JPH08314163A - 電子写真用感光体の塗布装置 - Google Patents
電子写真用感光体の塗布装置Info
- Publication number
- JPH08314163A JPH08314163A JP11677695A JP11677695A JPH08314163A JP H08314163 A JPH08314163 A JP H08314163A JP 11677695 A JP11677695 A JP 11677695A JP 11677695 A JP11677695 A JP 11677695A JP H08314163 A JPH08314163 A JP H08314163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- conductive substrate
- tank
- cylindrical conductive
- cylindrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】円筒状導電性基体の表面及び端部に塗布液の流
速分布のばらつきや乱流の影響が及ばない寸法形状の塗
布槽を備えることにより、感光層の塗布ムラを抑制する
電子写真用感光体の塗布装置を得る。 【構成】浸漬法により円筒状導電性基体7の外表面に感
光層塗膜を形成する塗布装置において、円筒状導電性基
体7の収容部が円筒形をなす塗布槽1に塗布液8を充填
し、その中に円筒状導電性基体7を浸漬した際に、円筒
状導電性基体7の端部と塗布液8のオーバーフロー面及
び供給口6との間に間隔9a,9bを設けて、塗布槽1
の円筒部分の長さを間隔9a,9bに円筒状導電性基体
7の長さを加えた大きさとし、さらに塗布槽1の内面と
円筒状導電性基体7の表面との間に均等な間隙9を設け
た塗布槽部の形状構成とする。
速分布のばらつきや乱流の影響が及ばない寸法形状の塗
布槽を備えることにより、感光層の塗布ムラを抑制する
電子写真用感光体の塗布装置を得る。 【構成】浸漬法により円筒状導電性基体7の外表面に感
光層塗膜を形成する塗布装置において、円筒状導電性基
体7の収容部が円筒形をなす塗布槽1に塗布液8を充填
し、その中に円筒状導電性基体7を浸漬した際に、円筒
状導電性基体7の端部と塗布液8のオーバーフロー面及
び供給口6との間に間隔9a,9bを設けて、塗布槽1
の円筒部分の長さを間隔9a,9bに円筒状導電性基体
7の長さを加えた大きさとし、さらに塗布槽1の内面と
円筒状導電性基体7の表面との間に均等な間隙9を設け
た塗布槽部の形状構成とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子写真用感光体の
感光層を形成する塗布装置に係わり、特に塗布装置の一
部を構成する塗布槽の形状改良に関する。
感光層を形成する塗布装置に係わり、特に塗布装置の一
部を構成する塗布槽の形状改良に関する。
【0002】
【従来の技術】近年高画質機能を有する印刷装置の発達
に伴い、それらの装置で使用される感光体については感
光層の成膜過程で従来問題とならなかった僅かな膜厚の
ばらつきでもその機能の大幅な低下につながるため、従
来に比較してより薄く成膜できかつより均一な膜厚を得
ることができる浸漬法が簡便な方法として広く採用され
ている。
に伴い、それらの装置で使用される感光体については感
光層の成膜過程で従来問題とならなかった僅かな膜厚の
ばらつきでもその機能の大幅な低下につながるため、従
来に比較してより薄く成膜できかつより均一な膜厚を得
ることができる浸漬法が簡便な方法として広く採用され
ている。
【0003】浸漬法では光導電材料をバインダー樹脂と
ともに有機溶剤に溶解あるいは分散させ、場合によって
はさらに粘着剤,可塑剤などを加えて塗布液を作成し、
この液を塗布槽に充填した中に中空部を密閉した円筒状
導電性基体を浸漬し、その後引き上げてこの基体の表面
に付着している塗布液を乾燥させて薄膜の層を形成す
る。このような塗布工程を成膜の積層数に対応した別々
の塗布装置で順次繰り返すことにより円筒状導電性基体
の外表面に感光層塗膜が形成される。
ともに有機溶剤に溶解あるいは分散させ、場合によって
はさらに粘着剤,可塑剤などを加えて塗布液を作成し、
この液を塗布槽に充填した中に中空部を密閉した円筒状
導電性基体を浸漬し、その後引き上げてこの基体の表面
に付着している塗布液を乾燥させて薄膜の層を形成す
る。このような塗布工程を成膜の積層数に対応した別々
の塗布装置で順次繰り返すことにより円筒状導電性基体
