現像槽29、プレリンス
シャワー槽46、フィニッシャー52、乾燥部58が設けられ
ている。
【0013】そして、浅バット式現像槽29には現像補充
液タンク37と希釈水タンク38からそれぞれの液が供給さ
れて、適度の濃度にされた現像液6が適性な水位に保た
れ、ヒータ9によって適温にされると共に濾過用のフィ
ルタ32を通して、循環ポンプ33によって均一な循環がな
されて液槽内の現像液の清浄さが保持されるようにして
ある。また疲労し、活性度の低下した液は、廃液タンク
42に排出され新しい現像液に置き換えられるようにして
ある。
【0014】またプレリンスシャワー槽46及びフィニッ
シャー槽52にはそれぞれ処理液が適量液位まで入れてあ
り、それを循環ポンプ48,49によってシャワーノズル1
6,20からそれぞれガム液を現像槽から搬送されて来る
PS版に向けて噴射し、処理を行うようにしてある。
【0015】オーバーフローされた処理液や疲労した処
理液はそれぞれ廃液タンク50,55に入れられるようにな
っている。
【0016】このようにして供給台1に載置されて待機
している露光済みのPS版等の平版印刷版27は現像槽29
の液外部である搬入部28に設けてある搬入ローラ対3に
挟持されて現像槽内に搬入され該現像槽29のガイドロー
ラ7やブラシローラ8により搬送ガイドされスクィーズ
ローラ12によってスクィーズされてから搬出され、搬入
ローラ14により次のプレリンスシャワー槽46、更にフィ
ニッシャー槽52に送られプレリンスシャワー及び仕上げ
シャワーがなされ乾燥部58を経て、仕上げられ回収され
るようにしてある。
【0017】そして図1においては現像槽29の現像液
中に光源61とその保護カバー62が2ケ所に取付けら
れ、プレリンスシャワー槽46及びフィニッシャー槽5
2にも同様に光源61及びそれを取巻く保護カバー62
がそれぞれ1組ずつセットされている。
【0018】このようにして、各処理槽中に光源を設置
して、各処理液に光波を照射することにより、現像処理
に伴って発生していたスラッジを含む沈殿物の発生を抑
えることができ、各処理液が疲労して活性度が低下する
現象が軽減されてかなり改善されることがわかった。
【0019】図5に現像液の経過時間とpH変化の関
係、即ち沈殿物の発生状況を表すグラフを示す。現像液
はモデル的にランニング現像液を作成したもので1l当
たり10m2のPS版を処理した後の現像液に相当す
る。
【0020】光照射手段により光波を照射した現像液は
1ケ月以上経ってもスラッジを含む沈殿物の発生が見ら
れず、また、現像処理を行うのに十分なpH値が維持さ
れていることがわかる。
【0021】一方、光波を照射しなかった現像液は、2
0日程でスラッジを含む沈殿物の発生が見られる。
【0022】このことから光波を照射することにより沈
殿物の発生が抑えられることがわかった。沈殿物の発生
が抑えられることから処理液の高寿命化が図れ、活性度
も低下していない為、循環使用ができ廃液が減少した。
また、沈殿物の除去等の作業が軽減される。
【0023】また、図2の側面図は、現像槽29、濾過
用のフィルタ32及び循環ポンプ33を塩化ビニールの
ホース66によって直列に連結して現像液6を循環させ
る途中、例えば、フィルタ32と循環ポンプ33の間に
光波照射手段60を設けたものを示している。
【0024】該光波照射手段60には光源61を焦点位
置に置いて、そのまわりに光源の光波を効率良く無駄な
く処理液に照射するための反射部材例えば反射鏡63が
設けられ、該反射鏡63の下部には、該反射鏡に連結さ
れて、現像液6の中間貯留部64が設けられている。そ
して上部のフィルタ32から流入して貯留部64に一時
的に溜められている現像液6は、光源61からの光波を
直接、及び反射鏡63によって照射されて、循環ポンプ
33に向かって流出循環されるようにしてある。
【0025】また、図3の斜視図に示すものは、例えば
前記フィルタ32と循環ポンプ33の間の現像液6の流
路を形成する透明塩化ビニールホース66の一部に光波
照射手段70として前記塩化ビニールホース66と同心
に円筒状の反射鏡73を設け該ホース66との中間にチ
ューブ状の光源71を設け、透明の塩化ビニールホース
66内を通過中の循環現像液に均一な光波の照射を行わ
せるようにしたものである。
【0026】このような光波照射手段を現像液ばかりで
なく、プレリンスシャワー液やフィニッシャー液の循環
路に取付けることによって現像液と同様の液疲労劣化防
止策とすることが可能である。
【0027】また、前述した各処理槽内に光波照射手段
を設けると共に、その循環路の途中に光波照射手段を設
けても良く、また、そのどちらか一方だけを設けただけ
でも良い。
【0028】更に、光源61や71は、各所の光波照射
手段60,70の個々にそれぞれ独立して設けても良い
が、図4の部分側面図に示すように、光源81とその反
射鏡83とを一箇所に配した光波照射手段80を設け、
その光源81の照射した光波を直接及びそのまわりの反
射鏡83で反射させる光波とにより複数の光ファイバー
チューブ85A,85B等に分割して各処理槽内又は循
環路の途中に配光して照射させるような構造とすること
ができる。
