JPS63248469A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPS63248469A JPS63248469A JP11561487A JP11561487A JPS63248469A JP S63248469 A JPS63248469 A JP S63248469A JP 11561487 A JP11561487 A JP 11561487A JP 11561487 A JP11561487 A JP 11561487A JP S63248469 A JPS63248469 A JP S63248469A
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- JP
- Japan
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- coating
- base body
- substrate
- pulled
- coating material
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/12—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば電子写真用感光体の製造のために、円
筒状の導電性基体の上にペイント状あるいは溶液状の塗
布材を塗布して光導電層、さらに必要ならばその上の表
面保護層よりなる感光層を形成する際に用いられる塗布
装置に関する。
筒状の導電性基体の上にペイント状あるいは溶液状の塗
布材を塗布して光導電層、さらに必要ならばその上の表
面保護層よりなる感光層を形成する際に用いられる塗布
装置に関する。
従来より円筒状の基体に塗布材を塗布被覆形成する手段
は多く知られている０例えば、塗布液槽内に塗布液を充
填し、この塗布液中に円筒状基体を浸漬せしめ、ついで
基体を引き上げて乾燥させ塗膜を形成する浸漬法、ある
いは円筒状基体を回転させ、回転中の基体表面に向けて
塗布液を吹き付けて塗膜を形成する噴射法などである。
は多く知られている０例えば、塗布液槽内に塗布液を充
填し、この塗布液中に円筒状基体を浸漬せしめ、ついで
基体を引き上げて乾燥させ塗膜を形成する浸漬法、ある
いは円筒状基体を回転させ、回転中の基体表面に向けて
塗布液を吹き付けて塗膜を形成する噴射法などである。
これらの塗布方法は、円筒状基体に被覆する方法として
効果的な方法である。しかしながらこの様な方法におい
て、塗膜の均質性および均一膜厚性に対して極めて厳密
な精度を要求することは難しい０例えば、円筒状基体に
浸漬法で塗布する場合、同一塗布液を何度も再使用する
と、これにともなって不純物の混入度合が多くなる。ま
た、塗布材料のいわゆる液だれによる厚さむらが称する
可能性も強く、膜厚の数−の範囲の変動が影響を及ぼす
被覆に対しては精度の保証は困難である。特に、感光層
の均質性および均−膜厚性等において極めて高い精度が
要求される電子写真用感光体にとっては上記要因は出来
るだけ除去されるべきものである。
効果的な方法である。しかしながらこの様な方法におい
て、塗膜の均質性および均一膜厚性に対して極めて厳密
な精度を要求することは難しい０例えば、円筒状基体に
浸漬法で塗布する場合、同一塗布液を何度も再使用する
と、これにともなって不純物の混入度合が多くなる。ま
た、塗布材料のいわゆる液だれによる厚さむらが称する
可能性も強く、膜厚の数−の範囲の変動が影響を及ぼす
被覆に対しては精度の保証は困難である。特に、感光層
の均質性および均−膜厚性等において極めて高い精度が
要求される電子写真用感光体にとっては上記要因は出来
るだけ除去されるべきものである。
このような諸要因を解決するため、円筒状基体の外径よ
りも若干大径で少なくとも基体の長さとほぼ等しい高さ
をもつ環状仕切壁と塗布液を貯留し得る空間とを備えた
塗布治具を使用して、その治具の中央に円筒状基体をさ
し込み、塗布する毎に前記空間を満たすに必要な塗布液
を流し込んだ後、円筒状基体を引き上げることにより成
膜する方法が特公昭５７−３４０２６号公報において公
知である。
りも若干大径で少なくとも基体の長さとほぼ等しい高さ