の外表面に感光層塗膜が形成される。
【0004】図2は従来の技術として浸漬法による電子
写真用感光体の塗布装置の一般的な構成を示す断面図で
あり、塗布槽1と、貯留槽2と、オーバーフロー配管3
と、供給配管3a,3bと、循環ポンプ5などからな
り、塗布槽1に塗布液8を充填し、この塗布槽1から溢
れ出た塗布液8は塗布槽1の外周を取り巻くドーナツ状
の受皿1aからこの受皿1aに接続されたオーバーフロ
ー配管3を介して貯留槽2に上部から流入するようにし
ている。また貯留槽2の下部に設けられた供給配管3a
と塗布槽1の下部に設けられた供給配管3bとの間に循
環ポンプ5を接続して貯留槽2と塗布槽1を連結し、循
環ポンプ5の駆動により貯留槽2内の塗布液8を移送
し、供給配管3bの端部で塗布槽1の内面に開口する供
給口6から塗布槽1内へ塗布液8を流入させ、塗布槽1
の上部から塗布液8がオーバーフローするように常時循
環させて塗布槽1の液面を一定に保っている。さらに受
皿1aの開口部には円筒状導電性基体7を挿入し得る孔
4aを有する覆い蓋4が着脱可能な状態で取り付けてあ
り、この孔4aを通して中空部を密閉した円筒状導電性
基体7を矢印Pの方向に下降させて塗布液8に浸漬し、
その後矢印Qの方向に引き上げるための図示しない昇降
装置が塗布槽1の横側に別設されている。
写真用感光体の塗布装置の一般的な構成を示す断面図で
あり、塗布槽1と、貯留槽2と、オーバーフロー配管3
と、供給配管3a,3bと、循環ポンプ5などからな
り、塗布槽1に塗布液8を充填し、この塗布槽1から溢
れ出た塗布液8は塗布槽1の外周を取り巻くドーナツ状
の受皿1aからこの受皿1aに接続されたオーバーフロ
ー配管3を介して貯留槽2に上部から流入するようにし
ている。また貯留槽2の下部に設けられた供給配管3a
と塗布槽1の下部に設けられた供給配管3bとの間に循
環ポンプ5を接続して貯留槽2と塗布槽1を連結し、循
環ポンプ5の駆動により貯留槽2内の塗布液8を移送
し、供給配管3bの端部で塗布槽1の内面に開口する供
給口6から塗布槽1内へ塗布液8を流入させ、塗布槽1
の上部から塗布液8がオーバーフローするように常時循
環させて塗布槽1の液面を一定に保っている。さらに受
皿1aの開口部には円筒状導電性基体7を挿入し得る孔
4aを有する覆い蓋4が着脱可能な状態で取り付けてあ
り、この孔4aを通して中空部を密閉した円筒状導電性
基体7を矢印Pの方向に下降させて塗布液8に浸漬し、
その後矢印Qの方向に引き上げるための図示しない昇降
装置が塗布槽1の横側に別設されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが前述の塗布装
置によれば、浸漬法により円筒状導電性基体を塗布液中
に浸漬して感光層を形成する過程で、円筒状導電性基体
の表面又は端部に縞状の塗布ムラが発生することがあ
り、その結果が感光体の電気特性上のムラとなって現
れ、電子写真装置にこの感光体を用いると画像濃度ムラ
などを引き起こすため印字不良の原因になるという問題
がある。
置によれば、浸漬法により円筒状導電性基体を塗布液中
に浸漬して感光層を形成する過程で、円筒状導電性基体
の表面又は端部に縞状の塗布ムラが発生することがあ
り、その結果が感光体の電気特性上のムラとなって現
れ、電子写真装置にこの感光体を用いると画像濃度ムラ
などを引き起こすため印字不良の原因になるという問題
がある。
【0006】この発明は前記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的は印字不良の原因となる塗布ムラ
をなくすため、円筒状導電性基体の表面に塗布液の均一
な液流を形成するとともに乱流の影響を受けにくくする
ように塗布槽の形状改良をすることにより、良好な印字
品質が得られる電子写真用感光体の塗布装置を提供する
ことにある。
ものであり、その目的は印字不良の原因となる塗布ムラ
をなくすため、円筒状導電性基体の表面に塗布液の均一
な液流を形成するとともに乱流の影響を受けにくくする
ように塗布槽の形状改良をすることにより、良好な印字
品質が得られる電子写真用感光体の塗布装置を提供する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明によれば前述の
目的は、浸漬法により円筒状導電性基体の外表面に感光
層塗膜を形成するための塗布液を有する塗布槽と、この
塗布槽の底部に設けられた供給口から前記塗布液を供給
し、上部からオーバーフローした塗布液を前記供給口か
ら再供給する塗布液循環機構とを備えた塗布装置におい