【0029】また、図1の本発明の感光材料現像処理装
置の概略側面図に示すように現像槽29への上下のロー
ラ3A,3Bからなる搬入ローラ対3の手前には、感光
材料検出センサー2を設けることができる。このセンサ
ー2によって供給台1から送り込まれる感光材料、例え
ばPS版の先端が検知されると少なくとも各処理槽内に
設けた光源は所定時間消灯されるようにしてある。その
時間は感光材料が、その槽を通過する時間でも良いし、
各処理槽全部を通過する時間に設定してあっても良い。
【0030】また、感光材料が連続して搬入されて来る
ときは長時間消灯されることになる。
【0031】但し、前述の実施例において、循環路に設
けた照射手段については、処理槽内の照射とは異なり、
感光材料に直接光を照射することがないので、光源を消
灯することなく、感光材料処理中であっても照射し続け
ても良い。
【0032】また、感光材料に対する感色性の低い照射
光の波長の選択によっては、消灯処置をしなくても良
い。特にジアゾタイプのPS版や銀塩タイプの感光材料
としての印刷用感光材料やXレイフィルムについては、
光波の波長を選択して照射することにより消灯を避ける
ことが可能である。
【0033】但し、一般撮影用や映画撮影用のカラーフ
ィルムのような整色性の感光材料は、可視光の全波長に
対して感光作用が働くので前述の消灯処置が必要不可欠
になる。
【0034】更に、照射する光波の波長を可変とする波
長可変手段を設けることもでき、図1において光源に設
ける保護カバー62として透明部材を設けていたものを
特定波長域透過フィルタにして、使用する感光材料に適
合した感色性の低い波長のみ透過するフィルタで構成さ
せ、それ等を感光材料の種類に合わせていくつか用意し
て変換できるようにしてある。
【0035】このように、本発明においては、ジアゾタ
イプ、銀塩タイプのいずれの感光材料に対してもその処
理液の疲労をなくし、長時間の活性度を保持することが
可能になった。そのため、処理廃液の量も減り、廃棄公
害処理費用が大きく軽減できることが可能になり、ラボ
の処理コストも低減できるようになった。
【0036】
【発明の効果】本発明により、感光材料の現像処理に用
いる処理液の疲労が軽減し、活性度が長く保持され、補
充液の供給量も減り、現像処理コストが下がると共に公
害負荷も軽減させることが可能になった。また、浮き蓋
等を処理槽に施して空気との遮断をはかる必要もなくな
り、操作性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の感光材料現像処理装置の一実施例の概
略側面図。
【図2】現像液の循環路に設けた光波照射手段の一実施
例の側面図。
【図3】現像液の循環路に設けた光波照射手段の別の一
実施例の斜視図。
【図4】各処理液への光波配光を行う照射手段の一実施
例の部分側面図。
【図5】光照射の有無に対して、経過時間とpH変化の
関係を表すグラフ。
【符号の説明】
2 感光材料検出センサー 6 現像液 29 現像槽 32 濾過フィルタ 33 循環ポンプ 46 プレリンスシャワー槽 52 フィニッシャー槽 60,70,80 光波照射手段 61,71,81 光源 63,73,83 反射鏡 64 中間貯留部 66 塩化ビニールホース 85A,85B 光ファイバーチューブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 祐介 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所要の処理液を入れた一つ以上の処理槽
    中に感光材料を搬送させて液浸しながら現像処理する感
    光材料現像処理装置において、該処理槽の少なくとも一
    槽の液中又は液外又は液の循環路の一部に光源を有し、
    該光源の光波を該処理液に照射させる照射手段を設けた
    ことを特徴とする感光材料現像処理装置。
  2. 【請求項2】 所要の処理液を入れた一つ以上の処理槽
    中に感光材料を搬送させて液浸しながら現像処理する感
    光材料現像処理装置において、該処理槽の少なくとも一
    槽の液中又は液外又は液の循環路の一部に光源を設け、
    該光源の光波を該処理液に照射させる照射手段を有する
    とともに前記処理槽に感光材料検出手段を設け、該感光
    材料検出信号を受けて所定時間の間、前記照射手段の照
    射を停止することを可能にしたことを特徴とする感光材
    料現像処理装置。
  3. 【請求項3】 前記光源には、波長可変手段が設けられ
    ていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の
    感光材料現像処理装置。
  4. 【請求項4】 前記光源には、光波を処理液に反射させ
    る反射部材が設けられていることを特徴とする請求項1
    〜3の何れか1項に記載の感光材料現像処理装置。
JP7117073A 1995-05-16 1995-05-16 感光材料現像処理装置 Pending JPH08314098A (ja)

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