をもつ環状仕切壁と塗布液を貯留し得る空間とを備えた
塗布治具を使用して、その治具の中央に円筒状基体をさ
し込み、塗布する毎に前記空間を満たすに必要な塗布液
を流し込んだ後、円筒状基体を引き上げることにより成
膜する方法が特公昭５７−３４０２６号公報において公
知である。
しかしながら、この塗布治具を用いた場合も、粘性の低
い塗布液を用いる場合は円筒状基体と前記塗布治具との
間のすきまから下方へ液が流れ出して、塗布むらを発生
する可能性があり、・また、これを避けるために基体の
引き上げ速度を速くすると膜厚が厚くなる。特に薄く、
均一な塗膜を要求される場合には上記方法では困難であ
る。
い塗布液を用いる場合は円筒状基体と前記塗布治具との
間のすきまから下方へ液が流れ出して、塗布むらを発生
する可能性があり、・また、これを避けるために基体の
引き上げ速度を速くすると膜厚が厚くなる。特に薄く、
均一な塗膜を要求される場合には上記方法では困難であ
る。
本発明の目的は、上述の欠点を除去して塗布材の汚染が
なく、塗布材の消費量が節減でき、かつ一工程で均質で
均一な膜厚の塗膜を円筒状基体の上に形成でき、特に電
子写真用感光体の製造に好適な塗布装置を提供すること
にある。
なく、塗布材の消費量が節減でき、かつ一工程で均質で
均一な膜厚の塗膜を円筒状基体の上に形成でき、特に電
子写真用感光体の製造に好適な塗布装置を提供すること
にある。
上述の目的を達成するために、本発明は、鉛直方向に引
き上げられる円筒状基体の表面に塗膜を形成する塗布装
置において、引き上げられる基体を内壁とし、基体をと
り囲む低い外壁と少なくとも基体面に摺動可能な内縁に
近い部分が弾性材料よりなる底面とからなり、基体面の
一部を塗布するに必要な量を収容する塗布材貯留槽なら
びに貯留槽への塗布材供給手段を備えたものとする。
き上げられる円筒状基体の表面に塗膜を形成する塗布装
置において、引き上げられる基体を内壁とし、基体をと
り囲む低い外壁と少なくとも基体面に摺動可能な内縁に
近い部分が弾性材料よりなる底面とからなり、基体面の
一部を塗布するに必要な量を収容する塗布材貯留槽なら
びに貯留槽への塗布材供給手段を備えたものとする。
浅い貯留槽内に逐次塗布材を供給しながら、基体面を貯
留槽の底面の内縁に摺動させて鉛直方向に引き上げるこ
とにより貯留槽内の塗布材が基体表面に付着して塗膜を
形成し、塗布材は塗膜形成部分の直下に位置する底面と
その内縁に摺動する基体表面にさえぎられて流下するこ
とがない。
留槽の底面の内縁に摺動させて鉛直方向に引き上げるこ
とにより貯留槽内の塗布材が基体表面に付着して塗膜を
形成し、塗布材は塗膜形成部分の直下に位置する底面と
その内縁に摺動する基体表面にさえぎられて流下するこ
とがない。
第１図は本発明の一実施例で、電子写真用感光体の円筒
状基体１に感光Ｎ薄膜を塗布する装置の概念的断面図で
あり、基体１を環状の塗布液貯留槽２が取り囲んでおり
、貯留槽２は例えばステンレス鋼よりなる底部２１およ
び低い外壁２２と、底部２１の内側にあって有機光導電
材料あるいは有機表面保護材料の塗布液に含まれる有ｍ
熔剤におかされにくい弾性のある材料からなり、両底面
が開口した截頭円錐状の摺動体３とよりなる。貯留槽２
には内壁がなく、基体１がその内側を限定する。
状基体１に感光Ｎ薄膜を塗布する装置の概念的断面図で
あり、基体１を環状の塗布液貯留槽２が取り囲んでおり
、貯留槽２は例えばステンレス鋼よりなる底部２１およ
び低い外壁２２と、底部２１の内側にあって有機光導電
材料あるいは有機表面保護材料の塗布液に含まれる有ｍ
熔剤におかされにくい弾性のある材料からなり、両底面
が開口した截頭円錐状の摺動体３とよりなる。貯留槽２
には内壁がなく、基体１がその内側を限定する。
摺動体３は外壁より低く、第２図に示す角度θをなして
内縁で基体１に接触する０弾性摺動体３の材料としては
シリコン系、弗素系、クロロプレン系、ニトリル系のゴ
ム、あるいはシリコン系、弗素系、ポリエチレン系、ポ
リプロピレン系の樹脂が使用できる。摺動体３の厚みと
しては、基体表面をキズつけない程度の強度で弾力性お
よび塗布液を漏洩させない程度の強度を有する、例えば
０．２鶴の厚さであることが好ましい。
内縁で基体１に接触する０弾性摺動体３の材料としては