て、塗布槽の形状と前記浸漬基体の関係を、塗布槽の円
筒部の長さを前記基体の長さの1.1倍以上とし、かつ
塗布槽の内周と前記基体の外表面との間隔を15mm以
上とする構成としたことにより達成される。
目的は、浸漬法により円筒状導電性基体の外表面に感光
層塗膜を形成するための塗布液を有する塗布槽と、この
塗布槽の底部に設けられた供給口から前記塗布液を供給
し、上部からオーバーフローした塗布液を前記供給口か
ら再供給する塗布液循環機構とを備えた塗布装置におい
て、塗布槽の形状と前記浸漬基体の関係を、塗布槽の円
筒部の長さを前記基体の長さの1.1倍以上とし、かつ
塗布槽の内周と前記基体の外表面との間隔を15mm以
上とする構成としたことにより達成される。
【0008】
【作用】この発明の構成によれば、円筒状導電性基体端
部が塗布液のオーバーフロー面及び供給口から適宜間隔
を有する位置に浸漬されるので、この間隔を塗布液の流
入及び流出に伴う乱流状態の影響の及ばない大きさに設
定することにより、円筒状導電性基体の端部近傍の液流
を整流状態とすることができるとともに、円筒状導電性
基体表面が塗布槽内面から均等な所定間隙を保持して配
置されるので、この間隙を流れる塗布液の流速を極めて
低速化させることにより、円筒状導電性基体の表面近傍
の液流をばらつきの小さい流速分布状態とすることがで
きる。その結果円筒状導電性基体の表面及び端部におけ
る塗布液の均一な付着を可能にするので塗布ムラが生じ
にくくなる。
部が塗布液のオーバーフロー面及び供給口から適宜間隔
を有する位置に浸漬されるので、この間隔を塗布液の流
入及び流出に伴う乱流状態の影響の及ばない大きさに設
定することにより、円筒状導電性基体の端部近傍の液流
を整流状態とすることができるとともに、円筒状導電性
基体表面が塗布槽内面から均等な所定間隙を保持して配
置されるので、この間隙を流れる塗布液の流速を極めて
低速化させることにより、円筒状導電性基体の表面近傍
の液流をばらつきの小さい流速分布状態とすることがで
きる。その結果円筒状導電性基体の表面及び端部におけ
る塗布液の均一な付着を可能にするので塗布ムラが生じ
にくくなる。
【0009】なお塗布槽の内周と円筒状導電性基体の外
周との間隙を15mm以上並びに塗布槽の円筒部の長さ
を円筒状導電性基体の長さの1.1倍以上としたことに
ついては、現在製造中の円筒状導電性基体のうち浸漬条
件の影響が顕著に現れる傾向を有する外周長が最も短い
ものを用いて実験をした結果見出したものである。
周との間隙を15mm以上並びに塗布槽の円筒部の長さ
を円筒状導電性基体の長さの1.1倍以上としたことに
ついては、現在製造中の円筒状導電性基体のうち浸漬条
件の影響が顕著に現れる傾向を有する外周長が最も短い
ものを用いて実験をした結果見出したものである。
【0010】
【実施例】図1はこの発明の実施例を説明するための電
子写真用感光体の塗布装置における塗布槽部の部分破断
斜視図であり、円筒状導電性基体7の収容部が円筒形を
なす塗布槽1に塗布液8を充填し、その中に円筒状導電
性基体7を浸漬した際に、塗布液8のオーバーフロー面
と円筒状導電性基体7の上端部との間に間隔9aを設け
るとともに塗布液8の供給口6と円筒状導電性基体7の
下端部との間に間隔9bを設けて、塗布槽1の円筒部分
の長さを間隔9a,9bに円筒状導電性基体7の長さを
加えた大きさとし、さらに塗布槽1の内面と円筒状導電
性基体7の表面との間に均等な間隙9を設けた形状構成
になっている。塗布槽部の構成以外は図2に示す従来の
技術による塗布装置と同様の構成であるので説明は省略
する。 (実施例1,2)塗布槽1として内周直径φ60mm×
円筒長さ330mmのもの(実施例1)と内周直径φ8
0mm×円筒長さ360mmのもの(実施例2)とを使
用し、円筒状導電性基体7として直径φ30mm×長さ
300mmのものを用意し、この基体を塗布液8に浸漬
した状態から3〜5mm/秒の速さで引き上げてもオー
バーフロー可能な流量の塗布液を供給できる条件におい
て、通常の塗布工程を経た後に塗布外観を観察し確認し
た。 (比較例1)塗布槽1として内周直径φ50mm×円筒
長さ300mmのものを使用したことのほかは実施例1
と同様にして塗布外観を観察し確認した。 (比較例2)塗布槽1として内周直径φ45mm×円筒
長さ330mmのものを使用したことのほかは実施例1
と同様にして塗布外観を観察し確認した。
子写真用感光体の塗布装置における塗布槽部の部分破断
斜視図であり、円筒状導電性基体7の収容部が円筒形を
なす塗布槽1に塗布液8を充填し、その中に円筒状導電
性基体7を浸漬した際に、塗布液8のオーバーフロー面
と円筒状導電性基体7の上端部との間に間隔9aを設け
るとともに塗布液8の供給口6と円筒状導電性基体7の
下端部との間に間隔9bを設けて、塗布槽1の円筒部分
の長さを間隔9a,9bに円筒状導電性基体7の長さを
加えた大きさとし、さらに塗布槽1の内面と円筒状導電
性基体7の表面との間に均等な間隙9を設けた形状構成
になっている。塗布槽部の構成以外は図2に示す従来の
技術による塗布装置と同様の構成であるので説明は省略
する。 (実施例1,2)塗布槽1として内周直径φ60mm×
円筒長さ330mmのもの(実施例1)と内周直径φ8
0mm×円筒長さ360mmのもの(実施例2)とを使
用し、円筒状導電性基体7として直径φ30mm×長さ
300mmのものを用意し、この基体を塗布液8に浸漬
した状態から3〜5mm/秒の速さで引き上げてもオー
バーフロー可能な流量の塗布液を供給できる条件におい
て、通常の塗布工程を経た後に塗布外観を観察し確認し
た。 (比較例1)塗布槽1として内周直径φ50mm×円筒
長さ300mmのものを使用したことのほかは実施例1
と同様にして塗布外観を観察し確認した。 (比較例2)塗布槽1として内周直径φ45mm×円筒
長さ330mmのものを使用したことのほかは実施例1
と同様にして塗布外観を観察し確認した。
【0011】これらの結果を表1に示す。
【0012】
【表1】 表1で判るように塗布槽1の内周と円筒状導電性基体7
の外周との間隙が実施例1では15mm,実施例2では
25mmあり、かつ塗布槽1の円筒部の長さが円筒状導
電性基体7の長さのそれぞれ1.1倍および1.2倍で
ある塗布槽1を使用した場合は、円筒状導電性基体7の
表面及び端部に塗布ムラの発生はないが、塗布槽1の内
周と円筒状導電性基体7の外周との間隙が15mmより
小さい場合あるいは塗布槽1の円筒部の長さが円筒状導
電性基体7の長さの1.1倍に満たない場合は、塗布ム
ラが発生する。
の外周との間隙が実施例1では15mm,実施例2では
25mmあり、かつ塗布槽1の円筒部の長さが円筒状導
電性基体7の長さのそれぞれ1.1倍および1.2倍で
ある塗布槽1を使用した場合は、円筒状導電性基体7の
表面及び端部に塗布ムラの発生はないが、塗布槽1の内
周と円筒状導電性基体7の外周との間隙が15mmより
小さい場合あるいは塗布槽1の円筒部の長さが円筒状導
電性基体7の長さの1.1倍に満たない場合は、塗布ム
ラが発生する。
【0013】
【発明の効果】この発明によれば、浸漬法により円筒状
導電性基体の外表面に感光層塗膜を形成するための塗布
液を有する塗布槽と、この塗布槽の底部に設けられた供
給口から前記塗布液を供給し、上部からオーバーフロー
した塗布液を前記供給口から再供給する塗布液循環機構
とを備えた塗布装置において、塗布槽の形状と前記浸漬
基体の関係を、塗布槽の円筒部の長さを前記基体の長さ
の1.1倍以上とし、かつ塗布槽の内周と前記基体の外
表面との間隔を15mm以上とする構成としたことによ
り、基体の端部近傍の液流を整流状態とすることができ
るとともに、基体の表面近傍の液流をばらつきの小さい
流速分布状態とすることができるので、基体の表面及び
端部に塗布液が均一に付着するため塗布ムラを生じにく
くすることができ、その結果均一な膜厚を備え画像濃度
ムラのない電子写真用感光体を製造することができるの
で、良好な印字品質の電子写真装置用感光体を提供する
ことが可能となる。
導電性基体の外表面に感光層塗膜を形成するための塗布
液を有する塗布槽と、この塗布槽の底部に設けられた供
給口から前記塗布液を供給し、上部からオーバーフロー
した塗布液を前記供給口から再供給する塗布液循環機構
とを備えた塗布装置において、塗布槽の形状と前記浸漬
基体の関係を、塗布槽の円筒部の長さを前記基体の長さ
の1.1倍以上とし、かつ塗布槽の内周と前記基体の外
表面との間隔を15mm以上とする構成としたことによ
り、基体の端部近傍の液流を整流状態とすることができ
るとともに、基体の表面近傍の液流をばらつきの小さい
流速分布状態とすることができるので、基体の表面及び
端部に塗布液が均一に付着するため塗布ムラを生じにく
くすることができ、その結果均一な膜厚を備え画像濃度
ムラのない電子写真用感光体を製造することができるの
で、良好な印字品質の電子写真装置用感光体を提供する
ことが可能となる。
【図1】実施例説明の塗布槽部の構成を示す部分破断斜
視図
視図
【図2】従来の技術説明の塗布装置の断面図