シリコン系、弗素系、クロロプレン系、ニトリル系のゴ
ム、あるいはシリコン系、弗素系、ポリエチレン系、ポ
リプロピレン系の樹脂が使用できる。摺動体３の厚みと
しては、基体表面をキズつけない程度の強度で弾力性お
よび塗布液を漏洩させない程度の強度を有する、例えば
０．２鶴の厚さであることが好ましい。
貯留槽２には上方に配置された供給部４から弁５を介し
て塗布液６が供給される。基体１を貯留槽２に対して矢
印７の方向に相対的に引き上げると、摺動体３の上を越
える塗布液６が基体表面１１に付着し、塗膜８が形成さ
れる。塗膜８の厚さは、基体１と貯留槽２との相対的な
移動速度および塗布液の粘度により決まる。薄膜を得る
ためには、この移動速度を遅（するか塗布液の粘度を小
さくすることが必要である。摺動体３が基体１に弾力を
もって接触するので、希望する移動速度にて基体を引き
上げることができ、また塗布液６の粘度による制約を受
けないので作業性も良好で、１μ以下の膜厚でも塗布可
能である。以下、具体的な塗布例について説明する。
て塗布液６が供給される。基体１を貯留槽２に対して矢
印７の方向に相対的に引き上げると、摺動体３の上を越
える塗布液６が基体表面１１に付着し、塗膜８が形成さ
れる。塗膜８の厚さは、基体１と貯留槽２との相対的な
移動速度および塗布液の粘度により決まる。薄膜を得る
ためには、この移動速度を遅（するか塗布液の粘度を小
さくすることが必要である。摺動体３が基体１に弾力を
もって接触するので、希望する移動速度にて基体を引き
上げることができ、また塗布液６の粘度による制約を受
けないので作業性も良好で、１μ以下の膜厚でも塗布可
能である。以下、具体的な塗布例について説明する。
塗布例１
外径６値、長さ３０値のアルミニウム円筒状基体の鏡面
加工を施された外表面に下記の組成の塗布液を塗布した
。
加工を施された外表面に下記の組成の塗布液を塗布した
。
β型銅フタロシアニン
（東洋インキ類Ｌｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ ＳＭ） ０
．５ｇポリメチルメタアクリレート樹脂 （東京化成製） ０．２５ｇトル
エン ２５ ｇ第１図に示し
た塗布装置で摺動体３の幅Ａが０．３鶴のものを用い、
基体ｌを４０ｆｉ／秒の速度で引き上げながら塗布した
ところ、全長３０備にわたり０、２−±２０％の均一な
膜厚の塗布膜が得られ、使用した液量は従来の浸漬法の
場合の１％の液量であった。
．５ｇポリメチルメタアクリレート樹脂 （東京化成製） ０．２５ｇトル
エン ２５ ｇ第１図に示し
た塗布装置で摺動体３の幅Ａが０．３鶴のものを用い、
基体ｌを４０ｆｉ／秒の速度で引き上げながら塗布した
ところ、全長３０備にわたり０、２−±２０％の均一な
膜厚の塗布膜が得られ、使用した液量は従来の浸漬法の
場合の１％の液量であった。
塗布例２
塗布例１で塗膜を形成した円筒状基体の外表面にさらに
下記の組成の塗布液を塗布した。
下記の組成の塗布液を塗布した。
１−フェニル−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−
５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）−２−ピラゾリン
０．３ｇポリメチルメタアクリレー
ト樹脂 （東京化成製） ０．２ｇテトラ
ヒドロフラン ５ｇ第１図に示した塗布
装置でＡが０．５ｆｉのものを用い、円筒状基体１を３
ｆｉ／秒の速度で引き上げながら塗布したところ、全長
３０■にわたり２０−±０．５−の膜厚の均一な塗膜が
得られ、使用液量は従来の浸漬法における量の０．１％
であった。
５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）−２−ピラゾリン
０．３ｇポリメチルメタアクリレー
ト樹脂 （東京化成製） ０．２ｇテトラ
ヒドロフラン ５ｇ第１図に示した塗布
装置でＡが０．５ｆｉのものを用い、円筒状基体１を３
ｆｉ／秒の速度で引き上げながら塗布したところ、全長
３０■にわたり２０−±０．５−の膜厚の均一な塗膜が
得られ、使用液量は従来の浸漬法における量の０．１％
であった。
このようにして作成されたものを電子写真用窓光体とし