1 塗布槽 1a 受皿 3 オーバーフロー配管 3b 供給配管 6 供給口 7 円筒状導電性基体 8 塗布液 9 間隙 9a 間隔 9b 間隔
Claims (1)
- 【請求項1】浸漬法により円筒状導電性基体の外表面に
感光層塗膜を形成するための塗布液を有する塗布槽と、
この塗布槽の底部に設けられた供給口から前記塗布液を
供給し、上部からオーバーフローした塗布液を前記供給
口から再供給する塗布液循環機構とを備えた塗布装置に
おいて、塗布槽の形状と前記浸漬基体の関係を、塗布槽
の円筒部の長さを前記基体の長さの1.1倍以上とし、
かつ塗布槽の内周と前記基体の外表面との間隔を15m
m以上とする構成としたことを特徴とする電子写真用感
光体の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11677695A JPH08314163A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 電子写真用感光体の塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11677695A JPH08314163A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 電子写真用感光体の塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08314163A true JPH08314163A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=14695443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11677695A Pending JPH08314163A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 電子写真用感光体の塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08314163A (ja) |
-
1995
- 1995-05-16 JP JP11677695A patent/JPH08314163A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08314163A (ja) | 電子写真用感光体の塗布装置 | |
| JPH0545951B2 (ja) | ||
| JPH08318190A (ja) | 電子写真用感光体の塗布装置 | |
| JP2001276701A (ja) | 電子写真感光体の製造装置及び製造方法 | |
| JP2001321708A (ja) | 浸漬塗工装置及び電子写真用感光体の製造方法 | |
| JPS6120044A (ja) | 感光体ドラムの製造方法 | |
| JPH07303853A (ja) | 電子写真用有機感光体成膜装置 | |
| JPH10198058A (ja) | 電子写真感光体用円筒状基体 | |
| JP3477897B2 (ja) | 電子写真用感光体の塗布装置 | |
| JP3654320B2 (ja) | 円筒基体の浸漬塗布方法 | |
| JP2001272803A (ja) | 電子写真用有機感光体の塗布装置 | |
| JP3577812B2 (ja) | 浸漬塗布方法 | |
| JP2002045754A (ja) | 塗布装置 | |
| JPS6118964A (ja) | 塗布による電子写真感光体の製造方法 | |
| JP3966665B2 (ja) | 循環浸漬塗工方法、電子写真感光体の製造方法及び画像形成方法 | |
| JPH0263571A (ja) | 薄膜塗布装置 | |
| JPS63248469A (ja) | 塗布装置 | |
| JPS63264165A (ja) | 薄膜塗布装置 | |
| JPH0476471B2 (ja) | ||
| JPH07195008A (ja) | 電子写真用感光体の塗布装置 | |
| JPS5874170A (ja) | 塗布方法 | |
| JPH1124292A (ja) | 電子写真感光体の製造方法および製造装置 | |
| JP2009112997A (ja) | ローラ基材における上層塗工方法および塗工装置 | |
| JPH0716519A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH03118874A (ja) | 浸漬塗布方法 |