て用いたところ、実用的に充分使用できるものであった
。
て用いたところ、実用的に充分使用できるものであった
。
比較のため、第１図における貯留槽２の摺動体３をとり
はずし、０．３ｆｉの間隔を明けたままで他は塗布例１
に準じて塗布を行ったところ、塗布液６が下方へ漏れ出
して塗りむらを生じた。
はずし、０．３ｆｉの間隔を明けたままで他は塗布例１
に準じて塗布を行ったところ、塗布液６が下方へ漏れ出
して塗りむらを生じた。
第３図は本発明の別の実施例の感光層塗膜塗布装置で、
第１図と共通の部分には同一の符号が付されている。第
１図の装置と異なる点は、截頭円錐状の弾性摺動体３が
なく、塗布液貯留槽２の底部２１の上に環状の弾性材料
板２３が環状の押さえ板２４によって固定されているこ
とである。板２３の弾性材料としては、シリコン系、弗
素系、クロロブレン系、ニトリル系のゴムが使用でき、
その厚さは内壁３の場合と同様に決められる。第３図の
装置を用いて、前記塗布例１と同様の塗布液を同様の基
体の表面に塗布した。ただし、弾性材料板２３の材質を
シリコンゴムとし、その厚さが０．２〜３．０鶴、基体
１と接触前の内径が基体の外径より０．５〜２０ｍｍ小
さい範囲で数種準備し、各寸法の板２３を用いたときの
塗布性を調べた。基体の引き上げ速度は４０ｆｉ／秒で
、得られた塗膜の厚さは０．２ｎ±２０％であった。第
１表は、その結果で、Ｏ印は塗布性極めて良好、Δ印は
塗膜表面に時々きすが発生した場合、×印は塗布液が下
方に漏れたり、塗膜表面にきずがついたりして外観不良
であるものを表している。
第１図と共通の部分には同一の符号が付されている。第
１図の装置と異なる点は、截頭円錐状の弾性摺動体３が
なく、塗布液貯留槽２の底部２１の上に環状の弾性材料
板２３が環状の押さえ板２４によって固定されているこ
とである。板２３の弾性材料としては、シリコン系、弗
素系、クロロブレン系、ニトリル系のゴムが使用でき、
その厚さは内壁３の場合と同様に決められる。第３図の
装置を用いて、前記塗布例１と同様の塗布液を同様の基
体の表面に塗布した。ただし、弾性材料板２３の材質を
シリコンゴムとし、その厚さが０．２〜３．０鶴、基体
１と接触前の内径が基体の外径より０．５〜２０ｍｍ小
さい範囲で数種準備し、各寸法の板２３を用いたときの
塗布性を調べた。基体の引き上げ速度は４０ｆｉ／秒で
、得られた塗膜の厚さは０．２ｎ±２０％であった。第
１表は、その結果で、Ｏ印は塗布性極めて良好、Δ印は
塗膜表面に時々きすが発生した場合、×印は塗布液が下
方に漏れたり、塗膜表面にきずがついたりして外観不良
であるものを表している。
第１表
同様な弾性材料板２３の寸法の塗布性に及ぼす影響を、
弗素ゴムからなる板２３を用い、前記の塗布。
弗素ゴムからなる板２３を用い、前記の塗布。
例２と同様の塗布液によって調べた。基体の引き上げ速
度は３寵／秒であり、得られた膜厚は２０±０、５ ｎ
であった。第２表にその結果を示す、印は第１表と同様
の内容を表わす。
度は３寵／秒であり、得られた膜厚は２０±０、５ ｎ
であった。第２表にその結果を示す、印は第１表と同様
の内容を表わす。
第２表
第１．第２表は、弾性材料の相違にかかわらず、環状弾
性材料板２３のほぼ同様な寸法範囲に適切な部分がある
ことを示し、ゴム製板の場合、厚さが０．５〜２．０鶴
、内径が基体外径より２〜１０ｍｍ小さい範囲で寸法を
選ぶことによって、良好な塗布性。
性材料板２３のほぼ同様な寸法範囲に適切な部分がある
ことを示し、ゴム製板の場合、厚さが０．５〜２．０鶴
、内径が基体外径より２〜１０ｍｍ小さい範囲で寸法を
選ぶことによって、良好な塗布性。
外観性状を維持することができる。
本発明によれば、基体面の一部を塗布するに必要な塗布
液を収容する貯留槽の弾性のあるシールとして働く底面
に摺動させて円筒状基体を引き上げることにより、従来
の基体全面に同時に塗布液を接触させる塗布装置で必要
としていた多量の余分の塗布液を要しなくなり、使用す
る塗布液の量を大幅に低減できる。しかも、均一な膜厚
の薄膜を形成することが可能であり、引き上げ速度を自
由に選ぶことができ、膜厚の制御が高精度かつ広い範囲
で可能となる。さらに常に貯留槽へ新しい塗布液を必要
量供給できるので、液の汚染の虞もなくなり、有機光導
電層、有機表面保護層の膜質。
液を収容する貯留槽の弾性のあるシールとして働く底面
に摺動させて円筒状基体を引き上げることにより、従来
の基体全面に同時に塗布液を接触させる塗布装置で必要
としていた多量の余分の塗布液を要しなくなり、使用す
る塗布液の量を大幅に低減できる。しかも、均一な膜厚
の薄膜を形成することが可能であり、引き上げ速度を自
由に選ぶことができ、膜厚の制御が高精度かつ広い範囲
で可能となる。さらに常に貯留槽へ新しい塗布液を必要
量供給できるので、液の汚染の虞もなくなり、有機光導
電層、有機表面保護層の膜質。
膜厚に対する要求の厳しい電子写真用感光体の感光層形
成に極めて有効に使用できる。
成に極めて有効に使用できる。
第１図は本発明の一実施例を概念的に示す断面図、第２
図は第１図の部分拡大図、第３図は異なる実施例を概念
的に示す断面図である。 １：基体、２：塗布液貯留槽、２１：底部、２２：外壁
、２３：弾性材料板、３８弾性摺動体、６：塗第２図
図は第１図の部分拡大図、第３図は異なる実施例を概念
的に示す断面図である。 １：基体、２：塗布液貯留槽、２１：底部、２２：外壁
、２３：弾性材料板、３８弾性摺動体、６：塗第２図
Claims (1)
- １）鉛直方向に引き上げられる円筒状基体の表面に塗膜
を形成するものにおいて、引き上げられる基体を内壁と
し、基体をとり囲む低い外壁と少なくとも基体面に摺動
可能な内縁に近い部分が弾性材料よりなる底面とからな
り基体面の一部を塗布するに必要な量を収容する塗布材
貯留槽ならびに該貯留槽へ塗布材を供給する手段を備え
たことを特徴とする塗布装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-274603 | 1986-11-18 | ||
| JP27460386 | 1986-11-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63248469A true JPS63248469A (ja) | 1988-10-14 |
Family
ID=17544031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11561487A Pending JPS63248469A (ja) | 1986-11-18 | 1987-05-12 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63248469A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002023348A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Asahi Kasei Corp | スリーブ状感光性樹脂印刷版の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60172379A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布装置 |
| JPS60197266A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布装置 |
-
1987
- 1987-05-12 JP JP11561487A patent/JPS63248469A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60172379A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布装置 |
| JPS60197266A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002023348A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Asahi Kasei Corp | スリーブ状感光性樹脂印刷版の製造方法 |
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